JPH1060138A - 配線基板材料 - Google Patents

配線基板材料

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JPH1060138A
JPH1060138A JP22484296A JP22484296A JPH1060138A JP H1060138 A JPH1060138 A JP H1060138A JP 22484296 A JP22484296 A JP 22484296A JP 22484296 A JP22484296 A JP 22484296A JP H1060138 A JPH1060138 A JP H1060138A
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JP
Japan
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resin
wiring board
board material
polybutadiene
epoxy
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JP22484296A
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English (en)
Inventor
Takayoshi Koseki
高好 小関
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0326Organic insulating material consisting of one material containing O

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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂
及び硬化剤を含みエポキシ樹脂を主成分とする樹脂成分
と、無機充填材とを含有する実質的に無溶剤の樹脂組成
物を用いた配線基板材料であって、無機充填材の含有比
率が高くても、付着樹脂の剥離が発生しにくい配線基板
材料を提供する。 【解決手段】 架橋性樹脂及び架橋助剤を含有する実質
的に無溶剤の樹脂組成物を、導電体の少なくとも一面に
塗布して成る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板の
製造に用いられる、配線基板材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より電気・電子機器等に、プリント
配線板が使用されている。このプリント配線板の製造に
用いられる積層板は、例えばガラスクロス等の基材に、
エポキシ樹脂及びその硬化剤等を含有する樹脂組成物を
含浸した後、乾燥して半硬化させることによって、一般
にプリプレグと呼ばれる配線基板材料を製造し、厚みを
調整するために、この配線基板材料を所要枚数重ねると
ともに、必要に応じて銅箔等の金属箔をその片側又は両
側に配して積層した後、加熱加圧して製造されている。
【0003】なお、高周波領域で使用する積層板は、優
れた高周波特性を得るために、例えば特公昭64−32
23号に記載されているような、ポリフェニレンエーテ
ル樹脂を含有する樹脂組成物や、セラミック粉末等の無
機充填材を含有する樹脂組成物を用いて、配線基板材料
を製造し、誘電率を調整することが検討されている。
【0004】しかし、無機充填材の含有量をある程度以
上の比率に増やして、誘電率を更に調整しようとする
と、配線基板材料の取り扱い等において付着した樹脂が
基材から剥離しやすくなり、均一な樹脂付着量の配線基
板材料が得にくくなるという問題があった。そして、こ
の付着樹脂の剥離が発生した配線基板材料を用いて製造
したプリント配線板は、均一な特性が得にくくなるとい
う問題があった。
【0005】一方、上記樹脂組成物は、特公昭64−3
223号の実施例に記載されているように、基材内部に
まで含浸するのに適する粘度にするために溶剤を含有さ
せて粘度調整することが一般に行われている。しかし、
溶剤を含有させて粘度調整した樹脂組成物を用いる場
合、配線基板材料を製造するときに、溶剤を大気中に拡
散して除去する場合が多く、環境への影響やエネルギー
コストの点で問題があった。
【0006】そのため、無機充填材の含有比率が高くて
も付着樹脂の剥離が発生しにくい配線基板材料であっ
て、かつ、実質的に無溶剤の樹脂組成物を用いた配線基
板材料が望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
改善するために成されたもので、その目的とするところ
は、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂及び硬
化剤を含みエポキシ樹脂を主成分とする樹脂成分と、無
機充填材とを含有する実質的に無溶剤の樹脂組成物を用
いた配線基板材料であって、無機充填材の含有比率が高
くても、付着樹脂の剥離が発生しにくい配線基板材料を
提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
配線基板材料は、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテ
ル樹脂、下記(A)の架橋性樹脂、下記(B)の架橋助
剤及び硬化剤を含みエポキシ樹脂を主成分とする樹脂成
分と、無機充填材とを含有する実質的に無溶剤の樹脂組
成物を、導電体の少なくとも一面に塗布して成ることを
特徴とする。 (A)1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエ
ン、スチレンブタジエン、マレイン変性1,2−ポリブ
タジエン、アクリル変性1,2−ポリブタジエン、エポ
キシ変性1,2−ポリブタジエン及びゴム類からなる群
の中から選ばれた少なくとも1種。 (B)エステルアクリレート類、エポキシアクリレート
類、ウレタンアクリレート類、エーテルアクリレート
類、メラミンアクリレート類、アルキドアクリレート
類、シリコンアクリレート類、トリアリルシアヌレー
ト、トリアリルイソシアヌレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレ
ート、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、スチレ
ン、ポリパラメチルスチレン及び多官能エポキシ類から
なる群の中から選ばれた少なくとも1種。
【0009】本発明の請求項2に係る配線基板材料は、
請求項1記載の配線基板材料において、エポキシ樹脂及
びポリフェニレンエーテル樹脂の合計100重量部中
に、エポキシ樹脂を50〜90重量部含むことを特徴と
する。
【0010】本発明の請求項3に係る配線基板材料は、
請求項1又は請求項2記載の配線基板材料において、無
機充填材が、下記(C)のセラミックを含むことを特徴
とする。 (C)二酸化チタン系セラミック、チタン酸バリウム系
セラミック、チタン酸鉛系セラミック、チタン酸ストロ
ンチウム系セラミック、チタン酸カルシウム系セラミッ
ク、チタン酸ビスマス系セラミック、チタン酸マグネシ
ウム系セラミック及びジルコン酸鉛系セラミックからな
る群の中から選ばれた少なくとも1種。
【0011】本発明の請求項4に係る配線基板材料は、
請求項1から請求項3までのいずれかに記載の配線基板
材料において、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル
樹脂、架橋性樹脂及び架橋助剤の合計100重量部に対
し、無機充填材を10〜200重量部含有することを特
徴とする。
【0012】本発明の請求項5に係る配線基板材料は、
請求項1から請求項4までのいずれかに記載の配線基板
材料において、硬化剤として、架橋開始剤を含むことを
特徴とする。
【0013】本発明によると、樹脂組成物の樹脂成分
に、上記(A)の架橋性樹脂及び上記(B)の架橋助剤
を含有しているため、これらの架橋性樹脂及び架橋助剤
がPPEと架橋するとともに、エポキシ樹脂とも反応し
ていると考えられ、その結果樹脂全体の接着強度が向上
し、付着樹脂の剥離が発生しにくくなると考えられる。
また、架橋性樹脂及び架橋助剤及び無機充填材を含有し
ているため、導電体に塗布すると、均一な特性の樹脂組
成物層を形成することができ、基材を用いなくとも配線
基板材料を得ることができる。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明に係る配線基板材料は、エ
ポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、上記(A)
の架橋性樹脂、上記(B)の架橋助剤及び硬化剤を含む
樹脂成分と、無機充填材とを含有する実質的に無溶剤の
樹脂組成物を、導電体の少なくとも一面に塗布して製造
される。
【0015】本発明で用いるエポキシ樹脂としては、1
分子内にエポキシ基を2個以上有するエポキシ樹脂であ
ればどのようなものでもよく、例えば、ビスフェノール
Aジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジ
ルエーテル、ノボラックグリシジルエーテル、テトラグ
リシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルイ
ソシアヌレート及びこれらのエポキシ樹脂構造体中の水
素原子の一部をハロゲン化することにより難燃化したエ
ポキシ樹脂等の単独、変性物、混合物が挙げられる。
【0016】本発明で用いるポリフェニレンエーテル樹
脂(以下PPEと記す)は、別名ポリフェニレンオキサ
イド樹脂とも呼ばれ、例えば下記の一般式(a)で表さ
れるものである。なお、一般式(a)中、Rは水素又は
炭素数1〜3の炭化水素基を表し、各Rは同じであって
もよく、異なっていても良い。また、nは繰り返し数を
表す正数である。
【0017】
【化1】
【0018】PPEの一例としては、ポリ(2,6−ジ
メチル−1,4−フェニレンオキサイド)が挙げられ
る。このようなPPEは、例えば、USP405956
8号明細書に開示されている方法で合成することができ
る。なお、特に限定するものではないが、例えば、重量
平均分子量が約5万、重量平均分子量/数平均分子量=
約4.2のポリマーが好ましく使用される。
【0019】本発明で用いる架橋性樹脂は、PPEに架
橋性を有する化合物であり、上記(A)のものが使用さ
れる。また、架橋助剤は、上記架橋性樹脂と同時に用い
てPPEに架橋性を有する化合物であり、上記(B)の
ものが使用される。なお、架橋助剤としては、上記
(B)中のトリアリルシアヌレート又はトリアリルイソ
シアヌレートがPPEと相溶性が良く、架橋性、耐熱性
及び誘電特性の面で好ましい。
【0020】本発明で用いる樹脂組成物は、エポキシ樹
脂及びポリフェニレンエーテル樹脂を含む樹脂成分に、
上記(A)の架橋性樹脂及び上記(B)の架橋助剤を含
有しているため、これらの架橋性樹脂及び架橋助剤がP
PEと架橋するとともに、エポキシ樹脂とも反応してい
ると考えられ、その結果樹脂全体の接着強度が向上し、
付着樹脂の剥離が発生しにくくなると考えられる。
【0021】本発明で用いる硬化剤としては、エポキシ
樹脂を硬化させる硬化剤と、PPEを硬化させる架橋開
始剤を含有し、必要に応じて硬化促進剤等を含有するこ
とができる。
【0022】エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤として
は、例えば、ジシアンジアミド、脂肪族ポリアミド等の
アミド系硬化剤や、芳香族アミン等のアミン系硬化剤
や、ジアミノマレオニトリル、ヒドラジド化合物、ポリ
カルボン酸無水物、ポリスルフィド、ポリメルカプタ
ン、三フッ化ホウ素コンプレックス、フェノール樹脂等
が挙げられ、これらを併用することもできる。
【0023】また、PPEを硬化させる架橋開始剤とし
ては、例えば、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルク
ミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、
2,5−ジメチル−2,5−ジ−t−ブチルパーオキシ
ヘキシン−3、2,5−ジ−t−ブチルパーオキシヘキ
サン、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イ
ソプロピル)ベンゼン[1,4(又は1,3)−ビス
(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼンともい
う。]などの過酸化物が挙げられ、これらを併用するこ
ともできる。
【0024】また、硬化促進剤としては、例えば、2−
メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾ
ール、2−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、
1,8−ジアザ−ビシクロ[5.4.0]ウンデセン−
7、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン等
の三級アミン類、トリブチルホスフィン、トリフェニル
ホスフィン等の有機ホスフィン類、テトラフェニルホス
ホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフ
ィンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン
塩等が挙げられ、これらを併用することもできる。
【0025】本発明で用いる無機充填材としては、上記
(C)のセラミックや、シリカ、水酸化アルミニウム、
タルク、ガラス繊維等が挙げられる。なお、上記(C)
のセラミックを用いると、配線基板材料の誘電率を調整
しやすく好ましい。これらは1種に限定されるものでは
なく、2種以上組み合わせても良い。また、無機充填材
の径は、0.1〜50μmであると、得られる樹脂組成
物中の無機充填材の分散が優れ好ましい。
【0026】以上の成分の配合割合は、特に限定される
ものではないが、エポキシ樹脂及びPPEの合計100
重量部中に、エポキシ樹脂を50〜90重量部含むよう
にすると、得られる配線基板材料から付着樹脂の剥離
が、特に発生しにくくなり好ましい。また、架橋性樹脂
及び架橋助剤の配合割合は、特に限定されるものではな
いが、PPE及び架橋性樹脂及び架橋助剤の合計100
重量部中に、PPEを20〜90重量部、架橋性樹脂を
5〜60重量部、架橋助剤を1〜50重量部の割合で含
むようにすると、得られる配線基板材料から付着樹脂の
剥離が、特に発生しにくくなり好ましい。
【0027】また、無機充填材の配合割合は、エポキシ
樹脂、PPE、架橋性樹脂及び架橋助剤の合計100重
量部に対し、無機充填材が10〜200重量部、より好
ましくは30〜150重量部の範囲内にあると、得られ
る配線基板材料から付着樹脂の剥離が発生しにくく、か
つ、優れた高周波特性の配線基板材料が得やすく好まし
い。
【0028】なお、本発明に用いる樹脂組成物は、実質
的に無溶剤の樹脂組成物であり、この樹脂組成物を用い
て配線基板材料を製造する時等に、大気中に拡散してほ
とんど失われるような化合物は含まないことが重要であ
る。なお本発明でいう実質的に無溶剤とは、スチレン
等、他の反応では溶剤として用いられる場合がある化合
物であっても、反応して樹脂成分に取り込まれる化合物
については、溶剤に含めないことを表している。
【0029】本発明に用いる樹脂組成物は、上記各原料
を混合撹拌することによって得られる。なお、必要に応
じて樹脂成分を加熱溶融させ、混合するようにしてもよ
い。また、樹脂成分を予め混合した後、無機充填材を追
加して混合するようにしてもよい。
【0030】本発明に係る配線基板材料は、上記樹脂組
成物を、導電体の片面又は両面に塗布して製造する。上
記樹脂組成物は、上記(A)の架橋性樹脂及び上記
(B)の架橋助剤及び無機充填材を含有しているため、
導電体に塗布すると、均一な特性の樹脂組成物層を形成
することができ、基材を用いなくとも配線基板材料を得
ることができる。
【0031】なお、本発明で用いる導電体としては、特
に限定するものではなく、銅箔、アルミニウム箔、ニッ
ケル箔や、これらの複合箔等が挙げられるが、銅箔を用
いると電気特性が優れ好ましい。また、樹脂組成物を、
導電体に塗布する方法としても特に限定するものではな
く、ロールコーター法や、カーテンコーター法や、ダイ
コーター法や、浸漬法や、電着法等が挙げられる。
【0032】また、樹脂組成物を導電体に塗布する厚み
としては、特には限定するものではなく、任意の厚み塗
布して、樹脂組成物層を形成することができるが、10
〜300μm程度が好ましい。本発明で塗布する樹脂組
成物は、実質的に無溶剤の樹脂組成物であるため、溶剤
が揮発することがなく、塗布した厚みと、得られる配線
基板材料の樹脂層の厚みの差が小さいため、塗布する厚
みを制御することにより、厚み偏差の小さい配線基板材
料を容易に得ることができるという効果も得られる。ま
た、基材を用いていないため、基材の厚みに樹脂層の厚
みが制限されることがなく、樹脂層の薄い配線基板材料
を容易に得ることができるという効果も得られる。
【0033】
【実施例】
(実施例1〜3)導電体に塗布する樹脂組成物の原料と
して、下記のエポキシ樹脂、PPE、架橋性樹脂、2種
類の架橋助剤、2種類の硬化剤、硬化促進剤及び無機充
填材を使用した。 ・エポキシ樹脂:エポキシ当量が500であるテトラブ
ロモビスフェノールAジグリシジルエーテル[東都化成
株式会社製、商品名YDB−500] ・PPE:重量平均分子量が54000のポリ(2,6
−ジメチル−1,4−フェニレンオキサイド)[日本
G.E.プラスチック株式会社製] ・架橋性樹脂:スチレンブタジエンコポリマー(SB
S)[旭化成工業株式会社製、商品名 アサプレン] ・架橋助剤1:トリアリルイソシアヌレート(TAI
C)[日本化成株式会社製] ・架橋助剤2:スチレン[試薬を使用] ・硬化剤1:エポキシ樹脂を硬化させる硬化剤として、
ジシアンジアミド[試薬を使用] ・硬化剤2:PPEを硬化させる架橋開始剤として、ジ
クミルパーオキサイド(DCP)[試薬を使用] ・硬化促進剤:2−メチルイミダゾール[試薬を使用] ・無機充填材:平均粒径0.3μmの二酸化チタン[富
士チタン工業株式会社製、商品名 TR−840]。
【0034】これらのエポキシ樹脂、PPE、架橋性樹
脂、2種類の架橋助剤、2種類の硬化剤及び硬化促進剤
を、表1に示す重量部配合してセパラブルフラスコに入
れ、撹拌しながらオイルバスで80℃まで加温した。8
0℃で2時間加温した後、無機充填材を表1に示す重量
部添加した。次いで、ディスパーで5分間撹拌した後、
バスケットミルで1時間撹拌して樹脂組成物を得た。
【0035】
【表1】
【0036】得られた樹脂組成物を、厚み9μmの銅箔
の片面に50μm塗布し、160℃で5分処理して配線
基板材料を得た。
【0037】また、この配線基板材料の樹脂層に厚み9
μmの銅箔を重ね合わせ、次いで180℃、圧力2MP
aで60分圧締して両面銅張り積層板を得た。
【0038】(比較例1)エポキシ樹脂、PPE、架橋
性樹脂、2種類の架橋助剤、2種類の硬化剤及び硬化促
進剤を配合するとき、溶剤としてトルエン[試薬を使
用]をも、表1に示す重量部配合したこと、及び無機充
填材の配合量を表1に示す重量部に変更して配合したこ
と、以外は実施例2と同様にして樹脂組成物を得た。
【0039】得られた樹脂組成物を、厚み50μmのガ
ラスクロス[旭シュエーベル株式会社製、商品名 10
80]に、溶剤除去後の樹脂含有率が70%となるよう
調整して含浸し、120℃で3分処理して配線基板材料
を得た。次いで実施例1〜3と同様にして両面銅張り積
層板を得た。
【0040】(比較例2)エポキシ樹脂、PPE、架橋
性樹脂、2種類の架橋助剤、2種類の硬化剤及び硬化促
進剤を配合するとき、溶剤としてトルエン[試薬を使
用]をも、表1に示す重量部配合したこと以外は実施例
2と同様にして樹脂組成物を得た。
【0041】得られた樹脂組成物を、比較例1と同様の
ガラスクロスに、溶剤除去後の樹脂含有率が70%とな
るよう調整して含浸し、120℃で3分処理して配線基
板材料を得た。
【0042】なお、この比較例2の場合は、配線基板材
料の取り扱いにおいて付着樹脂の剥離が多く発生し、均
一な樹脂付着量の配線基板材料が得られなかったため、
両面銅張り積層板の製造は行わなかった。
【0043】(評価、結果)実施例1〜3及び比較例1
で得られた両面銅張り積層板の、半田耐熱性、誘電率及
び誘電正接を評価した。その評価方法は、半田耐熱性、
誘電率及び誘電正接共に、JIS規格C6481の方法
により評価した。
【0044】結果は表1に示すように、各実施例で得ら
れた両面銅張り積層板は、比較例1で得られた両面銅張
り積層板と比較して誘電率が高く、誘電率の調整がされ
ていることが確認された。また、各実施例で得られた両
面銅張り積層板は、比較例1で得られた両面銅張り積層
板と比較して、半田耐熱性と誘電正接が同等であること
が確認された。すなわち、各実施例は高周波用途に適し
ていて、かつ、均一な樹脂付着量の配線基板材料が得ら
れることが確認された。
【0045】
【発明の効果】本発明に係る配線基板材料は、上記
(A)の架橋性樹脂及び上記(B)の架橋助剤を含有し
た樹脂組成物を導電体に塗布して成るため、無機充填材
の含有比率が高くても、付着樹脂の剥離が発生しにくい
配線基板材料となる。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル
    樹脂、下記(A)の架橋性樹脂、下記(B)の架橋助剤
    及び硬化剤を含みエポキシ樹脂を主成分とする樹脂成分
    と、無機充填材とを含有する実質的に無溶剤の樹脂組成
    物を、導電体の少なくとも一面に塗布して成ることを特
    徴とする配線基板材料。 (A)1,2−ポリブタジエン、1,4−ポリブタジエ
    ン、スチレンブタジエン、マレイン変性1,2−ポリブ
    タジエン、アクリル変性1,2−ポリブタジエン、エポ
    キシ変性1,2−ポリブタジエン及びゴム類からなる群
    の中から選ばれた少なくとも1種。 (B)エステルアクリレート類、エポキシアクリレート
    類、ウレタンアクリレート類、エーテルアクリレート
    類、メラミンアクリレート類、アルキドアクリレート
    類、シリコンアクリレート類、トリアリルシアヌレー
    ト、トリアリルイソシアヌレート、エチレングリコール
    ジメタクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレ
    ート、ビニルトルエン、エチルビニルベンゼン、スチレ
    ン、ポリパラメチルスチレン及び多官能エポキシ類から
    なる群の中から選ばれた少なくとも1種。
  2. 【請求項2】 エポキシ樹脂及びポリフェニレンエーテ
    ル樹脂の合計100重量部中に、エポキシ樹脂を50〜
    90重量部含むことを特徴とする請求項1記載の配線基
    板材料。
  3. 【請求項3】 無機充填材が、下記(C)のセラミック
    を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の配
    線基板材料。 (C)二酸化チタン系セラミック、チタン酸バリウム系
    セラミック、チタン酸鉛系セラミック、チタン酸ストロ
    ンチウム系セラミック、チタン酸カルシウム系セラミッ
    ク、チタン酸ビスマス系セラミック、チタン酸マグネシ
    ウム系セラミック及びジルコン酸鉛系セラミックからな
    る群の中から選ばれた少なくとも1種。
  4. 【請求項4】 エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル
    樹脂、架橋性樹脂及び架橋助剤の合計100重量部に対
    し、無機充填材を10〜200重量部含有することを特
    徴とする請求項1から請求項3までのいずれかに記載の
    配線基板材料。
  5. 【請求項5】 硬化剤として、架橋開始剤を含むことを
    特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかに記載
    の配線基板材料。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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