JP2004503918A - 深紫外発生用ダイオード励起カスケードレーザ - Google Patents
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Abstract
2段階ダイオード励起固体レーザを開示する。ダイオードレーザソースが第1固体レーザを励起する。次に、この第1固体レーザは、第2固体レーザを励起する。この第2固体レーザには、効率の良い深紫外発生に適した全てのパラメータが含まれている。このダイオード励起固体カスケードレーザの直接の用途は、レーザ屈折手術用の深紫外(deep UV)を発生させることである。
Description
【0001】
【優先権の主張】
本出願は、1998年8月31日に出願された米国仮特許出願第60/098,398号の優先権を主張する。
【0002】
【発明の技術分野】
この発明は、ダイオード励起固体レーザ装置に関する。特に、この発明は、深紫外(deep UV)発生に適したダイオード励起2段階レーザソースに関する。
【0003】
【発明の背景】
ダイオード励起固体レーザを用いて200nmあたりの深紫外を発生させることは、レーザ屈折手術法(photo−refrective surgery)にとって非常に望ましい。そのような深紫外レーザソースは、現在レーザ屈折手術法用のレーザソースの主流であるエキシマーレーザに比べ、小型化、信頼度及びメンテナンスの点で勝っていると考えられている。更に重要な点は、固体レーザソースの動作が、エキシマレーザのそれに比べ、非常に高い繰返しレートで、かつ非常に小さなエネルギー変動で行えることである。高い繰返しレートで深紫外レーザビームをスキャンさせることによって角膜表面における様々な切除形状が可能となり、レーザ屈折手術法にとって柔軟性が高まる。固体紫外レーザソースからのパルスエネルギーにおける安定性が改善されると、正確で制御可能な切除が確実なものとなる。
【0004】
そのようなダイオード励起固体レーザソースを得るためには、まず、レーザパラメータが適切なパルス赤外レーザビームを発生させる必要がある。そうして、効率的な波長変換を行って高次高調波を発生させることができる。重要なレーザパラメータとしては、レーザ波長、スペクトル幅、パルス持続時間、パルスエネルギー、パルス繰返しレート及びビーム品質が挙げられる。しかし、1つのダイオード励起固体レーザから、一挙に、全ての適正なパラメータを得ることは困難である。
【0005】
キロヘルツ及びミリジュールのレベルで動作するダイオード励起固体レーザは、基本的に、800nm付近のダイオードレーザソースで励起されるネオジム(Nd)添加レーザである。このレーザは、簡単にQスイッチングされて、持続時間が30乃至100nsのレーザパルスを生成する。今日入手できる非線形結晶では、このパルス持続時間は長過ぎて、光学的損傷のない効果的な深紫外発生を行うことができない。ビーム品質とパルスエネルギーとは、このレーザの互いに競合するパラメータである。簡単で、パルスエネルギーが高いが故に、このレーザは普及しており価格も低い。このレーザは、米国ミズリー州セントチャールズのカッティングエッヂオプトロニクス(Cutting Edge Optronics)社及び米国フロリダ州オーランドのリーラスタ(Lee Laster)社から市販されている。
【0006】
マスタ発振器とパワー増幅器とを使用した、構造がより複雑なレーザシステムでは、パルスがより短く、ビーム品質がより良いものが得られるが、コストは非常に高くなる。そのようなレーザシステムでは、Qスイッチングされる発振器が、高輝度ダイオードレーザによって縦方向に励起され、持続時間が約10nsの低エネルギーパルスを生成する。ダイオード励起パワー増幅器が、そのパルスエネルギーをミリジュールのレベルまで押し上げる。このレーザを用いた深紫外発生では、得られる変換効率は約5%である。この10nsのレーザソースを用いた場合、光学的損傷が、200nm付近の深紫外発生を対象とする非線形結晶について重要な問題となっている。この光学的損傷を回避するためには、非線形結晶を連続して動作させる必要がある(本願発明者(Lai)その他に付与された米国特許第5825562参照)。マスタ発振器とパワー増幅器とを使用したレーザシステムは、ドイツのランプダフィズィック社(Lambda Physik GmbH)及び米国カリフォルニア州サンタクララのコンティニュアム(Continuum)社から市販されている。
【0007】
構造が更に一層複雑な、マスタ発振器/パワー増幅器レーザシステムでは、モード固定発振器と再生増幅器が使用されることがある。持続時間が約100psのパルスを発生させることができ、約1ミリジュールのパルスエネルギーをキロヘルツレベルの繰返しレートで得ることができる。深紫外発生について約10パーセントの変換効率が達成できる。パルスが短いこのレーザシステムを用いた場合、紫外結晶についての光学的損傷はあまり大きな問題ではない。しかし、このレーザシステムは、その動作及びメンテナンスの条件が非常に厳しいため、主に製造所、研究所、試験所のような環境(laboratory environment)で使用されている。市販の製品としては、米国カリフォルニア州のマウンテンビューのスペクトラフィズィックスレーザズ(Spectra−Physics Lasers)社から販売されているものがある。そのシステムの価格は、ゆうに20万ドルを超えることがある。
【0008】
キロヘルツ及びミリモジュールのレベルで動作するダイオード励起固体レーザに対する別の制約事項は、レーザ波長である。ダイオード励起ソースで、パワー及び耐用年数の十分なものが申し分なく開発されてきたのは、ネオジム添加レーザに関するものについてのみである。実用上、これらのレーザから出るレーザ波長は、1060nm付近または1320nm付近に制限されている。その結果、それらの第2高調波は、530nm付近または660nm付近に制限されている。
【0009】
【発明の概要】
レーザ励起レーザによって多くのレーザパラメータを修正することができる。第2レーザは、新しい波長と、より良い品質のビームを生成することができる。第2レーザは、簡単にゲインスイッチング(利得切換え:gain switched)を行って励起パルスよりも短いレーザパルスを生成できる。また、レーザ励起レーザは、非常に簡単な共振キャビティを用いることができ、必要なメンテナンスも最小にすることができる。
【0010】
この発明は、深紫外(deep UV)発生に適した全てのレーザパラメータを得ることができるダイオード励起カスケードレーザを意図するものである。第1ダイオードレーザソースによって励起される固体レーザが、Qスイッチングされて、エネルギーが数ミリモジュールである短いレーザパルスを生成する。次に、第1固体レーザによって励起される第2固体レーザが、ゲインスイッチングされて、更に短いレーザパルスを生成する。このようなカスケードレーザソースによって、深紫外発生のための全てのレーザパラメータを最適化することが可能となる。この発明の1つの特徴は、深紫外発生用の新しい改良型ダイオード励起固体レーザソースを提供することである。この発明の別の特徴は、レーザ屈折手術用の新しい改良型深紫外レーザソースを提供することである。
【0011】
この発明のダイオード励起カスケードレーザを作る方法は幾つかある。ダイオード励起ソースは、1つのダイオードレーザアレイまたはアレイのスタック(アレイを複数重ねたもの)で構成できる。この励起ソースは、連続波モードまたは準連続波モードで動作させることができる。端部励起構成(end pump configuration)、または、側面励起構成(side pump configuration)のどちらでもこの発明に適用できる。励起パワーは、おおよそ10乃至100Wである。励起レーザの波長は、800nm付近であり、第1レーザゲイン媒体(gain medium)の吸収ラインとマッチするように調整されている。
【0012】
第1固体レーザは、Nd:YLF、Nd:YAGまたはNd:YVO4などのネオジムを添加したレーザ(ネオジムでドープされたレーザ)である。この第1レーザは、Qスイッチングされて、持続時間が50nsより短く、繰返しレートが約0.5乃至5kHzのレーザパルスを生成する。このレーザは、更に、周波数が逓倍(2倍に)されて530nm付近または660nm付近の波長になる。キャビティ内逓倍(intracavity doubling)またはキャビティ外逓倍(extra−cavity doubling)のどちらでも用いることができる。おおよそ2乃至10mJのマルチモードパルスエネルギーが得られる。
【0013】
第1固体レーザの出力パルスによって第2固体レーザが励起される。この第2固体レーザは、ゲインスイッチングされて、約1nsのパルス持続時間と約1mJのパルスエネルギーを持つTEM00レーザビームを生成する。レーザ波長は、840nmあたり、または1060nmあたりにすることができ、その結果、第4高調波または第5高調波は、210nmあたりの深紫外ビームになる。パルスのスペクトル帯域幅は、0.01nm、または、それより狭くなり、従って、紫外パワーへのエネルギー変換が効率良く行える。レーザ媒体は、Ti:サファイアの結晶、Cr:LiSAlFの結晶またはネオジムを添加した結晶を使用することができる。
【0014】
第2固体レーザでは、また、Qスイッチ変調器を追加して、これを用いてQスイッチングするようにしてもよい。その場合、この第2Qスイッチは、第1固体レーザの第1Qスイッチと同期させる必要がある。
【0015】
第2固体レーザの出力ビームは、次に、波長変換器に入れられて、深紫外レーザビームが生成される。第2高調波または第3高調波の発生用の非線形結晶としては、KTP、LBO、BBOまたはCLBOを使用することができる。BBOは、210nm付近の深紫外発生用としては、実用上唯一の結晶である。CLBOは、将来可能性のある結晶である。結晶の選択及び高調波の発生は、当業者にとって周知事項である。
【0016】
この発明が提案するダイオード励起カスケードレーザは、かなりコンパクトであり、製造が容易であり、且つ、メンテナンスの要件が緩和されている。従って、製造コスト及び運転コストが十分低いため、固体レーザ技術をレーザ屈折手術の用途に使用する価値が高まると考えられる。この発明の既述の特徴、その他の特徴及び利点は、図面、詳細な説明及び特許請求の範囲の各請求項によって更に明らかとなる。
【0017】
【好ましい実施の形態の詳細な説明】
図1は、本発明に従ったダイオード励起固体カスケードレーザ10の一つの実施の形態を示す概略図である。レーザ10は、ダイオード励起ソース100、第1固体レーザ200および第2固体レーザ300に分けられる。ダイオード励起ソース100は、第1固体レーザ200を励起する。次いで、第1レーザ200は第2レーザ300を励起する。第1レーザ200からの出力ビーム201は、オプティクス(optics)202および203を経て第2レーザ300へ導かれる。第2レーザ300の出力ビーム301aは、深紫外(deep UV)生成に適する全てのパラメータを含む。
【0018】
図2は、深紫外生成用ダイオード励起固体カスケードレーザにおける本発明の概念を示すブロック図である。図は、ダイオード励起ソース100、第1固体レーザ200、第2固体レーザ300および波長変換器400を表す4つのブロックから成る。
【0019】
ダイオード励起ソース100は、ダイオードレーザアレイ、またはアレイのスタックである。励起レーザエネルギーはレーザロッドへ光学的に結合されて、第1レーザ200のゲインを生成する。励起ソース100は連続波モードまたは偽連続波モードで動作される。励起レーザ波長は約800nmであり、第1レーザ200のゲイン媒体の吸収線に一致するよう同調される。
【0020】
当該技術で周知の各種のスキームと励起構成があり、その幾つかは本提案用途に適用できる。それら励起スキームは直接励起、ファイバー結合および光学的結合を含む。励起構成は側面励起と端部励起を含む。図3に示す一つの実施の形態は、直接結合かつ側面励起の範疇に属する。本提案用途では、励起出力は10から100Wの範囲にある。
【0021】
第1レーザ200は、Qスイッチで周波数逓倍のNd添加レーザであってもよい。Nd添加レーザの媒体は、ダイオードレーザアレイの高出力励起ソースの入手性で選択される。Nd添加レーザの媒体は、Nd:YLF、Nd:YAGおよびNd:YVO4を含む。励起レーザの波長は、これらのゲイン媒体の吸収線と一致するよう同調されるのがよい。
【0022】
この第1レーザ200は、繰返しレートが約0.5から5kHzでQスイッチングされ、50nsかそれより短い持続時間のレーザパルスを生成するのがよい。このレーザは、波長が約1060または1320nmで動作される。さらに第2レーザ300のゲイン媒体に応じて波長が約530か660nmへと、2倍の周波数となる。第1レーザ200の第2高調波で、約2から10mJのパルスエネルギーが本提案用途に対して得られるのがよい。第1レーザ200のビーム品質はそれほど要求されない。低次横モードでのマルチモード動作は許容できる。
【0023】
第1レーザ200のQスイッチングは、AO変調器またはEO変調器の何れかによって得られる。キャビティ内およびキャビティ外逓倍の何れによっても第1レーザ200の第2高調波発生を達成できる。適切な膜を有するキャビティミラーを用いて、第1レーザ200の波長を選択できる。当該技術で周知の様々な構成が、第1レーザ200を構築するために用いられる。図3に示す構成は、折りたたまれた直線キャビティ内側でのキャビティ内逓倍を利用している。
【0024】
第1レーザ200からの出力パルスは、第2レーザ300を励起する。この第2固体レーザ300は、約1nsかそれより短い持続時間のレーザパルスを発生するようゲインスイッチングされる。また、第2レーザ300の出力は深紫外生成に適する他のパラメータ全てを含む。それはTEM00レーザビームであり、約1mJのパルスエネルギーを持つ。それは約840nmまたは約1060nmの何れかの波長を有するので、第4高調波または第5高調波が、結果として約210nmの深紫外レーザビームを発生することになろう。そのスペクトルのバンド幅は、0.01nmかそれより狭いので、紫外出力への効率のよいエネルギー変換が得られる。
【0025】
第2レーザ300は、Ti:サファイア、Cr:LiSAlFまたはNd添加レーザロッドを含むゲイン媒体を有する。Ti:サファイア結晶により第2レーザ300は約530nmで励起されて、波長が約840nmのレーザビームを発生する。Cr:LiSAlF結晶により第2レーザ300は約660nmで励起されて、波長が約840nmのレーザビームを発生する。Nd添加レーザロッドにより第2レーザ300は約530nmで励起されて、波長が約1060nmのレーザビームを発生する。レーザ結晶Ti:サファイアとCr:LiSAlFは、840nmの出力を第4高調波生成によって210nmの深紫外ビームへ変換できるので、より好ましい。1060nmのNd添加レーザからの出力は、同様な紫外波長を得るのに第5高調波生成を必要とする。
【0026】
第2固体レーザ300からの出力レーザは、波長変換器400へ導かれ深紫外レーザビームを発生する。第2または第3高調波生成用非線形結晶はKTP,LBO、BBOまたはCLBOであってよい。BBOは、現在のところ210nmまでの深紫外生成用の唯一の結晶である。CLBOは将来的にその可能性を持つ。結晶の選択とその高調波生成は当該技術で周知である。
【0027】
図3(a)は、第1レーザ200の一つの実施の形態としてのダイオード励起固体レーザの概略図を示す。それはQスイッチングされる周波数逓倍のNd:YAGレーザである。レーザ200は、第1端部ミラー(end mirror)210、レーザヘッド220、Qスイッチ230、折り返しミラー240、逓倍結晶250および第2端部ミラー260から成る。それはダイオード励起ソース100によって励起され、出力レーザビーム201を発生する。
【0028】
ミラー210、240および260はレーザ共振器を形成する。これらミラーはすべて、レーザの基本波長に対する高反射コーティングを有する。ミラー260はレーザの第2高調波の波長に対しても高い反射性を有する。ミラー240はレーザの第2高調波の波長には高い透過性を有し、第1レーザ200の出力カプラとして働く。
【0029】
第1端部ミラー210は平面鏡である。折り返しミラー240と第2端部ミラー260は、逓倍結晶250のところでビームに焦点を結ばせる凹面鏡である。すべてのキャビティ内素子220、230および250は、レーザビームと相互作用するそれら表面上に反射防止膜を有する。図示していないが、ブリュースタ窓(Brewster window)がレーザの偏光を制御するためにキャビティに挿入されることもある。
【0030】
励起ヘッド220はNd:YAGロッドを含む。ダイオード励起ソース100は一側面から直接レーザヘッドを励起する。Nd:YAGロッドの直径は数mmであり、長さは数cmである。CW励起モードの実施例では、そのロッドは、本提案用途で十分な出力パワーを発生するように約100ワットの励起パワーを吸収するのがよい。
【0031】
Qスイッチ230は、繰返しレートが約3kHzで駆動されるAOまたはEO変調器である。Nd:YAGレーザについては、これはおよそ最適といえる繰返しレートであり、それ以上であるとパルスエネルギーは低下してしまう。Qスイッチング230は、短いパルスを発生できるよう速いのが好ましい。
【0032】
逓倍結晶250はKTPまたはLBOである。KTPは、その高い変換効率のためには好ましい。KTPは、より信頼性の高い動作のために、またグレートラック問題を解消するために温度制御されて非臨界位相一致を得るのがよい。
【0033】
第1レーザ200のキャビティ長は、短いパルスを発生するためには短いのが好ましい。小さなレーザヘッド220により、第1端部ミラー210から第2端部ミラー260までのキャビティ長を約20から40cmとすることができる。球面鏡240と260の半径曲率とミラー間の間隔は、逓倍結晶250でのキャビティモードのスポットサイズを制御する。
【0034】
上記条件で、第1レーザ200は532nmのレーザビームパルス201を発生できる。ビーム201は、繰返しレートが約3kHz、パルス持続時間が約30から50ns、パルスエネルギーが約3から5mJである。出力ビーム201は低次横モードであってよい。
【0035】
図3(b)は、第1レーザ200の励起ヘッド220の縦断面図を示す概略図である。励起ヘッド220は、ルーフ型反射器221とレーザロッド222を含む。ルーフ型反射器221は互いに垂直な全反射面223と224を有する。ダイオード励起ソース100からの励起レーザビーム101は、ルーフ型反射器221を経てレーザロッド222を励起する。
【0036】
ダイオード励起ソース100は、リニアダイオードレーザアレイの一つかそれ以上のスタックから成る。各スタックアレイは約1cm×1cmの放射面積を有し、808nmで約80Wの出力パワーを供給できる。これらのスタックダイオードアレイは、例えばニューヨークのSemiconductor Laser International Corporation of Binghamton から市販で入手できる。
【0037】
スタックアレイからの出力ビームは、約10度の狭い(slow)発散角度と、約40度の広い(fast)発散角度を有する。狭い発散角度はアレイに平行な面内にあり、広い発散角度はアレイに垂直な面内にある。図3(b)と図3(c)に示す本設計では、励起ビーム101の狭い発散面はレーザロッド222の端面に平行であり、一方広い発散面はロッド軸に平行である。
【0038】
図3(b)に示すように、レーザロッド222は、ルーフ型反射器221の対称面から外れて配設され、励起レーザビーム101は、ロッド222を四方から一様に励起する。最大結合効率を得るには、レーザロッド222の直径が励起レーザビーム101の幅の約4分の1であるのがよい。ビーム101の幅は、はからずも約1cmで、望ましいロッド径約2から2.5mmに適合している。
【0039】
図3(c)は、励起ヘッド220の側面概略図の切取り図である。2個のスタックダイオードレーザアレイを用いて、160Wまでの励起レーザビーム101を発生する。2個のスタックは、レーザロッド222に沿って縦方向に重ねられている。
【0040】
ルーフ型反射器221は、M.Lai等により述べられているように単なるプリズム型セルでよい(Applied Optics, Vol.30, No.30, 4365〜4367ページ、1991年10月20日)。レーザーロッド222は反射器221を横断して固定され、適当な冷却が必要である。ルーフ型反射器へレーザロッドを取り付ける方法は当該技術では周知である(例えば、Jackson と Piper、Applied Optics, Vol.34, No.12, 2012〜2023ページ、1995年4月20日)。
【0041】
図3(b)と図3(c)に示す設計は、高出力スタックダイオードレーザアレイの利点を取り入れており、ごく最近になって市販で入手可能となっている。提案された設計は、簡素さと高い結合効率の2つの基準を良く満たしている。スタックアレイはレーザヘッド220を一つの面から直接励起し、レーザロッド222を四方から一様に励起する。この設計構成用のスタックアレイは市場に用意されていて、スタックアレイの装着と交換が容易である。
【0042】
図4(a)は、第2レーザ300aの1つの実施の形態のゲインスイッチングレーザの概略図を示す。この第2レーザ300aは、第1端部ミラー310a、Ti:サファイアロッド320a、複屈折フィルタ330aおよび第2端部ミラー340aを含む。第1レーザ200からのレーザビーム201は第2レーザ300aを励起する。第2レーザ300aからの出力ビーム301aは、レーザ屈折手術用の深紫外生成に適するよう設計されている。
【0043】
第1端部ミラー310aと第2端部ミラー340aは、第2レーザ300aの共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310aと第2端部ミラー340aは、その外表面に誘電体コーティングを有する。Ti:サファイアロッド320aは良好なレーザ結晶であり、しかも約530nmの励起ビームを約840nmの出力ビームへ変換することができるので、ゲイン媒体として選択される。複屈折フィルタ330aは、レーザ波長とレーザスペクトルバンド幅制御用である。
【0044】
複屈折フィルタ330aは、ブリュースタ角で動作する。他のキャビティ内表面はキャビティ内損失を最小化し、かつ非点収差を除去するためにブリュースタ角でカットされる。多くのブリュースタ表面はリニア偏光を強いて、レーザスペクトルバンド幅を狭くする。
【0045】
この第2レーザのキャビティ設計は、その構造が単純であっても極めて重要である。エネルギー変換効率を良くするために、キャビティ内損失を小さくし、パルスの立ち上がり時間を励起パルス持続時間と一致させるのがよい。スペクトル幅を狭くするために、レーザが立ち上がるための周回ゲイン数は大きくするのがよく、従ってこの周回ゲインは小さいのがよい。より短いパルスを得るためには、レーザキャビティが短く、損失に対するゲインの比は高く、そしてキャビティ損失は高いのがよい。良好なビーム品質を達成するには、キャビティが高い横モードからTEM00モードを弁別する強い能力を持たねばならない。設計パラメータは、上記すべての考察を最適化するように選択される。
【0046】
一実施例として、以下が第2レーザ300aの好ましいパラメータのセットである。励起レーザビーム201は波長が532nm、パルスエネルギーが約3.5mJ、パルス持続時間が約30nsおよびパルス繰返しレートが約3kHzである。ビーム201は、低次横モードで、Ti:サファイア結晶320aのところで約350ミクロンに絞られる。第1端部ミラー310aは840nmで高い反射率を持ち、530nmで高い透過性を持つ平面鏡である。第2端部ミラー340aは約100cmの半径曲率を有する凹面鏡である。それは約860nmで約70%のピーク反射率を有する誘電体膜を有する。Ti:サファイア結晶320aは長さが約1cmで、励起パワーの約95%を吸収する。複屈折フィルタ330aは、総厚さが約1cmの3枚構成石英板である。キャビティ全長は約3cmで、全キャビティ内損失は2%未満である。
【0047】
上記の選択パラメータを用いて、第2レーザ300aは約1.5mJの励起パルス閾値と、約50%の最大正味周回ゲインを有するのがよい。この第2レーザ300aは持続時間が約1nsで、パルスエネルギーが約1mJのレーザビームパルス301aを発生するのがよい。ビームの断面光量(profile)は基本的なガウス分布ビームであるのがよい。出力ビーム301aのスペクトルバンド幅は0.01nmより狭いのがよい。
【0048】
図4(b)は、第2レーザ300bの別の実施の形態としてのゲインスイッチングレーザの概略図を示す。この第2レーザ300bは第1端部ミラー310b、Ti:サファイア結晶320b、回折格子330b、第2端部ミラー340bおよび第3端部ミラー350bを含む。第1レーザ200からのレーザビーム201は第2レーザ300bを励起する。この第2レーザ300bからの出力ビーム301bは、レーザ屈折手術用の深紫外生成に適するように設計される。
【0049】
第1端部ミラー310bと第2端部ミラー340bは、回折格子330bの0次回折を経て第1共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310bと第3端部ミラー350bは、回折格子330bの1次回折を経て第2共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310bは凹面鏡であり、840nmでは高い反射性、530nmでは高い透過性を有する誘電体膜を有する。第2端部ミラー340bは平面鏡で出力カプラとして働く。第3端部ミラー350bは平面鏡であり、840nmでの高反射膜を有する。第1と第2共振キャビティは、選択された波長についてのレーザ閾値を低下させるよう組み合わされ、この閾値は第3端部ミラー350bの同調角に依存する。
【0050】
Ti:サファイアロッド320bは、長さが約1cmで励起パワーの約95%を吸収する。回折格子330bは、1次回折で高い分散を示し、低い装置損失を有する。第1端部ミラー310b、Ti:サファイアロッド320bおよび回折格子330bは、可能な限り近接して編成される。総長さは何れのキャビティも約4cmである。この第2レーザ300bの性能は第2レーザ300aの性能と類似するのがよい。第2レーザ300aに比較して、この第2レーザ300bは、ミスアライメントに対してより敏感であることを犠牲にして、狭いスペクトルバンド幅を有する。
【0051】
第2固体レーザ300は、代替として追加のAOまたはEO変調器によりQスイッチングされてもよい。その場合、第2Qスイッチは、第1固体レーザ200のQスイッチ230と同期をとるのがよい。
【0052】
図1を参照すると、ダイオード励起固体カスケードレーザ10は、図3(a)の第1レーザと図4(a)の第2レーザの組み合わせでもよい。第1と第2レーザを独立に最適化すると、カスケードレーザ10は、選択された波長、短いパルス持続時間、狭いスペクトルバンド幅、高い繰返しレートおよび良好なビーム品質の赤外レーザビーム301aを発生する。これらの組み合わされたレーザパラメータは、レーザ屈折手術用の深紫外生成にとって望ましい。
【0053】
上記の図と説明は、本発明を説明するために意図されている。付帯する請求において定義される本発明の範囲から逸脱することなく様々な改変が成されてもよいことが分かるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明によるダイオード励起固体カスケードレーザの一実施例を概略的に示した図である。
【図2】深紫外発生用ダイオード励起固体カスケードレーザの概念を示したブロック図である。
【図3】(a)は第1レーザの一実施例としてダイオード励起固体レーザを概略的に示した図であり、(b)は第1レーザの励起ヘッドの縦断面を概略的に示した図であり、(c)は励起ヘッドの側面視を概略的に示した切取り図である。
【図4】(a)は第2レーザの一実施例としてのゲインスイッチングレーザを概略的に示した図であり、(b)は第2レーザの別の実施例としてのゲインスイッチングレーザを概略的に示した図である。
【優先権の主張】
本出願は、1998年8月31日に出願された米国仮特許出願第60/098,398号の優先権を主張する。
【0002】
【発明の技術分野】
この発明は、ダイオード励起固体レーザ装置に関する。特に、この発明は、深紫外(deep UV)発生に適したダイオード励起2段階レーザソースに関する。
【0003】
【発明の背景】
ダイオード励起固体レーザを用いて200nmあたりの深紫外を発生させることは、レーザ屈折手術法(photo−refrective surgery)にとって非常に望ましい。そのような深紫外レーザソースは、現在レーザ屈折手術法用のレーザソースの主流であるエキシマーレーザに比べ、小型化、信頼度及びメンテナンスの点で勝っていると考えられている。更に重要な点は、固体レーザソースの動作が、エキシマレーザのそれに比べ、非常に高い繰返しレートで、かつ非常に小さなエネルギー変動で行えることである。高い繰返しレートで深紫外レーザビームをスキャンさせることによって角膜表面における様々な切除形状が可能となり、レーザ屈折手術法にとって柔軟性が高まる。固体紫外レーザソースからのパルスエネルギーにおける安定性が改善されると、正確で制御可能な切除が確実なものとなる。
【0004】
そのようなダイオード励起固体レーザソースを得るためには、まず、レーザパラメータが適切なパルス赤外レーザビームを発生させる必要がある。そうして、効率的な波長変換を行って高次高調波を発生させることができる。重要なレーザパラメータとしては、レーザ波長、スペクトル幅、パルス持続時間、パルスエネルギー、パルス繰返しレート及びビーム品質が挙げられる。しかし、1つのダイオード励起固体レーザから、一挙に、全ての適正なパラメータを得ることは困難である。
【0005】
キロヘルツ及びミリジュールのレベルで動作するダイオード励起固体レーザは、基本的に、800nm付近のダイオードレーザソースで励起されるネオジム(Nd)添加レーザである。このレーザは、簡単にQスイッチングされて、持続時間が30乃至100nsのレーザパルスを生成する。今日入手できる非線形結晶では、このパルス持続時間は長過ぎて、光学的損傷のない効果的な深紫外発生を行うことができない。ビーム品質とパルスエネルギーとは、このレーザの互いに競合するパラメータである。簡単で、パルスエネルギーが高いが故に、このレーザは普及しており価格も低い。このレーザは、米国ミズリー州セントチャールズのカッティングエッヂオプトロニクス(Cutting Edge Optronics)社及び米国フロリダ州オーランドのリーラスタ(Lee Laster)社から市販されている。
【0006】
マスタ発振器とパワー増幅器とを使用した、構造がより複雑なレーザシステムでは、パルスがより短く、ビーム品質がより良いものが得られるが、コストは非常に高くなる。そのようなレーザシステムでは、Qスイッチングされる発振器が、高輝度ダイオードレーザによって縦方向に励起され、持続時間が約10nsの低エネルギーパルスを生成する。ダイオード励起パワー増幅器が、そのパルスエネルギーをミリジュールのレベルまで押し上げる。このレーザを用いた深紫外発生では、得られる変換効率は約5%である。この10nsのレーザソースを用いた場合、光学的損傷が、200nm付近の深紫外発生を対象とする非線形結晶について重要な問題となっている。この光学的損傷を回避するためには、非線形結晶を連続して動作させる必要がある(本願発明者(Lai)その他に付与された米国特許第5825562参照)。マスタ発振器とパワー増幅器とを使用したレーザシステムは、ドイツのランプダフィズィック社(Lambda Physik GmbH)及び米国カリフォルニア州サンタクララのコンティニュアム(Continuum)社から市販されている。
【0007】
構造が更に一層複雑な、マスタ発振器/パワー増幅器レーザシステムでは、モード固定発振器と再生増幅器が使用されることがある。持続時間が約100psのパルスを発生させることができ、約1ミリジュールのパルスエネルギーをキロヘルツレベルの繰返しレートで得ることができる。深紫外発生について約10パーセントの変換効率が達成できる。パルスが短いこのレーザシステムを用いた場合、紫外結晶についての光学的損傷はあまり大きな問題ではない。しかし、このレーザシステムは、その動作及びメンテナンスの条件が非常に厳しいため、主に製造所、研究所、試験所のような環境(laboratory environment)で使用されている。市販の製品としては、米国カリフォルニア州のマウンテンビューのスペクトラフィズィックスレーザズ(Spectra−Physics Lasers)社から販売されているものがある。そのシステムの価格は、ゆうに20万ドルを超えることがある。
【0008】
キロヘルツ及びミリモジュールのレベルで動作するダイオード励起固体レーザに対する別の制約事項は、レーザ波長である。ダイオード励起ソースで、パワー及び耐用年数の十分なものが申し分なく開発されてきたのは、ネオジム添加レーザに関するものについてのみである。実用上、これらのレーザから出るレーザ波長は、1060nm付近または1320nm付近に制限されている。その結果、それらの第2高調波は、530nm付近または660nm付近に制限されている。
【0009】
【発明の概要】
レーザ励起レーザによって多くのレーザパラメータを修正することができる。第2レーザは、新しい波長と、より良い品質のビームを生成することができる。第2レーザは、簡単にゲインスイッチング(利得切換え:gain switched)を行って励起パルスよりも短いレーザパルスを生成できる。また、レーザ励起レーザは、非常に簡単な共振キャビティを用いることができ、必要なメンテナンスも最小にすることができる。
【0010】
この発明は、深紫外(deep UV)発生に適した全てのレーザパラメータを得ることができるダイオード励起カスケードレーザを意図するものである。第1ダイオードレーザソースによって励起される固体レーザが、Qスイッチングされて、エネルギーが数ミリモジュールである短いレーザパルスを生成する。次に、第1固体レーザによって励起される第2固体レーザが、ゲインスイッチングされて、更に短いレーザパルスを生成する。このようなカスケードレーザソースによって、深紫外発生のための全てのレーザパラメータを最適化することが可能となる。この発明の1つの特徴は、深紫外発生用の新しい改良型ダイオード励起固体レーザソースを提供することである。この発明の別の特徴は、レーザ屈折手術用の新しい改良型深紫外レーザソースを提供することである。
【0011】
この発明のダイオード励起カスケードレーザを作る方法は幾つかある。ダイオード励起ソースは、1つのダイオードレーザアレイまたはアレイのスタック(アレイを複数重ねたもの)で構成できる。この励起ソースは、連続波モードまたは準連続波モードで動作させることができる。端部励起構成(end pump configuration)、または、側面励起構成(side pump configuration)のどちらでもこの発明に適用できる。励起パワーは、おおよそ10乃至100Wである。励起レーザの波長は、800nm付近であり、第1レーザゲイン媒体(gain medium)の吸収ラインとマッチするように調整されている。
【0012】
第1固体レーザは、Nd:YLF、Nd:YAGまたはNd:YVO4などのネオジムを添加したレーザ(ネオジムでドープされたレーザ)である。この第1レーザは、Qスイッチングされて、持続時間が50nsより短く、繰返しレートが約0.5乃至5kHzのレーザパルスを生成する。このレーザは、更に、周波数が逓倍(2倍に)されて530nm付近または660nm付近の波長になる。キャビティ内逓倍(intracavity doubling)またはキャビティ外逓倍(extra−cavity doubling)のどちらでも用いることができる。おおよそ2乃至10mJのマルチモードパルスエネルギーが得られる。
【0013】
第1固体レーザの出力パルスによって第2固体レーザが励起される。この第2固体レーザは、ゲインスイッチングされて、約1nsのパルス持続時間と約1mJのパルスエネルギーを持つTEM00レーザビームを生成する。レーザ波長は、840nmあたり、または1060nmあたりにすることができ、その結果、第4高調波または第5高調波は、210nmあたりの深紫外ビームになる。パルスのスペクトル帯域幅は、0.01nm、または、それより狭くなり、従って、紫外パワーへのエネルギー変換が効率良く行える。レーザ媒体は、Ti:サファイアの結晶、Cr:LiSAlFの結晶またはネオジムを添加した結晶を使用することができる。
【0014】
第2固体レーザでは、また、Qスイッチ変調器を追加して、これを用いてQスイッチングするようにしてもよい。その場合、この第2Qスイッチは、第1固体レーザの第1Qスイッチと同期させる必要がある。
【0015】
第2固体レーザの出力ビームは、次に、波長変換器に入れられて、深紫外レーザビームが生成される。第2高調波または第3高調波の発生用の非線形結晶としては、KTP、LBO、BBOまたはCLBOを使用することができる。BBOは、210nm付近の深紫外発生用としては、実用上唯一の結晶である。CLBOは、将来可能性のある結晶である。結晶の選択及び高調波の発生は、当業者にとって周知事項である。
【0016】
この発明が提案するダイオード励起カスケードレーザは、かなりコンパクトであり、製造が容易であり、且つ、メンテナンスの要件が緩和されている。従って、製造コスト及び運転コストが十分低いため、固体レーザ技術をレーザ屈折手術の用途に使用する価値が高まると考えられる。この発明の既述の特徴、その他の特徴及び利点は、図面、詳細な説明及び特許請求の範囲の各請求項によって更に明らかとなる。
【0017】
【好ましい実施の形態の詳細な説明】
図1は、本発明に従ったダイオード励起固体カスケードレーザ10の一つの実施の形態を示す概略図である。レーザ10は、ダイオード励起ソース100、第1固体レーザ200および第2固体レーザ300に分けられる。ダイオード励起ソース100は、第1固体レーザ200を励起する。次いで、第1レーザ200は第2レーザ300を励起する。第1レーザ200からの出力ビーム201は、オプティクス(optics)202および203を経て第2レーザ300へ導かれる。第2レーザ300の出力ビーム301aは、深紫外(deep UV)生成に適する全てのパラメータを含む。
【0018】
図2は、深紫外生成用ダイオード励起固体カスケードレーザにおける本発明の概念を示すブロック図である。図は、ダイオード励起ソース100、第1固体レーザ200、第2固体レーザ300および波長変換器400を表す4つのブロックから成る。
【0019】
ダイオード励起ソース100は、ダイオードレーザアレイ、またはアレイのスタックである。励起レーザエネルギーはレーザロッドへ光学的に結合されて、第1レーザ200のゲインを生成する。励起ソース100は連続波モードまたは偽連続波モードで動作される。励起レーザ波長は約800nmであり、第1レーザ200のゲイン媒体の吸収線に一致するよう同調される。
【0020】
当該技術で周知の各種のスキームと励起構成があり、その幾つかは本提案用途に適用できる。それら励起スキームは直接励起、ファイバー結合および光学的結合を含む。励起構成は側面励起と端部励起を含む。図3に示す一つの実施の形態は、直接結合かつ側面励起の範疇に属する。本提案用途では、励起出力は10から100Wの範囲にある。
【0021】
第1レーザ200は、Qスイッチで周波数逓倍のNd添加レーザであってもよい。Nd添加レーザの媒体は、ダイオードレーザアレイの高出力励起ソースの入手性で選択される。Nd添加レーザの媒体は、Nd:YLF、Nd:YAGおよびNd:YVO4を含む。励起レーザの波長は、これらのゲイン媒体の吸収線と一致するよう同調されるのがよい。
【0022】
この第1レーザ200は、繰返しレートが約0.5から5kHzでQスイッチングされ、50nsかそれより短い持続時間のレーザパルスを生成するのがよい。このレーザは、波長が約1060または1320nmで動作される。さらに第2レーザ300のゲイン媒体に応じて波長が約530か660nmへと、2倍の周波数となる。第1レーザ200の第2高調波で、約2から10mJのパルスエネルギーが本提案用途に対して得られるのがよい。第1レーザ200のビーム品質はそれほど要求されない。低次横モードでのマルチモード動作は許容できる。
【0023】
第1レーザ200のQスイッチングは、AO変調器またはEO変調器の何れかによって得られる。キャビティ内およびキャビティ外逓倍の何れによっても第1レーザ200の第2高調波発生を達成できる。適切な膜を有するキャビティミラーを用いて、第1レーザ200の波長を選択できる。当該技術で周知の様々な構成が、第1レーザ200を構築するために用いられる。図3に示す構成は、折りたたまれた直線キャビティ内側でのキャビティ内逓倍を利用している。
【0024】
第1レーザ200からの出力パルスは、第2レーザ300を励起する。この第2固体レーザ300は、約1nsかそれより短い持続時間のレーザパルスを発生するようゲインスイッチングされる。また、第2レーザ300の出力は深紫外生成に適する他のパラメータ全てを含む。それはTEM00レーザビームであり、約1mJのパルスエネルギーを持つ。それは約840nmまたは約1060nmの何れかの波長を有するので、第4高調波または第5高調波が、結果として約210nmの深紫外レーザビームを発生することになろう。そのスペクトルのバンド幅は、0.01nmかそれより狭いので、紫外出力への効率のよいエネルギー変換が得られる。
【0025】
第2レーザ300は、Ti:サファイア、Cr:LiSAlFまたはNd添加レーザロッドを含むゲイン媒体を有する。Ti:サファイア結晶により第2レーザ300は約530nmで励起されて、波長が約840nmのレーザビームを発生する。Cr:LiSAlF結晶により第2レーザ300は約660nmで励起されて、波長が約840nmのレーザビームを発生する。Nd添加レーザロッドにより第2レーザ300は約530nmで励起されて、波長が約1060nmのレーザビームを発生する。レーザ結晶Ti:サファイアとCr:LiSAlFは、840nmの出力を第4高調波生成によって210nmの深紫外ビームへ変換できるので、より好ましい。1060nmのNd添加レーザからの出力は、同様な紫外波長を得るのに第5高調波生成を必要とする。
【0026】
第2固体レーザ300からの出力レーザは、波長変換器400へ導かれ深紫外レーザビームを発生する。第2または第3高調波生成用非線形結晶はKTP,LBO、BBOまたはCLBOであってよい。BBOは、現在のところ210nmまでの深紫外生成用の唯一の結晶である。CLBOは将来的にその可能性を持つ。結晶の選択とその高調波生成は当該技術で周知である。
【0027】
図3(a)は、第1レーザ200の一つの実施の形態としてのダイオード励起固体レーザの概略図を示す。それはQスイッチングされる周波数逓倍のNd:YAGレーザである。レーザ200は、第1端部ミラー(end mirror)210、レーザヘッド220、Qスイッチ230、折り返しミラー240、逓倍結晶250および第2端部ミラー260から成る。それはダイオード励起ソース100によって励起され、出力レーザビーム201を発生する。
【0028】
ミラー210、240および260はレーザ共振器を形成する。これらミラーはすべて、レーザの基本波長に対する高反射コーティングを有する。ミラー260はレーザの第2高調波の波長に対しても高い反射性を有する。ミラー240はレーザの第2高調波の波長には高い透過性を有し、第1レーザ200の出力カプラとして働く。
【0029】
第1端部ミラー210は平面鏡である。折り返しミラー240と第2端部ミラー260は、逓倍結晶250のところでビームに焦点を結ばせる凹面鏡である。すべてのキャビティ内素子220、230および250は、レーザビームと相互作用するそれら表面上に反射防止膜を有する。図示していないが、ブリュースタ窓(Brewster window)がレーザの偏光を制御するためにキャビティに挿入されることもある。
【0030】
励起ヘッド220はNd:YAGロッドを含む。ダイオード励起ソース100は一側面から直接レーザヘッドを励起する。Nd:YAGロッドの直径は数mmであり、長さは数cmである。CW励起モードの実施例では、そのロッドは、本提案用途で十分な出力パワーを発生するように約100ワットの励起パワーを吸収するのがよい。
【0031】
Qスイッチ230は、繰返しレートが約3kHzで駆動されるAOまたはEO変調器である。Nd:YAGレーザについては、これはおよそ最適といえる繰返しレートであり、それ以上であるとパルスエネルギーは低下してしまう。Qスイッチング230は、短いパルスを発生できるよう速いのが好ましい。
【0032】
逓倍結晶250はKTPまたはLBOである。KTPは、その高い変換効率のためには好ましい。KTPは、より信頼性の高い動作のために、またグレートラック問題を解消するために温度制御されて非臨界位相一致を得るのがよい。
【0033】
第1レーザ200のキャビティ長は、短いパルスを発生するためには短いのが好ましい。小さなレーザヘッド220により、第1端部ミラー210から第2端部ミラー260までのキャビティ長を約20から40cmとすることができる。球面鏡240と260の半径曲率とミラー間の間隔は、逓倍結晶250でのキャビティモードのスポットサイズを制御する。
【0034】
上記条件で、第1レーザ200は532nmのレーザビームパルス201を発生できる。ビーム201は、繰返しレートが約3kHz、パルス持続時間が約30から50ns、パルスエネルギーが約3から5mJである。出力ビーム201は低次横モードであってよい。
【0035】
図3(b)は、第1レーザ200の励起ヘッド220の縦断面図を示す概略図である。励起ヘッド220は、ルーフ型反射器221とレーザロッド222を含む。ルーフ型反射器221は互いに垂直な全反射面223と224を有する。ダイオード励起ソース100からの励起レーザビーム101は、ルーフ型反射器221を経てレーザロッド222を励起する。
【0036】
ダイオード励起ソース100は、リニアダイオードレーザアレイの一つかそれ以上のスタックから成る。各スタックアレイは約1cm×1cmの放射面積を有し、808nmで約80Wの出力パワーを供給できる。これらのスタックダイオードアレイは、例えばニューヨークのSemiconductor Laser International Corporation of Binghamton から市販で入手できる。
【0037】
スタックアレイからの出力ビームは、約10度の狭い(slow)発散角度と、約40度の広い(fast)発散角度を有する。狭い発散角度はアレイに平行な面内にあり、広い発散角度はアレイに垂直な面内にある。図3(b)と図3(c)に示す本設計では、励起ビーム101の狭い発散面はレーザロッド222の端面に平行であり、一方広い発散面はロッド軸に平行である。
【0038】
図3(b)に示すように、レーザロッド222は、ルーフ型反射器221の対称面から外れて配設され、励起レーザビーム101は、ロッド222を四方から一様に励起する。最大結合効率を得るには、レーザロッド222の直径が励起レーザビーム101の幅の約4分の1であるのがよい。ビーム101の幅は、はからずも約1cmで、望ましいロッド径約2から2.5mmに適合している。
【0039】
図3(c)は、励起ヘッド220の側面概略図の切取り図である。2個のスタックダイオードレーザアレイを用いて、160Wまでの励起レーザビーム101を発生する。2個のスタックは、レーザロッド222に沿って縦方向に重ねられている。
【0040】
ルーフ型反射器221は、M.Lai等により述べられているように単なるプリズム型セルでよい(Applied Optics, Vol.30, No.30, 4365〜4367ページ、1991年10月20日)。レーザーロッド222は反射器221を横断して固定され、適当な冷却が必要である。ルーフ型反射器へレーザロッドを取り付ける方法は当該技術では周知である(例えば、Jackson と Piper、Applied Optics, Vol.34, No.12, 2012〜2023ページ、1995年4月20日)。
【0041】
図3(b)と図3(c)に示す設計は、高出力スタックダイオードレーザアレイの利点を取り入れており、ごく最近になって市販で入手可能となっている。提案された設計は、簡素さと高い結合効率の2つの基準を良く満たしている。スタックアレイはレーザヘッド220を一つの面から直接励起し、レーザロッド222を四方から一様に励起する。この設計構成用のスタックアレイは市場に用意されていて、スタックアレイの装着と交換が容易である。
【0042】
図4(a)は、第2レーザ300aの1つの実施の形態のゲインスイッチングレーザの概略図を示す。この第2レーザ300aは、第1端部ミラー310a、Ti:サファイアロッド320a、複屈折フィルタ330aおよび第2端部ミラー340aを含む。第1レーザ200からのレーザビーム201は第2レーザ300aを励起する。第2レーザ300aからの出力ビーム301aは、レーザ屈折手術用の深紫外生成に適するよう設計されている。
【0043】
第1端部ミラー310aと第2端部ミラー340aは、第2レーザ300aの共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310aと第2端部ミラー340aは、その外表面に誘電体コーティングを有する。Ti:サファイアロッド320aは良好なレーザ結晶であり、しかも約530nmの励起ビームを約840nmの出力ビームへ変換することができるので、ゲイン媒体として選択される。複屈折フィルタ330aは、レーザ波長とレーザスペクトルバンド幅制御用である。
【0044】
複屈折フィルタ330aは、ブリュースタ角で動作する。他のキャビティ内表面はキャビティ内損失を最小化し、かつ非点収差を除去するためにブリュースタ角でカットされる。多くのブリュースタ表面はリニア偏光を強いて、レーザスペクトルバンド幅を狭くする。
【0045】
この第2レーザのキャビティ設計は、その構造が単純であっても極めて重要である。エネルギー変換効率を良くするために、キャビティ内損失を小さくし、パルスの立ち上がり時間を励起パルス持続時間と一致させるのがよい。スペクトル幅を狭くするために、レーザが立ち上がるための周回ゲイン数は大きくするのがよく、従ってこの周回ゲインは小さいのがよい。より短いパルスを得るためには、レーザキャビティが短く、損失に対するゲインの比は高く、そしてキャビティ損失は高いのがよい。良好なビーム品質を達成するには、キャビティが高い横モードからTEM00モードを弁別する強い能力を持たねばならない。設計パラメータは、上記すべての考察を最適化するように選択される。
【0046】
一実施例として、以下が第2レーザ300aの好ましいパラメータのセットである。励起レーザビーム201は波長が532nm、パルスエネルギーが約3.5mJ、パルス持続時間が約30nsおよびパルス繰返しレートが約3kHzである。ビーム201は、低次横モードで、Ti:サファイア結晶320aのところで約350ミクロンに絞られる。第1端部ミラー310aは840nmで高い反射率を持ち、530nmで高い透過性を持つ平面鏡である。第2端部ミラー340aは約100cmの半径曲率を有する凹面鏡である。それは約860nmで約70%のピーク反射率を有する誘電体膜を有する。Ti:サファイア結晶320aは長さが約1cmで、励起パワーの約95%を吸収する。複屈折フィルタ330aは、総厚さが約1cmの3枚構成石英板である。キャビティ全長は約3cmで、全キャビティ内損失は2%未満である。
【0047】
上記の選択パラメータを用いて、第2レーザ300aは約1.5mJの励起パルス閾値と、約50%の最大正味周回ゲインを有するのがよい。この第2レーザ300aは持続時間が約1nsで、パルスエネルギーが約1mJのレーザビームパルス301aを発生するのがよい。ビームの断面光量(profile)は基本的なガウス分布ビームであるのがよい。出力ビーム301aのスペクトルバンド幅は0.01nmより狭いのがよい。
【0048】
図4(b)は、第2レーザ300bの別の実施の形態としてのゲインスイッチングレーザの概略図を示す。この第2レーザ300bは第1端部ミラー310b、Ti:サファイア結晶320b、回折格子330b、第2端部ミラー340bおよび第3端部ミラー350bを含む。第1レーザ200からのレーザビーム201は第2レーザ300bを励起する。この第2レーザ300bからの出力ビーム301bは、レーザ屈折手術用の深紫外生成に適するように設計される。
【0049】
第1端部ミラー310bと第2端部ミラー340bは、回折格子330bの0次回折を経て第1共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310bと第3端部ミラー350bは、回折格子330bの1次回折を経て第2共振キャビティを形成する。第1端部ミラー310bは凹面鏡であり、840nmでは高い反射性、530nmでは高い透過性を有する誘電体膜を有する。第2端部ミラー340bは平面鏡で出力カプラとして働く。第3端部ミラー350bは平面鏡であり、840nmでの高反射膜を有する。第1と第2共振キャビティは、選択された波長についてのレーザ閾値を低下させるよう組み合わされ、この閾値は第3端部ミラー350bの同調角に依存する。
【0050】
Ti:サファイアロッド320bは、長さが約1cmで励起パワーの約95%を吸収する。回折格子330bは、1次回折で高い分散を示し、低い装置損失を有する。第1端部ミラー310b、Ti:サファイアロッド320bおよび回折格子330bは、可能な限り近接して編成される。総長さは何れのキャビティも約4cmである。この第2レーザ300bの性能は第2レーザ300aの性能と類似するのがよい。第2レーザ300aに比較して、この第2レーザ300bは、ミスアライメントに対してより敏感であることを犠牲にして、狭いスペクトルバンド幅を有する。
【0051】
第2固体レーザ300は、代替として追加のAOまたはEO変調器によりQスイッチングされてもよい。その場合、第2Qスイッチは、第1固体レーザ200のQスイッチ230と同期をとるのがよい。
【0052】
図1を参照すると、ダイオード励起固体カスケードレーザ10は、図3(a)の第1レーザと図4(a)の第2レーザの組み合わせでもよい。第1と第2レーザを独立に最適化すると、カスケードレーザ10は、選択された波長、短いパルス持続時間、狭いスペクトルバンド幅、高い繰返しレートおよび良好なビーム品質の赤外レーザビーム301aを発生する。これらの組み合わされたレーザパラメータは、レーザ屈折手術用の深紫外生成にとって望ましい。
【0053】
上記の図と説明は、本発明を説明するために意図されている。付帯する請求において定義される本発明の範囲から逸脱することなく様々な改変が成されてもよいことが分かるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明によるダイオード励起固体カスケードレーザの一実施例を概略的に示した図である。
【図2】深紫外発生用ダイオード励起固体カスケードレーザの概念を示したブロック図である。
【図3】(a)は第1レーザの一実施例としてダイオード励起固体レーザを概略的に示した図であり、(b)は第1レーザの励起ヘッドの縦断面を概略的に示した図であり、(c)は励起ヘッドの側面視を概略的に示した切取り図である。
【図4】(a)は第2レーザの一実施例としてのゲインスイッチングレーザを概略的に示した図であり、(b)は第2レーザの別の実施例としてのゲインスイッチングレーザを概略的に示した図である。
Claims (15)
- 800nm付近でおおよそ10乃至100Wの励起レーザビームを生成するダイオード励起ソースと、
上記ダイオード励起ソースによって励起されるものであって、ネオジムを添加したロッドを有し、Qスイッチングされ、周波数逓倍されて、波長が530nm付近または660nm付近であり、パルス持続時間が50nsより短く、パルスエネルギーが約2乃至10mJであり、パルス繰返しレートが約0.5乃至5kHzであるレーザパルスを生成する第1固体レーザと、
上記第1固体レーザによって励起されるものであって、ゲインスイッチングされて、波長が840nm付近または1060nm付近であり、パルス持続時間が約1nsであり、パルスエネルギーが約1mJであり、パルス繰返しレートが約0.5乃至5kHzであり、スペクトル帯域幅が約0.01nmである近TEM00モードレーザパルスを生成する第2固体レーザと
を備えた深紫外発生用のダイオード励起固体カスケードレーザ。 - 上記ダイオード励起ソースは、1つのダイオードレーザアレイまたはアレイのスタックを含む上記請求項1に記載のダイオード励起固体カスケードレーザ。
- 上記第1固体レーザは、レーザヘッドにルーフ型反射器を採用した側面励起ネオジム添加レーザを含む上記請求項1に記載のダイオード励起固体カスケードレーザ。
- 上記第2固体レーザは、Ti:サファイアのレーザロッド、Cr:LiSAlFのレーザロッドまたはネオジムを添加したレーザロッドから選択されたゲイン媒体を有する上記請求項1に記載のダイオード励起固体カスケードレーザ。
- 上記第2固体レーザは、
第1端部ミラーと、
上記第1端部ミラーと共に、長さが約3乃至5cmの共振キャビティを形成する第2端部ミラーと、
上記共振キャビティ内に配置され、ダイオード励起固体レーザによって励起されるレーザロッドと、
レーザ波長を調整し、かつスペクトル帯域幅を制御する手段と
から成るゲインスイッチングレーザを含む上記請求項1に記載のダイオード励起固体カスケードレーザ。 - 入射するレーザビームを受け入れるための開放側面を有するルーフ型反射器と、
上記ルーフ型反射器内に配置され、上記ルーフ型反射器の対称面からオフセットされたレーザロッドと、
上記ルーフ型反射器の上記開放側面の近くに取付けられ、上記ルーフ型反射器を介して四方から均一に上記レーザロッドを励起するダイオードレーザアレイのスタックと
を備えたダイオード励起固体レーザヘッド。 - 上記ルーフ型反射器は、プリズム型セルを含む上記請求項6に記載のダイオード励起固体レーザヘッド。
- 上記レーザロッドは、Nd:YAG、Nd:YLF及びNd:YVO4を含む上記請求項6に記載のダイオード励起固体レーザヘッド。
- 上記ダイオードレーザアレイのスタックは、幅と長さがそれぞれ約1cmの放出領域を持つ高出力パワースタックアレイを含む上記請求項6に記載のダイオード励起固体レーザヘッド。
- 800nm付近の波長を持つダイオード励起ソースを設ける段階と、
ネオジムを添加したレーザロッドを持つ第1固体レーザを設ける段階と、
上記第1固体レーザを上記ダイオード励起ソースで励起する段階と、
上記第1固体レーザをQスイッチングして、繰返しレートがおおよそ0.5乃至5kHzであり、50nsより短いレーザパルスを生成する段階と、
上記第1固体レーザの波長を逓倍して、パルスエネルギーがおおよそ2乃至10mJであり、530nm付近または660nm付近のレーザパルスを生成する段階と、
約1乃至10cmのキャビティ長を持つ第2固体レーザを設ける段階と、
上記第2固体レーザを上記第1固体レーザからのレーザパルスで励起して、より短いレーザパルスを生成する段階と、
上記第2固体レーザの波長を調整して840nm付近または1060nm付近にする段階とから成り、
上記第2固体レーザが、パルス持続時間が約1nsであり、パルスエネルギーが約1mJであり、パルス繰返しレートが約0.5乃至5kHzであり、スペクトル帯域幅が約0.01nmであるTEM00モードレーザパルスを生成する深紫外発生用のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。 - 上記ダイオード励起ソースを設ける段階は、ダイオードレーザアレイのスタックを設けることを含む上記請求項10に記載のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。
- 上記第1固体レーザを励起する段階は、端部励起構成または側面励起構成で励起することを含む上記請求項10に記載のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。
- 上記第1固体レーザを励起する段階は、CWモードまたは準CWモードで励起することを含む上記請求項10に記載のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。
- 上記第1固体レーザをQスイッチングする段階は、AO変調器またはEO変調器でQスイッチングすることを含む上記請求項10に記載のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。
- 上記第1固体レーザの波長を逓倍する段階は、キャビティ内逓倍技術またはキャビティ外逓倍技術によって行われる上記請求項10に記載のダイオード励起カスケードレーザを作る方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006279052A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Jds Uniphase Corp | 能動的qスイッチ・レーザの安定化 |
JP2009094268A (ja) * | 2007-10-09 | 2009-04-30 | Osaka Univ | 固体レーザー装置 |
Families Citing this family (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6031854A (en) * | 1998-08-31 | 2000-02-29 | Ming; Lai | Diode-pumped cascade laser for deep UV generation |
US6363095B1 (en) * | 1999-05-06 | 2002-03-26 | Northrop Grumman Corporation | Solid-state laser system using high-temperature semiconductor diode laser as an optical pump source |
AT408589B (de) * | 1999-07-07 | 2002-01-25 | Femtolasers Produktions Gmbh | Laservorrichtung |
JP2001352118A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-21 | Cyber Laser Kk | 光源装置および同光源装置を使用したレーザ装置 |
DE10118793B4 (de) * | 2000-12-01 | 2013-11-14 | Crylas Crystal Laser Systems Gmbh | UV-Festkörperlaser |
US6587487B2 (en) * | 2000-12-19 | 2003-07-01 | Photonics Industries International, Inc. | Harmonic laser |
US6757310B2 (en) | 2001-01-17 | 2004-06-29 | Ming Lai | Solid-state laser for customized cornea ablation |
GB0122670D0 (en) * | 2001-09-20 | 2001-11-14 | Karpushko Fedor V | Intracavity frequency conversion of laser |
GB2385459B (en) * | 2001-10-30 | 2005-06-15 | Laser Quantum Ltd | Laser Cavity |
WO2003079505A2 (en) * | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Salia Ming Lai | Integrated laser oscillator-amplifier system |
US6697391B2 (en) * | 2002-03-28 | 2004-02-24 | Lightwave Electronics | Intracavity resonantly enhanced fourth-harmonic generation using uncoated brewster surfaces |
US6859335B1 (en) | 2002-11-20 | 2005-02-22 | Ming Lai | Method of programmed displacement for prolong usage of optical elements under the irradiation of intensive laser beams |
US7407285B2 (en) * | 2002-11-20 | 2008-08-05 | Ming Lai | Method and apparatus for obtaining patient-verified prescription of high order aberrations |
US7003005B1 (en) | 2003-04-03 | 2006-02-21 | Ming Lai | Simplified laser oscillator-amplifier system |
US20050211680A1 (en) * | 2003-05-23 | 2005-09-29 | Mingwei Li | Systems and methods for laser texturing of surfaces of a substrate |
US7284862B1 (en) | 2003-11-13 | 2007-10-23 | Md Lasers & Instruments, Inc. | Ophthalmic adaptive-optics device with a fast eye tracker and a slow deformable mirror |
US20080269731A1 (en) * | 2003-11-19 | 2008-10-30 | Casimir Andrew Swinger | Method and apparatus applying patient-verified prescription of high order aberrations |
US7313155B1 (en) | 2004-02-12 | 2007-12-25 | Liyue Mu | High power Q-switched laser for soft tissue ablation |
US8137340B2 (en) * | 2004-06-23 | 2012-03-20 | Applied Harmonics Corporation | Apparatus and method for soft tissue ablation employing high power diode-pumped laser |
CN1301576C (zh) * | 2004-12-31 | 2007-02-21 | 西北大学 | 激光二极管泵浦全固态紫外脉冲激光器 |
US7672342B2 (en) * | 2005-05-24 | 2010-03-02 | MAX-PLANCK-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. | Method and radiation source for generating pulsed coherent radiation |
US7862556B2 (en) * | 2005-06-17 | 2011-01-04 | Applied Harmonics Corporation | Surgical system that ablates soft tissue |
US7535938B2 (en) * | 2005-08-15 | 2009-05-19 | Pavilion Integration Corporation | Low-noise monolithic microchip lasers capable of producing wavelengths ranging from IR to UV based on efficient and cost-effective frequency conversion |
US7746913B2 (en) | 2005-11-01 | 2010-06-29 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7920616B2 (en) * | 2005-11-01 | 2011-04-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7999915B2 (en) * | 2005-11-01 | 2011-08-16 | Cymer, Inc. | Laser system |
US20090296755A1 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-03 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7643529B2 (en) | 2005-11-01 | 2010-01-05 | Cymer, Inc. | Laser system |
KR101194231B1 (ko) * | 2005-11-01 | 2012-10-29 | 사이머 인코포레이티드 | 레이저 시스템 |
US7630424B2 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-08 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7715459B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-05-11 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7778302B2 (en) * | 2005-11-01 | 2010-08-17 | Cymer, Inc. | Laser system |
US20090296758A1 (en) * | 2005-11-01 | 2009-12-03 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7885309B2 (en) | 2005-11-01 | 2011-02-08 | Cymer, Inc. | Laser system |
US7196839B1 (en) * | 2006-02-08 | 2007-03-27 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Super-continuum UV source |
CN100358194C (zh) * | 2006-03-07 | 2007-12-26 | 上海大学 | 复合Ti:Al2O3激光棒的制备方法 |
US20080086118A1 (en) * | 2006-05-17 | 2008-04-10 | Applied Harmonics Corporation | Apparatus and method for diode-pumped laser ablation of soft tissue |
US7633979B2 (en) | 2008-02-12 | 2009-12-15 | Pavilion Integration Corporation | Method and apparatus for producing UV laser from all-solid-state system |
US20090285248A1 (en) * | 2008-05-13 | 2009-11-19 | Klashtech-Karpushko Laser Technologies Gmbh | Uv light generation by frequency conversion of radiation of a ruby laser pumped with a second harmonic of a solid-state laser |
US8559471B2 (en) * | 2009-11-23 | 2013-10-15 | Guilin Mao | High-power diode end-pumped solid-state UV laser |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4380076A (en) * | 1980-12-31 | 1983-04-12 | International Business Machines Corporation | Apparatus for four side transverse irradiation of a region |
US5121398A (en) * | 1989-09-26 | 1992-06-09 | Excel Technology, Inc. | Broadly tunable, high repetition rate solid state lasers and uses thereof |
US5144630A (en) * | 1991-07-29 | 1992-09-01 | Jtt International, Inc. | Multiwavelength solid state laser using frequency conversion techniques |
CA2097216A1 (en) * | 1992-06-15 | 1993-12-16 | Shawn Michael Dougal | Apparatus for efficient, more uniform high power excitation of a dye media optical amplifier |
US5345457A (en) * | 1993-02-02 | 1994-09-06 | Schwartz Electro-Optics, Inc. | Dual wavelength laser system with intracavity sum frequency mixing |
US5548608A (en) * | 1993-02-08 | 1996-08-20 | Zhang; Tong | Laser head and telescopic cavity for diode-pumped solid-state lasers |
US5940418A (en) * | 1996-06-13 | 1999-08-17 | Jmar Technology Co. | Solid-state laser system for ultra-violet micro-lithography |
US5825562A (en) * | 1997-08-18 | 1998-10-20 | Novatec Corporation | Method of continuous motion for prolong usage of optical elements under the irradiation of intensive laser beams |
US6031854A (en) * | 1998-08-31 | 2000-02-29 | Ming; Lai | Diode-pumped cascade laser for deep UV generation |
-
1999
- 1999-08-24 US US09/382,183 patent/US6031854A/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-08-27 EP EP99945290A patent/EP1110281A4/en not_active Withdrawn
- 1999-08-27 WO PCT/US1999/019764 patent/WO2000013266A2/en not_active Application Discontinuation
- 1999-08-27 JP JP2000568147A patent/JP2004503918A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006279052A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-12 | Jds Uniphase Corp | 能動的qスイッチ・レーザの安定化 |
KR101258124B1 (ko) | 2005-03-29 | 2013-04-25 | 제이디에스 유니페이즈 코포레이션 | 능동적으로 큐 스위치된 레이저의 안정화 |
JP2009094268A (ja) * | 2007-10-09 | 2009-04-30 | Osaka Univ | 固体レーザー装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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EP1110281A2 (en) | 2001-06-27 |
EP1110281A4 (en) | 2005-09-21 |
US6031854A (en) | 2000-02-29 |
WO2000013266A2 (en) | 2000-03-09 |
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