JPH105571A - 造粒用スプレーガン - Google Patents

造粒用スプレーガン

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Publication number
JPH105571A
JPH105571A JP8162197A JP16219796A JPH105571A JP H105571 A JPH105571 A JP H105571A JP 8162197 A JP8162197 A JP 8162197A JP 16219796 A JP16219796 A JP 16219796A JP H105571 A JPH105571 A JP H105571A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
clean gas
injection nozzle
nozzle
injection
spray gun
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8162197A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Morimoto
清 森本
Hiroichi Yoshimoto
博一 吉本
Sanji Tokuno
三二 徳野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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Publication date
Application filed by Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd filed Critical Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
Priority to JP8162197A priority Critical patent/JPH105571A/ja
Publication of JPH105571A publication Critical patent/JPH105571A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】造粒用スプレーガンに粉体原料および/または
粒子が付着するのを防止し、または、造粒用スプレーガ
ンに付着した粉体原料および/または粒子を容易に除去
できる造粒用スプレーガンを提供する。 【解決手段】流動層の粉体原料を凝集させ粒子の成長を
促すための結合剤溶液を噴霧化して噴射する噴射ノズル
孔2cを有する噴射ノズル2と、噴射ノズル2の周囲に
設けられ、噴霧化して噴射された結合剤溶液の噴射方向
を開放とした、噴射ノズル2を覆うスカート3と、スカ
ート3の内側に且つ噴射ノズル2の周囲に設けられ、噴
射ノズル孔2c方向に、噴射ノズル2へ付着する粉体原
料および/または粒子を除去するためのクリーンガスを
噴射する複数のクリーンガス噴射孔4cを有するクリー
ンガス噴射手段4とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医療.食品におけ
る粒子の造粒等に用いられる造粒用スプレーガンに関
し、特に造粒作業中に、造粒用スプレーガンに粉体原料
および/または粒子が付着するのを防止し、または、造
粒用スプレーガンに付着した粉体原料および/または粒
子を、人手をかけずに、容易に除去できる造粒用スプレ
ーガンに関する。
【0002】
【従来の技術】図5は、従来公知の流動層造粒機に用い
られる、従来の造粒用スプレーガンの構成を概略的に示
す断面図である。図5を参照して、この造粒用スプレー
ガン101は、結合剤溶液を噴霧化して噴射する噴射ノ
ズル孔102cを有する噴射ノズル102を備え、液滴
径、スプレーパターンの調節が各々独立して行えるよう
になっている。造粒用スプレーガン101としては、結
合剤溶液を微粒子の液滴にアトマイズするアトマイズ空
気を用いる、2流体丸吹きタイプが一般的である。尚、
図5中、112は、アトマイズ空気を噴射するアトマイ
ズ空気を噴射するアトマイズ空気噴射口を、114は、
エアキャップを示す。
【0003】ところで、従来の造粒用スプレーガン10
1を用いて造粒作業を行うと、図6に示すように、造粒
用スプレーガン101全体を覆うように付着物120が
堆積する。付着物120の堆積は、時間と共に、ノズル
孔102cやアトマイズ空気噴出口112が開口されて
いるエアーキャプ114においても進行し、ある大きさ
まで成長すると、アトマイズ空気噴出口112を塞ぎ、
スプレーパターンの乱れを発生させる。
【0004】更に、このような状態を放置すると、錠剤
等のコーティング作業の場合と同様に、直接、スプレー
液滴が付着物を濡らすことになって、付着物120の付
着堆積が更に進み、噴射ノズル孔102cの閉塞に至る
などの問題があった。このため、造粒作業中は、造粒用
スプレーガン101に付着物が付着堆積しているかどう
かを、常に、監視する必要があった。
【0005】また、スプレーパターンの乱れは、造粒物
の品質を劣化の直接的、不可避的な原因であるため、長
年、造粒の際に、造粒用スプレーガン101に付着物が
付着し難い造粒用スプレーガンが望まれていてた。ま
た、従来は、付着物120が造粒用スプレーガン101
に付着すると、造粒作業を中断したり、中止したりする
必要が生じ、このような作業の中断、中止により造粒作
業の効率が悪くなるという問題があった。
【0006】更に、造粒用スプレーガン101に付着物
120が付着した場合には、作業員が手作業によって、
付着物120の清掃する必要があり、手間がかかるとい
う問題があった。このため、造粒用スプレーガン101
への付着物120の清掃を、人手をかけずに、容易に行
える、造粒用スプレーガンが、長年望まれていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した問
題を鑑みてなされたものである。即ち、本発明の目的
は、簡単な構造で、造粒用スプレーガンに付着物が付着
堆積するのを防止できる造粒用スプレーガンや、簡単な
構造で、且つ、人手をかけずに造粒用スプレーガンに付
着堆積した付着物を除去することのできる造粒用スプレ
ーガンを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、上記目的を達成す
るために提案される本発明は、次のような構成となって
いる。請求項1に記載の造粒用スプレーガンは、流動層
の粉体原料を凝集させ粒子の成長を促すための結合剤溶
液を噴霧化して噴射する噴射ノズル孔を有する噴射ノズ
ルと、噴射ノズルの周囲に設けられ、噴霧化して噴射さ
れた結合剤溶液の噴射方向を開放とした、噴射ノズルを
覆うスカートと、スカートの内側に且つ噴射ノズルの周
囲に設けられ、噴射ノズル方向に、噴射ノズルへ付着す
る粉体原料および/または粒子を除去するためのクリー
ンガスを噴射する複数の噴射孔を有するクリーンガス噴
射手段とを備える。
【0009】クリーンガス噴射手段は、中空を有するリ
ング体であることが好ましく、複数の噴射孔は、リング
体の内周上に、リング体の概ね中心方向に向かって、概
ね等間隔に配置されているのが好ましい。請求項1に記
載の造粒用スプレーガンでは、噴射ノズル方向に、粉体
原料および/または粒子を除去するためのクリーンガス
を噴射できる。
【0010】一方、スカートは、噴射ノズルの周囲に設
けられ、噴霧化して噴射された結合剤溶液の噴射方向を
開放とし、しかも、噴射ノズルを覆うように設けられて
いる。このため、クリーンガス噴射手段の構造、クリー
ンガス噴射手段より噴射されるクリーンガスの流量、圧
力、流速等、および、スカートの形状を適宜調整すれ
ば、噴射ノズルの周りをクリーンガスで覆うことができ
る。
【0011】すなわち、噴射ノズルをクリーンガスで覆
うことができるので、クリーンガスをシールドガスとし
て利用することにより、流動層の粉体原料および/また
は粒子の噴射ノズルへの接触を防止できる。この結果、
噴射ノズルに付着物が付着するのを防止できる。また、
噴射ノズルの周りを覆うクリーンガスは、クリーンガス
噴射手段から噴射するクリーンガスの流量、圧力、流速
等を適宜調整すれば、噴射ノズルから噴霧化して噴射さ
れる結合剤溶液に対するクリーンガスの影響を無視する
ことも可能となる。
【0012】従って、請求項1に記載の造粒用スプレー
ガンを用いれば、クリーンガスを、必要により、また
は、常時、噴射しながら造粒を行うことができる。ま
た、クリーンガス噴射手段より噴射されるクリーンガス
の流量、圧力、流速等を適宜調整することにより、噴射
ノズルの周辺に、高速の衝撃波を生じさせることもでき
るので、この高速の衝撃波により、既に、噴射ノズルに
付着堆積した付着物を除去することができる。
【0013】また、噴射ノズルに付着堆積した付着物を
除去する作業は、クリーンガスを用いて行われるため、
人手をかけずに、容易に除去できる。請求項2に記載の
造粒用スプレーガンは、スカートは、好ましくは、その
上部に略円錐形の傘状体部と、傘状体部の下端に接続し
て設けられた略円柱体部とを備え、略円錐形の傘状体部
の傾斜が、噴射ノズルの中心線に対して直交する線に対
して、45度以上の傾斜を持ち、略円柱体部の内径Dと
噴射ノズルの先端から略円柱体部の最下端までの距離H
との比D/Hが、2.8〜2.6の範囲にある。
【0014】請求項2に記載の造粒用スプレーガンは、
特に、スカートの形状を、造粒作業中に、造粒用スプレ
ーガンに粉体原料および/または粒子が付着するのを防
止し、または、造粒用スプレーガンに付着した粉体原料
および/または粒子を、人手をかけずに、容易に除去で
きる形状に規定したものであり、本発明者等の実験に基
づいて知見されたものである。
【0015】請求項3に記載の造粒用スプレーガンは、
クリーンガス噴射手段から噴射するクリーンガスの条件
を、造粒作業中に、造粒用スプレーガンに粉体原料およ
び/または粒子が付着するのを防止する条件に規定した
ものであり、クリーンガス噴射手段を用いて、スカート
内部に、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程
度の低圧力のクリーンガスを噴射することにより、噴射
ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にして、粉体原料および
/または粒子が噴射ノズルに付着するのを防ぐものであ
る。
【0016】ここで、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状
態にできる程度の低圧力は、造粒用スプレーガンの大き
さ、形状等や、造粒用スプレーガンの用い方によって、
一概には特定できないが、通常は、クリーンガス噴射手
段より、0.5kg/cm2以上の圧力のクリーンガス
を噴射すれば、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にし
て、粉体原料および/または粒子が噴射ノズルに付着す
るのを防ぐことができる。
【0017】尚、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態に
できる程度の低圧力の上限は、特に限定されないが、ク
リーンガス噴射手段より、クリーンガスを噴射する圧力
を上げていき、噴射ノズルから噴霧化して噴射される結
合剤溶液にクリーンガスの影響がでない程度であること
が好ましい。請求項4に記載の造粒用スプレーガンは、
クリーンガス噴射手段から噴射するクリーンガスの条件
を、造粒作業中に、造粒用スプレーガンに付着した粉体
原料および/または粒子を除去する条件を規定したもの
であり、クリーンガス噴射手段を用いて、スカート内部
に、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させること
のできる程度の高圧力のクリーンガスを噴射することに
より、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させて、
噴射ノズルに付着した粉体原料および/または粒子を除
去するものである。
【0018】ここで、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波
を発生させることのできる程度の高圧力は、造粒用スプ
レーガンの大きさ、形状等や、造粒用スプレーガンの用
い方によって、一概には特定できないが、通常は、クリ
ーンガス噴射手段より、4kg/cm2以下の圧力のク
リーンガスを噴射すれば、噴射ノズルの周囲に高速の衝
撃波を発生させて、粉体原料および/または粒子が噴射
ノズルに付着するのを防ぐことができる。
【0019】尚、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波程度
の高圧力の下限は、クリーンガス噴射手段より、クリー
ンガスを噴射する圧力を上げていき、噴射ノズルがクリ
ーンガスにより振動を始める程度以上として規定でき
る。請求項5に記載の造粒用スプレーガンは、クリーン
ガス噴射手段から噴射するクリーンガスの条件を、造粒
用スプレーガンに付着した粉体原料および/または粒子
を、噴射ノズルに付着した粉体原料および/または粒子
の除去を効率よく行うために提案されるもので、噴射ノ
ズルに接続して設けられ、噴射ノズル孔から噴霧化して
噴射される結合剤溶液を噴霧状態または停止状態に制御
する結合剤溶液制御手段を更に備え、噴射ノズルに付着
した粉体原料および/または粒子の除去を、結合剤溶液
制御手段を停止状態に制御している期間内に行うことを
特徴とする。
【0020】請求項6に記載の造粒用スプレーガンは、
クリーンガス噴射手段から噴射するクリーンガスの条件
を、造粒用スプレーガンに付着した粉体原料および/ま
たは粒子を、容易に除去できる条件に規定したものであ
り、クリーンガス噴射手段を用いて、スカート内部に、
噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させることがで
きる程度のクリーンガスを噴射することにより、噴射ノ
ズルの周囲に高速の衝撃波を発生させて、噴射ノズルに
付着した粉体原料および/または粒子を除去するのと、
クリーンガス噴射手段を用いて、スカート内部に、噴射
ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程度の低圧力の
クリーンガスを噴射することにより、噴射ノズルの周囲
を加圧雰囲気状態にして、噴射ノズルに付着した粉体原
料および/または粒子を除去するのとを、交互に行う制
御手段を設けたことを特徴とする。
【0021】請求項7に記載の造粒用スプレーガンは、
クリーンガス噴射手段から噴射するクリーンガスの条件
を、造粒用スプレーガンに付着した粉体原料および/ま
たは粒子を、効率よく除去できる条件に規定したもので
あり、クリーンガス噴射手段が、更に、噴射ノズルの周
囲に高速の衝撃波を発生させることができる程度の高圧
力のクリーンガス噴射手段と、噴射ノズルの周囲を加圧
雰囲気状態にできる程度の低圧力のクリーンガス噴射手
段に接続されており、高圧力のクリーンガス噴射手段
は、更に、高圧力のクリーンガスを供給・停止する手段
を備え、低圧力のクリーンガス噴射手段は、更に、低圧
力のクリーンガスを供給・停止する手段を備え、更に、
高圧力のクリーンガスを供給・停止する手段を供給状態
にするのに対応して、低圧力のクリーンガスを供給・停
止する手段を停止状態にし、高圧力のクリーンガスを供
給・停止する手段を停止状態にするのに対応して、低圧
力のクリーンガスを供給・停止する手段を供給状態に切
り換える手段を備える。
【0022】
【発明の実施の形態】以下に、図面を用いて、本発明の
好ましい実施の形態の一例を説明する。図1は、本発明
に従う造粒用スプレーガンの構成を概略的に示す斜視図
であり、図2(a)は、図1に示す造粒用スプレーガン
を噴射ノズル孔側から見た状態を概略的に示す平面図で
あり、図2(b)は、図2(a)に示す造粒用スプレー
ガンのI−I線に従う概略的な断面図である。
【0023】図1及び図2を参照して説明すると、この
造粒用スプレーガン1は、流動層の粉体原料を凝集させ
粒子の成長を促すための結合剤溶液を噴霧化して噴射す
る噴射ノズル孔2cを有する噴射ノズル2と、噴射ノズ
ル2の周囲に設けられ、噴霧化して噴射された結合剤溶
液の噴射方向を開放とした、噴射ノズル2を覆うスカー
ト3と、スカート3の内側に且つ噴射ノズル2の周囲に
設けられ、スカート3の中心方向に、噴射ノズル2へ付
着する粉体原料および/または粒子を除去するためのク
リーンガスを噴射するクリーンガス噴射手段4を備える
構成となっている。
【0024】噴射ノズル2自体としては、従来公知の2
流体丸吹きタイプと同様のタイプが採用されている。
尚、図1及び図2中、12は、アトマイズ空気を噴射す
るアトマイズ空気噴出口を、14は、エアキャップを各
々示す。この造粒用スプレーガン1では、特に、噴射ノ
ズル2の周囲に設けられ、噴霧化して噴射された結合剤
溶液の噴射方向を開放とした、噴射ノズル2を覆うスカ
ート3と、スカート3の内側に且つ噴射ノズル2の周囲
に設けられ、スカート3の中心方向に、噴射ノズル2へ
付着する粉体原料および/または粒子を除去するための
クリーンガスを噴射するクリーンガス噴射手段4を設け
ている点に特徴がある。
【0025】スカート3の形状は、造粒作業中に、造粒
用スプレーガン1に付着物(粉体原料および/または粒
子)が付着するのを防止し、または、造粒用スプレーガ
ン1に付着した付着物(粉体原料および/または粒子)
を、容易に除去できる形状であれば、特に限定されるこ
とはないが、本発明者等の実験に基づく知見によれば、
スカート3は、その上部に略円錐形の傘状体部3aと、
傘状体部3aの下端3adに接続して設けられた略円柱
体部3bを備えて構成されていることが好ましい。
【0026】そして、略円錐形の傘状体部3aの傾斜θ
は、噴射ノズル2の中心線CLに対して直交する線VL
に対して、45度以上の傾斜を持ち、略円柱体部3bの
内径Dと噴射ノズル2の先端2dから略円柱体部3bの
最下端3bdまでの距離Hとの比D/Hが、2.8〜
2.6の範囲にあることが好ましい。クリーンガス噴射
手段4の構造は、造粒作業中に、造粒用スプレーガンに
粉体原料および/または粒子が付着するのを防止し、ま
たは、造粒用スプレーガンに付着した付着物(粉体原料
および/または粒子)を、容易に除去できる形状であれ
ば特に限定されるものではないが、本発明者等の実験に
基づく知見によれば、クリーンガス噴射手段4は、噴射
ノズル2方向に、概ね等間隔に配置された複数の噴射孔
4cが設けられた中空4sを有するリング体4dが好ま
しい。
【0027】したがって、クリーンガス噴射手段4を構
成する複数の噴射孔4cから噴射するクリーンガスの流
量、圧力、流速等を適宜調整すれば、噴射ノズル2の周
囲を、クリーンガスで覆うことができる。すなわち、こ
の造粒用スプレーガン1では、噴射ノズル2を、クリー
ンガスで覆うことができるので、クリーンガスをシール
ドガスとして利用することにより流動層の粉体原料およ
び/または粒子が噴射ノズル2に接触し難くすることが
できるので、噴射ノズル2に付着物が付着するのを有効
に防止できる。
【0028】また、噴射ノズル2の周りを覆うクリーン
ガスの噴出圧力を適宜調整すれば、噴射ノズル2から噴
霧化して噴射される結合剤溶液に対するクリーンガスの
影響を無視することも可能となる。したがって、この造
粒用スプレーガン1を用いれば、クリーンガスを、必要
により、または、常時、噴射しながら造粒を行うことが
できる。
【0029】本発明者等は、クリーンガス噴射手段4を
用いて、クリーンガスの流量、圧力、流速等を種々変化
させて、実験を行ったところ、スカート3内部に、低圧
力(0.5kg/cm2≧)のクリーンガスを噴射すれ
ば、噴射ノズル2の周囲を加圧雰囲気状態にでき、粉体
原料および/または粒子が噴射ノズル2に付着するのを
有効に防ぐことができるということを見いだした。
【0030】尚、噴射ノズル2の周囲を加圧雰囲気状態
にできる低圧力の上限は、例えば、クリーンガス噴射手
段より、クリーンガスを噴射する圧力を上げていき、噴
射ノズルから噴霧化して噴射される結合剤溶液にクリー
ンガスの影響がでない程度であることが好ましい。ま
た、クリーンガス噴射手段4を構成する複数の噴射孔4
cから噴射されるクリーンガスの流量、圧力、流速等を
適宜調整することにより、噴射ノズル2の周辺に、高速
の衝撃波を生じさせることもできるので、この高速の衝
撃波により、既に、噴射ノズル2に付着堆積した付着物
(粉体原料および/または粒子)を除去することもでき
る。
【0031】クリーンガス噴射手段4を用いて、クリー
ンガスの流量、圧力、流速等を種々変化させて、実験を
行ったところ、スカート3内部に、高圧力 (4kg/
cm2≦)のクリーンガスを噴射することにより、噴射
ノズル2の周囲に高速の衝撃波を発生させて、噴射ノズ
ル2に付着した付着物(粉体原料および/または粒子)
を効率よく除去できることを見いだした。
【0032】尚、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波程度
の高圧力の下限は、クリーンガス噴射手段より、クリー
ンガスを噴射する圧力を上げていき、噴射ノズルがクリ
ーンガスにより振動を始める程度以上として規定でき
る。また、本発明者等は、実験により、噴射ノズル孔2
cから噴霧化して噴射される結合剤溶液を噴霧状態また
は停止状態に制御する結合剤溶液制御手段(図示せず)
を、噴射ノズル2に接続して設け、噴射ノズル2に付着
した付着物(粉体原料および/または粒子)の除去を、
結合剤溶液制御手段(図示せず)を停止状態に制御して
いる期間内に行えば、噴射ノズル2に付着した付着物
(粉体原料および/または粒子)を効率よく除去できる
ことを見いだした。
【0033】この方法は、造粒作業を中止したり、中断
したり、または、終了後において、特に、有効である。
更に、本発明者等は、実験により、スカート3内部に、
高圧力 (4kg/cm2≦)のクリーンガスを噴射する
ことにより、噴射ノズル2の周囲に高速の衝撃波を発生
させる工程と、スカート3内部に、低圧力(0.5kg
/cm2≧)のクリーンガスを噴射することにより、噴
射ノズル2の周囲を加圧雰囲気状態にする工程を、交互
に行えば、噴射ノズル2に付着した付着物(粉体原料お
よび/または粒子)を更に、効率よく除去できることを
見いだした。
【0034】即ち、リング体4dに、更に、高圧力(4
kg/cm2≦)のクリーンガス噴射手段(図示せず)
と、低圧力(0.5kg/cm2≧)のクリーンガス噴
射手段(図示せず)を接続し、高圧力(4kg/cm2
≦)のクリーンガス噴射手段(図示せず)に、更に、高
圧力(4kg/cm2≦)のクリーンガスを供給・停止
する手段を設け、また、低圧力(0.5kg/cm
2≧)のクリーンガス噴射手段(図示せず)に、更に、
低圧力(0.5kg/cm2≧)のクリーンガスを供給
・停止する手段を設け,更に、高圧力(4kg/cm2
≦)のクリーンガスを供給・停止する手段(図示せず)
を供給状態にするのに対応して、低圧力(0.5kg/
cm2≧)のクリーンガスを供給・停止する手段(図示
せず)を停止状態にし、高圧力(4kg/cm2≦)の
クリーンガスを供給・停止する手段(図示せず)を停止
状態にするのに対応して、低圧力(0.5kg/cm2
≧)のクリーンガスを供給・停止する手段(図示せず)
を供給状態に切り換える手段(図示せず)を設け、スカ
ート3内部に、高圧力 (4kg/cm2≦)のクリーン
ガスを噴射することにより、噴射ノズル2の周囲に高速
の衝撃波を発生させる工程と、スカート3内部に、低圧
力(0.5kg/cm2≧)のクリーンガスを噴射する
ことにより、噴射ノズル2の周囲を加圧雰囲気状態にす
る工程を、交互に行えば、噴射ノズル2に付着した付着
物(粉体原料および/または粒子)を更に、効率よく除
去できることを見いだした。
【0035】図3は、造粒用スプレーガン1が用いられ
た流動層造粒機を概略的に示す全体構成図である。図3
を参照して説明すると、この流動層造粒装置10は、噴
霧室25を備えており、噴霧室25内の上方の所定の位
置には、造粒用スプレーガン1が、スプレーガン固定板
26により取り付けられており、また、噴霧室25の下
方の所定の位置には、目皿板27が取り付けられてい
る。目皿板27の下方には、噴霧室25内に、熱風を供
給するための給気管28が設けられている。
【0036】混合粉体39の加熱は、目皿板27の下方
に設けられた給気管28から、噴霧室25の上方に設け
られた排気管38へ、70℃〜100℃程度の熱風を連
続して通じることにより行われ、混合粉体39は、この
時、噴霧室25内で流動する。造粒用スプレーガン1
は、結合剤供給管29により結合剤液を収容した結合剤
液収容容器30に接続されており、結合剤供給管29に
は、結合剤液を造粒用スプレーガン1へ供給するための
ポンプユニット31が設けられている。また、造粒用ス
プレーガン1は、パイロット空気配管32により空気制
御盤33に接続されている。
【0037】そして、ポンプユニット31により、造粒
用スプレーガン1へ供給された結合剤液は、空気制御盤
33より供給され、アトマイズ空気噴出口(図2(a)
に示すアトマイズ空気噴出口12)より噴出されるアト
マイズ空気により霧状に噴霧されるようになっている。
この流動層造粒装置10では、結合剤液が、ポンプユニ
ット31から供給され、造粒用スプレーガン1により噴
霧化されて、混合粉体39を濡らすことにより、粒子同
士の結合がなされ、更に、加熱空気により、乾燥されて
顆粒状に造粒される。
【0038】また、図3中、34はバグフィルタを示し
ており、35は、バグフィルタ34に接続されたシェー
キングアームを、37は、流動層造粒装置10を制御す
る流動層造粒機制御盤を、また、50は、空気制御回路
を、各々、示している。図4は、図3に示す流動層造粒
機を、特に、空気制御回路50を中心にして示す概略的
な構成図である。
【0039】図4を参照して説明すると、この流動層造
粒装置10では、クリーンガス用の圧縮空気は供給ライ
ンLAと、供給ラインLBの2ライン群に分岐されてい
る。供給ラインLAは、空気作動式のオンオフ制御弁1
7a、17bを開閉する制御ラインLA1、LA2を構
成し、他方の供給ラインLBは、リング体4dの噴射孔
4cよりクリーンガスを供給するために設けられてい
る。
【0040】この例では、供給ラインLBは、高圧用、
低圧用の2つの供給ラインLB1、LB2が設けられて
いる。このような空気制御回路50では、電磁弁16が
開閉することにより、あるいは流路を切り換え動作する
ことにより、圧縮空気が空気オンオフ弁17a、17b
を開閉させ、リング体4dの噴射孔4cから圧縮空気を
クリーンガスとして噴射する。
【0041】この流動層造粒装置10では、リング体4
dに供給する圧縮空気をLB1、LB2の2系統に構成
してあるので、圧力設定器18a、18bで設定された
高圧、低圧の2種類の圧縮空気をクリーンガスとして選
択噴射できる。尚、図4中、40a、40bは、流量計
を、41a、41bは、流量調整器を、42a、42b
は、圧力計を、各々、示している。
【0042】また、リング体4dは、図2(a)に示す
ごとく、内周側に6個の噴射孔4cが開口されており、
その下方には、クリーンガス導入管36が接続されてい
る。電磁弁16の開閉あるいは流路切り換えは、制御盤
23によって行われ、制御盤23は、流動層造粒機制御
盤37からバグフィルター34のシェーキングアーム3
5の作動信号を受けると、電磁弁16を高圧側に切り換
え、リング体4dの噴射孔4cより高圧のクリーンガス
を噴射するが、シェーキングアーム35の停止信号を受
けると、電磁弁16を低圧側に切り換え、リング体4d
の噴射孔4cより低圧のクリーンガスを噴射するように
なっている。
【0043】付着物除去のために噴射するクリーンガス
の圧力は、スプレーガン1の使用状態や、雰囲気によっ
て選択されるが、清掃効果をアップするためには、高圧
と低圧を交互に切り換えて噴射させればよい。
【0044】
【実施例】次に、具体的な実施例に基づいて本願発明に
付いて説明する。上記した流動層造粒装置10を使用
し、クリーンガス噴射手段として、図2(a)に示すよ
うに、内周に6個の噴射孔が概ね均等に配設されたリン
グ体4dを使用した。
【0045】表1に、本実験例の付着物除去試験条件を
示す。
【0046】
【表1】
【0047】表2に実施例の付着物の残量平均重量に関
する実験結果を示す。
【0048】
【表2】
【0049】また実施例において実験に供した原料を下
記に示す。 (原料1) 乳 糖 : 3.5kg コーンスターチ : 1.5kg 結合剤・・・・・・・・ : 2kg(HPC−L:0.16k
g、水:1.84kg) (原料2) 白 糖 : 150kg 結合剤・・・・・・・・ : 45.5kg(HPC−L:2.
4kg、水:43kg) また実施例における流動層造粒装置の運転条件を下記に
示す。
【0050】(流動層造粒装置の運転条件1) 使用原料・・・・・・ : 乳糖ーコーンスターチ 造粒法 ・・・・・・・ : スプレー造粒法 スプレー液速度 : 100ml/min スプレー空気圧力: 2.5kg/cm2 給気温度・・・・・・ : 70℃ 給気風量・・・・・・ : 2.5m3/min (流動層造粒装置の運転条件2) 使用原料・・・・・・ : 白糖 造粒法 ・・・・・・・ : スプレー造粒法 スプレー液速度 : 350ml/min スプレー空気圧力: 5.0kg/cm2 給気温度・・・・・・ : 80℃ 給気風量・・・・・・ : 50m3/min 表2より明かなように、従来の造粒用スプレーガンを用
いた場合、造粒用スプレーガンに付着物が付着堆積した
が、実験例1、2では、造粒用スプレーガンに付着物は
付着堆積しなかった。
【0051】尚、実験例3では、造粒用スプレーガンに
付着物が付着堆積した。実験例1〜3の結果等から、造
粒用スプレーガンに用いるスカートの形状は、上部に略
円錐形の傘状体部と、傘状体部の下端に接続して設けら
れた略円柱体部を備え、略円錐形の傘状体部の傾斜が、
噴射ノズルの中心線に対して直交する線に対して、45
度以上の傾斜を持ち、略円柱体部の内径Dと噴射ノズル
の先端から略円柱体部の最下端までの距離Hとの比D/
Hが、2.8〜2.6の範囲にあることが好ましいこと
がわかった。
【0052】
【発明の効果】請求項1に記載の造粒用スプレーガンで
は、噴射ノズルを覆うスカートと、噴射ノズル方向に、
噴射ノズルへ付着する粉体原料および/または粒子を除
去するためのクリーンガスを噴射する複数の噴射孔を有
するクリーンガス噴射手段とを備える構成とし、噴射ノ
ズル方向に、粉体原料および/または粒子を除去するた
めのクリーンガスを噴射できるようにしたので、クリー
ンガスの流量、圧力、流速等、および、スカートの形状
を適宜調整することにより、噴射ノズルに付着物が付着
するのを防止したり、噴射ノズルに付着した付着物を除
去したりすることができる。
【0053】したがって、この造粒用スプレーガンを用
いれば、造粒の際に、造粒用スプレーガンの噴射ノズル
の閉塞は未然に防止されるので、効率良く、且つ、高品
質の造粒物(粒子)を製造することができる。請求項2
に記載の造粒用スプレーガンでは、スカートの形状を、
造粒作業中に、造粒用スプレーガンに粉体原料および/
または粒子が付着するのを防止し、または、造粒用スプ
レーガンに付着した粉体原料および/または粒子を、容
易に除去できる形状に規定したので、噴射ノズルに付着
物が付着するのを効率よく防止したり、噴射ノズルに付
着した付着物を効率よく除去したりすることが容易にで
きる。
【0054】請求項3に記載の造粒用スプレーガンで
は、クリーンガス噴射手段を用いて、スカート内部に、
噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程度の低圧
力のクリーンガスを噴射し、噴射ノズルの周囲を加圧雰
囲気状態にし、粉体原料および/または粒子が噴射ノズ
ルに近接するのを防止するようにしたので、粉体原料お
よび/または粒子が噴射ノズルに付着するのを防ぐこと
ができる。
【0055】請求項4に記載の造粒用スプレーガンで
は、クリーンガス噴射手段を用いて、スカート内部に、
噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させることので
きる程度の高圧力のクリーンガスを噴射することによ
り、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させ、噴射
ノズルに付着した粉体原料および/または粒子を衝撃波
で除去することができるようにしたので、人手をかけず
に、効率よく除去することができるようになった。
【0056】請求項5に記載の造粒用スプレーガンで
は、噴射ノズル孔から噴霧化して噴射される結合剤溶液
を噴霧状態または停止状態に制御する結合剤溶液制御手
段を更に備えるので、結合剤溶液制御手段を停止状態に
して、噴射ノズルに付着した粉体原料および/または粒
子の除去を効率よく行うことができる。請求項6に記載
の造粒用スプレーガンは、クリーンガス噴射手段を用い
て、スカート内部に、噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波
を発生させることのできる程度の高圧力のクリーンガス
を噴射することと、クリーンガス噴射手段を用いて、ス
カート内部に、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にで
きる程度の低圧力のクリーンガスを噴射することとを交
互にできるようにしたので、交互に、噴射ノズルの周囲
に高速の衝撃波を発生させたり、噴射ノズルの周囲を加
圧雰囲気状態にしたりして、造粒用スプレーガンに付着
した粉体原料および/または粒子を、効率よく、容易に
除去できる。
【0057】請求項7に記載の造粒用スプレーガンで
は、クリーンガス噴射手段が、噴射ノズルの周囲に高速
の衝撃波を発生させることができる程度の高圧力のクリ
ーンガス噴射手段と、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状
態にできる程度の低圧力のクリーンガス噴射手段とに接
続され、高圧力のクリーンガス噴射手段は、更に、噴射
ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させることができる
程度の高圧力のクリーンガスを供給・停止する手段を備
え、低圧力のクリーンガス噴射手段は、更に、噴射ノズ
ルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程度の低圧力のクリ
ーンガスを供給・停止する手段を備え、更に、高圧力の
クリーンガスを供給・停止する手段を供給状態にするの
に対応して、低圧力のクリーンガスを供給・停止する手
段を停止状態にし、高圧力のクリーンガスを供給・停止
する手段を停止状態にするのに対応して、低圧力のクリ
ーンガスを供給・停止する手段を供給状態に切り換える
手段を備えるので、交互に、噴射ノズルの周囲に高速の
衝撃波を発生させたり、噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気
状態にしたりして、造粒用スプレーガンに付着した粉体
原料および/または粒子を、効率よく、容易に除去でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に従う造粒用スプレーガンの構
成を概略的に示す斜視図である。
【図2】図2(a)は、図1に示す造粒用スプレーガン
の構成を、噴射ノズル孔側から見た状態を概略的に示す
平面図であり、図2(b)は、図2(a)に示す造粒用
スプレーガンのI−I線に従う概略的な断面図である。
【図3】図1に示す造粒用スプレーガンが用いられた流
動層造粒装置を概略的に示す構成図である。
【図4】図3に示す流動層造粒装置を、特に、空気制御
回路を中心にして示す概略的な構成図である。
【図5】従来公知の流動層造粒装置に用いられる、従来
の造粒用スプレーガンの構成を概略的に示す断面図であ
る。
【図6】従来の造粒用スプレーガンに、付着物が付着堆
積した状態を模式的に示す図であり、図6(a)は、噴
射ノズル孔側から見た状態を概略的に示す平面図であ
り、図6(b)は、図6(a)に示す造粒用スプレーガ
ンのVI−VI線に従う概略的な断面図である。
【符号の説明】
1 造粒用スプレーガン 2 噴射ノズル 2c 噴射ノズル孔 2d 噴射ノズルの先端 3 スカート 3a 傘状体部 3ad 傘状体部の下端 3b 略円柱体部 3bd 略円柱体部の下端 4 クリーンガス噴射手段 4c 噴射孔 4d リング体 4s 中空 10 流動層造粒装置 12 アトマイズ空気噴出口 14 エアーキャップ 16 電磁弁 17a、17b オンオフ制御弁 18a、18b 圧力設定器 25 噴霧室 26 スプレーガン固定板 27 目皿板 28 給気管 29 結合剤供給管 32 パイロット空気配管 33 空気制御盤 34 バグフィルター 35 シェーキングアーム 36 クリーンガス導入管 37 流動層造粒機制御盤 40a、40b 流量計 41a、41b 流量調整器 42a、42b 圧力計 D カバー内経 H ノズル先端から、カバー最下端までの距離

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】流動層の粉体原料を凝集させ粒子の成長を
    促すための結合剤溶液を噴霧化して噴射する噴射ノズル
    孔を有する噴射ノズルと、前記噴射ノズルの周囲に設け
    られ、前記噴霧化して噴射された結合剤溶液の噴射方向
    を開放とした、前記噴射ノズルを覆うスカートと、前記
    スカートの内側に且つ前記噴射ノズルの周囲に設けら
    れ、前記噴射ノズル方向に、前記噴射ノズルへ付着する
    前記粉体原料および/または前記粒子を除去するための
    クリーンガスを噴射する複数の噴射孔を有するクリーン
    ガス噴射手段とを備える、造粒用スプレーガン。
  2. 【請求項2】前記スカートは、その上部に略円錐形の傘
    状体部と、前記傘状体部の下端に接続して設けられた略
    円柱体部とを備え、 前記略円錐形の傘状体部の傾斜が、前記噴射ノズルの中
    心線に対して直交する線に対して、45度以上の傾斜を
    持ち、前記略円柱体部の内径Dと前記噴射ノズルの先端
    から前記略円柱体部の最下端までの距離Hとの比D/H
    が、2.8〜2.6の範囲にある、請求項1に記載の造
    粒用スプレーガン。
  3. 【請求項3】前記クリーンガス噴射手段を用いて、前記
    スカート内部に、前記噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状
    態にできる程度の低圧力のクリーンガスを噴射すること
    により、前記粉体原料および/または前記粒子が前記噴
    射ノズルに付着するのを防ぐ、請求項1または2に記載
    の造粒用スプレーガン。
  4. 【請求項4】 前記クリーンガス噴射手段を用いて、前
    記スカート内部に、前記噴射ノズルの周囲に高速の衝撃
    波を発生させることのできる程度の高圧力のクリーンガ
    スを噴射することにより、前記噴射ノズルに付着した前
    記粉体原料および/または前記粒子を除去する、請求項
    1または2に記載の造粒用スプレーガン。
  5. 【請求項5】前記噴射ノズルに接続して設けられ、前記
    噴射ノズル孔から噴霧化して噴射される前記結合剤溶液
    を噴霧状態または停止状態に制御する結合剤溶液制御手
    段を更に備え、前記噴射ノズルに付着した前記粉体原料
    および/または前記粒子の除去を、前記結合剤溶液制御
    手段を停止状態に制御している期間内に行うことを特徴
    とする、請求項4に記載の造粒用スプレーガン。
  6. 【請求項6】前記クリーンガス噴射手段を用いて、前記
    スカート内部に、前記噴射ノズルの周囲に高速の衝撃波
    を発生させることができる程度の高圧力のクリーンガス
    を噴射することにより、前記噴射ノズルに付着した前記
    粉体原料および/または前記粒子を除去するのと、 前記クリーンガス噴射手段を用いて、前記スカート内部
    に、前記噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程
    度の低圧力のクリーンガスを噴射することにより、前記
    噴射ノズルに付着した前記粉体原料および/または前記
    粒子を除去するのとを、交互に行う制御手段を設けたこ
    とを特徴とする、請求項1または2に記載の造粒用スプ
    レーガン。
  7. 【請求項7】前記クリーンガス噴射手段が、前記噴射ノ
    ズルの周囲に高速の衝撃波を発生させることができる程
    度の高圧力のクリーンガス噴射手段と、 前記噴射ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程度の
    低圧力のクリーンガス噴射手段とに接続されており、 前記高圧力のクリーンガス噴射手段は、更に、前記噴射
    ノズルの周囲に高速の衝撃波を発生させることができる
    程度の高圧力のクリーンガスを供給・停止する手段を備
    え、 前記低圧力のクリーンガス噴射手段は、更に、前記噴射
    ノズルの周囲を加圧雰囲気状態にできる程度の低圧力の
    クリーンガスを供給・停止する手段を備え、更に、 前記高圧力のクリーンガスを供給・停止する手段を供給
    状態にするのに対応して、前記低圧力のクリーンガスを
    供給・停止する手段を停止状態にし、前記高圧力のクリ
    ーンガスを供給・停止する手段を停止状態にするのに対
    応して、前記低圧力のクリーンガスを供給・停止する手
    段を供給状態に切り換える手段を備える、請求項1また
    は2に記載の造粒用スプレーガン。
JP8162197A 1996-06-21 1996-06-21 造粒用スプレーガン Withdrawn JPH105571A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109012485A (zh) * 2018-10-09 2018-12-18 无锡天阳干燥设备有限公司 冷风造粒雾化盘
KR20210033765A (ko) * 2019-09-19 2021-03-29 대한민국(농촌진흥청장) 회전형 지하염수 미립화 분무 시스템

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109012485A (zh) * 2018-10-09 2018-12-18 无锡天阳干燥设备有限公司 冷风造粒雾化盘
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