JPH1086549A - ブランケット、印刷装置および印刷方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高解像度、高精度のパターンを印刷法により
効率良く形成することのできるブランケットと、印刷装
置および印刷方法を提供する。 【解決手段】 厚みが５〜５０μｍの基材フィルム上に
厚みが１０〜５００μｍの表面ゴム層を形成してブラン
ケットとし、印刷装置を、凹版と、この凹版にインキを
供給するインキ供給部と、インキ供給部から前記凹版に
供給された余分なインキを掻き取るためのドクター部
と、凹版に保持されたインキを一旦受理して被印刷基板
上に転移するためのブランケット胴と、被印刷基板を載
置するステージとを備えたものとし、ブランケット胴は
周面のゴム層上に上記のブランケットを装着したもので
あり、ブランケットの耐刷性に応じた回数の連続印刷が
終了した後、ブランケットのみを新たなブランケットに
交換して再び連続印刷を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子回路や画像表
示装置等において要求される高解像度、高精度のパター
ンを形成するためのブランケット、印刷装置および印刷
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、集積回路における電子回路や液晶
ディスプレイのカラーフィルタ等の微細なパターンの形
成方法としては、蒸着、スパッタリング、メッキ等によ
り形成した薄膜をフォトリソグラフィー法によりエッチ
ングする薄膜エッチング法、スクリーン印刷法等により
インキを塗布して形成した厚膜をフォトリソグラフィー
法によりエッチングする厚膜エッチング法、スクリーン
印刷法、凹版オフセット法等の印刷法等が挙げられる。

【０００３】しかし、上述の薄膜エッチング法や厚膜エ
ッチング法では、高精度の電極を形成することは可能で
あるが、エッチング工程を有するために製造コストが高
くなってしまうという問題があった。また、例えば、４
０〜５０インチサイズの大型画像表示装置のような大面
積の基板に電極を形成する場合には、大型薄膜形成装
置、大型露光装置、大型エッチング装置が多数必要とな
り、この点でも製造コストの増大を来すという問題があ
った。

【０００４】また、印刷法のうちスクリーン印刷法は、
エッチング工程がなく、上記の薄膜エッチング法や厚膜
エッチング法に比べて工程が簡略であることから製造コ
スト低減が期待されていたが、集積回路のように微小面
積に回路が集中している場合や、近年大型化が進んでい
る画像表示装置、例えば、４０〜５０インチサイズの大
型化をめざすプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に
用いられる電極の場合には、要求される寸法精度を満た
すことができないという問題がある。特に、大型画像表
示装置の電極を形成する場合、その周辺部での寸法精度
の低下が生じて実用に供し得ないものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】印刷法のうち凹版フセ
ット法では、凹版からブランケットへ一旦インキを転移
させ、その後、ブランケットから被印刷基板へインキを
転移させて印刷がおこなわれる。従来の微細パターン印
刷用のブランケットは、基布と圧縮層からなる基材上に
表面ゴム層を形成したものであり、総厚が１．５〜２．
０ｍｍ程度であった。このようなブランケットは、ブラ
ンケット装着時の張力バラツキが生じ易く、ブランケッ
トごとの厚みのバラツキや面内の厚みのバラツキが数十
μｍ以上となってしまい、ブランケット胴に装着する際
にブランケットの厚みむら等に起因してブランケット面
内の印圧バラツキが生じ易く、加えて、凹版や被印刷基
板に対するブランケットの押込量調整等を厳密に行う必
要があり、ブランケット装着に要する時間が長くなると
いう問題があった。

【０００６】一方、ブランケットはインキによる膨潤等
を生じるため、微細パターンの連続印刷に限度があり、
適時新たなブランケットに交換する必要がある。しか
し、上述のようにブランケット交換の段取り時間が長い
ため、実質的なスループットを維持するには、一枚あた
りのブランケットの耐刷性を高く設定する必要がある。
ここで、高解像度のパターンを連続して印刷するために
は、ブランケットから被印刷基板へのインキの転移率を
１００％とする必要があり、このような転移率を連続し
て安定的に確保して耐刷性を高めるには、ブランケット
上のインキの粘度を高くすることが要求される。しか
し、インキの粘度を高く設定すると、凹版からブランケ
ットへのインキの転移性が悪くなり、印刷速度が低下す
るという問題があった。

【０００７】本発明は、上述のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高解像度、高精度のパターンを印刷法
により効率良く形成することのできるブランケットと、
印刷装置および印刷方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のブランケットは基材フィルムと、該
基材フィルムの表面に設けられた表面ゴム層とを備え、
前記基材フィルムの厚みが５〜５０μｍの範囲であり、
前記表面ゴム層の厚みが１０〜５００μｍの範囲である
ような構成とした。

【０００９】また、本発明のブランケットは、前記表面
ゴム層の臨界表面張力が２０〜２７dyne/cm 、粘弾性 t
anδが０．０５〜０．２５の範囲にあるような構成とし
た。

【００１０】本発明の印刷装置は、凹版と、該凹版にイ
ンキを供給するインキ供給部と、前記インキ供給部から
前記凹版に供給されたインキの不要部分を掻き取るため
のドクター部と、前記凹版に保持されたインキを一旦受
理して被印刷基板上に転移するためのブランケット胴
と、前記被印刷基板を載置するステージとを備え、前記
ブランケット胴はゴム層を周面に有し、該ゴム層上に上
述のような本発明のブランケットを装着したものである
ような構成とした。

【００１１】また、本発明の印刷装置は、前記ゴム層が
前記ブランケット胴周面に固着形成されたものであるよ
うな構成、あるいは、前記ゴム層がゴムシートを前記ブ
ランケット胴周面に巻き回して予め装着したものである
ような構成とした。

【００１２】さらに、本発明の印刷装置は、前記ゴム層
の硬度が３０〜８０°の範囲にあるような構成とした。

【００１３】本発明の印刷方法は、周面にゴム層を有す
るブランケット胴の前記ゴム層上に上述のような本発明
のブランケットを装着し、凹版に保持されたインキを一
旦前記ブランケット上に転移させた後、該インキをブラ
ンケット上から被印刷基板上に転移させる印刷を連続し
て行い、印刷の回数が前記ブランケットの耐刷性に応じ
た回数に達したときに前記ブランケットのみを新たなブ
ランケットに交換し、その後、同様に連続印刷を行うよ
うな構成とした。

【００１４】上記のような本発明は、厚みが５〜５０μ
ｍの基材フィルム上に厚みが１０〜５００μｍの表面ゴ
ム層を形成してブランケットとしているので、このブラ
ンケットは従来のブランケットに比べて厚みが極めて小
さく、かつ、均一な厚みを有するため、ブランケット胴
に装着する際にブランケット面内に印圧バラツキが生じ
難い。そして、本発明の印刷装置におけるブランケット
胴は、その周面にゴム層を有し、このゴム層上に本発明
のブランケットを装着するので、装着時における調整時
間が短縮でき、ブランケットの交換が簡易となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。

【００１６】図１は本発明のブランケットの構成を説明
するための断面図である。図１において、ブランケット
１は、基材フィルム２と、この基材フィルム２の表面に
形成された表面ゴム層３とを備えている。

【００１７】基材フィルム２は、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリイミドフ
ィルム、ポリエステルフィルム、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリ塩化ビフェニールフィルム等を使用することが
でき、その厚みが５〜５０μｍ、好ましくは１０〜２０
μｍの範囲にあるものを使用する。基材フィルム２の厚
みが５μｍ未満であると、耐張力性が低下して基材フィ
ルムが均一にはれなくなり、また、５０μｍを超える
と、基材フィルムの凹版セルへの追従性が低下し、受理
インキパターンの品質が劣化することとなり好ましくな
い。

【００１８】また、表面ゴム層３は、厚みが１０〜５０
０μｍ、好ましくは１０〜１００μｍの範囲にあるもの
とする。表面ゴム層２１の厚みが１０μｍ未満である
と、凹版からのインキの受理性が不十分となる。また、
厚みが５００μｍを超えると、均一な厚みのブランケッ
トの作製が困難となり、後述するようなブランケット胴
に装着した際に印圧バラツキが発生し易く、調整に時間
を要するので好ましくない。

【００１９】上記の表面ゴム層３は、その臨界表面張力
が２０〜２７dyne/cm 、粘弾性 tanδが０．０５〜０．
２５の範囲にあることが好ましい。このような表面ゴム
層３の形成に使用するゴム材料としては、ジメチルシロ
キサン、メチルビニルシロキサン、メチルフルオロビニ
ルシロキサン、メチルフェニルビニルシロキサン等や、
上記ポリマーとＮＢＲ、ＥＰＤＭ、スチレンブタジエン
ゴム（ＳＢＲ）とのブレンド及び共重合系、フッ素ゴ
ム、及びＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲ等にシリコーンオイ
ル等を混り込んだもの及びＮＢＲ、ＥＰＤＭ、ＳＢＲを
シロキサン雰囲気中で１００〜２００℃で１時間程度ベ
ーキングし、表面エネルギーの小さなコート層を形成し
たものが挙げられる。

【００２０】表面ゴム層３の臨界表面張力は、測定対象
のブランケットを適当な寸法に切断し、接触角計ＣＡ−
Ｄ型（協和界面科学（株）製）にて測定したZismanプロ
ットより求める。Zismanプロットに使用した溶剤、およ
びその表面張力を以下に示す。

【００２１】 溶剤名 表面張力（dyne/cm ） ・ヘキサノール ２７．８ ・２−ブトキシエタノール ２８．２ ・２−エトキシブタノール ３０．６ ・ジオキシトール ３１．９ ・トリエチレングリコール ４７．３ ・エチレングリコール ５０．２ 表面ゴム層３の臨界表面張力が２７dyne／cmを超える
と、ブランケット１の表面ゴム層３のインキに対するぬ
れ性が高すぎてブランケット１から被印刷基板へのイン
キ転移率が低くなりパイリングを生じる原因となる。ま
た、臨界表面張力が２０dyne／cm未満であると、凹版か
らブランケット１の表面ゴム層３へのインキの転移性が
低下し、細線再現性、線幅再現性が低下して好ましくな
い。

【００２２】次に、上述のようにして臨界表面張力を所
定の値になるようにしたゴム材料の粘弾性を、粘弾性 t
anδが０．０５〜０．２５の範囲となるように調整す
る。

【００２３】ブランケット１の表面ゴム層３の粘弾性
は、生ゴム中の架橋基密度、架橋基の局在化状態、充填
剤の種類、含有率、粒径、表面処理、架橋剤種類、１次
加硫条件（温度、時間等）、２次加硫の有無およびその
条件等で調整できる。ここで、使用する充填剤としては
煙霧質シリカ、粉砕シリカ、沈殿シリカ、重炭酸カルシ
ウム、炭酸カルシウム、ケイソウ土、タルク、石英紛等
を使用することができる。

【００２４】ブランケット１の表面ゴム層３の粘弾性 t
anδが０．０５未満である場合、凹版からブランケット
１へのインキの転移性が低下し、画線の細り、エッジ精
度の低下となり好ましくなく、粘弾性 tanδが０．２５
を超えるとブランケット１の表面ゴム層３の粘性的物性
が大きくなりすぎ、被印刷基板のチャッキングに悪影響
を与え好ましくない。

【００２５】尚、表面ゴム層３の粘弾性（ tanδ）は、
レオバイブロンＤＤＶ−II−ＥＰ（（株）オリエンテッ
ク）にて、温度２０℃、周波数１１Ｈｚで測定する。

【００２６】本発明のブランケットは、上述の実施形態
に限定されるものではなく、例えば、基材フィルムの裏
面に粘着層を形成し、後述するブランケット胴への装着
時における作業性を向上させるようにしてもよい。この
ような粘着層は、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、粘
着性ゴム材等を用いて形成することができる。

【００２７】次に、本発明の印刷装置について説明す
る。

【００２８】図２は、本発明の印刷装置の一実施形態を
示す概略構成図である。図２において、印刷装置１１
は、シリンダー状の凹版１２、この凹版１２にインキを
供給するためのインキ供給部１３、凹版１２に供給され
たインキの不要部分を掻き取るためのドクター部１４、
ブランケット胴１５、被印刷基板Ｓを載置するステージ
１６、凹版１２のインキを拭き取るためのインキ拭取部
１７、および、ブランケット洗浄部１８とを備えてい
る。

【００２９】凹版１２は、画線部と非画線部とを備えて
おり、画線部は形成目的である電子回路パターン等に対
応した溝形状をなし、通常、画線部の溝の長手方向が凹
版１２のシリンダー周長方向となるようにすることが好
ましい。

【００３０】凹版１２に形成する画線部（パターン）
は、電子回路パターンや液晶表示装置のカラーフィルタ
等、種々の微細パターンに対応させることが可能であ
り、画線部を構成する溝の最小線幅を２０μｍ程度、非
画線部の最小幅（パターンの最小形成間隔）を２０μｍ
程度とすることができる。また、画線部を構成する溝の
深さ（版深）は５〜５０μｍ程度が好ましい。

【００３１】このような凹版１２は、従来の凹版製版方
法により作製することができ、特に制限のあるものでは
ない。

【００３２】インキ供給部１３は、特に制限はなく、デ
ィスペンサー、インキングロール等の従来公知の機構を
有するインキ供給装置を使用することができる。

【００３３】また、ドクター部１４の凹版１２への接触
圧は、エアー圧可変式等にすることによって、適宜設定
することができる。尚、ドクター部１４の材質には特に
制限はなく、従来からドクター用部材として使用されて
いるＳＫ鋼、ステンレス、および、刃先表面をメッキし
て硬度を上げた材料（例えば、ＳＫ鋼等の表面にニッケ
ルやセラミックスをメッキして硬度を上げたもの）等に
より形成することができる。また、ドクター部１４の寸
法は、凹版１２の有効幅、ドクター部１４の材質等に応
じて適宜設定することができる。

【００３４】印刷装置１１を構成するブランケット胴１
５は、周面にゴム層を有し、このゴム層上に本発明のブ
ランケットを装着したものである。

【００３５】図３は、ブランケット胴１５の軸方向に垂
直な縦断面である。図３に示されるブランケット胴１５
の例では、ブランケット胴１５はその周面にゴム層２１
が形成されており、このゴム層２１上に、基材フィルム
２側をゴム層２１に密着させてブランケット１が貼り付
けられて装着されている。このブランケット胴１５で
は、ＮＢＲ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム等のゴム材料を
ブランケット胴の周面に固着することによってゴム層２
１が形成されている。このようなゴム層２１は、規定の
厚さで形成し、印圧等の調整を行ってあるので、このゴ
ム層２１上にブランケット１を貼り付けるだけでブラン
ケットの装着が完了して印刷可能となる。また、このよ
うなブランケット胴１５では、ブランケット１の耐刷枚
数に達した時点で、ゴム層２１はそのままで、使用済の
ブランケット１のみを取りはずし、新たなブランケット
１を装着することができる。これにより、ブランケット
交換を短時間で行うことができ、印刷効率を大幅に向上
させることができる。

【００３６】また、図４は、ブランケット胴１５の他の
例を示す軸方向に垂直な縦断面である。図４に示される
ブランケット胴１５の例では、ブランケット胴１５はそ
の周面にゴムシートを巻き回してゴム層２１が形成され
ている。そして、このゴム層２１上に、基材フィルム２
側をゴム層２１に密着させてブランケット１が貼り付け
られて装着されている。使用するゴムシートは、ＮＢ
Ｒ、ＥＰＤＭ、シリコーンゴム等を直接形成したり、あ
るいは、上記材料のブランケットを使用することができ
る。また、必要に応じて圧縮層を有する構成にしてもよ
い。このようなゴム層２１は、規定の張力で微調整して
装着されおり、また、印圧も調整済のため、このゴム層
２１上にブランケット１を貼り付けるだけでブランケッ
トの装着が完了して印刷可能となる。また、このような
ブランケット胴１５では、ブランケット１の耐刷枚数に
達した時点で、ゴム層２１はそのままで、使用済のブラ
ンケット１のみを取りはずし、新たなブランケット１を
装着することができる。これにより、ブランケット交換
を短時間で行うことができ、印刷効率を大幅に向上させ
ることができる。

【００３７】上述のようなゴム層２１は、その硬度が３
０〜８０°の範囲であることが好ましい。ゴム層２１の
硬度が上記の範囲にあると、印圧に対してゴム層２１が
適切な変形を示し、再現性に優れた微細パターンの印刷
が可能となる。また、ゴム層２１の厚みは０．５〜２ｍ
ｍ程度が好ましい。一方、ブランケット胴１５は、真円
度が±１０μｍ以下、円筒度が±１０μｍ以下であるこ
とが好ましい。

【００３８】尚、ゴム層２１上に粘着層を形成すること
により、本発明のブランケットの装着をより容易なもの
とすることができる。このような粘着層は、粘着性ゴ
ム、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等を用いて形成す
ることができる。

【００３９】さらに、図５は、ブランケット胴１５の他
の例を示す軸方向に垂直な縦断面である。図５に示され
るブランケット胴１５の例では、ブランケット胴１５
は、上述のゴム材料をブランケット胴の周面に固着する
ことによってゴム層２１が形成されている。そして、こ
のゴム層２１上には基材フィルム２側をゴム層２１に接
触させて長尺状のブランケット１が貼り付けられて装着
されて、このブランケット１の一方は、ブランケット胴
１５の凹部１５ａに設けられた繰り出し用ローラ２４ａ
に巻き回され、他方は、巻き取り用ローラ２４ｂに巻き
回されている。このようなブランケット胴１５では、ブ
ランケット胴の周面に位置するブランケット１の耐刷枚
数に達した時点で、繰り出しローラ２４ａから新たなブ
ランケット１をブランケット胴周面に繰り出し、使用さ
れたブランケット１を巻き取りローラ２４ｂに巻き取る
ことによって、極めて簡便にブランケット交換を行うこ
とができる。これにより、印刷効率を大幅に向上させる
ことができる。また、このようなブランケット交換を更
に容易にするために、ブランケット胴１５とゴム層２１
を貫通する孔部２５を設け、ブランケット交換時にブラ
ンケット胴内部から孔部２５を介してエアーを吹き出
し、ブランケット１をゴム層２１から浮き上がらせ移動
させやすくすることができる。

【００４０】尚、図５に示されるブランケット胴１５に
おいても、ゴム層２１の硬度は３０〜８０°の範囲であ
ることが好ましい。

【００４１】上述のように、本発明のブランケットをブ
ランケット胴１５に装着することにより、ブランケット
胴１５から被印刷基板Ｓへのインキの転移率が、極めて
高いものとなり、微細なパターンの連続印刷が可能とな
る。

【００４２】ステージ１６は、被印刷基板Ｓを載置した
状態で図２の矢印Ａ方向に往復移動するものである。ス
テージ１６における被印刷基板Ｓの保持は、チャック等
による機械保持、吸引による吸着保持等、いずれの方式
であってもよい。また、ステージ１６の平坦度は±１０
μｍ以下が好ましい。このようなステージ１６の移動
は、ボールネジ、リニヤガイドを用いたモーター駆動等
の公知の駆動方式により行うことができ、位置決め精度
が±１０μｍ以下、真直度が±１０μｍ以下、上下動が
±１０μｍ以下であることが好ましい。

【００４３】また、インキ拭取部１７は、ドクター部１
４によるインキ掻き取り後に、凹版１２上に残留した不
要なインキを拭き取るためのものであり、対となる繰り
出しローラ１７ａと巻き取りローラ１７ｂ、これらの中
間に位置するワイピングローラ１７ｃ、および、繰り出
しローラ１７ａからワイピングローラ１７ｃを経て巻き
取りローラ１７ｂに巻き取られるワイピングフィルム１
７ｄとを備えている。図示例では、ワイピングローラ１
７ｃがワイピングフィルム１７ｄを介して凹版１２に対
向しており、時計方向（図の矢印Ｂ方向）に回転する凹
版１２の表面に対して、ワイピングフィルム１７ｄが逆
方向（図の下から上方向）に移動することによって、凹
版１２の非画線部に付着している不要なインキを除去す
るようになっている。尚、このときの凹版１２に対する
ワイピングローラ１７ｃの押圧力、凹版１２とワイピン
グフィルム１７ｄとの相対速度は、適宜設定することが
できる。

【００４４】上記のワイピングフィルム１７ｄとして
は、金属箔、合成繊維、合成樹脂、ゴム等いずれであっ
てもよく、より具体的には、アルミニウム箔、アルミニ
ウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフィルム、
ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニルフィル
ム、ポリスチレンフィルム、ポリビニルブチラールフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルメタクリ
レートフィルム、ポリ酢酸ビニルフィルム、ナイロン６
６フィルム等を使用することができる。

【００４５】本発明の印刷装置１１では、ブランケット
洗浄部１８として市販のブランケット洗浄装置を使用す
ることができる。

【００４６】上述のような印刷装置１１において、凹版
１２からブランケット胴１５へのインキの転移時の凹版
１２周面の速度（周速度）ｖとブランケット胴１５に装
着されたブランケット周面の速度（周速度）ｖは、１〜
３００mm／秒、好ましくは５０〜２００mm／秒程度とす
ることができる。また、ステージ１６に保持された被印
刷基板Ｓへのブランケット胴１５からのインキの転移時
の被印刷基板Ｓの移動速度Ｖとブランケット胴１５に装
着されたブランケット周面の速度（周速度）Ｖは、１〜
３００mm／秒、好ましくは１００〜３００mm／秒程度と
することができる。

【００４７】また、本発明の印刷装置１１では、凹版１
２とブランケット胴１５とを離接可能としてもよい。こ
れにより、凹版１２からブランケット胴１５へのインキ
の転移を所定の速度ｖで終了した後、ブランケット胴１
５を凹版１２から離間させ、ブランケット胴１５の回転
速度を変化させ、ブランケット胴１５から被印刷基板Ｓ
へ所定の速度Ｖでインキの転移を行うことができる。

【００４８】次に、本発明の印刷方法を、上述の印刷装
置１１の作動を含めて説明する。

【００４９】まず、図２において矢印Ｂ方向に所定の速
度で回転する凹版１２上にインキ供給部１３からインキ
が供給される。次いで、凹版１２がドクター部１４と接
触して不要なインキが掻き取られることにより、凹版１
２の画線部（溝部）にインキが保持され、さらに、ドク
ター部１４を通過しても凹版１２の非画線部に付着して
いる不要なインキがインキ拭取部１７のワイピングフィ
ルム１７ｄによって拭き取られる。

【００５０】上記のように凹版１２の画線部に保持され
たインキは、次にブランケット胴１５と接触することに
よって、ブランケット胴１５の周面に装着された本発明
のブランケットに一旦転移される。このときの凹版１２
周面の速度ｖとブランケット胴５に装着されたブランケ
ット周面の速度ｖは、上述の範囲（１〜３００mm／秒、
好ましくは５０〜２００mm／秒程度）で設定され、凹版
１２からブランケットへインキが転移される。

【００５１】次に、被印刷基板Ｓが載置されたステージ
１６が図２の右方向に移動し、上述のようにインキが転
移されたブランケット胴１５との位置合わせが終了した
後、ブランケット胴１５と接触しながら右方向に移動し
て、被印刷基板Ｓ上へインキが転移されて微細パターン
の印刷が終了する。このときの被印刷基板Ｓの移動速度
Ｖとブランケット胴１５に装着されたブランケット周面
の速度Ｖは、上述の範囲（１〜３００mm／秒、好ましく
は１００〜３００mm／秒程度）で、かつ、ｖ≦Ｖとなる
ように設定される。

【００５２】このように被印刷基板Ｓ上へのインキの印
刷が終了した後、ステージ１６は図２の左方向に移動し
て元の位置に戻り、被印刷基板Ｓはステージ１６から取
りはずされ、新たな被印刷基板Ｓが載置される。

【００５３】以上で、印刷装置１１による被印刷基板Ｓ
への印刷が終了し、形成装置１１は同様の操作を繰り返
すことにより、連続して被印刷基板Ｓへの印刷を行うこ
とができる。そして、印刷回数がブランケット胴１５に
装着されたブランケットの耐刷性に対応した印刷回数に
達すると、ブランケットのみを新たなブランケットに交
換し、引き続いて連続印刷を行うことができる。本発明
のブランケットは、上述のようにブランケット交換に要
する時間が極めて短いため、このように適時ブランケッ
トのみを交換する方式を採用することができる。したが
って、ブランケット１枚あたりの耐刷性を上げる必要が
なく、インキ粘度を低く設定して凹版からブランケット
へのインキ受理速度を高くすることができ、高解像度、
高精度なパターン印刷における印刷効率を大幅に向上さ
せることができる。

【００５４】尚、ブランケット洗浄部１８によるブラン
ケットの洗浄は、１回の印刷が終了する毎に行ってもよ
く、また、所定の回数連続して印刷を行った後に洗浄す
るようにしてもよい。

【００５５】ここで、上述の本発明の印刷方法において
使用することのできるインキの一例を説明する。

【００５６】使用するインキは、定常流粘度が１００〜
２０００poise の範囲にあるインキが好ましい。定常流
粘度は、キャリーメッド社製ＣＳ１００レオメータを用
いて、測定温度２０℃、測定剪断速度０．０１〜２００
／秒の範囲で測定することができる。定常流粘度が１０
０poise 未満であると、ブランケットから被印刷基板Ｓ
へのインキ転移率が１００％未満となり、また、２００
０poise を超えると凹版１２からブランケットへのイン
キ受理性が悪化し、さらに細線再現性、線幅再現性が低
下し好ましくない。

【００５７】尚、インキには、粘度調整用に、溶剤とし
てフタル酸ジブチル、ブチルカルビトールアセテート等
を含有させることができる。

【００５８】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 （１）ブランケットの作製 基材フィルムとして、厚み３，１２，４０，７０μｍの
４種のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム
を準備した。この基材フィルム上に下記の各組成の表面
ゴム層用塗布液を塗布し、下記の条件で加硫を行いブラ
ンケット（試料１〜１２）を作製した。

【００５９】ブランケット試料１〜８：下記のゴム組成
物、加硫条件で、ゴム厚みと基材厚みのみを変えて作成
した。

【００６０】（組成物） 信越シリコーン（株）製 ＫＥ１６０３（Ａ・Ｂ） （Ａ液：Ｂ液＝１：１） （加硫条件） ２５℃、７２時間 ブランケット試料９： （組成物） ・信越シリコーン（株）製 ＫＥ１０８ …１００重量部 ・硬化剤（信越シリコーン（株）製 ＣＡＴ−１０８）… ５重量部 ・充填剤（日本エアロジル（株）製 エアロジル200) … １５重量部 （加硫条件） ２５℃、７２時間 ブランケット試料１０： （組成物） 信越シリコーン（株）製 ＫＥ１０５（Ａ・Ｂ） （Ａ液：Ｂ液＝１：１） （加硫条件） ２５℃、２４時間 ブランケット試料１１： （組成物） 信越シリコーン（株）製 ＫＥ１６０３（Ａ・Ｂ） （Ａ液：Ｂ液＝１：１） （加硫条件） ２５℃、７２時間 （後処理）ジメチルシリコーンオイルをブランケット表
面に塗布後、ブランケット表面を赤外線ランプで照射
し、表面にジメチルシリコーン付着被膜を形成した。

【００６１】ブランケット試料１２： （組成物） 信越シリコーン（株）製 ＫＥ１６０３（Ａ・Ｂ） （Ａ液：Ｂ液＝１：１） （加硫条件） ２５℃、７２時間 （後処理） 表面ゴム加硫後、紫外線オゾン処理を１０分間施した。

【００６２】また、比較として、基布と圧縮層からなる
基材（厚み１．５ｍｍ）上に下記組成の表面ゴム層用塗
布液を塗布し、塗布膜上にＰＥＴフィルムを圧着させた
状態で下記の条件で加硫を行い、その後、ＰＥＴフィル
ムを剥離して表面ゴム層（厚み０．５ｍｍ）を形成し、
従来のブランケット（比較試料１）を作製した。

【００６３】ブランケット比較試料１： （組成物） ・信越シリコーン（株）製 ＫＥ７６５Ｕ …１００重量部 ・架橋剤 … ５重量部 （２，５−ジ−メチル−２，５−ジ−ｔ−ブチルフェロキシヘキサン） （加硫条件） １次加硫 １７０℃、２０分間 ２次加硫 ２００℃、４時間 上記のように作製した各ブランケット試料（試料１〜１
２、比較試料１）における基材フィルムの厚み、およ
び、表面ゴム層の厚み、臨界表面張力、粘弾性は、下記
の表１に示す通りであった。

【００６４】尚、臨界表面張力は、下記の溶剤を使用
し、協和界面科学（株）、接触角計ＣＡ−Ｄ型にて測定
し、Zismanプロットより算出した。

【００６５】 溶剤名 表面張力（dyne/cm ） ・ヘキサノール ２７．８ ・２−ブトキシエタノール ２８．２ ・２−エトキシブタノール ３０．６ ・ジオキシトール ３１．９ ・トリエチレングリコール ４７．３ ・エチレングリコール ５０．２ また、粘弾性 tanδは、（株）オリエンテック製のレオ
バイブロンDDV-II-EPにて、温度２０℃、周波数１１Hz
で測定した。 （２）パターン印刷 図２に示されるような印刷装置のブランケット胴に上記
のブランケット試料１〜１２、および、ブランケット比
較試料１を貼り付けて装着し、下記の表１に示される１
３種の印刷条件でガラス基板（サイズ３００×４００ｍ
ｍ）上に微細パターンを印刷した。

【００６６】ブランケット胴は図４に示されるような構
成で下記の仕様のものを用いた。

【００６７】 （ブランケット胴） ・サイズ ：有効周長＝４５０ｍｍ（胴径約１８０ｍｍφ） 有効幅＝６００ｍｍ ・回転速度 ：５〜３００ｍｍ／秒（周速度） ・動作 ：上下動 ・ゴム層の硬度：５０° ・ゴム層の厚み：１ｍｍ ・ゴム層装着方式 ：巻き込み式 また、使用したインキ、凹版、および、印刷装置の各部
の仕様は下記のものとした。

【００６８】（インキ） ・エステルアクリレート系 ・粘度 ：２００poise 、５００poise の２種 キャリーメッド社製ＣＳ１００レオメータを用いて、測
定温度２０℃、測定剪断速度１００／秒で測定。

【００６９】 （凹版） ・サイズ ：有効周長＝５５０ｍｍ（胴径約１８０ｍｍφ） 有効幅＝５００ｍｍ ・回転速度 ：５〜３００ｍｍ／秒（周速度） ・版深 ：２５μｍ （インキ供給部） ディスペンサー （ドクター部） ・サイズ ：ドクター＝５００ｍｍ ホルダー＝６００ｍｍ ・圧 ：エアー圧可変 ・動作 ：上下動 （ステージ） ・速度 ：２００ｍｍ／秒 ・アライメント：ピン当て方式、ＸＹ調整機構、アライメントカメラ ・定盤サイズ ：７００×７００ｍｍ ・ガラス基板保持方式 ：真空吸着方式 ・定盤平坦度 ：±１０μｍ （インキ拭取部） ・方式 ：フィルム拭き取り方式 ・フィルム送り速度 ：５〜２００ｍｍ／秒 ・フィルム巻き径 ：約２００ｍｍφ ・ワイピングローラ ：ゴムローラー（径１００ｍｍφ） ・ワイピングフィルム：ポリエチレンテレフタレートフィルム 凹版に形成した画線部は、版深２５μｍ、線幅は７０〜
１５０μｍの範囲で異なる線幅をもつものとした。

【００７０】ブランケットとして試料１〜１２を使用し
た印刷条件１〜１２では、粘度２００poise のインキが
使用可能であり、したがって凹版からブランケットへの
インキ受理速度ｖを２００ｍｍ／秒とした。また、ブラ
ンケットからガラス基板へのインキ転移速度Ｖは２００
ｍｍ／秒とした。

【００７１】一方、ブランケットとして比較試料１（従
来タイプの層構成を有するブランケット）を使用した印
刷条件１３では、粘度２００poise のインキを使用する
と、耐印性がとれず、頻繁にブランケット交換が必要な
ため、粘度５００poise のインキを使用し、凹版からブ
ランケットへのインキ受理速度ｖは、この粘度のインキ
の受理速度の限界である５０ｍｍ／秒とした。また、ブ
ランケットからガラス基板へのインキ転移速度Ｖは２０
０ｍｍ／秒とした。そして、上述の印刷装置と同様の印
刷装置を使用して、ガラス基板上に微細パターンを印刷
した。

【００７２】上記のような各印刷条件によるガラス基板
上へのパターン印刷において、印刷形状、インキ受理速
度（ｍｍ／秒）、１回のブランケット交換に要する時間
（分）、連続印刷時のブランケット交換間隔（時）、２
４時間連続印刷時のブランケット交換に要したトータル
時間（分）を評価して、下記の表１に示した。

【００７３】

【表１】 表１に示されるように、本発明のブランケット（試料
２、３、６、７、１０）を使用した印刷条件２、３、
６、７、１０におけるパターン印刷では、良好な画素形
状の印刷物が得られた。更に、上記の本発明のブランケ
ットは、インキ受理速度が２００ｍｍ／秒で、２４時間
連続印刷時のブランケット交換に要したトータル時間が
１２分であり、従来タイプのブランケット（比較試料
１：印刷条件１３）のインキ受理速度５０ｍｍ／秒、２
４時間連続印刷時のブランケット交換に要したトータル
時間４５分に比べて、印刷タクト、ブランケット交換時
間の双方が大幅に短縮され、スループットが向上したこ
とが確認された。

【００７４】これに対し、ブランケット試料１では、フ
ィルムの厚みが不十分であり、必要な耐張力特性が得ら
れず、ブランケットをブランケット胴に貼り付ける際
に、シワが生じてしまった。

【００７５】ブランケット試料４では、フィルムの厚み
が大きすぎて凹版のセルに対するブランケットの追従性
が不足し、インキ受理形状が不良となってしまった。

【００７６】また、ブランケット試料５では、表面ゴム
層の厚みが不足し、凹版のセルに対するブランケットの
追従性が不足し、インキ受理形状が不良となってしまっ
た。

【００７７】ブランケット試料８では、表面ゴム層の厚
みが大きすぎ、基材フィルムに組成物を塗布する際に、
面内のゴム層の厚みのバラツキを制御するのが難しく、
均一な表面ゴム層の形成ができなかった。

【００７８】さらに、ブランケット試料９、１１、１２
では、ひととおりの印刷は可能であったが、以下のよう
な問題点を生じた。

【００７９】すなわち、ブランケット試料９では、物性
（ｔａｎδ）が小さく、インキ受理形状が不良となり、
また、受理スピードも遅くなってしまい、スループット
が低下した。また、ブランケット試料１１では、表面ゴ
ム層の臨界表面張力が小さいため、インキの受理形状が
やや不良となり、また、受理スピードも遅くなってしま
い、スループットが低下した。さらに、ブランケット試
料１２では、表面ゴム層の臨界表面張力が大きく、イン
キの転移性がやや不良（ブランケットからガラス基板へ
のインキの転移率が１００％未満となる）となり、その
ため、印刷線幅が、連続印刷に伴って徐々に増加する傾
向を示し、ブランケットを頻繁に交換する必要を生じ
た。

【００８０】上述のように、本発明のブランケット（試
料２、３、６、７、９〜１２）では、従来のブランケッ
ト（比較試料１）に比べて、印刷タクト、ブランケット
交換時間の双方が大幅に短縮されることが確認された。

【００８１】さらに、基材フィルムの厚さ、表面ゴム層
の厚さ、表面ゴム層の物性（ｔａｎδ）、臨界表面張力
を適正化した本発明のブランケット（試料２、３、６、
７、１０）では、版に忠実なインキ受理形状が得られ、
加えて、ブランケットから被印刷基板（ガラス基板）へ
のインキ転移率も１００％となり、良好な印刷パターン
が再現可能となった。また、連続印刷時の線幅安定性が
増してブランケットの交換頻度が減少したり、受理スピ
ード２００ｍｍ／秒で印刷可能となるため、トータルの
スループットを向上できることが確認された。

【００８２】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば厚
みが５〜５０μｍの基材フィルム上に厚みが１０〜５０
０μｍの表面ゴム層を形成してブランケットとするの
で、均一な厚みを有するブランケットが可能となり、ま
た、このブランケットは従来のブランケットの通常の厚
み（１．５〜２．０ｍｍ）に比べて極端に薄いため、ブ
ランケット毎の厚みのバラツキや面内の厚みのバラツキ
が１０μｍ以下となり、ブランケット胴への装着時にお
けるブランケット面内の印圧バラツキが生じ難い。そし
て、表面ゴム層の臨界表面張力を２０〜２７dyne/cm 、
粘弾性 tanδを０．０５〜０．２５の範囲とすることに
よって、凹版からブランケットへのインキの受理性が良
好で、かつ、ブランケットから被印刷基板へのインキの
転移率が１００％となり、良好な印刷画素形状が連続印
刷時に安定して得られる。

【００８３】また、本発明の印刷装置におけるブランケ
ット胴へのブランケットの装着は、ブランケット胴の周
面のゴム層上に上記のブランケットを装着するものであ
り、このため、従来のブランケットを使用した場合の装
着時における厳密な調整が不要となり、装着時間の大幅
な短縮が可能となる。したがって、ブランケット１枚あ
たりの耐刷性を上げる必要がなく、連続印刷の回数が本
発明のブランケットの耐刷性に応じた回数に達した段階
で、ブランケットのみを新たなブランケットに短時間で
交換して再び連続印刷を行うことができ、インキ粘度を
低く設定して凹版からブランケットへのインキ受理速度
を高くすることができる。このため、高解像度、高精度
のパターン印刷における印刷効率の大幅な向上が可能と
なる。さらに、ブランケットの構成が簡易であるためブ
ランケット１枚当たりのコストが従来のブランケットに
比べて大幅に低くなり、印刷ランニングコストの低減が
可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のブランケットの構成を説明するための
断面図である。

【図２】本発明の印刷装置の一実施形態を示す概略構成
図である。

【図３】本発明の印刷装置におけるブランケット胴の一
例を示す断面図である。

【図４】本発明の印刷装置におけるブランケット胴の他
の例を示す断面図である。

【図５】本発明の印刷装置におけるブランケット胴の他
の例を示す断面図である。

【符号の説明】

１…ブランケット ２…基材フィルム ３…表面ゴム層 １１…印刷装置 １２…凹版 １３…インキ供給部 １４…ドクター部 １５…ブランケット胴 １６…ステージ １７…インキ拭取部 １８…ブランケット洗浄部 ２１…ゴム層 Ｓ…被印刷基板

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材フィルムと、該基材フィルムの表面
   に設けられた表面ゴム層とを備え、前記基材フィルムの
   厚みが５〜５０μｍの範囲であり、前記表面ゴム層の厚
   みが１０〜５００μｍの範囲であることを特徴とするブ
   ランケット。
2. 【請求項２】 前記表面ゴム層は、臨界表面張力が２０
   〜２７dyne/cm 、粘弾性 tanδが０．０５〜０．２５の
   範囲にあることを特徴とする請求項１に記載のブランケ
   ット。
3. 【請求項３】 凹版と、該凹版にインキを供給するイン
   キ供給部と、前記インキ供給部から前記凹版に供給され
   たインキの不要部分を掻き取るためのドクター部と、前
   記凹版に保持されたインキを一旦受理して被印刷基板上
   に転移するためのブランケット胴と、前記被印刷基板を
   載置するステージとを備え、前記ブランケット胴はゴム
   層を周面に有し、該ゴム層上に請求項１または請求項２
   に記載のブランケットを装着したものであることを特徴
   とする印刷装置。
4. 【請求項４】 前記ゴム層は、前記ブランケット胴周面
   に固着形成されたものであることを特徴とする請求項３
   に記載の印刷装置。
5. 【請求項５】 前記ゴム層は、ゴムシートを前記ブラン
   ケット胴周面に巻き回して予め装着したものであること
   を特徴とする請求項３に記載の印刷装置。
6. 【請求項６】 前記ゴム層は、硬度が３０〜８０°の範
   囲にあることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいず
   れかに記載の印刷装置。
7. 【請求項７】 周面にゴム層を有するブランケット胴の
   前記ゴム層上に請求項１または請求項２に記載のブラン
   ケットを装着し、凹版に保持されたインキを一旦前記ブ
   ランケット上に転移させた後、該インキをブランケット
   上から被印刷基板上に転移させる印刷を連続して行い、
   印刷の回数が前記ブランケットの耐刷性に応じた回数に
   達したときに前記ブランケットのみを新たなブランケッ
   トに交換し、その後、同様に連続印刷を行うことを特徴
   とする印刷方法。