JPH11114468A - 膜形成方法及び膜形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 従来のスピンコート工法で発生する液状物の
飛散、浪費をなくして、装置の複雑化、ランニングコス
ト増を防止できる膜形成方法、装置の提供。 【解決手段】 液状物塗布対象物としての基板１上へ液
状物を塗布、展開して膜形成を行う膜形成方法におい
て、液状物を含浸させた扇形の転写パッド１５を基板上
へ押し付け、扇形に液状物を転写する工程を、所望の膜
形成領域の全面に対して行うことにより、基板上へ均一
厚の膜を形成する膜形成方法。この膜形成方法を用いた
基板上への膜形成装置であって、基板を支持した転写部
Ａと、転写パッドを支持した転写パッド支持部１６と、
から成り、転写部Ａは、基板１を着脱自在に支持する回
転自在な転写ステージ２と、転写ステージを回転させる
転写ステージ回転モータ３と、を備え、転写部又は転写
パッド支持部の少なくともいずれか一方を他方に接近離
間可能に構成した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスク、半導体
等の各種基板上に液状物を塗布、展開することにより保
護膜等を形成する際に使用する膜形成方法及び膜形成装
置の改良に関し、特に従来のスピンコート工法によった
場合に発生する液状物の飛散、浪費等という不具合を一
切なくして、装置の複雑化、ランニングコスト増を防止
することができる膜形成方法及び膜形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク、光磁気ディスク、半導体基
板、その他の各種基板（以下、塗布液としての液状物を
塗布して膜形成を行う対象物を基板と称する）上に各種
保護膜を形成したり、フォトリソグラフィーによる加工
のために感光膜等を形成する場合には、基板上に液状物
（例えば紫外線硬化樹脂液、色素塗布剤等）を塗布して
均一に展開させることによる膜形成方法が用いられる。
このような膜形成方法の一つとして、従来からスピンコ
ート工法による膜形成方法が知られている。この工法
は、基板表面上に、上方に位置する塗布ヘッドから液状
物を滴下してから基板を回転させることにより、基板の
回転時の遠心力により液状物を基板上に塗り広げて、均
一な膜厚に膜形成する方法である。この工法は、大掛か
りな装置を必要とせず、また広範囲な材質に適用が可能
であるために、簡便な膜形成工法として多用されてお
り、例えば、半導体や、液晶、光ディスク、ブラウン管
等の製造工程において基板上に膜形成を行う際に広く用
いられている。しかしながら、このスピンコート工法に
おいては、専ら遠心力により基板上に液状物を塗り広げ
ることにより、品質上問題のない均一な膜厚を形成する
ので、膜形成に比較的長い時間を要し、そのため膜形成
工程の高速化には限界があり、生産性が低いという欠点
があった。また、塗りむら・塗り残しを防ぐために、膜
形成のために本来必要とされる液量の１０倍から２０倍
以上もの塗布液を過剰に供給する必要があるため、液コ
ストが高くなり、生産量が多い場合や、回収・再利用が
できない場合には、多大な液ロスコストが発生してい
た。さらに、塗布終了後に液状物の振り切りのために行
う回転時には、液状物がミスト状になって基板周辺の空
間を漂い、これが基板に付着すると品質不良を起こす虞
れがあった（跳ね返り不良）。この跳ね返り不良を発生
させないために、従来、排気機構を設けてミスト状の液
状物の飛翔方向をコントロールし、ミスト状になった液
状物を基板周辺空間から取り除いていた。しかしなが
ら、ミスト状になった液状物が基板に付着する前に完全
に排気し切ることは難しく、少なからぬミストが基板上
に付着して品質不良を引き起こしていた。また、液状物
の振り切り時には、滴下した液量のうちの９０〜９５％
が基板上から飛散するため、多大な液ロスコストが発生
していた。ところで、特開平５−３１７７８８号公報に
開示されたスピンナー塗布装置においては、基板の回転
により発生する遠心力により液状物を塗り広げる前に、
基板上に滴下した液状物を基板にパッドを押し付けるこ
とにより平準化して、液状物を基板全面に行き渡らせ、
その後、基板の回転による遠心力により液状物を塗り広
げている。このことにより、振り切り時に於ける液状物
の飛散量を少なくし、液状物の供給量の無駄を解消して
いる。しかしながら、この従来例に於ても、液状物の振
り切り動作はあくまで必要である為、液状物の振り切り
時に、液状物の飛散による液状物の無駄は依然として発
生している。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のス
ピンコート工法においては、基板上に塗布した液状物の
振り切り動作を行っており、液状物の振り切り動作の良
否は、膜厚に影響を与えるため、振り切り動作によって
均一な膜厚を維持するためにはある程度の時間がかか
り、そのため振り切り工程の高速化に限界があった。ま
た、液状物の振り切り時には液状物がミスト状になって
基板周辺の基体中を漂い、基板に付着すると品質不良
（跳ね返り不良）になり易かったが、この跳ね返り不良
を発生させないために、通常排気機構を設けてそのコン
トロールを行い、ミスト状になった液状物を基板周辺か
ら取り除いていた。しかしながら、ミスト状になった液
状物は完全に排気しにくいために基板上に付着し易く、
品質不良を引き起こすことがあった。さらに塗りむら・
塗り残しを防ぐために、本来膜形成に必要となる液量の
１０倍から２０倍以上もの液状物を過剰に供給しなけれ
ばならず、しかも液状物の振り切り時には滴下した液量
の９０〜９５％を飛散させるため、多大な液ロスコスト
が発生していた。

【０００４】本発明は上記に鑑みてなされたものであ
り、その課題は、光ディスク、半導体等の各種基板上に
液状物を塗布、展開することにより保護膜等を形成する
際に使用する膜形成方法及び膜形成装置の提供にあり、
具体的には従来のスピンコート工法によった場合に発生
する液状物の飛散、浪費等という不具合を一切なくし
て、装置の複雑化、ランニングコスト増を防止すること
ができる膜形成装置を提供するものである。具体的に
は、液状物の振り切り動作を行う必要をなくして液状物
の浪費を防止しながらも、均一な膜厚の形成が可能な膜
形成方法及び膜形成装置を提供するものである。本発明
は、光ディスク、光磁気ディスク、半導体基板等の被膜
形成対象物（以下、基板という）に対する各種塗布液
（液状物）の均一塗布方法に適用することができる。

【０００５】

【課題を解決する為の手段】上記課題を達成する為、請
求項１の発明は、液状物塗布対象物としての基板上へ液
状物を塗布、展開して膜形成を行う膜形成方法におい
て、液状物を含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押
し付け、扇形に液状物を転写する工程を、所望の膜形成
領域の全面に対して行うことにより、基板上へ均一厚の
膜を形成することを特徴とする。請求項２の発明は、請
求項１の膜形成方法を用いた基板上への膜形成装置であ
って、基板を支持した転写部と、転写パッドを支持した
転写パッド支持部と、から成り、転写部は、基板を着脱
自在に支持する回転自在な転写ステージと、転写ステー
ジを回転させる転写ステージ回転モータと、を備え、転
写部又は転写パッド支持部の少なくともいずれか一方を
他方に接近離間可能に構成したことを特徴とする。請求
項３の発明方法は、請求項１において、上記扇形の転写
パッドの大きさを上記基板上のドーナツ状の膜形成領域
を周方向に１／ｎに分割（ｎ：自然数）した大きさと
し、この扇形転写パッドを用いて基板上への液状物の転
写位置が重ならないように周方向位置をずらしながらｎ
回転写を行うことにより、膜形成領域の全周に膜を形成
するようにしたことを特徴とする。請求項４の発明は、
請求項３の膜形成方法を用いた基板上への膜形成装置で
あって、基板を支持した転写部と、転写パッドを支持し
た転写パッド支持部と、から成り、転写部は、基板を着
脱自在に支持する回転自在な転写ステージと、転写ステ
ージを回転させる転写ステージ回転モータと、を備え、
転写部又は転写パッド支持部の少なくともいずれか一方
を他方に接近離間可能に構成したことを特徴とする。請
求項５の発明方法は、請求項１又は３記載の膜形成方法
において、上記基板上のドーナツ状の膜形成領域の全周
への液状物の転写後に、上記扇形転写パッドと基板とを
圧接した状態で基板を回転させることにより、基板表面
に転写された液状物を均すようにしたことを特徴とす
る。請求項６の発明は、請求項５の膜形成方法を用いた
基板上への膜形成装置であって、基板を支持した転写部
と、転写パッドを支持した転写パッド支持部と、から成
り、転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転
写ステージと、転写ステージを回転させる転写ステージ
回転モータと、を備え、転写部又は転写パッド支持部の
少なくともいずれか一方を他方に接近離間可能に構成し
たことを特徴とする。請求項７の発明方法は、液状物塗
布対象物としての基板上へ液状物を塗布、展開して膜形
成を行う膜形成方法において、液状物を含浸させた扇形
の転写パッドを基板上へ押し付け、転写パッドを押し付
けた状態のまま基板を回転させることにより、基板に液
状物の膜を形成することを特徴とする。請求項８の発明
は、請求項７の膜形成方法を用いた膜形成装置であっ
て、基板を支持した転写部と、転写パッドを支持した転
写パッド支持部と、から成り、転写部は、基板を着脱自
在に支持する回転自在な転写ステージと、転写ステージ
を回転させる転写ステージ回転モータと、を備え、転写
部又は転写パッド支持部の少なくともいずれか一方を他
方に接近離間可能に構成したことを特徴とする。請求項
９の発明は、請求項７において、上記基板の回転を複数
回転行うことにより、基板上に付着した液状物を均すよ
うにしたことを特徴とする。請求項１０の発明は、請求
項９の膜形成方法を用いた膜形成装置であって、基板を
支持した転写部と、転写パッドを支持した転写パッド支
持部と、から成り、転写部は、基板を着脱自在に支持す
る回転自在な転写ステージと、転写ステージを回転させ
る転写ステージ回転モータと、を備え、転写部又は転写
パッド支持部の少なくともいずれか一方を他方に接近離
間可能に構成したことを特徴とする。請求項１１の発明
方法は、請求項１、３、５、７、９の膜形成方法におい
て、上記転写パッドを上記基板に圧接させることによる
膜形成動作終了後、転写パッドが基板と接触する表面に
スキージを一定圧力で接触させたまま移動させることに
より、転写パッドの該表面のゴミを除去することを特徴
とする。請求項１２の発明は、請求項１１の膜形成方法
を用いた膜形成装置であって、基板を支持した転写部
と、転写パッドクリーニング部と、転写パッドを転写部
と転写パッドクリーニング部との間で進退させる転写パ
ッド移動機構と、から成り、転写部は、基板を着脱自在
に支持する回転自在な転写ステージと、転写ステージを
回転させる転写ステージ回転モータと、を備え、転写部
又は転写パッド支持部の少なくともいずれか一方を他方
に接近離間可能に構成し、転写パッドクリーニング部
は、転写パッドが転写パッドクリーニング部に移動して
いる時に転写パッド表面のゴミを除去するスキージを備
えていることを特徴とする。

【０００６】請求項１の発明によれば、膜形成工程の大
幅な高速化をはかり、跳ね返り不良をなくし、液ロスが
少ない基板への膜形成方法を提供することができる。請
求項２の発明によれば、請求項１の方法において、膜形
成工程の大幅な高速化をはかり、跳ね返り不良がなく、
液ロスが少ない基板への膜形成装置を提供することがで
きる。請求項３の発明によれば、請求項１の方法よりも
さらに膜厚の均一性を高め、膜形成工程の高速化を可能
とする基板への膜形成方法を提供することができる。請
求項４の発明によれば、請求項３の膜形成方法におい
て、請求項１の装置よりもさらに、膜厚の均一性を高
め、膜形成工程の高速化を可能とする基板への膜形成装
置を提供することができる。請求項５の発明によれば、
請求項１及び３の膜形成方法により、基板の全周に転写
された膜の膜厚の均一性を高める膜形成方法を提供する
ことができる。請求項６の発明によれば、請求項５の膜
形成方法を採用し、基板の全周に転写された膜の膜厚の
均一性を高める膜形成装置を提供することができる。請
求項７の発明によれば、膜形成工程の大幅な高速化をは
かり、跳ね返り不良がなく、液ロスが少ない基板への膜
形成方法を提供することができる。請求項８の発明によ
れば、請求項５の膜形成方法を採用し、膜形成工程の大
幅な高速化をはかり、跳ね返り不良がなく、液ロスが少
ない基板への膜形成装置を提供することができる。請求
項９の発明によれば、請求項７の膜形成方法において、
基板上へ付着した液状物を均し、膜厚の均一性を高める
膜形成方法を提供することができる。請求項１０の発明
によれば、請求項９の膜形成方法を採用し、基板上へ付
着した液状物を均し、膜厚の均一性を高める膜形成装置
を提供することができる。請求項１１の発明によれば、
請求項１、３、５、７、９の各発明において、転写パッ
ドの表面（基板との接触面）へ付着したゴミを除去する
作業を自動化する方法を提供することができる。請求項
１２の発明によれば、請求項１１の膜形成方法を採用
し、転写パッド表面（基板との接触面）へのゴミの付着
に対応し、転写パッド表面のゴミの取り除き作業を自動
化する装置を提供することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示した実施
の形態により詳細に説明する。図１は本発明の一形態例
の膜形成装置及び膜形成方法を示す図であり、図２はそ
の要部構成図である。この膜形成装置は、転写部Ａと、
転写パッドクリーニング部Ｂと、転写パッド移動機構Ｃ
とから成る。転写部Ａは、液状物塗布対象物としての基
板１を着脱自在に支持する回転自在な転写ステージ２
と、転写ステージ２を回転させる転写ステージ回転モー
タ３と、回転モータ３及び転写ステージ２を上下動させ
る転写ステージ上下機構４と、を有する。転写パッドク
リーニング部Ｂは、クリーニングステージ１１と、クリ
ーニングステージ１１上に支持されてヘラ状のスキージ
１３を矢印方向に進退させるスキージ移動機構１２と、
を有する。転写パッド移動機構Ｃは、形成しようとする
ドーナツ形状の膜の全平面形状を周方向に１／ｎ（ｎ：
自然数）に均等に分割した形状（図２参照）で、且つ液
状物（例えば、紫外線硬化樹脂液、色素塗布剤等）を含
浸させ得る材質から成る平板状の転写パッド１５と、転
写パッド１５を下面に支持する転写台（転写パッド支持
部）１６と、転写台１６に組み付けられ管体１７ａを経
由して転写パッド１５に液状物を供給する液状物タンク
１７と、転写台１６を両ステージ２、１１間で移動させ
る転写台移動モータ１８、とを有する。転写台移動モー
タ１８は、軸１８ａを中心として水平方向に回転するア
ーム１８ｂを有し、アーム１８ｂの先端を転写台１６に
固定することにより、モータの駆動力によって回転する
アーム１８ｂによって転写台１６を転写パッド等ととも
に、転写部Ａと転写パッドクリーニング部Ｂとの間で進
退させることができる。スキージ１３の高さは、転写台
１６がクリーニング部Ｂ上に移動してきた時に転写パッ
ド１５に十分な圧力で接してクリーニングし得るような
高さに設定する。図２は、基板に対する転写パッドの形
状、位置関係を示す図であり、基板及び液状物から成る
膜の平面形状が円形の場合には、転写パッド１５は、膜
を周方向に１／ｎ（ｎは自然数）に分割した形状、即ち
扇形とする。なお、これは一例であり、膜の平面形状が
正多角形の場合には、転写パッドは例えば三角形等とな
る。

【０００８】〈第１の形態例〉次に、本発明の第１の形
態例の転写動作及びクリーニング動作を説明する。転写
動作に於ては、まず、転写ステージ２上に基板１を位置
決めする。このとき、例えば、基板１の中心孔等を転写
ステージ２の回転中心に位置する位置決め突起２ａ等に
嵌合することにより、着脱自在に位置決め固定する。続
いて、図示しない開閉弁等を図示しない制御部により制
御することにより、液状物タンク１７から転写パッド１
５へ液状物を一定量送出し、転写パッド１５に一定量の
液状物を含浸させる。その後、転写ステージ上下機構８
により転写ステージ２を所定距離上昇させ、基板１の上
面を転写パッド１５へ一定圧力で押し付ける。転写パッ
ド１５は、基板上のドーナツ状膜形成領域の全面積の１
／ｎの面積を有する為、このとき基板上に塗布される液
状物は転写パッド１５の形状に相当する面積に過ぎな
い。なお、転写ステージ２の上下移動を固定し、転写台
５を昇降させる様にしてもよいが、ここでは転写ステー
ジを上下移動させる場合を一例として説明する。このよ
うに第１回目の転写パッドに対して基板を押し付けた後
に、押し付けたままで転写ステージ回転モータ３を駆動
して転写ステージ２（基板）を基板の全周（３６０度）
の１／ｎに相当する角度だけ回動させて停止させる（図
２参照）。この１／ｎ回動を終了した後で、転写ステー
ジ上下機構４により転写ステージ２を一旦下降させて基
板１を転写パッドから離間させる。転写パッド１５が基
板１から離間した状態で、再び液状物タンク１７から転
写パッド１５に液状物を一定量供給し、供給終了後に転
写ステージ２を上昇させて再び転写パッド１５に圧接
し、その後上記と同方向に１／ｎ回動させて停止させ
る。このように液状物タンク１７から転写パッド１５へ
液状物を一定量送出する動作から、転写ステージ２を下
降させるまでの一連の動きをｎ回行い、基板の全周に液
状物をむらなく、重なり部分がないように転写する。な
お、基板を転写パッドに押し付けた後で、圧接したまま
１／ｎに相当する角度だけ回動させずに、押付け後にそ
のまま両者を離間させ、離間後に１／ｎだけ回動させて
から次の圧接を行うようにしてもよい。

【０００９】以上説明した動作だけでもかなりの精度で
膜厚の均一化を図ることが可能であるが、本形態例で
は、更に次のように均し動作を付加してもよい。即ち、
上記手順によって基板１上の膜形成領域の全周に亙って
液状物を転写した後、転写ステージ上下機構４により転
写ステージ２を再び上昇させ、基板１を転写パッド１５
へ一定圧力で押し付ける。基板１を押し付けた後で転写
ステージ回転モータ３を駆動し転写ステージ２を３６０
度以上回転させる。この押付け回転動作により、基板１
上に押し付けられた転写パッド１５により、基板１上の
膜形成領域の全周に亙って転写された液状物を均一厚に
均すことができる。液状物の均し動作後、転写ステージ
上下機構４により転写ステージ２を下降させて、基板１
と転写パッド１５とを離間させる。なお、ｎ回目の圧接
動作が終了した後に、基板と転写パッドを離間させず
に、ｎ回目の圧接後に、そのままの圧接状態で基板を回
転させてもよい。

【００１０】次に、クリーニング動作に於ては、まず転
写台移動モータ１８により、転写台１６をクリーニング
ステージ１１上へ水平移動させて所定位置に停止させ
る。続いて、スキージ１３をスキージ移動機構１２によ
り駆動して矢印方向に進退させることにより、スキージ
１３にて転写パッド表面上をこすりながら移動させ、転
写パッド表面に付着したゴミを剥ぎ取る。転写パッドと
接触しながらのスキージの移動経路は、ゴミの再付着を
防止するため一方向であることが好ましい。スキージの
移動完了後、転写台移動モータ１８により、転写台１６
を転写ステージ２上へ移動させる。その後、スキージ１
３をスキージ移動機構１２により駆動し、元の位置へ戻
す。この形態例の膜形成装置及び膜形成方法によれば、
扇形の転写パッド１５を基板１上へ押し付けることで液
状物を基板１上へ転写するので、専ら遠心力を利用した
スピンコート工法と比較して、滴下・回転時間及び振り
切り回転時間が不要となるため、作業を高速化できる。
また、振り切りによる液状物の飛散がないので、跳ね返
り不良がなく、飛散による液ロスもなく、ミスト状にな
った液状物を排気する機構が不要となるので、装置の複
雑、大型化、高コスト化を回避できる。また、転写パッ
ドの形状は、一回の転写作業で済むようなドーナツ状の
ものではなく、扇形で面積が小さいので、転写パッドの
押し付け面と基板の膜形成面との平行度が出しやすく、
調整しやすいとう効果が得られる。

【００１１】更に、基板１上のドーナツ状の膜形状を周
方向に１／ｎに分割（ｎ：自然数）した扇形の転写パッ
ドを用い、基板上への液状物の転写部分が重ならないよ
うにｎ回転写を行うことにより、ドーナツ状に基板の全
周に膜を形成するので、転写部分の重なりがない。その
ため、転写部分が重なる場合と比べて、転写部分の重な
りによる膜厚の不均一さを解消でき、転写の回数を少な
く（＝膜形成工程の時間を短縮）できるという効果が得
られる。更に、基板１上のドーナツ状膜形成領域の全周
への液状物の転写動作終了後に、扇形の転写パッド１５
を再度基板１上へ押し付け、押し付けた状態のまま基板
を回転させることにより、基板上に転写された液状物が
転写パッドにより均され、膜厚の均一性が高まるという
効果が得られる。また、転写パッドクリーニング部Ｂに
よれば、転写パッド部分へのゴミの付着に対し、転写パ
ッド部分のゴミの取り除き作業を自動化できる効果が得
られる。

【００１２】〈第２の形態例〉次に、図１、図２を用い
て本発明の第２の形態例の転写動作及びクリーニング動
作を説明する。転写動作に於ては、まず、転写ステージ
２上に基板１を位置決めする。このとき、例えば、基板
１の中心孔等を転写ステージ２の回転中心に位置する位
置決め突起２ａ等に嵌合することにより、着脱自在に位
置決め固定する。続いて、図示しない開閉弁等を図示し
ない制御部により制御することにより、液状物タンク１
７から転写パッド１５へ液状物を一定量送出し、転写パ
ッド１５に一定量の液状物を含浸させる。その後、転写
ステージ上下機構８により転写ステージ２を所定距離上
昇させ、基板１の上面を転写パッド１５へ一定圧力で押
し付ける。押し付け後、転写ステージ回転モータ３を２
回以上回転させて停止させる（図２参照）。回転終了
後、転写ステージ上下機構４により、転写ステージ２を
下降させて、基板１と転写パッド１５とを離間させる。
基板を２回転以上回転させる場合、１回転目で液状物を
基板表面へ付着させ、２回目以降で基板上へ押し付けた
ままの扇形の転写パッドにより、基板上へ付着した液状
物を均すので、膜厚の均一性が高まる。転写パッド１５
は、基板上の膜形成領域の全面積の１／ｎの面積を有す
る為、基板１に転写パッドを圧接した時に基板上に塗布
される液状物は転写パッド１５の形状に相当する面積に
過ぎないが、この形態例では、圧接後に基板側を２回転
以上回転させるので、膜形成領域の全周に亙って液状物
が塗布される。なお、転写ステージ２の上下移動を固定
し、転写台５を昇降させる様にしてもよいが、ここでは
転写ステージを上下移動させる場合を一例として説明す
る。このようにこの形態例の方法及び装置では、転写ス
テージの上下動、液状物供給動作を繰り返すことなく、
一回圧接させた後で基板を回転させるだけの単純な工程
により全面塗布、即ち基板１上の膜形成領域の全周に亙
って液状物を転写しつつ均一厚に均すことができる。

【００１３】次に、クリーニング動作に於ては、まず転
写台移動モータ１８により、転写台１６をクリーニング
ステージ１１上へ水平移動させて所定位置に停止させ
る。続いて、スキージ１３をスキージ移動機構１２によ
り駆動して矢印方向に進退させることにより、スキージ
１３にて転写パッド表面上をこすりながら移動させ、転
写パッド表面に付着したゴミを剥ぎ取る。転写パッドと
接触しながらのスキージの移動経路は、ゴミの再付着を
防止するため一方向であることが好ましい。スキージの
移動完了後、転写台移動モータ１８により、転写台１６
を転写ステージ２上へ移動させる。その後、スキージ１
３をスキージ移動機構１２により駆動し、元の位置へ戻
す。なお、この形態例に於ては、転写パッドを基板に圧
接させた状態で基板を回転させることにより、液状物の
塗布を行うので、転写パッドの面積、形状は、膜形成領
域の全面積の１／ｎである必要は無く、３６０度回転し
た時に膜形成領域の全面積に液状物を塗布し得る形状、
面積であればよい。また、この形態例に於ては、基板１
を回転させる過程で転写パッドから液状物を基板上に塗
布するのであるから、塗布工程中に継続的に液状物タン
ク１７から転写パッドに向けて液状物を供給するように
してもよいし、或は転写パッドの容量を高めて多量の液
状物を含浸し得るように構成してもよい。

【００１４】以上のように第２の形態例では、液状物を
含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押し付け、押し
付けた状態のまま基板を回転させるので、スピンコート
工法と比較して、振り切り回転時間が不要となるため、
作業を高速化して時間を短縮できる。また、振り切りに
よる液状物の飛散がないので、跳ね返り不良がなく、飛
散による液ロスもないという効果が得られる。また、液
状物を含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押し付
け、押し付けた状態のまま基板を２回以上回転させるの
で、１回転目で液状物を基板表面へ付着させ、２回目以
降で基板上へ押し付けたままの扇形の転写パッドによ
り、基板上へ付着した液状物を均すので、膜厚の均一性
が高まるという効果が得られる。また、転写パッドクリ
ーニング部Ｂによれば、転写パッド部分へのゴミの付着
に対し、転写パッド部分のゴミの取り除き作業を自動化
できる効果が得られる。

【００１５】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、光ディス
ク、半導体等の各種基板上に液状物を塗布、展開するこ
とにより保護膜等を形成する際に使用する膜形成方法及
び膜形成装置において、従来のスピンコート工法によっ
た場合に発生する液状物の飛散、浪費等という不具合を
一切なくして、装置の複雑化、ランニングコスト増を防
止することができる。具体的には、液状物の振り切り動
作を行う必要をなくして液状物の浪費を防止しながら
も、均一な膜厚の形成が可能な膜形成方法及び膜形成装
置を提供することができる。即ち、請求項１に発明の方
法は、扇形の転写パッドを基板上へ押し付けることで液
状物を基板上へ転写するので、スピンコート工法と比較
して、滴下回転時間及び振り切り回転時間が不要とな
る。このため、塗布作業を高速化し、作業時間を短縮化
できる。また、振り切りによる液状物の飛散がないの
で、跳ね返り不良による不良品発生がなく、飛散による
液ロスもない。また、転写パッドの形は、一回の転写で
済むようなドーナツ状のものではなく、扇形で面積が小
さいので、転写パッドの押し付け面と基板の膜形成面と
の平行度が出しやすく、調整しやすいとう効果が得られ
る。請求項２に発明の装置は、扇形の転写パッドを基板
上へ押し付けることで液状物を基板上へ転写するので、
スピンコート工法と比較して、滴下回転時間及び振り切
り回転時間が不要なため、作業を高速化し、時間を短縮
できる。また、振り切りによる液状物の飛散がないの
で、跳ね返り不良がなく、飛散による液ロスもない。ま
た、転写パッドの形は、一回の転写で済むようなドーナ
ツ状のものではなく、扇形で面積が小さいので、転写パ
ッドの押し付け面と基板の膜形成面との平行度が出しや
すく、調整しやすいという効果が得られる。

【００１６】請求項３に発明の方法は、基板上のドーナ
ツ状の膜形成領域を周方向に１／ｎに等分割（ｎ：自然
数）した扇形の転写パッドを用い、基板上への液状物の
転写部分が重ならないようにｎ回転写を行うことによ
り、ドーナツ状に基板の全周に膜を形成するので、転写
部分の重なりがない。そのため、転写部分が重なる場合
に比して、膜厚の不均一さを解消でき、転写の回数を少
なく（＝膜形成工程の時間を短縮）できるという効果が
得られる。請求項４に発明の装置は、基板上のドーナツ
状の膜形成領域を１／ｎに等分割（ｎ：自然数）した扇
形の転写パッドを用い、基板上への液状物の転写部分が
重ならないようにｎ回転写を行うことにより、ドーナツ
状に基板の全周に膜を形成するので、転写部分の重なり
がない。そのため、転写部分が重なる場合に比して、膜
厚の不均一さを解消でき、転写の回数を少なく（＝膜形
成工程の時間を短縮）できるという効果が得られる。

【００１７】請求項５に発明の方法は、基板上のドーナ
ツ状膜形成領域の全周への液状物の転写動作終了後に、
扇形の転写パッドを再度（或はそのまま）基板上へ押し
付け、押し付けた状態のまま基板を回転させるので、基
板上に転写された液状物が転写パッドにより均され、膜
厚の均一性が高まるという効果が得られる。また、作業
時間も短縮される。請求項６に発明の装置は、請求項５
に発明の方法を採用し、基板の全周への液状物の転写動
作終了後に、扇形の転写パッドを再度基板上へ押し付
け、押し付けた状態のまま基板を回転させるので、基板
上に転写された液状物が転写パッドにより均され、膜厚
の均一性が高まるという効果が得られる。

【００１８】請求項７に発明の方法は、液状物を含浸さ
せた扇形の転写パッドを基板上へ押し付け、押し付けた
状態のまま基板を回転させるので、スピンコート工法と
比較して、振り切り回転時間が不要なため、高速化でき
る。また、振り切りによる液状物の飛散がないので、跳
ね返り不良がなく、飛散による液ロスもないという効果
が得られる。また、転写パッドは、膜形成領域全体を一
括してカバーできるドーナツ形状では無く、膜形成領域
を周方向に分割した場合の一扇形形状に過ぎないので、
基板との平行度を出し易くなる利点がある。請求項８に
発明の装置は、液状物を含浸させた扇形の転写パッドを
基板上へ押し付け、押し付けた状態のまま基板を回転さ
せるので、スピンコート工法と比較して振り切り回転時
間が不要なため、高速化できる。また、振り切りによる
液状物の飛散がないので、跳ね返り不良がなく、飛散に
よる液ロスもないという効果が得られる。また、転写パ
ッドは、膜形成領域全体を一括してカバーできるドーナ
ツ形状では無く、膜形成領域を周方向に分割した場合の
一扇形形状に過ぎないので、基板との平行度を出し易く
なる利点がある。

【００１９】上記請求項７の膜形成方法では、液状物を
含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押し付け、押し
付けた状態のまま基板を回転させ、１回転目で液状物を
基板表面へ付着させるが、請求項９に発明の方法は、こ
の回転をさらに続けて、基板上へ押し付けたままの扇形
の転写パッドにより、基板上へ付着した液状物を均すの
で、膜厚の均一性が高まるという効果が得られる。上記
請求項７の膜形成方法では、液状物を含浸させた扇形の
転写パッドを基板上へ押し付け、押し付けた状態のまま
基板を回転させ、１回転目で液状物を基板表面へ付着さ
せるが、請求項１０に発明の装置は、この回転をさらに
続けて、基板上へ押し付けたままの扇形の転写パッドに
より、基板上へ付着した液状物を均すので、膜厚の均一
性が高まるという効果が得られる。請求項１１に発明の
方法は、転写パッド部分へのゴミの付着に対応し、転写
パッド部分のゴミの取り除き作業を自動化できる効果が
得られる。請求項１２に発明の装置は、転写パッド部分
へのゴミの付着に対応し、転写パッド部分のゴミの取り
除き作業を自動化できる効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の膜形成方法を実施する為の装置の構成
略図。

【図２】ドーナツ状基板と、転写パッドとの位置関係、
形状を示す平面図。

【符号の説明】

Ａ 転写部、Ｂ 転写パッドクリーニング部、Ｃ 転写
パッド移動機構、１ 基板、２ 転写ステージ、３ 転
写ステージ回転モータ、４ 転写ステージ上下機構、１
１ クリーニングステージ、１２ スキージ移動機構、
１３ スキージ、１５ 転写パッド、１６ 転写台（転
写パッド支持部）、１７ 液状物タンク、１８ 転写台
移動モータ。

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塗布対象物としての基板上へ液状物を塗
   布、展開して膜形成を行う膜形成方法において、 液状物を含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押し付
   け、扇形に液状物を転写する工程を、基板上の膜形成領
   域の全面に対して行うことにより、基板上へ均一厚の膜
   を形成することを特徴とする膜形成方法。
2. 【請求項２】 請求項１の膜形成方法を用いた基板上へ
   の膜形成装置であって、基板を支持する転写部と、転写
   パッドを支持する転写パッド支持部と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
   テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
   モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
   ともいずれか一方を他方に接近・離間可能に構成したこ
   とを特徴とする膜形成装置。
3. 【請求項３】 上記扇形の転写パッドの大きさを上記基
   板上のドーナツ状の膜形成領域を周方向に１／ｎ（ｎ：
   自然数）に等分割した大きさとし、この扇形転写パッド
   を用いて基板上への液状物の転写位置が重ならないよう
   に周方向位置をずらしながらｎ回転写を行うことによ
   り、膜形成領域の全周に膜を形成するようにしたことを
   特徴とする請求項１記載の膜形成方法。
4. 【請求項４】 請求項３の膜形成方法を用いた基板上へ
   の膜形成装置であって、基板を支持する転写部と、転写
   パッドを支持する転写パッド支持部と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
   テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
   モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
   ともいずれか一方を他方に接近・離間可能に構成したこ
   とを特徴とする膜形成装置。
5. 【請求項５】 請求項１又は３記載の膜形成方法におい
   て、上記基板上のドーナツ状の膜形成領域の全周への液
   状物の転写後に、上記扇形転写パッドと基板とを圧接し
   た状態で基板を回転させることにより、基板表面に転写
   された液状物を均すようにしたことを特徴とする膜形成
   方法。
6. 【請求項６】 請求項５の膜形成方法を用いた基板上へ
   の膜形成装置であって、基板を支持する転写部と、転写
   パッドを支持する転写パッド支持部と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
   テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
   モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
   ともいずれか一方を他方に接近・離間可能に構成したこ
   とを特徴とする膜形成装置。
7. 【請求項７】 塗布対象物としての基板上へ液状物を塗
   布、展開して膜形成を行う膜形成方法において、 液状物を含浸させた扇形の転写パッドを基板上へ押し付
   け、転写パッドを押し付けた状態のまま基板を回転させ
   ることにより、基板に液状物の膜を形成することを特徴
   とする膜形成方法。
8. 【請求項８】 請求項７の膜形成方法を用いた膜形成装
   置であって、基板を支持する転写部と、転写パッドを支
   持する転写パッド支持部と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
   テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
   モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
   ともいずれか一方を他方に接近離間可能に構成したこと
   を特徴とする膜形成装置。
9. 【請求項９】 上記基板を複数回転させることにより、
   基板上に付着した液状物を均すようにしたことを特徴と
   する請求項７記載の膜形成方法。
10. 【請求項１０】 請求項９の膜形成方法を用いた膜形成
    装置であって、基板を支持する転写部と、転写パッドを
    支持する転写パッド支持部と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
    テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
    モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
    ともいずれか一方を他方に接近・離間可能に構成したこ
    とを特徴とする膜形成装置。
11. 【請求項１１】 請求項１、３、５、７、９の膜形成方
    法において、上記転写パッドを上記基板に圧接させるこ
    とによる膜形成動作終了後、転写パッドが基板と接触す
    る表面にスキージを一定圧力で接触させたまま移動させ
    ることにより、転写パッド表面のゴミを除去することを
    特徴とする膜形成方法。
12. 【請求項１２】 請求項１１の膜形成方法を用いた膜形
    成装置であって、 基板を支持する転写部と、転写パッドクリーニング部
    と、転写パッドを転写部と転写パッドクリーニング部と
    の間で進退させる転写パッド移動機構と、から成り、 転写部は、基板を着脱自在に支持する回転自在な転写ス
    テージと、転写ステージを回転させる転写ステージ回転
    モータと、を備え、 互いに対向し合う転写部又は転写パッド支持部の少なく
    ともいずれか一方を他方に接近・離間可能に構成し、 転写パッドクリーニング部は、転写パッドが転写パッド
    クリーニング部に移動している時に転写パッド表面のゴ
    ミを除去するスキージを備えていることを特徴とする膜
    形成装置。