JPH1069673A - 光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子 - Google Patents
光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子Info
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- JPH1069673A JPH1069673A JP8227086A JP22708696A JPH1069673A JP H1069673 A JPH1069673 A JP H1069673A JP 8227086 A JP8227086 A JP 8227086A JP 22708696 A JP22708696 A JP 22708696A JP H1069673 A JPH1069673 A JP H1069673A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】部品点数を削減した生産性の良い光磁気記録媒
体用の光ヘッド装置及びそれに用いる光分離回折素子を
得る。 【解決手段】液晶６を挟持する２枚の基板４、５の光磁
気ディスク側の基板の外面に単純回折格子である回折格
子１を設け、その内面に回折格子３を形成し、他方の基
板５の内面にも異なる位置に回折格子２を形成すること
によりして、回折格子２、３は偏光回折格子として動作
させる。
体用の光ヘッド装置及びそれに用いる光分離回折素子を
得る。 【解決手段】液晶６を挟持する２枚の基板４、５の光磁
気ディスク側の基板の外面に単純回折格子である回折格
子１を設け、その内面に回折格子３を形成し、他方の基
板５の内面にも異なる位置に回折格子２を形成すること
によりして、回折格子２、３は偏光回折格子として動作
させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録媒体用
の光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子に
関する。
の光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子に
関する。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録媒体用の光ヘッド装置におい
ては、光磁気記録媒体に記録されたカー回転角（偏光面
の回転角）を検出して用いている。このような光ヘッド
装置としては、図５のような構成のものが用いられてい
た。
ては、光磁気記録媒体に記録されたカー回転角（偏光面
の回転角）を検出して用いている。このような光ヘッド
装置としては、図５のような構成のものが用いられてい
た。
【０００３】図５において、４１は半導体レーザのよう
な光源、４２は単純回折格子、４３はビーム分離用のプ
リズム、４４は集光レンズ、４５は光磁気記録媒体、４
６はウオラストンプリズム、５１〜５５は光検出器を示
す。
な光源、４２は単純回折格子、４３はビーム分離用のプ
リズム、４４は集光レンズ、４５は光磁気記録媒体、４
６はウオラストンプリズム、５１〜５５は光検出器を示
す。
【０００４】図５の光ヘッド装置では、光源４１から出
射した光は、単純回折格子４２、プリズム４３を通過
し、集光レンズ４４で集光されて光磁気記録媒体４５に
到達する。この光磁気記録媒体４５で反射された戻り光
は、再度集光レンズ４４で集光され、プリズム４３に入
射して２つの光に分離される。
射した光は、単純回折格子４２、プリズム４３を通過
し、集光レンズ４４で集光されて光磁気記録媒体４５に
到達する。この光磁気記録媒体４５で反射された戻り光
は、再度集光レンズ４４で集光され、プリズム４３に入
射して２つの光に分離される。
【０００５】分離された光の一方は、そのまま直進して
再度単純回折格子４２に入射して回折し、光検出器５
１、５２に到達する。この回折光は、フォーカスエラー
の検出、トラッキングエラーの検出に用いられる。分離
された光の他方は、プリズム４３内で反射されてウオラ
ストンプリズム４６に入射し、ここで回折されて光検出
器５３〜５５に到達する。この回折光は信号として検出
される。
再度単純回折格子４２に入射して回折し、光検出器５
１、５２に到達する。この回折光は、フォーカスエラー
の検出、トラッキングエラーの検出に用いられる。分離
された光の他方は、プリズム４３内で反射されてウオラ
ストンプリズム４６に入射し、ここで回折されて光検出
器５３〜５５に到達する。この回折光は信号として検出
される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしこのような構成
の光ヘッド装置は、高価な結晶材料を用いており、部品
点数が多く、調整が複雑で、生産性が悪く、コストが高
く、形状が大きいという問題があった。本発明は、これ
らの問題点を解決した光ヘッド装置を提供することを目
的とする。
の光ヘッド装置は、高価な結晶材料を用いており、部品
点数が多く、調整が複雑で、生産性が悪く、コストが高
く、形状が大きいという問題があった。本発明は、これ
らの問題点を解決した光ヘッド装置を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、光源と光磁気
記録媒体との間に光分離回折素子を設け、光磁気記録媒
体からの戻り光を、光分離回折素子で２以上の光に分離
し、さらにそれらの光を回折させて光ヘッド装置の駆動
制御のための光検出器及び信号検出のための光検出器に
到達するようにした光ヘッド装置において、光分離回折
素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有しており、戻
り光が単純回折格子で回折され、その０次でない回折光
の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折されるこ
とを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
記録媒体との間に光分離回折素子を設け、光磁気記録媒
体からの戻り光を、光分離回折素子で２以上の光に分離
し、さらにそれらの光を回折させて光ヘッド装置の駆動
制御のための光検出器及び信号検出のための光検出器に
到達するようにした光ヘッド装置において、光分離回折
素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有しており、戻
り光が単純回折格子で回折され、その０次でない回折光
の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折されるこ
とを特徴とする光ヘッド装置を提供する。
【０００８】また、その単純回折格子で回折された、＋
１次と−１次の回折光が、夫々偏光特性の異なる偏光回
折格子に入射して回折される光ヘッド装置、及び、それ
らの偏光回折格子が少なくとも一方に内面に凹凸のある
基板を用いた液晶回折格子である光ヘッド装置、及び、
それらの光分離回折素子の光源側の基板外面にも単純回
折格子が形成され、３ビームを発生するようにされてい
る光ヘッド装置を提供する。
１次と−１次の回折光が、夫々偏光特性の異なる偏光回
折格子に入射して回折される光ヘッド装置、及び、それ
らの偏光回折格子が少なくとも一方に内面に凹凸のある
基板を用いた液晶回折格子である光ヘッド装置、及び、
それらの光分離回折素子の光源側の基板外面にも単純回
折格子が形成され、３ビームを発生するようにされてい
る光ヘッド装置を提供する。
【０００９】また、少なくとも一方に内面に凹凸のある
基板を用い、内部に封入した光学異方性材料との相互作
用による偏光回折格子を有する複合異方性回折素子にお
いて、少なくとも一方の基板の外面には凹凸による回折
格子が形成され、この外側の回折格子で回折された光の
０次でない回折光の１つ以上の光が内面の偏光回折格子
に入射して再度回折されるように配置されたことを特徴
とする複合異方性回折素子を提供する。
基板を用い、内部に封入した光学異方性材料との相互作
用による偏光回折格子を有する複合異方性回折素子にお
いて、少なくとも一方の基板の外面には凹凸による回折
格子が形成され、この外側の回折格子で回折された光の
０次でない回折光の１つ以上の光が内面の偏光回折格子
に入射して再度回折されるように配置されたことを特徴
とする複合異方性回折素子を提供する。
【００１０】また、その２枚の基板ともに内面に凹凸の
ある基板を用い、一方の１次の回折光が入射側に凹凸が
ある偏光回折格子に、他方の１次の回折光が出射側に凹
凸がある偏光回折格子に入射するように配置された複合
異方性回折素子を提供する。
ある基板を用い、一方の１次の回折光が入射側に凹凸が
ある偏光回折格子に、他方の１次の回折光が出射側に凹
凸がある偏光回折格子に入射するように配置された複合
異方性回折素子を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明では、光ヘッド装置の光分
離回折素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有してお
り、戻り光が単純回折格子で回折され、その０次でない
回折光の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折さ
れるようにされているので、光分離回折素子が小型でか
つ容易に製造できる。
離回折素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有してお
り、戻り光が単純回折格子で回折され、その０次でない
回折光の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折さ
れるようにされているので、光分離回折素子が小型でか
つ容易に製造できる。
【００１２】特に、基板の内外面に凹凸による回折格子
を設け、内部に光学異方性材料を充填した複合異方性回
折素子を用いることにより、きわめて小型にできるとと
もに、その部分については組立後の調整が不要となる利
点を有する。
を設け、内部に光学異方性材料を充填した複合異方性回
折素子を用いることにより、きわめて小型にできるとと
もに、その部分については組立後の調整が不要となる利
点を有する。
【００１３】図１、図２は本発明の複合異方性回折素子
の具体的な例の断面図である。図１は基本的な構成を示
し、図２は３ビーム発生用の第４の回折格子を設けた例
を示す。図１、図２において、１、２、３は回折格子、
４、５は基板、６は光学異方性材料の代表である液晶、
１０は半導体レーザ等の光源からの光、１１〜１６は光
磁気記録媒体からの戻り光の回折光を示す。図２の７は
３ビーム発生用の回折格子を示す。
の具体的な例の断面図である。図１は基本的な構成を示
し、図２は３ビーム発生用の第４の回折格子を設けた例
を示す。図１、図２において、１、２、３は回折格子、
４、５は基板、６は光学異方性材料の代表である液晶、
１０は半導体レーザ等の光源からの光、１１〜１６は光
磁気記録媒体からの戻り光の回折光を示す。図２の７は
３ビーム発生用の回折格子を示す。
【００１４】図３、図４は、図１、図２の複合異方性回
折素子を用いた光ヘッド装置の具体的な例の模式図であ
る。図３は図１に対応し、図４は図２に対応している。
図３、図４において、２１は半導体レーザ等の光源、２
２は図１の複合異方性回折素子、２３は集光レンズ、２
４は光磁気記録媒体、３０は光源から出射し光磁気記録
媒体に到達した光、３１〜３６は光検出器を示す。図４
の２５は図２の複合異方性回折素子、３７は光源から出
射し光磁気記録媒体に到達した光を示す。
折素子を用いた光ヘッド装置の具体的な例の模式図であ
る。図３は図１に対応し、図４は図２に対応している。
図３、図４において、２１は半導体レーザ等の光源、２
２は図１の複合異方性回折素子、２３は集光レンズ、２
４は光磁気記録媒体、３０は光源から出射し光磁気記録
媒体に到達した光、３１〜３６は光検出器を示す。図４
の２５は図２の複合異方性回折素子、３７は光源から出
射し光磁気記録媒体に到達した光を示す。
【００１５】本発明では、光ヘッド装置の光分離回折素
子が単純回折格子と偏光回折格子とを有している。光磁
気記録媒体からの戻り光が単純回折格子で回折され、そ
の０次でない回折光の１つ以上の光が偏光回折格子に入
射して回折される。この２種類の回折格子が一体化され
ている。
子が単純回折格子と偏光回折格子とを有している。光磁
気記録媒体からの戻り光が単純回折格子で回折され、そ
の０次でない回折光の１つ以上の光が偏光回折格子に入
射して回折される。この２種類の回折格子が一体化され
ている。
【００１６】具体的には、少なくとも一方に内面に凹凸
のある基板を用い、内部に封入した光学異方性材料との
相互作用による偏光回折格子を用い、これと基板外面に
設けた単純回折格子とにより複合異方性回折素子を構成
する。
のある基板を用い、内部に封入した光学異方性材料との
相互作用による偏光回折格子を用い、これと基板外面に
設けた単純回折格子とにより複合異方性回折素子を構成
する。
【００１７】基板の外面の単純回折格子は、ストライプ
状に回折格子を形成すればよい。これには、基板の外面
をエッチング、機械的な切削、プレス等により凹凸化し
て回折格子を形成することが生産性が良く好適である。
この場合、基板自体を直接加工してもよく、基板表面に
特定の屈折率の透明膜を形成しこれを加工するようにし
てもよい。このほか、部分的に基板自体の屈折率を変え
て回折格子として働くようにもできる。この外面の単純
回折格子は、光磁気記録媒体側に配置され、光磁気記録
媒体からの戻り光が単純回折格子で回折される。
状に回折格子を形成すればよい。これには、基板の外面
をエッチング、機械的な切削、プレス等により凹凸化し
て回折格子を形成することが生産性が良く好適である。
この場合、基板自体を直接加工してもよく、基板表面に
特定の屈折率の透明膜を形成しこれを加工するようにし
てもよい。このほか、部分的に基板自体の屈折率を変え
て回折格子として働くようにもできる。この外面の単純
回折格子は、光磁気記録媒体側に配置され、光磁気記録
媒体からの戻り光が単純回折格子で回折される。
【００１８】この、単純回折格子で回折された光のう
ち、その０次でない回折光の１つ以上の光が偏光回折格
子に入射するようにされる。この偏光回折格子は、基板
内面に形成された凹凸と内部に封入した光学異方性材料
との相互作用により、特定の偏光方向の光を回折する。
この基板内面の凹凸も、前記した基板の外面の単純回折
格子と同様に形成すればよい。
ち、その０次でない回折光の１つ以上の光が偏光回折格
子に入射するようにされる。この偏光回折格子は、基板
内面に形成された凹凸と内部に封入した光学異方性材料
との相互作用により、特定の偏光方向の光を回折する。
この基板内面の凹凸も、前記した基板の外面の単純回折
格子と同様に形成すればよい。
【００１９】この光分離回折素子の偏光回折格子は、１
つのみとすることもできるが、＋１次と−１次の回折光
の両方の回折光を回折させるために２つの偏光回折格子
を形成することが好ましい。この２つの偏光回折格子
は、偏光依存性に差があるようにされることが好まし
い。
つのみとすることもできるが、＋１次と−１次の回折光
の両方の回折光を回折させるために２つの偏光回折格子
を形成することが好ましい。この２つの偏光回折格子
は、偏光依存性に差があるようにされることが好まし
い。
【００２０】具体的には、一方はＰ波を回折させ、Ｓ波
は直進させ、他方はＳ波を回折させ、Ｐ波は直進させる
ような偏光依存性を有することが好ましい。このため、
基板内面の凹凸と光学異方性材料とで構成した偏光回折
格子の場合には、２つの偏光回折格子で凹凸がある面を
逆の基板にすることが好ましい。
は直進させ、他方はＳ波を回折させ、Ｐ波は直進させる
ような偏光依存性を有することが好ましい。このため、
基板内面の凹凸と光学異方性材料とで構成した偏光回折
格子の場合には、２つの偏光回折格子で凹凸がある面を
逆の基板にすることが好ましい。
【００２１】特に、この偏光回折格子は、内部に封入す
る光学異方性材料と基板の凹凸との屈折率との関係が重
要になるので、凹凸の屈折率を調整する必要がある。こ
のため、基板自体が所望の屈折率であればそのまま使用
できるが、基板自体の屈折率と所望の屈折率とが異なる
場合には、基板表面に所望の屈折率の透明膜を形成する
ことが好ましい。この透明膜はエッチング等によりパタ
ーニングしてもよく、所望のパターンに直接形成しても
よい。
る光学異方性材料と基板の凹凸との屈折率との関係が重
要になるので、凹凸の屈折率を調整する必要がある。こ
のため、基板自体が所望の屈折率であればそのまま使用
できるが、基板自体の屈折率と所望の屈折率とが異なる
場合には、基板表面に所望の屈折率の透明膜を形成する
ことが好ましい。この透明膜はエッチング等によりパタ
ーニングしてもよく、所望のパターンに直接形成しても
よい。
【００２２】具体的には、凹凸部の屈折率を、光学異方
性材料の常光屈折率か異常光屈折率に一致するようにさ
れる。光学異方性材料として液晶を用い、回折格子の長
手方向にラビングにより配向処理をした場合について説
明する。
性材料の常光屈折率か異常光屈折率に一致するようにさ
れる。光学異方性材料として液晶を用い、回折格子の長
手方向にラビングにより配向処理をした場合について説
明する。
【００２３】凹凸部の屈折率を液晶の常光屈折率に一致
するようにすると、液晶分子が格子の長手方向に配列し
ているので、格子の長手方向に直交する方向に偏光方向
のある光は両方の屈折率は一致していることになるの
で、回折格子として働かず、光は直進する。一方、格子
の長手方向に偏光方向のある光は、見かけ上液晶の屈折
率が異常光屈折率となり、両方の屈折率は一致しなくな
るので、回折格子として働くことになり、光は回折され
る。
するようにすると、液晶分子が格子の長手方向に配列し
ているので、格子の長手方向に直交する方向に偏光方向
のある光は両方の屈折率は一致していることになるの
で、回折格子として働かず、光は直進する。一方、格子
の長手方向に偏光方向のある光は、見かけ上液晶の屈折
率が異常光屈折率となり、両方の屈折率は一致しなくな
るので、回折格子として働くことになり、光は回折され
る。
【００２４】また、この凹凸部の屈折率を液晶の異常光
屈折率に一致するようにすると、液晶分子が格子の長手
方向に配列しているので、格子の長手方向に直交する方
向に偏光方向のある光は、見かけ上液晶の屈折率が常光
屈折率となるので、両方の屈折率は一致しなくなり、光
は回折される。一方、格子の長手方向に偏光方向のある
光は、両方の屈折率は一致していることになるので、回
折格子として働かず、光は直進する。
屈折率に一致するようにすると、液晶分子が格子の長手
方向に配列しているので、格子の長手方向に直交する方
向に偏光方向のある光は、見かけ上液晶の屈折率が常光
屈折率となるので、両方の屈折率は一致しなくなり、光
は回折される。一方、格子の長手方向に偏光方向のある
光は、両方の屈折率は一致していることになるので、回
折格子として働かず、光は直進する。
【００２５】このため、２つの回折格子の凹凸部を夫々
常光屈折率及び異常光屈折率と一致するような材料で構
成しておくことにより、異なる偏光特性を有するように
させうる。これにより、回折格子２と３では、一方でＰ
波成分が回折し、他方ではＳ波成分が回折することにな
る。
常光屈折率及び異常光屈折率と一致するような材料で構
成しておくことにより、異なる偏光特性を有するように
させうる。これにより、回折格子２と３では、一方でＰ
波成分が回折し、他方ではＳ波成分が回折することにな
る。
【００２６】図１のように液晶層を挟んだ２枚の基板に
凹凸部を形成する場合には、液晶が９０°ねじれるよう
に配向処理しておけば、両方の凹凸部が液晶の常光屈折
率と屈折率が一致するようにしておいてもよい。これ
は、凹凸部が光源側の基板５にある回折格子には液晶層
を通過することにより光の偏光方向が９０°回転して入
射するので、回折格子２と３では、一方でＰ波成分が回
折し、他方ではＳ波成分が回折することになる。
凹凸部を形成する場合には、液晶が９０°ねじれるよう
に配向処理しておけば、両方の凹凸部が液晶の常光屈折
率と屈折率が一致するようにしておいてもよい。これ
は、凹凸部が光源側の基板５にある回折格子には液晶層
を通過することにより光の偏光方向が９０°回転して入
射するので、回折格子２と３では、一方でＰ波成分が回
折し、他方ではＳ波成分が回折することになる。
【００２７】図１の例では、単純回折格子である回折格
子１で回折された光は、直進する０次光の他に少なくと
も２方向に進行する。左側に進行した光は基板５の内面
に設けられた凹凸と光学異方性材料である液晶６とによ
る偏光回折格子である回折格子２で回折し光１１、１
２、１３となって、光検出器にに到達する。右側に進行
した光は基板４の内面に設けられた凹凸と光学異方性材
料である液晶６とによる偏光回折格子である回折格子３
で回折し、光１４、１５、１６となって光検出器に到達
する。
子１で回折された光は、直進する０次光の他に少なくと
も２方向に進行する。左側に進行した光は基板５の内面
に設けられた凹凸と光学異方性材料である液晶６とによ
る偏光回折格子である回折格子２で回折し光１１、１
２、１３となって、光検出器にに到達する。右側に進行
した光は基板４の内面に設けられた凹凸と光学異方性材
料である液晶６とによる偏光回折格子である回折格子３
で回折し、光１４、１５、１６となって光検出器に到達
する。
【００２８】ここで、光源からの光がＰ波とＳ波との両
成分を含む４５°傾いた偏光方向の光を用いることとす
る。光磁気記録媒体で反射した戻り光は、ある角度偏光
面が回転している。この戻り光を単純回折格子である回
折格子１で回折させて２つの回折格子２、３に導く。
成分を含む４５°傾いた偏光方向の光を用いることとす
る。光磁気記録媒体で反射した戻り光は、ある角度偏光
面が回転している。この戻り光を単純回折格子である回
折格子１で回折させて２つの回折格子２、３に導く。
【００２９】この左側の回折格子２では、０次の光１２
ではほぼＰ波となり、−１次と＋１次の光１１、１３は
ほぼＳ波となるようにし、右側の回折格子３では、０次
の光１５ではほぼＳ波となり、−１次と＋１次の光１
４、１６はほぼＰ波となるようにされる。このときに、
１１と１３と１５とのＳ波の合計と、１２と１４と１６
とのＰ波の合計との差を計算することにより、光磁気記
録媒体での偏光回転角を読み取りうる。
ではほぼＰ波となり、−１次と＋１次の光１１、１３は
ほぼＳ波となるようにし、右側の回折格子３では、０次
の光１５ではほぼＳ波となり、−１次と＋１次の光１
４、１６はほぼＰ波となるようにされる。このときに、
１１と１３と１５とのＳ波の合計と、１２と１４と１６
とのＰ波の合計との差を計算することにより、光磁気記
録媒体での偏光回転角を読み取りうる。
【００３０】図２のように、単純回折格子である第４の
回折格子７を光源側の基板外面に設けることにより、３
ビーム発生用となしうる。この第４の回折格子７は、通
常は回折格子１、２、３とは格子のストライプの方向が
直交するようにされる。
回折格子７を光源側の基板外面に設けることにより、３
ビーム発生用となしうる。この第４の回折格子７は、通
常は回折格子１、２、３とは格子のストライプの方向が
直交するようにされる。
【００３１】また、回折格子１にはさまざなな湾曲格子
を形成したり、領域を分け各々の異なる湾曲格子を形成
したりすることによって、フォーカスエラー検出、トラ
ッキングエラー検出の機能を光ヘッド装置に持たせう
る。
を形成したり、領域を分け各々の異なる湾曲格子を形成
したりすることによって、フォーカスエラー検出、トラ
ッキングエラー検出の機能を光ヘッド装置に持たせう
る。
【００３２】複合異方性回折素子に用いる基板は、通常
のガラス、プラスチック等の基板が使用でき、必要に応
じて所望の屈折率の透明膜を積層して用いる。さらに、
必要に応じて、これにポリイミドの配向膜、間隙制御用
のスペーサ、電極、シール材等を用いる。
のガラス、プラスチック等の基板が使用でき、必要に応
じて所望の屈折率の透明膜を積層して用いる。さらに、
必要に応じて、これにポリイミドの配向膜、間隙制御用
のスペーサ、電極、シール材等を用いる。
【００３３】光学異方性材料としては、液晶が代表的な
材料として用いられる。通常は正の誘電異方性のネマチ
ック液晶を用いればよい。上記の説明では、液晶は液体
状の材料を用いることで説明したが、高分子液晶も使用
できる。不必要な表面反射を抑制するために反射防止コ
ートを形成したり、回折格子を複雑な形状にして付加機
能を付与させてもよい。
材料として用いられる。通常は正の誘電異方性のネマチ
ック液晶を用いればよい。上記の説明では、液晶は液体
状の材料を用いることで説明したが、高分子液晶も使用
できる。不必要な表面反射を抑制するために反射防止コ
ートを形成したり、回折格子を複雑な形状にして付加機
能を付与させてもよい。
【００３４】
【実施例】屈折率１．５２、厚さ２ｍｍのガラス基板の
上（外面側）に、ＳｉＯ2 膜を蒸着によって厚み０．６
μｍで形成し、フォトリソグラフィとドライエッチング
によって、ピッチ１．５μｍ、深さ０．６μｍの回折格
子１を形成した。この回折格子には、ＳＳＤ（Spot Siz
e Detection ）法によるフォーカスエラー検出用のパタ
ーンを形成した。
上（外面側）に、ＳｉＯ2 膜を蒸着によって厚み０．６
μｍで形成し、フォトリソグラフィとドライエッチング
によって、ピッチ１．５μｍ、深さ０．６μｍの回折格
子１を形成した。この回折格子には、ＳＳＤ（Spot Siz
e Detection ）法によるフォーカスエラー検出用のパタ
ーンを形成した。
【００３５】そのガラス基板の上記回折格子形成面と逆
の面（内面側）の＋１次光が通過する位置に、屈折率
１．７９、厚み１．４μｍのＳｉＯＮ系の膜をプラズマ
ＣＶＤ法により形成し、フォトリソグラフィとドライエ
ッチングによって、ピッチ８μｍ、深さ１．４μｍの回
折格子３を形成した。
の面（内面側）の＋１次光が通過する位置に、屈折率
１．７９、厚み１．４μｍのＳｉＯＮ系の膜をプラズマ
ＣＶＤ法により形成し、フォトリソグラフィとドライエ
ッチングによって、ピッチ８μｍ、深さ１．４μｍの回
折格子３を形成した。
【００３６】厚み０．５ｍｍ、屈折率１．５２の第２の
ガラス基板の表面（内面側）に、屈折率１．５２、厚み
１．４μｍのＳｉＯＮ系の膜を同じくプラズマＣＶＤ法
により形成し、フォトリソグラフィとドライエッチング
によって、ピッチ８μｍ、深さ１．４μｍの回折格子２
を形成した。
ガラス基板の表面（内面側）に、屈折率１．５２、厚み
１．４μｍのＳｉＯＮ系の膜を同じくプラズマＣＶＤ法
により形成し、フォトリソグラフィとドライエッチング
によって、ピッチ８μｍ、深さ１．４μｍの回折格子２
を形成した。
【００３７】第２のガラス基板の上記回折格子形成面と
逆の面（外面側）に、半導体レーザからの往路光が通過
する位置に、ＳｉＯ2 膜を蒸着法により形成し、フォト
リソグラフィとドライエッチングによって、ピッチ１６
μｍ、深さ０．５μｍの回折格子４を形成した。
逆の面（外面側）に、半導体レーザからの往路光が通過
する位置に、ＳｉＯ2 膜を蒸着法により形成し、フォト
リソグラフィとドライエッチングによって、ピッチ１６
μｍ、深さ０．５μｍの回折格子４を形成した。
【００３８】上記２つの内面側のＳｉＯＮ系の膜の回折
格子面を相対向させるようにし、ストライプ方向を一致
させ、−１次回折光が回折格子２を通過するような配置
にして、周辺部をエポキシ樹脂でシールした。その後、
常光屈折率１．５２、異常光屈折率１．７９の液晶を注
入し、注入口を同じくエポキシ樹脂で封止して複合異方
性回折素子となる液晶素子を作成した。なお、２枚の基
板とも内面側にはポリイミドの薄膜を設け、格子の長手
方向に沿ってラビングしたものを用いた。このため、液
晶のねじれ角は０°とした。
格子面を相対向させるようにし、ストライプ方向を一致
させ、−１次回折光が回折格子２を通過するような配置
にして、周辺部をエポキシ樹脂でシールした。その後、
常光屈折率１．５２、異常光屈折率１．７９の液晶を注
入し、注入口を同じくエポキシ樹脂で封止して複合異方
性回折素子となる液晶素子を作成した。なお、２枚の基
板とも内面側にはポリイミドの薄膜を設け、格子の長手
方向に沿ってラビングしたものを用いた。このため、液
晶のねじれ角は０°とした。
【００３９】上記液晶素子を用いて図４に示すように、
光ヘッド装置を作成し、光磁気デイスクのカー回転角を
読み取った。
光ヘッド装置を作成し、光磁気デイスクのカー回転角を
読み取った。
【００４０】
【発明の効果】本発明では、光ヘッド装置の光分離回折
素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有しており、戻
り光が単純回折格子で回折され、その０次でない回折光
の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折されるよ
うにされているので、光分離回折素子が小型でかつ容易
に製造できる。
素子が単純回折格子と偏光回折格子とを有しており、戻
り光が単純回折格子で回折され、その０次でない回折光
の１つ以上の光が偏光回折格子に入射して回折されるよ
うにされているので、光分離回折素子が小型でかつ容易
に製造できる。
【００４１】特に、基板の内外面に凹凸による回折格子
を設け、内部に液晶に代表される光学異方性材料を充填
した複合異方性回折素子を用いることにより、きわめて
小型化できるとともに、その部分については全ての回折
格子が一体化されていることになるので、回折格子の組
立後の調整が不要となる。
を設け、内部に液晶に代表される光学異方性材料を充填
した複合異方性回折素子を用いることにより、きわめて
小型化できるとともに、その部分については全ての回折
格子が一体化されていることになるので、回折格子の組
立後の調整が不要となる。
【００４２】さらに、このように小型で調整不要の光分
離回折素子を用いているので、光ヘッド装置自体も小型
化でき、その部品点数も少ないので組み立ても容易であ
り、さらにその調整も容易になり、生産性も良い。本発
明は、本発明の効果を損しない範囲内で、種々の応用が
できる。
離回折素子を用いているので、光ヘッド装置自体も小型
化でき、その部品点数も少ないので組み立ても容易であ
り、さらにその調整も容易になり、生産性も良い。本発
明は、本発明の効果を損しない範囲内で、種々の応用が
できる。
【図１】本発明の複合異方性回折素子の具体的な例の断
面図。
面図。
【図２】本発明の複合異方性回折素子の他の具体的な例
の断面図。
の断面図。
【図３】図１の複合異方性回折素子を用いた光ヘッド装
置の具体的な例の模式図。
置の具体的な例の模式図。
【図４】図２の複合異方性回折素子を用いた光ヘッド装
置の具体的な例の模式図。
置の具体的な例の模式図。
【図５】従来の光ヘッド装置の例の模式図。
回折格子：１、２、３、７ 基板 ：４、５ 液晶 ：６ 光 ：１１〜１６
Claims (6)
- 【請求項１】光源と光磁気記録媒体との間に光分離回折
素子を設け、光磁気記録媒体からの戻り光を、光分離回
折素子で２以上の光に分離し、さらにそれらの光を回折
させて光ヘッド装置の駆動制御のための光検出器及び信
号検出のための光検出器に到達するようにした光ヘッド
装置において、光分離回折素子が単純回折格子と偏光回
折格子とを有しており、戻り光が単純回折格子で回折さ
れ、その０次でない回折光の１つ以上の光が偏光回折格
子に入射して回折されることを特徴とする光ヘッド装
置。 - 【請求項２】単純回折格子で回折された、＋１次と−１
次の回折光が、夫々偏光特性の異なる偏光回折格子に入
射して回折される請求項１記載の光ヘッド装置。 - 【請求項３】偏光回折格子が少なくとも一方に内面に凹
凸のある基板を用いた液晶回折格子である請求項１又は
２記載の光ヘッド装置。 - 【請求項４】光分離回折素子の光源側の基板外面にも単
純回折格子が形成され、３ビームを発生するようにされ
ている請求項１、２又は３記載の光ヘッド装置。 - 【請求項５】少なくとも一方に内面に凹凸のある基板を
用い、内部に封入した光学異方性材料との相互作用によ
る偏光回折格子を有する複合異方性回折素子において、
少なくとも一方の基板の外面には凹凸による回折格子が
形成され、この外側の回折格子で回折された光の０次で
ない回折光の１つ以上の光が内面の偏光回折格子に入射
して再度回折されるように配置されたことを特徴とする
複合異方性回折素子。 - 【請求項６】２枚の基板ともに内面に凹凸のある基板を
用い、一方の１次の回折光が入射側に凹凸がある偏光回
折格子に、他方の１次の回折光が出射側に凹凸がある偏
光回折格子に入射するように配置された請求項５記載の
複合異方性回折素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22708696A JP3541575B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22708696A JP3541575B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1069673A true JPH1069673A (ja) | 1998-03-10 |
| JP3541575B2 JP3541575B2 (ja) | 2004-07-14 |
Family
ID=16855288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22708696A Expired - Fee Related JP3541575B2 (ja) | 1996-08-28 | 1996-08-28 | 光ヘッド装置及びそれに用いる複合異方性回折素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3541575B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001042824A1 (en) * | 1999-12-08 | 2001-06-14 | Otm Technologies, Ltd. | Improved motion detector and components suitable for use therein |
| EP1437608A1 (en) * | 2001-09-13 | 2004-07-14 | Asahi Glass Company Ltd. | Diffraction device |
| WO2007119773A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | 構造体、構造体の形成方法、構造体形成装置、構造色及び／又は回折光読み取り方法、及び、真贋判定方法 |
| KR100779693B1 (ko) | 2006-08-09 | 2007-11-26 | 주식회사 엘지에스 | 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치 |
| JP4778662B2 (ja) * | 2000-06-29 | 2011-09-21 | パナソニック株式会社 | 光ヘッド装置および光情報処理装置 |
| CN111033118A (zh) * | 2017-09-12 | 2020-04-17 | 株式会社Lg化学 | 衍射导光板和制造衍射导光板的方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11782195B2 (en) * | 2019-09-30 | 2023-10-10 | Himax Technologies Limited | Diffractive optical element and method for fabricating the diffractive optical element |
-
1996
- 1996-08-28 JP JP22708696A patent/JP3541575B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| WO2001042824A1 (en) * | 1999-12-08 | 2001-06-14 | Otm Technologies, Ltd. | Improved motion detector and components suitable for use therein |
| JP4778662B2 (ja) * | 2000-06-29 | 2011-09-21 | パナソニック株式会社 | 光ヘッド装置および光情報処理装置 |
| JP2011198463A (ja) * | 2000-06-29 | 2011-10-06 | Panasonic Corp | 回折光学素子、光ヘッド装置および光情報処理装置 |
| EP1437608A1 (en) * | 2001-09-13 | 2004-07-14 | Asahi Glass Company Ltd. | Diffraction device |
| EP1437608A4 (en) * | 2001-09-13 | 2006-07-26 | Asahi Glass Co Ltd | DIFFRACTION DEVICE |
| US7430076B2 (en) | 2001-09-13 | 2008-09-30 | Asahi Glass Company, Limited | Diffraction element |
| WO2007119773A1 (ja) * | 2006-04-12 | 2007-10-25 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | 構造体、構造体の形成方法、構造体形成装置、構造色及び／又は回折光読み取り方法、及び、真贋判定方法 |
| US8139292B2 (en) | 2006-04-12 | 2012-03-20 | Toyo Seikan Kaisha, Ltd. | Structural body, a method for reading a structural color and/or diffraction light, and a truth/false discriminating method |
| KR100779693B1 (ko) | 2006-08-09 | 2007-11-26 | 주식회사 엘지에스 | 파장선택형 회절소자 및 이를 갖는 광헤드장치 |
| CN111033118A (zh) * | 2017-09-12 | 2020-04-17 | 株式会社Lg化学 | 衍射导光板和制造衍射导光板的方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3541575B2 (ja) | 2004-07-14 |
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