JPH1060532A - 磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 - Google Patents
磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法Info
- Publication number
- JPH1060532A JPH1060532A JP8217624A JP21762496A JPH1060532A JP H1060532 A JPH1060532 A JP H1060532A JP 8217624 A JP8217624 A JP 8217624A JP 21762496 A JP21762496 A JP 21762496A JP H1060532 A JPH1060532 A JP H1060532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rolling
- annealing
- skin pass
- hot
- steel sheet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、磁性バラツキが少ない高位安定し
た磁気特性と表面性状とが優れている無方向性電磁鋼板
を提供する。 【解決手段】 重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４
％、Ａｌ≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、
Ｓ≦０．００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物
の組成比率ＭｎＯ／（ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋
ＭｎＯ）≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．
５〜４％のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を
行い、次いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴と
する磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製
造方法。 上記熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜０．
２％を含有させてもよく、また、上記最終の連続焼鈍後
に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行ってもよい。
た磁気特性と表面性状とが優れている無方向性電磁鋼板
を提供する。 【解決手段】 重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４
％、Ａｌ≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、
Ｓ≦０．００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物
の組成比率ＭｎＯ／（ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋
ＭｎＯ）≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．
５〜４％のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を
行い、次いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴と
する磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製
造方法。 上記熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜０．
２％を含有させてもよく、また、上記最終の連続焼鈍後
に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行ってもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用および工業
用に用いられる電動機並びに小型トランス素材である無
方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。
用に用いられる電動機並びに小型トランス素材である無
方向性電磁鋼板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、石油資源の有限性や地球環境の問
題から、エネルギー消費を極力少なくすることが世界的
に求められている。この観点から、電気機器に広く用い
られている無方向性電磁鋼板の分野においても効率改善
要求が強い。このため、電気エネルギー消費の原因であ
る無方向性電磁鋼板の鉄損と磁束密度とを更に向上させ
ることが重要となってきている。従来、この鉄損に関し
ては、固有抵抗を増加させるＳｉ，Ａｌなどの添加、製
品結晶粒径の粗大化などによって比較的容易に改善がな
されてきた。しかし、磁束密度の向上に関しては、集合
組織を制御することが工業的には容易でないこともあっ
て難しいのが現状である。
題から、エネルギー消費を極力少なくすることが世界的
に求められている。この観点から、電気機器に広く用い
られている無方向性電磁鋼板の分野においても効率改善
要求が強い。このため、電気エネルギー消費の原因であ
る無方向性電磁鋼板の鉄損と磁束密度とを更に向上させ
ることが重要となってきている。従来、この鉄損に関し
ては、固有抵抗を増加させるＳｉ，Ａｌなどの添加、製
品結晶粒径の粗大化などによって比較的容易に改善がな
されてきた。しかし、磁束密度の向上に関しては、集合
組織を制御することが工業的には容易でないこともあっ
て難しいのが現状である。
【０００３】集合組織改善の方法としては、強冷延の前
の結晶粒径を粗大にして結晶粒界を少なくすることによ
る、強冷延あとの一次再結晶集合組織において｛１０
０｝を富化するメタラジーが有効である。このメタラジ
ーを更に発展させたものとして、熱延板をスキンパス圧
延してから焼鈍し、次いで強冷延する方法が幾つか公知
である。
の結晶粒径を粗大にして結晶粒界を少なくすることによ
る、強冷延あとの一次再結晶集合組織において｛１０
０｝を富化するメタラジーが有効である。このメタラジ
ーを更に発展させたものとして、熱延板をスキンパス圧
延してから焼鈍し、次いで強冷延する方法が幾つか公知
である。
【０００４】例えば、特公昭４５−２２２１１号公報に
は、熱延板に圧下率０．５〜１５％のスキンパス圧延を
施し、次いで、フェライト域で３０分以上２０時間以内
程度の焼鈍をすることが開示されている。しかしながら
このような長時間の焼鈍はバッチ焼鈍方式にならざるを
得ないため、コイルの内周外周での焼けムラによる冷延
形状の悪化や磁気特性のバラツキが大きくなる問題があ
った。また、製品表面には結晶模様と称される結晶粒が
圧延方向に伸びたような模様が観察され、外観も悪く、
占積率も若干低くなる問題があった。この模様が著しい
場合には畳じわが発生して製品鋼板が波打った状態にな
る。更には、この開示された発明の実施例ではＣ，Ｓな
どの不純物レベルが高く、充分な結晶粒成長が得られず
磁束密度が不満であった。
は、熱延板に圧下率０．５〜１５％のスキンパス圧延を
施し、次いで、フェライト域で３０分以上２０時間以内
程度の焼鈍をすることが開示されている。しかしながら
このような長時間の焼鈍はバッチ焼鈍方式にならざるを
得ないため、コイルの内周外周での焼けムラによる冷延
形状の悪化や磁気特性のバラツキが大きくなる問題があ
った。また、製品表面には結晶模様と称される結晶粒が
圧延方向に伸びたような模様が観察され、外観も悪く、
占積率も若干低くなる問題があった。この模様が著しい
場合には畳じわが発生して製品鋼板が波打った状態にな
る。更には、この開示された発明の実施例ではＣ，Ｓな
どの不純物レベルが高く、充分な結晶粒成長が得られず
磁束密度が不満であった。
【０００５】また、特開平１−３０９９２１号公報で
は、熱延板に圧下率３〜１５％のスキンパス圧延を施
し、次いで、６００〜７５０℃の温度で焼鈍をすること
が示されている。実施例で見ると、この焼鈍時間は２０
時間である。従って、バッチ焼鈍を前提としたものと解
釈されるが、上記したようにコイル内温度不安定による
冷延形状の悪化や磁性バラツキの問題があった。
は、熱延板に圧下率３〜１５％のスキンパス圧延を施
し、次いで、６００〜７５０℃の温度で焼鈍をすること
が示されている。実施例で見ると、この焼鈍時間は２０
時間である。従って、バッチ焼鈍を前提としたものと解
釈されるが、上記したようにコイル内温度不安定による
冷延形状の悪化や磁性バラツキの問題があった。
【０００６】特開平２−２１３４１８号公報では、熱延
板に数％の圧下率でスキンパス圧延を施し、次いで、３
０分〜１２時間の焼鈍をすることが提示されている。こ
の焼鈍も上記バッチ焼鈍の問題、即ち、冷延形状や磁性
バラツキがあった。
板に数％の圧下率でスキンパス圧延を施し、次いで、３
０分〜１２時間の焼鈍をすることが提示されている。こ
の焼鈍も上記バッチ焼鈍の問題、即ち、冷延形状や磁性
バラツキがあった。
【０００７】特開平１−３０６５２３号公報では、熱延
板に圧下率５〜２０％のスキンパス圧延を施し、次い
で、８５０〜１０００℃の温度で０．５〜１０分、或は
７５０〜８５０℃で１〜１０時間の焼鈍をすることが明
らかにされている。この方法の連続焼鈍方式では、上記
バッチ焼鈍のコイル内温度不安定問題はない。しかし、
スキンパス圧延の圧下率が５％以上では圧延負荷の面か
ら工業的には、特に、熱延板をスケール付きのまま油な
し圧延する場合に、数パスの圧延が必要となり生産性を
劣化させる。
板に圧下率５〜２０％のスキンパス圧延を施し、次い
で、８５０〜１０００℃の温度で０．５〜１０分、或は
７５０〜８５０℃で１〜１０時間の焼鈍をすることが明
らかにされている。この方法の連続焼鈍方式では、上記
バッチ焼鈍のコイル内温度不安定問題はない。しかし、
スキンパス圧延の圧下率が５％以上では圧延負荷の面か
ら工業的には、特に、熱延板をスケール付きのまま油な
し圧延する場合に、数パスの圧延が必要となり生産性を
劣化させる。
【０００８】更に、特開平５−１７１２８０号公報で
は、熱延板に圧下率５〜１５％のスキンパス圧延を施
し、次いで、結晶粒径が１００〜２００μｍなる焼鈍処
理を施すことにより、磁束密度が優れ且つ畳じわのない
無方向性電磁鋼板を得ることが記述されている。この焼
鈍処理は、連続焼鈍をベースに行われるため、コイル内
での偏熱の問題はないが、前述の如く、５％以上のスキ
ンパス圧延は工業的に困難が伴うという問題がある。
は、熱延板に圧下率５〜１５％のスキンパス圧延を施
し、次いで、結晶粒径が１００〜２００μｍなる焼鈍処
理を施すことにより、磁束密度が優れ且つ畳じわのない
無方向性電磁鋼板を得ることが記述されている。この焼
鈍処理は、連続焼鈍をベースに行われるため、コイル内
での偏熱の問題はないが、前述の如く、５％以上のスキ
ンパス圧延は工業的に困難が伴うという問題がある。
【０００９】結局、現在まで提案された熱延板へのスキ
ンパス圧延に続く焼鈍は、バッチまたは連続焼鈍方法で
あったが、バッチ焼鈍ではコイル内材質の不均一性が問
題であり、また、連続焼鈍では不均一性の問題がクリア
ーされたが、強圧下スキンパスの問題があった。
ンパス圧延に続く焼鈍は、バッチまたは連続焼鈍方法で
あったが、バッチ焼鈍ではコイル内材質の不均一性が問
題であり、また、連続焼鈍では不均一性の問題がクリア
ーされたが、強圧下スキンパスの問題があった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の点に鑑
み、圧延負荷が少なくて、磁性バラツキが少ない高位安
定した磁気特性を有し、結晶模様のない表面性状が優れ
ているところの、無方向性電磁鋼板の製造方法を提供す
ることを目的とする。
み、圧延負荷が少なくて、磁性バラツキが少ない高位安
定した磁気特性を有し、結晶模様のない表面性状が優れ
ているところの、無方向性電磁鋼板の製造方法を提供す
ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は以下の構成を要旨とする。すなわち （１）重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４％、Ａｌ
≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、Ｓ≦０．
００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物の組成比
率ＭｎＯ／（Ｓｉ2 Ｏ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）
≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．５〜４％
のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を行い、次
いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴とする磁気
特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法で
ある。 （２）上記（１）の熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜
０．２％を含有させることができる。 （３）上記（１）或いは（２）において、最終の連続焼
鈍後に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行うことが
できる。
に本発明は以下の構成を要旨とする。すなわち （１）重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４％、Ａｌ
≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、Ｓ≦０．
００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物の組成比
率ＭｎＯ／（Ｓｉ2 Ｏ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）
≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．５〜４％
のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を行い、次
いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴とする磁気
特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法で
ある。 （２）上記（１）の熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜
０．２％を含有させることができる。 （３）上記（１）或いは（２）において、最終の連続焼
鈍後に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行うことが
できる。
【００１２】本発明のポイントは４点ある。１点目は、
熱延板の圧延負荷を軽減すべく、スキンパス圧下率を小
さくすること。２点目は、スキンパス圧延に続いて、バ
ッチの長時間焼鈍でなく、短時間の連続焼鈍で粗大結晶
粒にすること。３点目は、熱延板への軽スキンパスと短
時間焼鈍の組み合わせで、特に表層の結晶粒を粗大化出
来るように、成分組成を介在物を含めて厳密に制御する
こと。更に、４点目は短時間焼鈍後の中心層組織が比較
的細粒であることを利用して結晶模様のない外観が美麗
な製品表面性状を得ることにある。
熱延板の圧延負荷を軽減すべく、スキンパス圧下率を小
さくすること。２点目は、スキンパス圧延に続いて、バ
ッチの長時間焼鈍でなく、短時間の連続焼鈍で粗大結晶
粒にすること。３点目は、熱延板への軽スキンパスと短
時間焼鈍の組み合わせで、特に表層の結晶粒を粗大化出
来るように、成分組成を介在物を含めて厳密に制御する
こと。更に、４点目は短時間焼鈍後の中心層組織が比較
的細粒であることを利用して結晶模様のない外観が美麗
な製品表面性状を得ることにある。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず含有する成分の限定理由について説明する。Ｃ量
は、０．００８％以下に制限する。Ｃ量は少ない方が良
く、０．００８％超では、熱延板へのスキンパス圧延後
の焼鈍で粗大粒が得られず、磁束密度が劣化する。
まず含有する成分の限定理由について説明する。Ｃ量
は、０．００８％以下に制限する。Ｃ量は少ない方が良
く、０．００８％超では、熱延板へのスキンパス圧延後
の焼鈍で粗大粒が得られず、磁束密度が劣化する。
【００１４】Ｓｉ量は、４％以下とする。Ｓｉは鋼板の
固有抵抗を増やしてうず電流損を低減させるのに有効で
あるが、４％を超えると冷延での破断や電気部品への打
抜きき工程での割れの問題が大きくなるので避けなけれ
ばならない。
固有抵抗を増やしてうず電流損を低減させるのに有効で
あるが、４％を超えると冷延での破断や電気部品への打
抜きき工程での割れの問題が大きくなるので避けなけれ
ばならない。
【００１５】Ａｌ量は、２．５％以下に制限する。Ａｌ
もＳｉと同様に、鋼板の固有抵抗を増やしてうず電流損
を低減させるのに有効であるが、２．５％を超えると冷
延での破断や電気部品への打抜き工程での割れの問題が
大きくなるので避けなければならない。
もＳｉと同様に、鋼板の固有抵抗を増やしてうず電流損
を低減させるのに有効であるが、２．５％を超えると冷
延での破断や電気部品への打抜き工程での割れの問題が
大きくなるので避けなければならない。
【００１６】Ｍｎ量は、１．５％以下とする。Ｍｎは固
有抵抗を増加させると同時に集合組織を改善する作用が
あるが、多くなり過ぎると熱延板のスキンパス圧延後の
焼鈍で結晶粒成長が阻害されるため、１．５％以下でな
ければならない。
有抵抗を増加させると同時に集合組織を改善する作用が
あるが、多くなり過ぎると熱延板のスキンパス圧延後の
焼鈍で結晶粒成長が阻害されるため、１．５％以下でな
ければならない。
【００１７】Ｐ量は、０．２％以下に制限する。Ｐは打
抜き工程で鋼板のだれ、かえりを低減するのに有効であ
るが、多すぎるとスラブでの割れの問題が生じる。この
上限が０．２％であるので制限する。
抜き工程で鋼板のだれ、かえりを低減するのに有効であ
るが、多すぎるとスラブでの割れの問題が生じる。この
上限が０．２％であるので制限する。
【００１８】Ｓ量は、０．００５％以下に制限する。Ｓ
はＭｎＳやＣｕx Ｓ（ｘ≒１．６）などの微細な硫化物
を形成して結晶粒成長を阻害すると同時に磁壁移動の妨
げになるので、少ない方が良いが、０．００５％を超え
ると磁性が劣化するので避けなければならない。
はＭｎＳやＣｕx Ｓ（ｘ≒１．６）などの微細な硫化物
を形成して結晶粒成長を阻害すると同時に磁壁移動の妨
げになるので、少ない方が良いが、０．００５％を超え
ると磁性が劣化するので避けなければならない。
【００１９】Ｎ量は、０．３３％以下に制限する。Ｎは
微細なＡｌＮを形成して結晶粒成長を阻害すると同時に
磁壁移動の妨げになるので、少ない方が良いが、０．０
０３％を超えると磁性が劣化するので避けなければなら
ない。
微細なＡｌＮを形成して結晶粒成長を阻害すると同時に
磁壁移動の妨げになるので、少ない方が良いが、０．０
０３％を超えると磁性が劣化するので避けなければなら
ない。
【００２０】介在物の組成比率ＭｎＯ／（Ｓｉ2 Ｏ＋Ａ
ｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）は０．３５以下に制限す
る。一般的に、酸化物系介在物の量は少ない方が結晶粒
成長し易いと言えるが、特に、本発明の熱延板への軽圧
下スキンパス工程では、介在物の組成比率が重要であ
る。酸化物系介在物の総量Ｓｉ2 Ｏ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｃａ
Ｏ＋ＭｎＯに対するＭｎＯの比率が０．３５以下にする
ことにより、熱延板スキンパスに続く焼鈍で表層の結晶
粒径を約５００μｍに粗大化させて高い磁束密度を確保
する。この組成比率が０．３５を超えると、熱延板スキ
ンパスに続く焼鈍で結晶粒の成長が不十分なため磁束密
度の劣化が大きい。熱延板の断面光顕観察によれば、Ｍ
ｎＯの比率が０．３５を超えると圧延方向に伸びた介在
物が数多く検出され、これがスキンパス圧延に続く焼鈍
での結晶粒成長を阻害していると推定される。ＭｎＯの
比率制御は製鋼段階で行う。例えば、真空脱ガス処理中
に行うフリー酸素を減ずる手段として、ＡｌやＳｉの添
加を増加させてＡｌ2 Ｏ3 やＳｉ2 Ｏを積極的に増やす
ことによりＭｎＯ比率を減らすことが有効である。
ｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）は０．３５以下に制限す
る。一般的に、酸化物系介在物の量は少ない方が結晶粒
成長し易いと言えるが、特に、本発明の熱延板への軽圧
下スキンパス工程では、介在物の組成比率が重要であ
る。酸化物系介在物の総量Ｓｉ2 Ｏ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｃａ
Ｏ＋ＭｎＯに対するＭｎＯの比率が０．３５以下にする
ことにより、熱延板スキンパスに続く焼鈍で表層の結晶
粒径を約５００μｍに粗大化させて高い磁束密度を確保
する。この組成比率が０．３５を超えると、熱延板スキ
ンパスに続く焼鈍で結晶粒の成長が不十分なため磁束密
度の劣化が大きい。熱延板の断面光顕観察によれば、Ｍ
ｎＯの比率が０．３５を超えると圧延方向に伸びた介在
物が数多く検出され、これがスキンパス圧延に続く焼鈍
での結晶粒成長を阻害していると推定される。ＭｎＯの
比率制御は製鋼段階で行う。例えば、真空脱ガス処理中
に行うフリー酸素を減ずる手段として、ＡｌやＳｉの添
加を増加させてＡｌ2 Ｏ3 やＳｉ2 Ｏを積極的に増やす
ことによりＭｎＯ比率を減らすことが有効である。
【００２１】Ｓｎを添加する場合は、０．０２％以上、
０．２％以下に制限する。Ｓｎは集合組織を改善して、
圧延方向の磁束密度を向上させるのに有効な元素である
が、０．０２％未満ではこの効果がない。また、０．２
％超では熱延板スキンパスに続く焼鈍で結晶粒成長が劣
化して磁束密度が低下するため避ける。このため、範囲
を０．０２〜０．２％に制限する。
０．２％以下に制限する。Ｓｎは集合組織を改善して、
圧延方向の磁束密度を向上させるのに有効な元素である
が、０．０２％未満ではこの効果がない。また、０．２
％超では熱延板スキンパスに続く焼鈍で結晶粒成長が劣
化して磁束密度が低下するため避ける。このため、範囲
を０．０２〜０．２％に制限する。
【００２２】その他の元素として、磁気特性に有効な元
素として知られているＢ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｓｂなど
を微量添加しても本発明の効果を損なうものでないの
で、なんら制限するものでないが、コストの観点から、
それぞれの添加量は０．１％以下が好ましい。
素として知られているＢ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｓｂなど
を微量添加しても本発明の効果を損なうものでないの
で、なんら制限するものでないが、コストの観点から、
それぞれの添加量は０．１％以下が好ましい。
【００２３】次に本発明の製造方法について説明する。
熱延は、公知の条件で行う。熱延の析出物の微細化を防
止するため、スラブ加熱は低温処理がスラブ中の析出物
の固溶抑制に好ましいが、特に制限するものでない。仕
上温度は、α域でもγ域でも本発明の効果は達成でき
る。
熱延は、公知の条件で行う。熱延の析出物の微細化を防
止するため、スラブ加熱は低温処理がスラブ中の析出物
の固溶抑制に好ましいが、特に制限するものでない。仕
上温度は、α域でもγ域でも本発明の効果は達成でき
る。
【００２４】熱延板のスキンパス圧延の圧下率は、０．
５％以上、４％以下に制限する。本発明では、スキンパ
ス圧延に続く焼鈍で、少なくとも表層部は５００μｍ程
度以上の粗大粒が発生していることが必要で、このため
スキンパスの最少圧下率は０．５％である。０．５％未
満では、歪み誘起粒成長（Strain Induced Grain Bo-un
dary Migration）が不安定となるためである。また、ス
キンパス圧下率が大きくなると、次の焼鈍で表層部のみ
の粗大結晶が順次、内層まで粗大化するようになるが、
圧下率が大きすぎると、板厚方向全体の平均結晶粒径
は、逆に小さくなって、高磁束密度のものが得られなく
なる。この上限の圧下率が４％である。特に、好ましい
範囲は１〜３％である。
５％以上、４％以下に制限する。本発明では、スキンパ
ス圧延に続く焼鈍で、少なくとも表層部は５００μｍ程
度以上の粗大粒が発生していることが必要で、このため
スキンパスの最少圧下率は０．５％である。０．５％未
満では、歪み誘起粒成長（Strain Induced Grain Bo-un
dary Migration）が不安定となるためである。また、ス
キンパス圧下率が大きくなると、次の焼鈍で表層部のみ
の粗大結晶が順次、内層まで粗大化するようになるが、
圧下率が大きすぎると、板厚方向全体の平均結晶粒径
は、逆に小さくなって、高磁束密度のものが得られなく
なる。この上限の圧下率が４％である。特に、好ましい
範囲は１〜３％である。
【００２５】スキンパス圧延は、熱延板のスケール付き
のまま実施しても良いし、酸洗後に行うことも可能であ
る。工業的には、酸洗を省略してスキンパス圧延する方
が低コストで便利であり、この程度の圧下率では、１パ
ス程度で可能であって生産性も高い。なお、従来例の５
％以上のスキンパス圧下率が必要ない理由としては、介
在物組成やＣ，Ｓ，Ｎ量の厳密なコントロールが挙げら
れる。
のまま実施しても良いし、酸洗後に行うことも可能であ
る。工業的には、酸洗を省略してスキンパス圧延する方
が低コストで便利であり、この程度の圧下率では、１パ
ス程度で可能であって生産性も高い。なお、従来例の５
％以上のスキンパス圧下率が必要ない理由としては、介
在物組成やＣ，Ｓ，Ｎ量の厳密なコントロールが挙げら
れる。
【００２６】続く連続焼鈍は、通常の温度×時間で行
う。焼鈍条件は特定するものでないが、温度は従来の８
００〜１２００℃、均熱時間を１０秒〜５分程度が適当
である。本発明では、この連続焼鈍で結晶粒径を粗大に
するが、低温短時間では、結晶粒径の粗大化程度が少な
くて、目的の磁性が得られない。高温長時間の焼鈍をす
れば、結晶粒径が大きくなって磁束密度が向上するが、
炉耐火物の耐久性並びに生産性の面から問題である。
う。焼鈍条件は特定するものでないが、温度は従来の８
００〜１２００℃、均熱時間を１０秒〜５分程度が適当
である。本発明では、この連続焼鈍で結晶粒径を粗大に
するが、低温短時間では、結晶粒径の粗大化程度が少な
くて、目的の磁性が得られない。高温長時間の焼鈍をす
れば、結晶粒径が大きくなって磁束密度が向上するが、
炉耐火物の耐久性並びに生産性の面から問題である。
【００２７】次に、酸洗してから通常の冷間圧延を行っ
て、従来の板厚０．１５〜０．８mmに強冷延する。この
冷間圧延は、公知のタンデム圧延、レバース圧延が採用
できる。そして公知の如く、タンデムよりもレバース圧
延のほうが圧延方向の磁束密度が高くなって好ましい
が、レバースは生産性の問題がある。
て、従来の板厚０．１５〜０．８mmに強冷延する。この
冷間圧延は、公知のタンデム圧延、レバース圧延が採用
できる。そして公知の如く、タンデムよりもレバース圧
延のほうが圧延方向の磁束密度が高くなって好ましい
が、レバースは生産性の問題がある。
【００２８】その後、脱脂してから通常の連続焼鈍を実
施して一次再結晶させる。焼鈍は従来の条件である６５
０〜１２００℃で良い。
施して一次再結晶させる。焼鈍は従来の条件である６５
０〜１２００℃で良い。
【００２９】最終の連続焼鈍後にスキンパス圧延を実施
する場合には、スキンパスの圧下率は従来の１〜１５％
に制限する。１％未満および１５％超では、スキンパス
圧延に続く出荷先での打抜き後の焼鈍で結晶粒が粗大化
せず、鉄損が不満であるので１〜１５％に限定する。
する場合には、スキンパスの圧下率は従来の１〜１５％
に制限する。１％未満および１５％超では、スキンパス
圧延に続く出荷先での打抜き後の焼鈍で結晶粒が粗大化
せず、鉄損が不満であるので１〜１５％に限定する。
【００３０】
【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。 ［実施例１］表１および表２に示す値の成分に調整した
溶鋼をスラブに鋳造した。ＭｎＯ比率の制御は、ＲＨ真
空脱ガス処理での溶鋼にＡｌ添加量を変更することで実
施した。スラブを１０００℃で加熱し、仕上温度８７０
℃、巻取温度６５０℃で２．５mmの熱延板とした。この
熱延板にスケール付着のままスキンパス圧延を圧下率
２．５％で実施してから、９００℃で２分の窒素中焼鈍
を施した。その後、０．５mmまでタンデム冷延し、７５
０℃で１分の水素中焼鈍を実施した。実験Ｎｏ．１〜１
７のものは、この焼鈍板から１００mm角の試料を切り出
し、７５０℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定
を行った。実験Ｎｏ．１８のもののみ、上記の冷延後の
７５０℃で１分の水素中焼鈍の後、５％のスキンパス圧
延をしてから、同様に１００mm角の試料を切り出し、７
５０℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定を行っ
た。
溶鋼をスラブに鋳造した。ＭｎＯ比率の制御は、ＲＨ真
空脱ガス処理での溶鋼にＡｌ添加量を変更することで実
施した。スラブを１０００℃で加熱し、仕上温度８７０
℃、巻取温度６５０℃で２．５mmの熱延板とした。この
熱延板にスケール付着のままスキンパス圧延を圧下率
２．５％で実施してから、９００℃で２分の窒素中焼鈍
を施した。その後、０．５mmまでタンデム冷延し、７５
０℃で１分の水素中焼鈍を実施した。実験Ｎｏ．１〜１
７のものは、この焼鈍板から１００mm角の試料を切り出
し、７５０℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定
を行った。実験Ｎｏ．１８のもののみ、上記の冷延後の
７５０℃で１分の水素中焼鈍の後、５％のスキンパス圧
延をしてから、同様に１００mm角の試料を切り出し、７
５０℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定を行っ
た。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】表１および表２に示すように、成分元素と
ＭｎＯ介在物の比率とを、本発明範囲に制御したもの
は、優れた磁気特性が得られている。
ＭｎＯ介在物の比率とを、本発明範囲に制御したもの
は、優れた磁気特性が得られている。
【００３４】［実施例２］連続鋳造したスラブを１１５
０℃で加熱し、熱間圧延し４００℃で巻き取った。この
熱延板の成分を表３に示す。
０℃で加熱し、熱間圧延し４００℃で巻き取った。この
熱延板の成分を表３に示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】本熱延板に対して、熱延スケール付着のま
ま圧下率が表４に示す条件でスキンパス圧延して、９５
０℃×１分、窒素中の連続焼鈍を行い、酸洗してから
０．５０mmに冷延して、脱脂後、９００℃×３０秒の水
素中連続焼鈍を実施した。この焼鈍板から１００mm角の
試料を切り出し、７５０℃で２時間の窒素中焼鈍をして
から磁性測定を行った。結果を表４に併記した。
ま圧下率が表４に示す条件でスキンパス圧延して、９５
０℃×１分、窒素中の連続焼鈍を行い、酸洗してから
０．５０mmに冷延して、脱脂後、９００℃×３０秒の水
素中連続焼鈍を実施した。この焼鈍板から１００mm角の
試料を切り出し、７５０℃で２時間の窒素中焼鈍をして
から磁性測定を行った。結果を表４に併記した。
【００３７】
【表４】
【００３８】表４に示すように、熱延板に対する圧下率
が本発明範囲の０．５〜４％であるものは、優れた磁気
特性を示した。
が本発明範囲の０．５〜４％であるものは、優れた磁気
特性を示した。
【００３９】［実施例３］表３に示す成分を有する熱延
板に表４に示す実験Ｎｏ．５のスキンパス圧下率２．５
％を実施してから、９５０℃×１分、窒素中の連続焼鈍
を行い、酸洗してから冷延して、脱脂後、８００℃×３
０秒の水素中連続焼鈍を実施した。次いで、スキンパス
圧延を表５の条件で行って、仕上厚みを０．５０mmとな
した。これから、１００mm角の試料を切り出し、７５０
℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定を行った。
結果を表５に併記した。
板に表４に示す実験Ｎｏ．５のスキンパス圧下率２．５
％を実施してから、９５０℃×１分、窒素中の連続焼鈍
を行い、酸洗してから冷延して、脱脂後、８００℃×３
０秒の水素中連続焼鈍を実施した。次いで、スキンパス
圧延を表５の条件で行って、仕上厚みを０．５０mmとな
した。これから、１００mm角の試料を切り出し、７５０
℃で２時間の窒素中焼鈍をしてから磁性測定を行った。
結果を表５に併記した。
【００４０】
【表５】
【００４１】表５に示す如く、本プロセスでは実施例２
に比較して低鉄損のものがえられるが、特にスキンパス
圧下率が本発明の１〜１５％のもので優れた磁気特性が
得られた。
に比較して低鉄損のものがえられるが、特にスキンパス
圧下率が本発明の１〜１５％のもので優れた磁気特性が
得られた。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高位安定した磁気特性を特徴とする無方向性電磁鋼板が
得られた。
高位安定した磁気特性を特徴とする無方向性電磁鋼板が
得られた。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１０月３０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は以下の構成を要旨とする。すなわち （１）重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４％、Ａｌ
≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、Ｓ≦０．
００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物の組成比
率ＭｎＯ／（ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）
≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．５〜４％
のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を行い、次
いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴とする磁気
特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法で
ある。 （２）上記（１）の熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜
０．２％を含有させることができる。 （３）上記（１）或いは（２）において、最終の連続焼
鈍後に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行うことが
できる。
に本発明は以下の構成を要旨とする。すなわち （１）重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４％、Ａｌ
≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、Ｓ≦０．
００５％、Ｎ≦０．００３％であって、介在物の組成比
率ＭｎＯ／（ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）
≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．５〜４％
のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を行い、次
いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴とする磁気
特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法で
ある。 （２）上記（１）の熱延板には、更にＳｎ：０．０２〜
０．２％を含有させることができる。 （３）上記（１）或いは（２）において、最終の連続焼
鈍後に圧下率１〜１５％のスキンパス圧延を行うことが
できる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２０】介在物の組成比率ＭｎＯ／（ＳｉＯ2 ＋Ａ
ｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）は０．３５以下に制限す
る。一般的に、酸化物系介在物の量は少ない方が結晶粒
成長し易いと言えるが、特に、本発明の熱延板への軽圧
下スキンパス工程では、介在物の組成比率が重要であ
る。酸化物系介在物の総量ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｃａ
Ｏ＋ＭｎＯに対するＭｎＯの比率が０．３５以下にする
ことにより、熱延板スキンパスに続く焼鈍で表層の結晶
粒径を約５００μｍに粗大化させて高い磁束密度を確保
する。この組成比率が０．３５を超えると、熱延板スキ
ンパスに続く焼鈍で結晶粒の成長が不十分なため磁束密
度の劣化が大きい。熱延板の断面光顕観察によれば、Ｍ
ｎＯの比率が０．３５を超えると圧延方向に伸びた介在
物が数多く検出され、これがスキンパス圧延に続く焼鈍
での結晶粒成長を阻害していると推定される。ＭｎＯの
比率制御は製鋼段階で行う。例えば、真空脱ガス処理中
に行うフリー酸素を減ずる手段として、ＡｌやＳｉの添
加を増加させてＡｌ2 Ｏ3 やＳｉＯ2 を積極的に増やす
ことによりＭｎＯ比率を減らすことが有効である。
ｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋ＭｎＯ）は０．３５以下に制限す
る。一般的に、酸化物系介在物の量は少ない方が結晶粒
成長し易いと言えるが、特に、本発明の熱延板への軽圧
下スキンパス工程では、介在物の組成比率が重要であ
る。酸化物系介在物の総量ＳｉＯ2 ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋Ｃａ
Ｏ＋ＭｎＯに対するＭｎＯの比率が０．３５以下にする
ことにより、熱延板スキンパスに続く焼鈍で表層の結晶
粒径を約５００μｍに粗大化させて高い磁束密度を確保
する。この組成比率が０．３５を超えると、熱延板スキ
ンパスに続く焼鈍で結晶粒の成長が不十分なため磁束密
度の劣化が大きい。熱延板の断面光顕観察によれば、Ｍ
ｎＯの比率が０．３５を超えると圧延方向に伸びた介在
物が数多く検出され、これがスキンパス圧延に続く焼鈍
での結晶粒成長を阻害していると推定される。ＭｎＯの
比率制御は製鋼段階で行う。例えば、真空脱ガス処理中
に行うフリー酸素を減ずる手段として、ＡｌやＳｉの添
加を増加させてＡｌ2 Ｏ3 やＳｉＯ2 を積極的に増やす
ことによりＭｎＯ比率を減らすことが有効である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３１】
【表１】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３２】
【表２】
Claims (3)
- 【請求項１】 重量％で、Ｃ≦０．００８％、Ｓｉ≦４
％、Ａｌ≦２．５％、Ｍｎ≦１．５％、Ｐ≦０．２％、
Ｓ≦０．００５％、Ｎ≦０．００３％を含有し、介在物
の組成比率ＭｎＯ／（Ｓｉ2 Ｏ＋Ａｌ2 Ｏ3 ＋ＣａＯ＋
ＭｎＯ）≦０．３５である熱延板に対して、圧下率０．
５〜４％のスキンパス圧延を実施してから、連続焼鈍を
行い、次いで、冷間圧延、連続焼鈍を行うことを特徴と
する磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製
造方法。 - 【請求項２】 上記熱延板が、更にＳｎ：０．０２〜
０．２％を含有していることを特徴とする請求項１記載
の磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造
方法。 - 【請求項３】 上記最終の連続焼鈍後に圧下率１〜１５
％のスキンパス圧延を行うことを特徴とする請求項１ま
たは２に記載の磁気特性と表面性状の優れた無方向性電
磁鋼板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21762496A JP3378934B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21762496A JP3378934B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1060532A true JPH1060532A (ja) | 1998-03-03 |
| JP3378934B2 JP3378934B2 (ja) | 2003-02-17 |
Family
ID=16707209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21762496A Expired - Fee Related JP3378934B2 (ja) | 1996-08-19 | 1996-08-19 | 磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3378934B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2818664A1 (fr) * | 2000-12-27 | 2002-06-28 | Usinor | Acier magnetique a grains non orientes, procede de fabrication de toles et toles obtenues |
| JP2005051933A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Jfe Steel Kk | 鉄損特性に優れたヘリカル加工用コア材料およびヘリカル加工コア |
| JP2009027096A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Hitachi Cable Ltd | 太陽電池用はんだめっき線及びその製造方法 |
| EP2975152A4 (en) * | 2013-03-13 | 2016-04-06 | Jfe Steel Corp | NON-ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL PLATE WITH EXCELLENT MAGNETIC CHARACTERISTICS |
| US10822678B2 (en) * | 2015-01-07 | 2020-11-03 | Jfe Steel Corporation | Non-oriented electrical steel sheet and method for producing the same |
| US11008633B2 (en) | 2016-01-15 | 2021-05-18 | Jfe Steel Corporation | Non-oriented electrical steel sheet and production method thereof |
| CN114250420A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-29 | 本钢板材股份有限公司 | 一种罩式中间退火高牌号无取向硅钢50bw350的生产方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5790953B2 (ja) | 2013-08-20 | 2015-10-07 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 無方向性電磁鋼板とその熱延鋼板 |
| JP5995002B2 (ja) | 2013-08-20 | 2016-09-21 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 高磁束密度無方向性電磁鋼板およびモータ |
-
1996
- 1996-08-19 JP JP21762496A patent/JP3378934B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2818664A1 (fr) * | 2000-12-27 | 2002-06-28 | Usinor | Acier magnetique a grains non orientes, procede de fabrication de toles et toles obtenues |
| WO2002052048A1 (fr) * | 2000-12-27 | 2002-07-04 | Usinor | Acier magnetique a grains non orientes, procede de fabrication de tôles et tôles obtenues |
| JP2005051933A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Jfe Steel Kk | 鉄損特性に優れたヘリカル加工用コア材料およびヘリカル加工コア |
| JP2009027096A (ja) * | 2007-07-23 | 2009-02-05 | Hitachi Cable Ltd | 太陽電池用はんだめっき線及びその製造方法 |
| JP4656100B2 (ja) * | 2007-07-23 | 2011-03-23 | 日立電線株式会社 | 太陽電池用はんだめっき線及びその製造方法 |
| EP2975152A4 (en) * | 2013-03-13 | 2016-04-06 | Jfe Steel Corp | NON-ORIENTED ELECTROMAGNETIC STEEL PLATE WITH EXCELLENT MAGNETIC CHARACTERISTICS |
| US10102951B2 (en) | 2013-03-13 | 2018-10-16 | Jfe Steel Corporation | Non-oriented electrical steel sheet having excellent magnetic properties |
| US10822678B2 (en) * | 2015-01-07 | 2020-11-03 | Jfe Steel Corporation | Non-oriented electrical steel sheet and method for producing the same |
| US11008633B2 (en) | 2016-01-15 | 2021-05-18 | Jfe Steel Corporation | Non-oriented electrical steel sheet and production method thereof |
| CN114250420A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-29 | 本钢板材股份有限公司 | 一种罩式中间退火高牌号无取向硅钢50bw350的生产方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3378934B2 (ja) | 2003-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1992708B1 (en) | Process for producing grain-oriented magnetic steel sheet with excellent magnetic property | |
| KR101421388B1 (ko) | 방향성 전기 강판 및 그 제조 방법 | |
| KR101389248B1 (ko) | 방향성 전자기 강판의 제조 방법 | |
| JP6436316B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2004353036A (ja) | 磁気特性に優れた方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP5839172B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPH1060532A (ja) | 磁気特性と表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| KR100293140B1 (ko) | 일방향성 전자강판 및 그 제조방법 | |
| JPH059666A (ja) | 方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| JP2000219916A (ja) | 磁束密度が高く鉄損の低い無方向性電磁鋼板の製造法 | |
| JP3931842B2 (ja) | 無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP4389553B2 (ja) | 方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JP2023554123A (ja) | 無方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| JP4016552B2 (ja) | 磁気特性および表面性状の優れた無方向性電磁鋼板の製造法 | |
| JP3397277B2 (ja) | 超低鉄損超高磁束密度一方向性電磁鋼帯の製造方法 | |
| JP2000017330A (ja) | 鉄損の低い無方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| JPWO2019131853A1 (ja) | 低鉄損方向性電磁鋼板とその製造方法 | |
| KR102483634B1 (ko) | 무방향성 전기강판 및 그 제조 방법 | |
| JP3937685B2 (ja) | 高周波磁気特性に優れた電磁鋼板とその製造方法 | |
| JPH0317892B2 (ja) | ||
| JPH11323438A (ja) | 磁気特性に優れる方向性電磁鋼板の製造方法 | |
| CN115003845B (zh) | 无取向电工钢板及其制造方法 | |
| JP2001158948A (ja) | 鉄損の低い無方向性電磁鋼板およびその製造方法 | |
| JP3337117B2 (ja) | 磁気特性の優れたセミプロセス無方向性電磁鋼板及びその製造方法 | |
| JP2666626B2 (ja) | 低鉄損無方向性電磁鋼板およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021015 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081213 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081213 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091213 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111213 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |