JPH1079550A - 半導体レーザ励起固体レーザ装置 - Google Patents

半導体レーザ励起固体レーザ装置

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JPH1079550A
JPH1079550A JP8233257A JP23325796A JPH1079550A JP H1079550 A JPH1079550 A JP H1079550A JP 8233257 A JP8233257 A JP 8233257A JP 23325796 A JP23325796 A JP 23325796A JP H1079550 A JPH1079550 A JP H1079550A
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JP
Japan
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laser
laser light
medium
mirror
laser beam
Prior art date
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Pending
Application number
JP8233257A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsutomu Sakurai
努 櫻井
Nobutaka Asada
信孝 麻田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体レーザ励起固体レーザ装置において、
品質が良く、高出力のレーザ光を供給する。 【解決手段】 半導体レーザ1とレーザ媒質2とレーザ
媒質2から放出されたレーザ光に対して高い反射率を持
つ第1のミラー5とを有する複数の端面励起方式のレー
ザ光発生部7と、レーザ媒質2から放出されたレーザ光
をジャイアントパルスにするQスイッチ素子3と、ジャ
イアントパルスのレーザ光の波長を逓倍する非線形光学
結晶4と、逓倍されたレーザ光の波長に対して高い透過
率を持ち、レーザ媒質2から放出されたレーザ光の波長
に対して高い反射率を持ち、かつ複数のレーザ光発生部
7の光軸の交差部に反射光軸が相手側の光軸に一致する
ように配設された第2のミラー6とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体レーザを励
起光源に用いた固体レーザ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】例えば、半導体レーザを励起光源に用い
たレーザ装置は、得られるレーザ光の光軸上に配置した
レーザ媒質に対し、その光軸上に配置した半導体レーザ
からレーザ媒質の端面に向けてレーザ光を照射する端面
励起方式と、得られるレーザ光の光軸上に配置したレー
ザ媒質に対し、その側方に配置した半導体レーザからレ
ーザ媒質の光軸に向けてレーザ光を照射する側面励起方
式とがある。
【0003】従来例の端面励起方式のレーザ装置の構成
を図2を参照して説明すると、11は半導体レーザ、1
2はレーザ媒質、13はレーザ媒質12から放出される
レーザ光をジャイアントパルスにするQスイッチ素子、
14はジャイアントパルスのレーザ光の波長を逓倍する
非線形光学結晶である。15は半導体レーザ11とレー
ザ媒質12との間に同軸上に配置された第1のミラー
で、レーザ媒質12から放出されるレーザ光に対して高
い反射率を持つ。16は非線形光学結晶14の外側に同
軸上に配置された第2のミラーで、非線形光学結晶14
にて逓倍されたレーザ光に対して高い透過率を持ち、レ
ーザ媒質12から放出されたレーザ光に対して高い反射
率を持つ。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、図2に示す
ような端面励起方式は得られるレーザ光の品質が良く、
得られるレーザ光の発振効率も良い。一方、側面励起方
式は、励起光源である半導体レーザの照射面積を大きく
できるので、高出力のレーザ光が得られる。しかし、端
面励起方式では励起光源である半導体レーザの照射面積
が小さく、高出力化が図れないという問題がある。一
方、側面励起方式では得られるレーザ光の発振効率が悪
く、得られるレーザ光の品質が悪いという問題があっ
た。
【0005】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、品質
が良く、高出力のレーザ光を供給することができる半導
体レーザ励起固体レーザ装置を提供することを目的とし
ている。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体レーザ励
起固体レーザ装置は、レーザ媒質とその光軸上からレー
ザ媒質を励起する半導体レーザと半導体レーザとレーザ
媒質の間に配設されレーザ媒質から放出されたレーザ光
に対して高い反射率を持つ第1のミラーとから構成され
た複数のレーザ光発生部と、レーザ媒質から放出された
レーザ光をジャイアントパルスにするQスイッチ素子
と、ジャイアントパルスのレーザ光の波長を逓倍する非
線形光学結晶と、逓倍されたレーザ光の波長に対して高
い透過率を持ち、レーザ媒質から放出されたレーザ光の
波長に対して高い反射率を持ち、かつ複数のレーザ光発
生部の光軸の交差部に反射光軸が相手側の光軸に一致す
るように配設された第2のミラーとを備えたものであ
り、端面励起方式のレーザ光発生部を複数設けることに
よってレーザ光の品質が良いままで高出力化を図るよう
にしている。
【0007】好適には、第2のミラーは、レーザ媒質か
ら放出されたレーザ光を90°方向に高い反射率で反射
し、かつ逓倍されたレーザ光の波長に対して高い透過率
を持ち、複数のレーザ発生部がL型に配設される。
【0008】また、第1のミラーをレーザ媒質の半導体
レーザからのレーザ光入射側に形成された蒸着膜にて構
成すると、第1のミラーを簡単かつ安価に構成できる。
また、非線形光学結晶を複数のレーザ光発生部の間の光
路を二等分する位置に配設すると、第1のミラーを凹面
ミラーにて構成してレーザ光を非線形光学結晶で収束さ
せることによって波長変換効率の向上を図る場合に、光
路両端の第1のミラーに同一曲率半径のミラーを用いて
波長変換効率の向上を図ることができる。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体レーザ励起
固体レーザ装置の一実施形態を図1を参照しながら説明
する。
【0010】図1において、1は半導体レーザ、2はレ
ーザ媒質であり、これら半導体レーザ1とレーザ媒質2
にてレーザ光発生部7が構成されている。また、このレ
ーザ光発生部7の半導体レーザ1とレーザ媒質2との間
には同軸上に、レーザ媒質2から放出されるレーザ光に
対して高い反射率を持つ第1のミラー5が配置されてい
る。そして、1対のレーザ光発生部7が、それらの光軸
を90°の交差角で交差するようにL型に配置されてい
る。レーザ媒質2は、1対のレーザ光発生部7を設けて
いるので、それらの光軸調整が簡単にできるようにその
端面は光軸に対し直角にカットしてある。
【0011】3は一方のレーザ光発生部7の光軸と同軸
上に配置されたQスイッチ素子で、レーザ媒質2から放
出されるレーザ光をジャイアントパルスにする。4は同
じく一方のレーザ光発生部7の光軸と同軸上に配置され
た非線形光学結晶で、ジャイアントパルスのレーザ光の
波長を逓倍する。この非線形光学結晶4は、両レーザ光
発生部7、7間の光路を二等分する位置に配設され、か
つ両レーザ光発生部7、7における第1のミラー5はレ
ーザ光をこの非線形光学結晶4で収束させるように凹面
ミラーにて構成されている。
【0012】6は、複数のレーザ光発生部7の光軸が交
差する位置に、それら両光軸に対して45°傾斜して配
置された第2のミラーで、非線形光学結晶4にて逓倍さ
れたレーザ光に対して高い透過率を持ち、両レーザ光発
生部7のレーザ媒質2から放出されたレーザ光に対して
90°の方向に高い反射率を持っている。
【0013】以上の構成において、端面励起方式の半導
体レーザ1とレーザ媒質2から成るレーザ光発生部7を
複数設け、非線形光学結晶4にて逓倍されたレーザ光の
波長に対して高い透過率を持ち、レーザ媒質2から放出
されたレーザ光の波長に対して高い反射率を持つ第2の
ミラー6を、両レーザ光発生部7の光軸の交差部に反射
光軸が相手側の光軸に一致するように配設しているの
で、端面励起方式の両レーザ光発生部7にて2段に励起
され、Qスイッチ素子3でジャイアントパルスにされ、
非線形光学結晶4にて波長が逓倍されたレーザ光が出力
され、端面励起方式のレーザ装置の特長であるレーザ光
の品質が良いままで高出力化を図ることができる。ま
た、レーザ媒質2をブリュースターカットしていないの
で、光軸の調整も簡単である。また、第1のミラー5を
凹面ミラーにて構成してレーザ光を非線形光学結晶4に
収束させるように構成すると、波長変換効率を高くする
ことができ、かつ非線形光学結晶4をレーザ光発生部
7、7間の光路を二等分する位置に配置しているので、
同一の曲率半径の第1のミラー5を用いてその効果を得
ることができる。
【0014】なお、上記実施形態では第1のミラー5を
独立したミラーにて構成した例を示したが、レーザ媒質
2の半導体レーザ1からのレーザ光入射側に形成した蒸
着膜にて構成しても良く、レーザ光発生部7をより簡単
な構成にできる。また、レーザ発生部7を一対配設した
例を示したが、3つ以上配設してもよい。
【0015】
【発明の効果】本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装
置によれば、以上の説明から明らかなように、複数の端
面励起方式のレーザ光発生部を設けているので、レーザ
光の品質が良いまま、大きなレーザ光出力を得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体レーザ励起固体レーザ装置の一
実施形態の構成図である。
【図2】従来例の半導体レーザ励起固体レーザ装置の構
成図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 2 レーザ媒質 3 Qスイッチ素子 4 非線形光学結晶 5 第1のミラー 6 第2のミラー 7 レーザ光発生部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ媒質とその光軸上からレーザ媒質
    を励起する半導体レーザと半導体レーザとレーザ媒質の
    間に配設されレーザ媒質から放出されたレーザ光に対し
    て高い反射率を持つ第1のミラーとから構成された複数
    のレーザ光発生部と、レーザ媒質から放出されたレーザ
    光をジャイアントパルスにするQスイッチ素子と、ジャ
    イアントパルスのレーザ光の波長を逓倍する非線形光学
    結晶と、逓倍されたレーザ光の波長に対して高い透過率
    を持ち、レーザ媒質から放出されたレーザ光の波長に対
    して高い反射率を持ち、かつ複数のレーザ光発生部の光
    軸の交差部に反射光軸が相手側の光軸に一致するように
    配設された第2のミラーとを備えたことを特徴とする半
    導体レーザ励起固体レーザ装置。
  2. 【請求項2】 第2のミラーは、レーザ媒質から放出さ
    れたレーザ光を90°方向に高い反射率で反射し、かつ
    逓倍されたレーザ光の波長に対して高い透過率を持ち、
    複数のレーザ発生部はL型に配設された請求項1記載の
    半導体レーザ励起固体レーザ装置。
  3. 【請求項3】 第1のミラーは、レーザ媒質の半導体レ
    ーザからのレーザ光入射側に形成された蒸着膜にて構成
    したことを特徴とする請求項1または2記載の半導体レ
    ーザ励起固体レーザ装置。
  4. 【請求項4】 非線形光学結晶を、複数のレーザ光発生
    部の間の光路を二等分する位置に配設したことを特徴と
    する請求項1または2記載の半導体レーザ励起固体レー
    ザ装置。
JP8233257A 1996-09-03 1996-09-03 半導体レーザ励起固体レーザ装置 Pending JPH1079550A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018194301A1 (ko) * 2017-04-19 2018-10-25 (주)이오테크닉스 레이저 증폭 장치
CN110249261A (zh) * 2017-03-02 2019-09-17 极光先进雷射株式会社 固体激光***和波长转换***
CN112051248A (zh) * 2020-08-26 2020-12-08 西北核技术研究所 基于激光激发的闪烁材料光产额非线性测量方法及***

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110249261A (zh) * 2017-03-02 2019-09-17 极光先进雷射株式会社 固体激光***和波长转换***
CN110249261B (zh) * 2017-03-02 2022-11-18 极光先进雷射株式会社 固体激光***和波长转换***
WO2018194301A1 (ko) * 2017-04-19 2018-10-25 (주)이오테크닉스 레이저 증폭 장치
CN112051248A (zh) * 2020-08-26 2020-12-08 西北核技术研究所 基于激光激发的闪烁材料光产额非线性测量方法及***
CN112051248B (zh) * 2020-08-26 2023-12-15 西北核技术研究所 基于激光激发的闪烁材料光产额非线性测量方法

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