JPH11106225A - 表面に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
表面に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法Info
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- JPH11106225A JPH11106225A JP28275797A JP28275797A JPH11106225A JP H11106225 A JPH11106225 A JP H11106225A JP 28275797 A JP28275797 A JP 28275797A JP 28275797 A JP28275797 A JP 28275797A JP H11106225 A JPH11106225 A JP H11106225A
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- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】表面に球状または楕円球状を有し、マイクロク
ラックの発生がなく、該マイクロクラックに起因するパ
ーティクルや不純物元素による汚染がなく、しかも二酸
化珪素などの酸化膜との密着性に優れ、洗浄が容易な石
英ガラスおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】表面に凹凸を有する石英ガラスであって、
前記凹凸が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状であ
ることを特徴とする表面に凹凸を有する石英ガラスおよ
び石英ガラス表面に１００μｍ以下の薄膜を形成したの
ち、ＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などで処理
する前記石英ガラスの製造方法。
ラックの発生がなく、該マイクロクラックに起因するパ
ーティクルや不純物元素による汚染がなく、しかも二酸
化珪素などの酸化膜との密着性に優れ、洗浄が容易な石
英ガラスおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】表面に凹凸を有する石英ガラスであって、
前記凹凸が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状であ
ることを特徴とする表面に凹凸を有する石英ガラスおよ
び石英ガラス表面に１００μｍ以下の薄膜を形成したの
ち、ＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などで処理
する前記石英ガラスの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面に凹凸を有する石
英ガラスおよびその製造方法、さらに詳しくは表面に微
細な凹凸を有する半導体工業用石英ガラスおよびその製
造方法に関する。
英ガラスおよびその製造方法、さらに詳しくは表面に微
細な凹凸を有する半導体工業用石英ガラスおよびその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体素子の製造には高純度で、
比較的耐熱性が高く、しかも耐薬品性の高い石英ガラス
製治具が広く使われている。そして前記治具の表面には
意識的に凹凸を設けることが多く、例えば実公昭６１−
８８２３３号公報には内面が凹凸面にされたＬＰＣＶＤ
用炉心管が、また、特開平１−１７００１９号公報には
ウエハー載置溝の表面がサンドブラストで凸部が形成さ
れたウエハー載置用ボートがそれぞれ記載されている。
こうした石英ガラス表面の凹凸は、いわゆるフロスト処
理で形成するのが一般的であるが、フロスト処理は結晶
質二酸化珪素粉を吹き付け、石英ガラス表面を削り取る
処理であるところから、凹凸の形成とともにマイクロク
ラックが発生し、石英ガラスの赤外線散乱反射率を変化
させるばかりでなく、その後のＨＦ溶液によるエッチン
グ処理で、マイクロクラックが選択的にエッチングされ
て粗面化され、そこにエッチング処理液が付着したり、
或はパーティクルが発生し、半導体製品を汚染する等の
問題があった。また、フロスト処理で得た石英ガラス
は、その凹凸が大きく半導体素子製造におけるＣＶＤ工
程で形成する二酸化珪素膜などの酸化膜との密着性が悪
く剥離し易いなどの欠点もあった。
比較的耐熱性が高く、しかも耐薬品性の高い石英ガラス
製治具が広く使われている。そして前記治具の表面には
意識的に凹凸を設けることが多く、例えば実公昭６１−
８８２３３号公報には内面が凹凸面にされたＬＰＣＶＤ
用炉心管が、また、特開平１−１７００１９号公報には
ウエハー載置溝の表面がサンドブラストで凸部が形成さ
れたウエハー載置用ボートがそれぞれ記載されている。
こうした石英ガラス表面の凹凸は、いわゆるフロスト処
理で形成するのが一般的であるが、フロスト処理は結晶
質二酸化珪素粉を吹き付け、石英ガラス表面を削り取る
処理であるところから、凹凸の形成とともにマイクロク
ラックが発生し、石英ガラスの赤外線散乱反射率を変化
させるばかりでなく、その後のＨＦ溶液によるエッチン
グ処理で、マイクロクラックが選択的にエッチングされ
て粗面化され、そこにエッチング処理液が付着したり、
或はパーティクルが発生し、半導体製品を汚染する等の
問題があった。また、フロスト処理で得た石英ガラス
は、その凹凸が大きく半導体素子製造におけるＣＶＤ工
程で形成する二酸化珪素膜などの酸化膜との密着性が悪
く剥離し易いなどの欠点もあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、石英ガラス表面に
１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸を有し、マイ
クロクラックの発生がない石英ガラスを用いて作成した
半導体処理用部材は、半導体製品を不純物元素やパーテ
ィクルで汚染することのなく、しかも半導体製造のＣＶ
Ｄ工程で形成する酸化膜との密着性に優れ熱サイクルに
おいても剥離しにくいことを見出した。そして前記表面
に凹凸を有する石英ガラスはその表面に１００μｍ以下
の薄膜を形成し、それをＨＦ溶液またはフッ素を含有す
る雰囲気などでエッチング処理することで容易に製造で
きることをも見出し、本発明を完成したものである。す
なわち
本発明者等は鋭意研究を重ねた結果、石英ガラス表面に
１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸を有し、マイ
クロクラックの発生がない石英ガラスを用いて作成した
半導体処理用部材は、半導体製品を不純物元素やパーテ
ィクルで汚染することのなく、しかも半導体製造のＣＶ
Ｄ工程で形成する酸化膜との密着性に優れ熱サイクルに
おいても剥離しにくいことを見出した。そして前記表面
に凹凸を有する石英ガラスはその表面に１００μｍ以下
の薄膜を形成し、それをＨＦ溶液またはフッ素を含有す
る雰囲気などでエッチング処理することで容易に製造で
きることをも見出し、本発明を完成したものである。す
なわち
【０００４】本発明は、表面に球状または楕円球状の凹
凸を有し、マイクロクラックのない石英ガラスを提供す
ることを目的とする。
凸を有し、マイクロクラックのない石英ガラスを提供す
ることを目的とする。
【０００５】また、本発明は、ＣＶＤ工程で形成される
酸化膜との密着性に優れ、パーティクルや不純物元素に
よる半導体製品の汚染がなく、かつ洗浄が容易な半導体
処理用石英ガラス部材を提供することを目的とする。
酸化膜との密着性に優れ、パーティクルや不純物元素に
よる半導体製品の汚染がなく、かつ洗浄が容易な半導体
処理用石英ガラス部材を提供することを目的とする。
【０００６】さらに、本発明は、上記石英ガラスの製造
方法を提供することを目的とする。
方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、表面に凹凸を有する石英ガラスであって、前記凹
凸が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状である表面
に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法に係る。
明は、表面に凹凸を有する石英ガラスであって、前記凹
凸が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状である表面
に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法に係る。
【０００８】本発明の石英ガラスは、例えば炉芯管、ウ
ェーハ載置用ボート等、半導体工業で使用される治具に
代表される部材の素材として有用で、その表面の一部又
は全部に直径１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸
を有し、マイクロクラックのない石英ガラスである。よ
り好ましくは前記凹凸が１００００ケ／ｍｍ2以上存在
する石英ガラスがよい。このように直径１０μｍ以下の
球状または楕円球状の凹凸が１００００ケ／ｍｍ2以上
存在することで、二酸化珪素膜など熱膨張係数の異なる
酸化膜もＣＶＤ工程で密着性よく石英ガラス表面に形成
されても、熱サイクルの加熱、冷却によっても剥離する
ことが少ない。また、マイクロクラックの発生がないと
ころから、マイクロクラックに基づく赤外線散乱反射率
の変化が起ることがない上に、マイクロクラックに付着
した不純物元素や該マイクロクラックに起因するパーテ
ィクルによる汚染がなく、しかも洗浄が容易である。前
記石英ガラスの表面の凹凸が球状または楕円球状である
ところから、長時間のエッチング処理でも凹凸が殆ど変
化せず、仮令エッチング処理で球状同志の境界部分が鋭
くとがっても、全体として表面状態が殆ど変ることがな
い。前記直径１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸
とは、石英ガラス表面のすべての凹凸の内、５０％以上
が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状であることを
いう。前記凹凸の直径が１０μｍを超える凹凸は石英ガ
ラス表面に形成する薄膜の分子サイズを大きくする必要
があり、使用できる薄膜が限定される上に、表面粗さが
粗くなり、二酸化珪素などの酸化膜の密着性に劣り熱サ
イクルで酸化膜の剥離が起る。また、直径が１０μｍを
超える球状または楕円球状の凹凸を１００００ケ／ｍｍ
2以上形成することは困難である。
ェーハ載置用ボート等、半導体工業で使用される治具に
代表される部材の素材として有用で、その表面の一部又
は全部に直径１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸
を有し、マイクロクラックのない石英ガラスである。よ
り好ましくは前記凹凸が１００００ケ／ｍｍ2以上存在
する石英ガラスがよい。このように直径１０μｍ以下の
球状または楕円球状の凹凸が１００００ケ／ｍｍ2以上
存在することで、二酸化珪素膜など熱膨張係数の異なる
酸化膜もＣＶＤ工程で密着性よく石英ガラス表面に形成
されても、熱サイクルの加熱、冷却によっても剥離する
ことが少ない。また、マイクロクラックの発生がないと
ころから、マイクロクラックに基づく赤外線散乱反射率
の変化が起ることがない上に、マイクロクラックに付着
した不純物元素や該マイクロクラックに起因するパーテ
ィクルによる汚染がなく、しかも洗浄が容易である。前
記石英ガラスの表面の凹凸が球状または楕円球状である
ところから、長時間のエッチング処理でも凹凸が殆ど変
化せず、仮令エッチング処理で球状同志の境界部分が鋭
くとがっても、全体として表面状態が殆ど変ることがな
い。前記直径１０μｍ以下の球状または楕円球状の凹凸
とは、石英ガラス表面のすべての凹凸の内、５０％以上
が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状であることを
いう。前記凹凸の直径が１０μｍを超える凹凸は石英ガ
ラス表面に形成する薄膜の分子サイズを大きくする必要
があり、使用できる薄膜が限定される上に、表面粗さが
粗くなり、二酸化珪素などの酸化膜の密着性に劣り熱サ
イクルで酸化膜の剥離が起る。また、直径が１０μｍを
超える球状または楕円球状の凹凸を１００００ケ／ｍｍ
2以上形成することは困難である。
【０００９】上記本発明の石英ガラスは、石英ガラス表
面に１００μｍ以下の薄膜を形成したのちＨＦ溶液また
はフッ素を含有する雰囲気などでエッチング処理するこ
とで製造できる。前記エッチング処理としては、フッ酸
溶液によるエッチング処理やプラズマエッチング処理な
どが挙げられる。また、薄膜を形成する物質としては石
英ガラス表面に１００μｍ以下の薄膜を形成できる物質
であれば無機物質でもまた有機物質でもよく特に制限さ
れないが、好ましくは有機物質からなる薄膜がよい。有
機物質としては分子中に酸素、窒素、リン、珪素、フッ
素または金属の各原子を少なくとも１つ有する有機化合
物またはその混合物が好ましく使用でき、具体的には、
アルコール類、フェノール類、アルデヒド類、ケトン
類、カルボン酸類、アミン類、有機珪素化合物、有機ハ
ロゲン化合物、有機金属化合物またはそれらの誘導体お
よびそれらの混合物などが挙げられる。特にシリコー
ン、グリセリン、脂肪酸およびその誘導体、フッ素樹
脂、クロロフルオロカーボン、フッ素ゴムなどが好適に
使用される。
面に１００μｍ以下の薄膜を形成したのちＨＦ溶液また
はフッ素を含有する雰囲気などでエッチング処理するこ
とで製造できる。前記エッチング処理としては、フッ酸
溶液によるエッチング処理やプラズマエッチング処理な
どが挙げられる。また、薄膜を形成する物質としては石
英ガラス表面に１００μｍ以下の薄膜を形成できる物質
であれば無機物質でもまた有機物質でもよく特に制限さ
れないが、好ましくは有機物質からなる薄膜がよい。有
機物質としては分子中に酸素、窒素、リン、珪素、フッ
素または金属の各原子を少なくとも１つ有する有機化合
物またはその混合物が好ましく使用でき、具体的には、
アルコール類、フェノール類、アルデヒド類、ケトン
類、カルボン酸類、アミン類、有機珪素化合物、有機ハ
ロゲン化合物、有機金属化合物またはそれらの誘導体お
よびそれらの混合物などが挙げられる。特にシリコー
ン、グリセリン、脂肪酸およびその誘導体、フッ素樹
脂、クロロフルオロカーボン、フッ素ゴムなどが好適に
使用される。
【００１０】本発明の石英ガラスの製造方法の一例を以
下に示す。すなわち、石英ガラス表面に薄膜を形成する
物質をスピンナー、バーコーター、アップリケーター、
カーテンフローなどの塗布手段を用いて膜厚１００μｍ
以下、好ましくは０．１〜１０μｍに塗布し、乾燥した
のちＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などでエッ
チング処理することからなる製造方法である。前記製造
方法で薄膜の膜厚が１００μｍを超えるとＨＦ溶液また
はフッ素を含有する雰囲気などでエッチング処理で薄膜
が剥離せず、薄膜の形成された部分がエッチングされず
に残り、球状または楕円球状の凹凸を形成できない上
に、エッチングムラも発生して好ましくない。また、薄
膜が０．１μｍ未満ではＨＦ溶液またはフッ素を含有す
る雰囲気などでエッチング処理で薄膜が短時間に剥離
し、石英ガラス表面に凹凸が生じない。好適なエッチン
グ条件としては、例えば５％ＨＦ溶液で３０分、２６％
ＨＦ溶液で１０分程度の処理がよいが、薄膜が厚い場合
にはエッチング処理時間を長くする必要がある。また、
フッ素を含有する雰囲気としてはＳＦ6、ＮＦ3などが挙
げられる。
下に示す。すなわち、石英ガラス表面に薄膜を形成する
物質をスピンナー、バーコーター、アップリケーター、
カーテンフローなどの塗布手段を用いて膜厚１００μｍ
以下、好ましくは０．１〜１０μｍに塗布し、乾燥した
のちＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などでエッ
チング処理することからなる製造方法である。前記製造
方法で薄膜の膜厚が１００μｍを超えるとＨＦ溶液また
はフッ素を含有する雰囲気などでエッチング処理で薄膜
が剥離せず、薄膜の形成された部分がエッチングされず
に残り、球状または楕円球状の凹凸を形成できない上
に、エッチングムラも発生して好ましくない。また、薄
膜が０．１μｍ未満ではＨＦ溶液またはフッ素を含有す
る雰囲気などでエッチング処理で薄膜が短時間に剥離
し、石英ガラス表面に凹凸が生じない。好適なエッチン
グ条件としては、例えば５％ＨＦ溶液で３０分、２６％
ＨＦ溶液で１０分程度の処理がよいが、薄膜が厚い場合
にはエッチング処理時間を長くする必要がある。また、
フッ素を含有する雰囲気としてはＳＦ6、ＮＦ3などが挙
げられる。
【００１１】上記ＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲
気などでエッチング処理で石英ガラス表面に球状または
楕円球状の凹凸が形成されるのは、薄膜が形成されてい
る部分のエッチングが抑制されるが、薄膜が薄い場合に
は薄膜の分子形状に沿ってＨＦ溶液またはフッ素を含有
する雰囲気が浸透しガラス表面を部分的にエッチングす
ることに起因するものと考えられる。したがって、薄膜
が厚い場合にはＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気
が石英ガラス表面まで浸透することができないので球状
または楕円球状の凹凸の形成が困難となる。
気などでエッチング処理で石英ガラス表面に球状または
楕円球状の凹凸が形成されるのは、薄膜が形成されてい
る部分のエッチングが抑制されるが、薄膜が薄い場合に
は薄膜の分子形状に沿ってＨＦ溶液またはフッ素を含有
する雰囲気が浸透しガラス表面を部分的にエッチングす
ることに起因するものと考えられる。したがって、薄膜
が厚い場合にはＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気
が石英ガラス表面まで浸透することができないので球状
または楕円球状の凹凸の形成が困難となる。
【００１２】
【発明の実施の形態】次に本発明の実施例について述べ
るがこれによって本発明はなんら限定されるものではな
い。
るがこれによって本発明はなんら限定されるものではな
い。
【００１３】
実施例１ 石鹸水のはいった槽に、石英ガラスチューブを沈め、回
転したのち引上げて乾燥した。石英ガラス表面には１μ
ｍの薄膜が形成されていた。前記石英ガラスチューブを
５％ＨＦ溶液で１２０分のエッチングしたところ、表面
に図１にみるように直径０．５〜３μｍの球状もしくは
楕円球状の凹凸が約４０００００ケ／ｍｍ2形成されて
いた。この石英ガラスチューブ表面にＳｉＨ4を原料と
して、６００℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μ
ｍの厚さに形成した。この石英ガラスチューブについて
室温から６００℃までの加熱・冷却サイクル処理を３０
回行ったのち、目視による観察をしたところ、Ｐｏｌｙ
Ｓｉ膜に剥離やマイクロクラックの発生が確認できなか
った。
転したのち引上げて乾燥した。石英ガラス表面には１μ
ｍの薄膜が形成されていた。前記石英ガラスチューブを
５％ＨＦ溶液で１２０分のエッチングしたところ、表面
に図１にみるように直径０．５〜３μｍの球状もしくは
楕円球状の凹凸が約４０００００ケ／ｍｍ2形成されて
いた。この石英ガラスチューブ表面にＳｉＨ4を原料と
して、６００℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μ
ｍの厚さに形成した。この石英ガラスチューブについて
室温から６００℃までの加熱・冷却サイクル処理を３０
回行ったのち、目視による観察をしたところ、Ｐｏｌｙ
Ｓｉ膜に剥離やマイクロクラックの発生が確認できなか
った。
【００１４】実施例２ 石英ガラスチューブにシリコーンオイルを刷毛で塗布し
たのち高速で回転して、余分のシリコーンオイルを吹き
飛ばし膜厚６μｍのシリコーンオイル膜を形成した。前
記石英ガラスチューブを２５％ＨＦ溶液で６０分のエッ
チング処理したところ、その表面には図２にみるような
直径１〜８μｍの球状もしくは楕円球状の凹凸が約８０
０００ケ／ｍｍ2形成されていた。この石英ガラス表面
にＳｉＨ4を原料として、６００℃のＣＶＤ工程でＰｏ
ｌｙＳｉ膜を２０μｍの厚さに形成し、それに室温から
６００℃までの加熱・冷却サイクル処理を３０回施し
た。処理後の石英ガラスチューブについて目視による観
察を行ったが、ＰｏｌｙＳｉ膜の剥離やマイクロクラッ
クの発生が確認できなかった。
たのち高速で回転して、余分のシリコーンオイルを吹き
飛ばし膜厚６μｍのシリコーンオイル膜を形成した。前
記石英ガラスチューブを２５％ＨＦ溶液で６０分のエッ
チング処理したところ、その表面には図２にみるような
直径１〜８μｍの球状もしくは楕円球状の凹凸が約８０
０００ケ／ｍｍ2形成されていた。この石英ガラス表面
にＳｉＨ4を原料として、６００℃のＣＶＤ工程でＰｏ
ｌｙＳｉ膜を２０μｍの厚さに形成し、それに室温から
６００℃までの加熱・冷却サイクル処理を３０回施し
た。処理後の石英ガラスチューブについて目視による観
察を行ったが、ＰｏｌｙＳｉ膜の剥離やマイクロクラッ
クの発生が確認できなかった。
【００１５】比較例１ グリセリンを石英ガラスチューブ表面に噴霧器で塗布し
て膜厚５００μｍのグリセリン膜を形成した。前記石英
ガラスチューブを５％ＨＦ溶液で１２０分のエッチング
処理をしたところ、石英ガラス表面には、まだらな白濁
が形成されただけで、凹凸の形成がなかった。また、前
記石英ガラスチューブ表面にＳｉＨ4を原料として、６
００℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μｍの厚さ
に形成し、室温から６００℃までの加熱・冷却サイクル
処理を３０回施したところ、ＰｏｌｙＳｉ膜にはマイク
ロクラックが発生し、さらにＰｏｌｙＳｉ膜の一部に剥
離があった。
て膜厚５００μｍのグリセリン膜を形成した。前記石英
ガラスチューブを５％ＨＦ溶液で１２０分のエッチング
処理をしたところ、石英ガラス表面には、まだらな白濁
が形成されただけで、凹凸の形成がなかった。また、前
記石英ガラスチューブ表面にＳｉＨ4を原料として、６
００℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μｍの厚さ
に形成し、室温から６００℃までの加熱・冷却サイクル
処理を３０回施したところ、ＰｏｌｙＳｉ膜にはマイク
ロクラックが発生し、さらにＰｏｌｙＳｉ膜の一部に剥
離があった。
【００１６】比較例２ 石英ガラスチューブ表面にＳｉＨ4を原料として、６０
０℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μｍ厚さに形
成し、それを室温から６００℃までの加熱・冷却サイク
ル処理を３０回施したところ、ＰｏｌｙＳｉ膜にマイク
ロクラックが発生し、ＰｏｌｙＳｉ膜の一部に剥離があ
った。
０℃のＣＶＤ工程でＰｏｌｙＳｉ膜を２０μｍ厚さに形
成し、それを室温から６００℃までの加熱・冷却サイク
ル処理を３０回施したところ、ＰｏｌｙＳｉ膜にマイク
ロクラックが発生し、ＰｏｌｙＳｉ膜の一部に剥離があ
った。
【００１７】
【発明の効果】本発明の石英ガラスは、表面に微細な球
状または楕円球状の凹凸が均一に形成され、マイクロク
ラックのない石英ガラスである。この石英ガラスで作成
した半導体処理用部材は例えば半導体製品製造における
ＣＶＤ工程で形成した二酸化珪素などの酸化膜の密着性
がよく、しかも不純物元素やパーティクルによる半導体
製品の汚染を起すことがなく、しかも洗浄が容易であ
る。前記石英ガラスは石英ガラス表面に薄膜を形成し、
それをＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などでエ
ッチング処理することで容易に製造できる。
状または楕円球状の凹凸が均一に形成され、マイクロク
ラックのない石英ガラスである。この石英ガラスで作成
した半導体処理用部材は例えば半導体製品製造における
ＣＶＤ工程で形成した二酸化珪素などの酸化膜の密着性
がよく、しかも不純物元素やパーティクルによる半導体
製品の汚染を起すことがなく、しかも洗浄が容易であ
る。前記石英ガラスは石英ガラス表面に薄膜を形成し、
それをＨＦ溶液またはフッ素を含有する雰囲気などでエ
ッチング処理することで容易に製造できる。
図１、２は、本発明の石英ガラス表面の走査電子顕微鏡
２次電子像写真である。
２次電子像写真である。
Claims (6)
- 【請求項１】表面に凹凸を有する石英ガラスであって、
前記凹凸が直径１０μｍ以下の球状または楕円球状であ
ることを特徴とする表面に凹凸を有する石英ガラス。 - 【請求項２】球状または楕円球状の凹凸を少なくとも１
００００ケ／ｍｍ2有することを特徴とする請求項１記
載の表面に凹凸を有する石英ガラス。 - 【請求項３】石英ガラス表面にマイクロクラックが存在
しないことを特徴とする請求項１又は２記載の表面に凹
凸を有する石英ガラス。 - 【請求項４】石英ガラス表面に１００μｍ以下の薄膜を
形成したのち、エッチング処理することを特徴とする表
面に凹凸を有する石英ガラスの製造方法。 - 【請求項５】薄膜が有機物質からなる薄膜であることを
特徴とする請求項４記載の表面に凹凸を有する石英ガラ
スの製造方法。 - 【請求項６】有機物質が分子中に酸素、リン、珪素、フ
ッ素、窒素または金属の各原子の少なくとも１つを有す
る有機化合物またはそれらの混合物であることを特徴と
する請求項５記載の表面に凹凸を有する石英ガラスの製
造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28275797A JP3929138B2 (ja) | 1997-09-30 | 1997-09-30 | 表面に凹凸を有する石英ガラスおよびその製造方法 |
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