JPH1090496A - 反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系 - Google Patents
反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系Info
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- JPH1090496A JPH1090496A JP8267703A JP26770396A JPH1090496A JP H1090496 A JPH1090496 A JP H1090496A JP 8267703 A JP8267703 A JP 8267703A JP 26770396 A JP26770396 A JP 26770396A JP H1090496 A JPH1090496 A JP H1090496A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学素子の多層膜表面に不純物が付着した際
には、これを除去して再利用することができるようにし
た反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系を提供
する。 【解決手段】 多層膜ミラー４は、基板１上に、複素屈
折率が異なる２種類の物質を交互に積層形成した多層膜
２を有する。多層膜２の最表面上には、Ｘ線に対して透
明なポリエステル樹脂の保護膜３を形成する。長時間の
使用などによって、多層膜２上の保護膜３に不純物が付
着した場合には、保護膜３を除去することで不純物を取
り除くことができる。保護膜３の除去は、有機溶剤など
を用いて、保護膜３を溶解して取り除く。その後、新た
な保護膜を多層膜上に成膜すれば、多層膜ミラーを繰り
返し使用することができる。
には、これを除去して再利用することができるようにし
た反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系を提供
する。 【解決手段】 多層膜ミラー４は、基板１上に、複素屈
折率が異なる２種類の物質を交互に積層形成した多層膜
２を有する。多層膜２の最表面上には、Ｘ線に対して透
明なポリエステル樹脂の保護膜３を形成する。長時間の
使用などによって、多層膜２上の保護膜３に不純物が付
着した場合には、保護膜３を除去することで不純物を取
り除くことができる。保護膜３の除去は、有機溶剤など
を用いて、保護膜３を溶解して取り除く。その後、新た
な保護膜を多層膜上に成膜すれば、多層膜ミラーを繰り
返し使用することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線等の波長の短
い電磁波を反射する多層膜を有する反射型光学素子及び
この反射型光学素子を用いた、Ｘ線露光装置，Ｘ線顕微
鏡，Ｘ線分析装置，放射光用反射鏡などにおける反射型
光学系に関するものである。
い電磁波を反射する多層膜を有する反射型光学素子及び
この反射型光学素子を用いた、Ｘ線露光装置，Ｘ線顕微
鏡，Ｘ線分析装置，放射光用反射鏡などにおける反射型
光学系に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線やγ線、極端紫外線など、波長の短
い電磁波は、どんな物質中もほとんど直進するために、
実用的なレンズを作ることができない。このため、これ
らの波長域では反射型の光学素子が使われている。反射
型の光学素子の一つとして、全反射を利用した斜入射ミ
ラーがある。斜入射ミラーは、どんな波長でも反射させ
ることができるが、反射面すれすれに入射させて全反射
させるので、反射による偏角（振れの角）が小さく、光
学系を設計する上で自由度が少なく、応用範囲は狭い。
い電磁波は、どんな物質中もほとんど直進するために、
実用的なレンズを作ることができない。このため、これ
らの波長域では反射型の光学素子が使われている。反射
型の光学素子の一つとして、全反射を利用した斜入射ミ
ラーがある。斜入射ミラーは、どんな波長でも反射させ
ることができるが、反射面すれすれに入射させて全反射
させるので、反射による偏角（振れの角）が小さく、光
学系を設計する上で自由度が少なく、応用範囲は狭い。
【０００３】そこで、大きな偏角を得るためには、反射
面に複素屈折率が異なる２種類の物質を交互に積層した
多層膜を有する多層膜ミラーなどの反射型光学素子が用
いられている。
面に複素屈折率が異なる２種類の物質を交互に積層した
多層膜を有する多層膜ミラーなどの反射型光学素子が用
いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この種、多層膜を有す
る反射型光学素子は、縮小露光装置や顕微鏡などの光学
系に用いられているが、光学系を長時間使用している
と、徐々に光学素子の反射面である多層膜が汚れてく
る。これは、光学系が置かれている雰囲気中の不純物が
多層膜の表面に付着するためである。当然、不純物の付
着は、反射率の低下につながるので、光学装置の性能の
劣化となる。
る反射型光学素子は、縮小露光装置や顕微鏡などの光学
系に用いられているが、光学系を長時間使用している
と、徐々に光学素子の反射面である多層膜が汚れてく
る。これは、光学系が置かれている雰囲気中の不純物が
多層膜の表面に付着するためである。当然、不純物の付
着は、反射率の低下につながるので、光学装置の性能の
劣化となる。
【０００５】従来は光学系が設置される雰囲気を、でき
る限り不純物が無いようにする努力が行われてきたが、
完全に不純物を取り除くことはできず、光学素子の多層
膜に不純物が付着して反射率が低下した場合、従来は光
学素子を新品と交換する方法が採られてきた。不純物だ
けを取り除く方法がなかったからである。
る限り不純物が無いようにする努力が行われてきたが、
完全に不純物を取り除くことはできず、光学素子の多層
膜に不純物が付着して反射率が低下した場合、従来は光
学素子を新品と交換する方法が採られてきた。不純物だ
けを取り除く方法がなかったからである。
【０００６】光学素子の多層膜の精度は反射させる波長
と同程度で無ければならないため、ナノメーター以下の
精度で製造されている。不純物は、光学素子の多層膜の
表面の分子と何らかの相互作用を起こしているので、不
純物を拭き取るのは困難であり、たとえ拭き取れても、
不純物と相互作用を起こしていた表面の原子も取れてし
まって多層膜面が損傷を受けることになり、結果として
ナノメータ以下の精度で狂いが生じ、不純物だけを拭き
取ることができなかった。このため、高価な多層膜を有
する光学素子を新しいものに交換しなくてはならなかっ
た。
と同程度で無ければならないため、ナノメーター以下の
精度で製造されている。不純物は、光学素子の多層膜の
表面の分子と何らかの相互作用を起こしているので、不
純物を拭き取るのは困難であり、たとえ拭き取れても、
不純物と相互作用を起こしていた表面の原子も取れてし
まって多層膜面が損傷を受けることになり、結果として
ナノメータ以下の精度で狂いが生じ、不純物だけを拭き
取ることができなかった。このため、高価な多層膜を有
する光学素子を新しいものに交換しなくてはならなかっ
た。
【０００７】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み
てなされたものであり、光学素子の多層膜表面に不純物
が付着した際には、これを除去して再利用することがで
きるようにした反射型光学素子及びこれを用いた反射型
光学系を提供することを目的とする。
てなされたものであり、光学素子の多層膜表面に不純物
が付着した際には、これを除去して再利用することがで
きるようにした反射型光学素子及びこれを用いた反射型
光学系を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｘ線、γ線、
あるいは極端紫外線を反射する多層膜を有する反射型光
学素子であって、前記多層膜の最表面上に、反射する前
記Ｘ線等の電磁波の波長に対して９０％以上の透過率を
もつ保護膜が成膜されたものである。
あるいは極端紫外線を反射する多層膜を有する反射型光
学素子であって、前記多層膜の最表面上に、反射する前
記Ｘ線等の電磁波の波長に対して９０％以上の透過率を
もつ保護膜が成膜されたものである。
【０００９】また、本発明は、Ｘ線、γ線、あるいは極
端紫外線を反射する反射型光学系であって、その光学系
を成す光学素子のうち少なくとも一つに上記の反射型光
学素子が使用されているものである。
端紫外線を反射する反射型光学系であって、その光学系
を成す光学素子のうち少なくとも一つに上記の反射型光
学素子が使用されているものである。
【００１０】上記の反射型光学素子には、反射型多層膜
ミラーや反射型マスクなどがある。また、上記の保護膜
の材質としては、Ｘ線等の使用波長の電磁波に対して透
明とみなせる、高い透過率を有する材質ならばよく、例
えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などが挙げられ
る。保護膜の成膜は、多層膜上にスピンコートなどによ
り形成すればよい。保護膜の膜厚は、あまり薄いと多層
膜をしっかりと覆う膜ができず、一方、厚すぎると透過
率が低下してしまうので、０.１〜１０μｍの範囲とす
るのがよい。
ミラーや反射型マスクなどがある。また、上記の保護膜
の材質としては、Ｘ線等の使用波長の電磁波に対して透
明とみなせる、高い透過率を有する材質ならばよく、例
えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂などが挙げられ
る。保護膜の成膜は、多層膜上にスピンコートなどによ
り形成すればよい。保護膜の膜厚は、あまり薄いと多層
膜をしっかりと覆う膜ができず、一方、厚すぎると透過
率が低下してしまうので、０.１〜１０μｍの範囲とす
るのがよい。
【００１１】長時間の使用などの理由によって、多層膜
上の保護膜に不純物が付着した場合には、保護膜を除去
することで不純物を取り除くことが可能になる。保護膜
の除去は、有機溶剤やアルカリ性溶剤などを用いて、保
護膜を溶解して取り除けばよい。光学素子を再利用する
前には、新たな保護膜を多層膜上に成膜すれば、繰り返
し使用することができ、高価な光学素子を有効に使用で
きる。
上の保護膜に不純物が付着した場合には、保護膜を除去
することで不純物を取り除くことが可能になる。保護膜
の除去は、有機溶剤やアルカリ性溶剤などを用いて、保
護膜を溶解して取り除けばよい。光学素子を再利用する
前には、新たな保護膜を多層膜上に成膜すれば、繰り返
し使用することができ、高価な光学素子を有効に使用で
きる。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る反射型光学
素子の一例として、多層膜ミラーの一実施形態を示す。
多層膜ミラー４は、図示のように、ガラス等からなる基
板１上に、複素屈折率が異なる２種類の物質を交互に積
層形成した多層膜２を有する。多層膜２は、モリブデン
とシリコンの薄膜からなる。多層膜２の最表面上には、
Ｘ線に対して透明なポリエステル樹脂の保護膜３が形成
されている。保護膜３はスピンコートにより成膜した。
素子の一例として、多層膜ミラーの一実施形態を示す。
多層膜ミラー４は、図示のように、ガラス等からなる基
板１上に、複素屈折率が異なる２種類の物質を交互に積
層形成した多層膜２を有する。多層膜２は、モリブデン
とシリコンの薄膜からなる。多層膜２の最表面上には、
Ｘ線に対して透明なポリエステル樹脂の保護膜３が形成
されている。保護膜３はスピンコートにより成膜した。
【００１３】多層膜ミラー４の多層膜２による反射は通
常のブラッグの式（2ｄ・ｓｉｎθ＝λ）に従う。ここ
で、ｄは２種類の薄膜の一対（一周期）の厚さ、θは反
射面と入射光とのなす角、λは波長である。この式から
わかるとおり、反射する角度と波長には１対１の関係が
あるので、多層膜を用いた光学系は特定の波長に対して
のみ有効である。言い換えれば、ある波長に対して多層
膜を用いた光学系を設計すると、他の波長に対しては反
射角が異なるので光路が異なり、光学系として用をなさ
ないことになる。これは、特定の波長しか透過させない
フィルタ効果を持っているという事ができる。
常のブラッグの式（2ｄ・ｓｉｎθ＝λ）に従う。ここ
で、ｄは２種類の薄膜の一対（一周期）の厚さ、θは反
射面と入射光とのなす角、λは波長である。この式から
わかるとおり、反射する角度と波長には１対１の関係が
あるので、多層膜を用いた光学系は特定の波長に対して
のみ有効である。言い換えれば、ある波長に対して多層
膜を用いた光学系を設計すると、他の波長に対しては反
射角が異なるので光路が異なり、光学系として用をなさ
ないことになる。これは、特定の波長しか透過させない
フィルタ効果を持っているという事ができる。
【００１４】図２には、本実施形態の多層膜ミラー４の
効果を実証するための実験に用いたＸ線光学装置の構成
を示す。Ｘ線光学装置は、図示のように、Ｘ線を発生す
るＸ線発生装置５と、Ｘ線を反射する反射鏡６と、Ｘ線
を検出する検出器７とを有し、これらはすべて真空槽８
内の真空中に設置される。このＸ線光学装置では、Ｘ線
発生装置５から発生したＸ線を、反射鏡６で反射させて
検出器７で検出するようになっており、長時間連続して
Ｘ線を発生させ続け、検出器７に検出されるＸ線の強度
をモニターする。反射鏡６の反射率が変化しなければ、
検出器７に検出されるＸ線の強度は変化しないはずであ
る。
効果を実証するための実験に用いたＸ線光学装置の構成
を示す。Ｘ線光学装置は、図示のように、Ｘ線を発生す
るＸ線発生装置５と、Ｘ線を反射する反射鏡６と、Ｘ線
を検出する検出器７とを有し、これらはすべて真空槽８
内の真空中に設置される。このＸ線光学装置では、Ｘ線
発生装置５から発生したＸ線を、反射鏡６で反射させて
検出器７で検出するようになっており、長時間連続して
Ｘ線を発生させ続け、検出器７に検出されるＸ線の強度
をモニターする。反射鏡６の反射率が変化しなければ、
検出器７に検出されるＸ線の強度は変化しないはずであ
る。
【００１５】まず、本実施形態の多層膜ミラー４と比較
するために、反射鏡６に、従来の保護膜のない多層膜ミ
ラーを用いた比較例について実験を行った。真空槽８の
真空度は１×１０-3パスカルであり、反射鏡６の位置の
多層膜ミラーが検出器７に向けて反射するＸ線の波長は
１３ｎｍである。Ｘ線発生装置５からのＸ線を多層膜ミ
ラーで反射させ、反射強度を検出器７でモニターした。
７２時間連続してＸ線の強度を測定したところ、強度が
８％低下した。これは多層膜ミラーの反射率が低下した
ことを示すものである。Ｘ線が照射された多層膜ミラー
を目視で観察したところ、Ｘ線が照射されていたところ
だけ黒ずんでおり、多層膜の表面に不純物が付着してい
ることが確認された。不純物の主な成分は炭素であり、
真空槽８の排気用ポンプの油が真空槽８内にわずかに入
り込んでいるのが原因であった。真空にするためには
（少なくとも真空引きの初期においては）、油を用いた
排気用ポンプは必須であり、ポンプと真空槽８がつなが
っている以上、排気用ポンプの油の混入を完全に防ぐこ
とはできない。
するために、反射鏡６に、従来の保護膜のない多層膜ミ
ラーを用いた比較例について実験を行った。真空槽８の
真空度は１×１０-3パスカルであり、反射鏡６の位置の
多層膜ミラーが検出器７に向けて反射するＸ線の波長は
１３ｎｍである。Ｘ線発生装置５からのＸ線を多層膜ミ
ラーで反射させ、反射強度を検出器７でモニターした。
７２時間連続してＸ線の強度を測定したところ、強度が
８％低下した。これは多層膜ミラーの反射率が低下した
ことを示すものである。Ｘ線が照射された多層膜ミラー
を目視で観察したところ、Ｘ線が照射されていたところ
だけ黒ずんでおり、多層膜の表面に不純物が付着してい
ることが確認された。不純物の主な成分は炭素であり、
真空槽８の排気用ポンプの油が真空槽８内にわずかに入
り込んでいるのが原因であった。真空にするためには
（少なくとも真空引きの初期においては）、油を用いた
排気用ポンプは必須であり、ポンプと真空槽８がつなが
っている以上、排気用ポンプの油の混入を完全に防ぐこ
とはできない。
【００１６】次に、反射鏡６に、本実施形態の多層膜ミ
ラー４を用いて同様の実験を行ったところ、７２時間の
連続照射で同じように反射率が低下した。やはり多層膜
ミラー４の表面の保護膜３に炭素が付着していたため
に、反射率が低下したのが原因であった。その後、多層
膜ミラー４を溶媒に浸して、その保護膜３を除去した後
に、再び保護膜を成膜して、図２の配置で実験を行った
ところ、実験当初に測定したＸ線強度と同じ強度が観測
された。これは保護膜３とともに不純物が除去されたと
共に、保護膜３を除去しても多層膜２の表面が崩れてい
ないことを示すものである。
ラー４を用いて同様の実験を行ったところ、７２時間の
連続照射で同じように反射率が低下した。やはり多層膜
ミラー４の表面の保護膜３に炭素が付着していたため
に、反射率が低下したのが原因であった。その後、多層
膜ミラー４を溶媒に浸して、その保護膜３を除去した後
に、再び保護膜を成膜して、図２の配置で実験を行った
ところ、実験当初に測定したＸ線強度と同じ強度が観測
された。これは保護膜３とともに不純物が除去されたと
共に、保護膜３を除去しても多層膜２の表面が崩れてい
ないことを示すものである。
【００１７】以上により、従来は困難であった不純物の
除去が、本発明を用いることで簡便に行えることが確認
できた。また、高精度に製作された光学素子が繰り返し
使用できることにより、Ｘ線やガンマ線などの波長域で
の光学系にかかる費用を飛躍的に下げることが可能にな
る。
除去が、本発明を用いることで簡便に行えることが確認
できた。また、高精度に製作された光学素子が繰り返し
使用できることにより、Ｘ線やガンマ線などの波長域で
の光学系にかかる費用を飛躍的に下げることが可能にな
る。
【００１８】
【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
によれば、多層膜の最表面上に保護膜を形成したので、
不純物が表面に付着しても保護膜と共に除去することが
でき、保護膜を除去した多層膜上に再び新たな保護膜を
成膜することで、高価な反射型光学素子を繰り返して使
用することができる。これにより、Ｘ線等の波長の短い
電磁波を反射する光学系のランニングコストを大幅に低
減することができる。
によれば、多層膜の最表面上に保護膜を形成したので、
不純物が表面に付着しても保護膜と共に除去することが
でき、保護膜を除去した多層膜上に再び新たな保護膜を
成膜することで、高価な反射型光学素子を繰り返して使
用することができる。これにより、Ｘ線等の波長の短い
電磁波を反射する光学系のランニングコストを大幅に低
減することができる。
【図１】本発明に係る反射型光学素子の一例である、多
層膜ミラーの一実施形態を示す概略縦断面図である。
層膜ミラーの一実施形態を示す概略縦断面図である。
【図２】図１の多層膜ミラーの効果を実証する実験に用
いたＸ線光学装置を示す概略構成図である。
いたＸ線光学装置を示す概略構成図である。
１ 基板 ２ 多層膜 ３ 保護膜 ４ 多層膜ミラー ５ Ｘ線発生装置 ６ 反射鏡 ７ 検出器 ８ 真空槽
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｘ線、γ線、あるいは極端紫外線を反射
する多層膜を有する反射型光学素子において、前記多層
膜の最表面上に、反射する前記Ｘ線等の電磁波の波長に
対して９０％以上の透過率をもつ保護膜が成膜されてい
ることを特徴とする反射型光学素子。 - 【請求項２】 Ｘ線、γ線、あるいは極端紫外線を反射
する反射型光学系において、その光学系を成す光学素子
のうち少なくとも一つに請求項１記載の反射型光学素子
が使用されていることを特徴とする反射型光学系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267703A JPH1090496A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8267703A JPH1090496A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1090496A true JPH1090496A (ja) | 1998-04-10 |
Family
ID=17448379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8267703A Pending JPH1090496A (ja) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | 反射型光学素子及びこれを用いた反射型光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1090496A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006135307A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-05-25 | Asml Netherlands Bv | 光学素子における蒸着物の除去方法、光学素子の保護方法、デバイス製造方法、光学素子を含む装置、およびリソグラフィ装置 |
| JP2008098651A (ja) * | 2000-09-04 | 2008-04-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス |
-
1996
- 1996-09-19 JP JP8267703A patent/JPH1090496A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008098651A (ja) * | 2000-09-04 | 2008-04-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス |
| JP2006135307A (ja) * | 2004-10-04 | 2006-05-25 | Asml Netherlands Bv | 光学素子における蒸着物の除去方法、光学素子の保護方法、デバイス製造方法、光学素子を含む装置、およびリソグラフィ装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040830 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050621 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051115 |