JPH1047928A - 光学式外形計測装置 - Google Patents
光学式外形計測装置Info
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- JPH1047928A JPH1047928A JP20669496A JP20669496A JPH1047928A JP H1047928 A JPH1047928 A JP H1047928A JP 20669496 A JP20669496 A JP 20669496A JP 20669496 A JP20669496 A JP 20669496A JP H1047928 A JPH1047928 A JP H1047928A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 外乱光の受光手段への到達を小形な構成で防
止する。 【解決手段】 スリット板１８のスリット１８ａと、ラ
インセンサ２ｃの間に凹レンズ２１を設ける。測定対象
物を通過した参照光４はスリット１８ａを通り、凹レン
ズ２１の中心を通過して、ラインセンサ２ｃの受光素子
列２ｃ1 に入る。参照光４に角度をもってスリット１８
ａを通過する外乱光１７は、凹レンズ２１の中心に対し
角度をもって入光するので、凹レンズ２１で屈折を受
け、受光素子列２ｃ1 には入光しない。
止する。 【解決手段】 スリット板１８のスリット１８ａと、ラ
インセンサ２ｃの間に凹レンズ２１を設ける。測定対象
物を通過した参照光４はスリット１８ａを通り、凹レン
ズ２１の中心を通過して、ラインセンサ２ｃの受光素子
列２ｃ1 に入る。参照光４に角度をもってスリット１８
ａを通過する外乱光１７は、凹レンズ２１の中心に対し
角度をもって入光するので、凹レンズ２１で屈折を受
け、受光素子列２ｃ1 には入光しない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、投光部より参照
光を測定対象物に照射し、その透過光あるいは反射光を
受光することにより、測定対象物の外形を計測する光学
式外形計測装置に関する。
光を測定対象物に照射し、その透過光あるいは反射光を
受光することにより、測定対象物の外形を計測する光学
式外形計測装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】参照光を測定対象物に照射し、その透過
光、あるいは反射光を受光することにより、測定対象物
の外形を計測する装置として図１、図２に示すものがあ
る。図１は、投光部１から測定対象物３に参照光４を照
射し、測定対象物３を挟んで投光部１と対向した受光部
２で透過光を受光して測定対象物３の外形を計測する透
過型の光学式外形計測装置の構成を示している。図２
は、測定対象物３に対して参照光４を照射して、その反
射光を受光部４で受光し、その反射光より測定対象物３
の外形を計測する反射型の光学式外形測定装置の構成を
示している。
光、あるいは反射光を受光することにより、測定対象物
の外形を計測する装置として図１、図２に示すものがあ
る。図１は、投光部１から測定対象物３に参照光４を照
射し、測定対象物３を挟んで投光部１と対向した受光部
２で透過光を受光して測定対象物３の外形を計測する透
過型の光学式外形計測装置の構成を示している。図２
は、測定対象物３に対して参照光４を照射して、その反
射光を受光部４で受光し、その反射光より測定対象物３
の外形を計測する反射型の光学式外形測定装置の構成を
示している。
【０００３】従来の参照光の透過光／反射光で計測を行
うこの種の装置の光学系の構成として、主として図３に
挙げる３通りの構成の装置がある。それぞれの詳細を説
明する。図３の（ａ）の光学式計測装置は、発光素子１
ａからの光をレンズ１ｂで平行光とし、平行光４を測定
対象物３に照射して、その測定対象物による反射光ある
いは透過光をレンズ２ａ等で集光してＰＤ（フォトダイ
オード）等の受光素子２ｂで受光し、その光強度より測
定対象物の測定対象物の外形を計測する。
うこの種の装置の光学系の構成として、主として図３に
挙げる３通りの構成の装置がある。それぞれの詳細を説
明する。図３の（ａ）の光学式計測装置は、発光素子１
ａからの光をレンズ１ｂで平行光とし、平行光４を測定
対象物３に照射して、その測定対象物による反射光ある
いは透過光をレンズ２ａ等で集光してＰＤ（フォトダイ
オード）等の受光素子２ｂで受光し、その光強度より測
定対象物の測定対象物の外形を計測する。
【０００４】図３の（ｂ）の光学式計測装置は、平行光
４を測定対象物３に照射して、その測定対象物３による
反射光あるいは透過光をＣＣＤイメージセンサ等、受光
素子が一列に配置されたラインセンサ２ｃで受光し、受
光信号を予め設定したしきい値を用いて２値化し、２値
化後の信号を元に測定対象物の外形を計測する。図４に
ラインセンサを用いた代表的な装置の構成と各部の波形
を示す。１は光源１ａを含む投光部であり、光源１ａか
ら出射された光はレンズ１ｂを通過する事により平行光
４となり、測定対象物３を介してラインセンサ２ｃを含
む受光器２に向かって照射される。ラインセンサ２ｃは
受光した光の受光強度信号を時系列信号に変換して出力
する。受光強度信号はプリアンプ５やＬＰＦ６で前処理
を行った後〔図５の（ａ）〕、Ａ／Ｄコンバータ７で離
散化される〔図５の（ｂ）〕。その後、この離散化信号
をしきい値で２値化して、そのエッジ位置から測定対象
物の外形を測定する〔図５の（ｃ）〕。これらの処理
は、ＣＰＵ９、メモリ１０を使用して処理され、計測結
果はＩ／Ｏ装置８を用いて装置外に送られる。
４を測定対象物３に照射して、その測定対象物３による
反射光あるいは透過光をＣＣＤイメージセンサ等、受光
素子が一列に配置されたラインセンサ２ｃで受光し、受
光信号を予め設定したしきい値を用いて２値化し、２値
化後の信号を元に測定対象物の外形を計測する。図４に
ラインセンサを用いた代表的な装置の構成と各部の波形
を示す。１は光源１ａを含む投光部であり、光源１ａか
ら出射された光はレンズ１ｂを通過する事により平行光
４となり、測定対象物３を介してラインセンサ２ｃを含
む受光器２に向かって照射される。ラインセンサ２ｃは
受光した光の受光強度信号を時系列信号に変換して出力
する。受光強度信号はプリアンプ５やＬＰＦ６で前処理
を行った後〔図５の（ａ）〕、Ａ／Ｄコンバータ７で離
散化される〔図５の（ｂ）〕。その後、この離散化信号
をしきい値で２値化して、そのエッジ位置から測定対象
物の外形を測定する〔図５の（ｃ）〕。これらの処理
は、ＣＰＵ９、メモリ１０を使用して処理され、計測結
果はＩ／Ｏ装置８を用いて装置外に送られる。
【０００５】なお、ラインセンサ２ｃの出力を離散化せ
ずに、図６に示すようにコンパレータ１５で２値化し
て、２値化後のパルス幅をカウンタ１６でクロックパル
スを計数することにより計数し（図７の波形参照）、測
定対象物の外形を計測する装置もある。図３の（ｃ）の
光学式外形計測装置は、細い光線をポリゴンミラー１ｃ
等で一次元方向にスキャンさせて、測定対象物３に照射
して、その測定対象物３による反射光あるいは透過光を
レンズ２ａ等で集光し、ＰＤ（フォトダイオード）等の
受光素子２ｂで受光して、受光信号を予め設定したしき
い値を用いて２値化し、２値化後の信号を元に測定対象
物の測定対象物の外形を計測する。
ずに、図６に示すようにコンパレータ１５で２値化し
て、２値化後のパルス幅をカウンタ１６でクロックパル
スを計数することにより計数し（図７の波形参照）、測
定対象物の外形を計測する装置もある。図３の（ｃ）の
光学式外形計測装置は、細い光線をポリゴンミラー１ｃ
等で一次元方向にスキャンさせて、測定対象物３に照射
して、その測定対象物３による反射光あるいは透過光を
レンズ２ａ等で集光し、ＰＤ（フォトダイオード）等の
受光素子２ｂで受光して、受光信号を予め設定したしき
い値を用いて２値化し、２値化後の信号を元に測定対象
物の測定対象物の外形を計測する。
【０００６】なお、図３の（ａ）（ｂ）（ｃ）は、いず
れも透過型の計測装置の構成を示しているが、反射型で
も同様の光学系の構成が用いられる。
れも透過型の計測装置の構成を示しているが、反射型で
も同様の光学系の構成が用いられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の光学系
を持つ光学式外形計測装置では、用いられる受光素子や
ラインセンサは計測に用いる参照光以外の光（以下、外
乱光）に対しても感度を持っているため、図８に示す外
乱光１７の強い環境下では外乱光１７によって受光信号
が、図９に示すように〔図９の（ａ）は外乱光が混入し
ない場合、図９の（ｂ）が外乱光が混入した場合〕、変
化して正常な計測ができなくなる。または、外乱光によ
り、受光信号が飽和してしまい、全く計測が不可能にな
ることがある。その対策として、ラインセンサ２ｃに外
乱が到達しないようにするため、図１０に示すように、
ラインセンサ２ｃの前方にスリット１８ａを有するスリ
ット板１８を設けることがある。その際、外乱光１７が
入りにくくするためにスリット１８のスリット１８ａの
幅ｄを狭くしたり、スリット板１８とラインセンサ２ｃ
の受光素子２ｃ1 との間の間隔を広げるという手法がと
られる。この時、スリット１８ａの幅は出来るだけ狭
く、スリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間は出来るだけ離
れている方がよいのであるが、スリット１８ａの幅ｄを
狭くすると、回折により参照光が乱れるという問題（図
１１）があり、またスリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間
を離すと計測器の外形が大きくなるという問題がある。
スリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間を離す手段として、
図１２に示すように、スリット透過後の光をミラー２ａ
で反射させて計測装置の奥行きを短くする方法がとられ
ることがあるが、計測装置自体の外形が拡大することに
変わりはない。
を持つ光学式外形計測装置では、用いられる受光素子や
ラインセンサは計測に用いる参照光以外の光（以下、外
乱光）に対しても感度を持っているため、図８に示す外
乱光１７の強い環境下では外乱光１７によって受光信号
が、図９に示すように〔図９の（ａ）は外乱光が混入し
ない場合、図９の（ｂ）が外乱光が混入した場合〕、変
化して正常な計測ができなくなる。または、外乱光によ
り、受光信号が飽和してしまい、全く計測が不可能にな
ることがある。その対策として、ラインセンサ２ｃに外
乱が到達しないようにするため、図１０に示すように、
ラインセンサ２ｃの前方にスリット１８ａを有するスリ
ット板１８を設けることがある。その際、外乱光１７が
入りにくくするためにスリット１８のスリット１８ａの
幅ｄを狭くしたり、スリット板１８とラインセンサ２ｃ
の受光素子２ｃ1 との間の間隔を広げるという手法がと
られる。この時、スリット１８ａの幅は出来るだけ狭
く、スリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間は出来るだけ離
れている方がよいのであるが、スリット１８ａの幅ｄを
狭くすると、回折により参照光が乱れるという問題（図
１１）があり、またスリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間
を離すと計測器の外形が大きくなるという問題がある。
スリット１８ａ〜受光素子２ｃ1 間を離す手段として、
図１２に示すように、スリット透過後の光をミラー２ａ
で反射させて計測装置の奥行きを短くする方法がとられ
ることがあるが、計測装置自体の外形が拡大することに
変わりはない。
【０００８】この発明は上記問題点に着目してなされた
ものであって、小形で、しかも外乱光が受光素子、ライ
ンセンサなどの受光手段まで到達していない光学式外形
計測装置を提供することを目的としている。
ものであって、小形で、しかも外乱光が受光素子、ライ
ンセンサなどの受光手段まで到達していない光学式外形
計測装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この出願の特許請求の範
囲の請求項１に係る光学式外形計測装置は、参照光を測
定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの透過光
あるいは反射光をスリット板を介して受光する受光手段
を含む受光部と、受光手段の出力を処理して測定対象物
の外形計測を行う処理部とを備えたものにおいて、前記
スリットと前記受光手段の間に凹レンズを設け、前記受
光手段は前記透過光あるいは反射光をスリット、凹レン
ズを介して受光するようにしている。この光学式計測装
置では、参照光はスリットを通り、凹レンズの中心を通
過して、受光手段に入る。しかし、外乱光は参考光に対
し角度をもって、スリット、凹レンズに入光するので、
凹レンズで屈折を受け、受光手段に入光しない。
囲の請求項１に係る光学式外形計測装置は、参照光を測
定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの透過光
あるいは反射光をスリット板を介して受光する受光手段
を含む受光部と、受光手段の出力を処理して測定対象物
の外形計測を行う処理部とを備えたものにおいて、前記
スリットと前記受光手段の間に凹レンズを設け、前記受
光手段は前記透過光あるいは反射光をスリット、凹レン
ズを介して受光するようにしている。この光学式計測装
置では、参照光はスリットを通り、凹レンズの中心を通
過して、受光手段に入る。しかし、外乱光は参考光に対
し角度をもって、スリット、凹レンズに入光するので、
凹レンズで屈折を受け、受光手段に入光しない。
【００１０】また、請求項２に係る光学式外形計測装置
は、参照光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象
物からの透過光あるいは反射光をスリット板を介して受
光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出力を処理
して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備えたもの
において、前記スリットと前記受光手段の間に凸面鏡を
設け、前記受光手段は前記透過光あるいは反射光をスリ
ット、凸面鏡を介して受光するようにしている。この光
学式計測装置では、参照光はスリットを通り、凸面鏡の
中心で反射して受光手段に入る。しかし、外乱光は参照
光に対し角度をもってスリットに入り、かつ凸面鏡の中
心をずれて反射するので、受光手段には入光しない。
は、参照光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象
物からの透過光あるいは反射光をスリット板を介して受
光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出力を処理
して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備えたもの
において、前記スリットと前記受光手段の間に凸面鏡を
設け、前記受光手段は前記透過光あるいは反射光をスリ
ット、凸面鏡を介して受光するようにしている。この光
学式計測装置では、参照光はスリットを通り、凸面鏡の
中心で反射して受光手段に入る。しかし、外乱光は参照
光に対し角度をもってスリットに入り、かつ凸面鏡の中
心をずれて反射するので、受光手段には入光しない。
【００１１】また、請求項３に係る光学式外形計測装置
は、参照光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象
物からの透過光あるいは反射光をスリット板を介して受
光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出力を処理
して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備えたもの
において、前記スリットと前記受光手段の間に細幅縦長
の鏡を設け、前記受光手段は前記透過光あるいは反射光
をスリット、細幅、縦長の鏡を介して受光するようにし
ている。この光学式計測装置では、参照光はスリットを
通り、細幅、縦長の鏡の中心で反射して受光手段に入
る。しかし、外乱光は参照光に対し角度をもってスリッ
トに入り、かつ細幅、縦長の鏡を外れて入光するので、
受光手段に入光しない。
は、参照光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象
物からの透過光あるいは反射光をスリット板を介して受
光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出力を処理
して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備えたもの
において、前記スリットと前記受光手段の間に細幅縦長
の鏡を設け、前記受光手段は前記透過光あるいは反射光
をスリット、細幅、縦長の鏡を介して受光するようにし
ている。この光学式計測装置では、参照光はスリットを
通り、細幅、縦長の鏡の中心で反射して受光手段に入
る。しかし、外乱光は参照光に対し角度をもってスリッ
トに入り、かつ細幅、縦長の鏡を外れて入光するので、
受光手段に入光しない。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、実施の形態により、この発
明をさらに詳細に説明する。この発明の第１の実施形態
光学式外形計測装置は、図１３に示す棒状の凹レンズ２
１を用いることが特徴である。この実施形態装置では、
図１４に示すように、上記凹レンズ２１をスリット板１
８とラインセンサ２ｃの間に配置する。この実施形態装
置において、スリット板１８のスリット１８ａを透過し
た光のうち、ラインセンサ２ｃの受光素子列２ｃ1 に向
かって直進する参照光４のみが受光素子列２ｃ1 に入射
し、それ以外の方向から受光素子列２ｃ1 に向かって入
射する光（外乱光１７）は、凹レンズ２１で屈折して受
光素子列２ｃ1 に入射しなくなる。したがって、外乱光
の影響を避けることができる。なお、この実施形態光学
式計測装置の回路部は、図４に示すものと同様であるの
で、説明は省略する。
明をさらに詳細に説明する。この発明の第１の実施形態
光学式外形計測装置は、図１３に示す棒状の凹レンズ２
１を用いることが特徴である。この実施形態装置では、
図１４に示すように、上記凹レンズ２１をスリット板１
８とラインセンサ２ｃの間に配置する。この実施形態装
置において、スリット板１８のスリット１８ａを透過し
た光のうち、ラインセンサ２ｃの受光素子列２ｃ1 に向
かって直進する参照光４のみが受光素子列２ｃ1 に入射
し、それ以外の方向から受光素子列２ｃ1 に向かって入
射する光（外乱光１７）は、凹レンズ２１で屈折して受
光素子列２ｃ1 に入射しなくなる。したがって、外乱光
の影響を避けることができる。なお、この実施形態光学
式計測装置の回路部は、図４に示すものと同様であるの
で、説明は省略する。
【００１３】この発明の第２の実施形態光学式外形計測
装置は、図１６に示す凸面鏡２２を用いることが特徴で
ある。この実施形態装置の凸面鏡２２は、図１７に示す
ように、スリット板１８のスリット１８ａとラインセン
サ２ｃの間に、それぞれに対し４５°の角度をもって傾
けて、配置される。図１５の（ａ）は図１２の系を上方
から見たときの光束の方向を示したものである。ミラー
１９の鏡面の形状が平面である時〔図１５の（ａ）〕、
受光素子列２ｃ1 には参照光４以外にも反射により入射
する外乱光１７が存在する。ところが、ミラー形状が凸
面である場合〔図１５の（ｂ）〕は、参照光４と外乱光
１７が角度をもって、凸面鏡２２に入光するので、反射
により受光素子列２ｃ1 に入射する外乱光１７は無くな
る。よって、図１６に示すような形状の凸面鏡２２を使
用して、図１７に示すような構成をとることにより外乱
光１７がラインセンサ２ｃの受光素子列２ｃ1 に入光す
るのを防ぐことができる。この実施形態装置の回路部
も、図４に示すものと同様のものである。
装置は、図１６に示す凸面鏡２２を用いることが特徴で
ある。この実施形態装置の凸面鏡２２は、図１７に示す
ように、スリット板１８のスリット１８ａとラインセン
サ２ｃの間に、それぞれに対し４５°の角度をもって傾
けて、配置される。図１５の（ａ）は図１２の系を上方
から見たときの光束の方向を示したものである。ミラー
１９の鏡面の形状が平面である時〔図１５の（ａ）〕、
受光素子列２ｃ1 には参照光４以外にも反射により入射
する外乱光１７が存在する。ところが、ミラー形状が凸
面である場合〔図１５の（ｂ）〕は、参照光４と外乱光
１７が角度をもって、凸面鏡２２に入光するので、反射
により受光素子列２ｃ1 に入射する外乱光１７は無くな
る。よって、図１６に示すような形状の凸面鏡２２を使
用して、図１７に示すような構成をとることにより外乱
光１７がラインセンサ２ｃの受光素子列２ｃ1 に入光す
るのを防ぐことができる。この実施形態装置の回路部
も、図４に示すものと同様のものである。
【００１４】なお、ここでは、図３の（ｂ）の構成を前
提にして説明を行ったが、図３の（ａ）あるいは図３の
（ｃ）の構成にも、本方式は適用可能である。また、反
射式の構成にも適用可能である。図１８は、この発明の
さらに他の実施形態光学式外形計測装置の光学系を示す
図である。この実施形態装置は、第２の実施形態装置と
同様に、ミラーをスリット１８ａとラインセンサ２ｃと
の間に設ける点で同じであるが、図１７の場合、凸面鏡
２２であるに対し、ここでは幅の細い縦長の鏡２３を使
用している。この実施形態装置では、スリット１８ａを
通過した参照光４は、鏡２３の中心で反射されてライン
センサ２ｃに入光する。しかし、参照光４に対し、角度
を有する外乱光１７はスリット１８ａを通過して鏡２３
に達すると、鏡２３は細いので、外乱光１７は鏡２３に
当たらず、したがって反射もされず、ラインセンサ２ｃ
にも入光することもない。したがって外乱光の影響を避
けることができる。この実施形態装置の回路部も、図４
に示すものと同様のものを採用している。
提にして説明を行ったが、図３の（ａ）あるいは図３の
（ｃ）の構成にも、本方式は適用可能である。また、反
射式の構成にも適用可能である。図１８は、この発明の
さらに他の実施形態光学式外形計測装置の光学系を示す
図である。この実施形態装置は、第２の実施形態装置と
同様に、ミラーをスリット１８ａとラインセンサ２ｃと
の間に設ける点で同じであるが、図１７の場合、凸面鏡
２２であるに対し、ここでは幅の細い縦長の鏡２３を使
用している。この実施形態装置では、スリット１８ａを
通過した参照光４は、鏡２３の中心で反射されてライン
センサ２ｃに入光する。しかし、参照光４に対し、角度
を有する外乱光１７はスリット１８ａを通過して鏡２３
に達すると、鏡２３は細いので、外乱光１７は鏡２３に
当たらず、したがって反射もされず、ラインセンサ２ｃ
にも入光することもない。したがって外乱光の影響を避
けることができる。この実施形態装置の回路部も、図４
に示すものと同様のものを採用している。
【００１５】なお、この実施形態装置では、鏡の幅を細
くすることによって、鏡で反射する外乱光を減少させて
いるが、鏡上にマスクを施してもよい。また、この実施
形態は図３の（ｂ）の構成で説明したが、図３の（ａ）
あるいは図３の（ｃ）の構成にも適用可能である。ま
た、反射式の構成にも適用可能である。
くすることによって、鏡で反射する外乱光を減少させて
いるが、鏡上にマスクを施してもよい。また、この実施
形態は図３の（ｂ）の構成で説明したが、図３の（ａ）
あるいは図３の（ｃ）の構成にも適用可能である。ま
た、反射式の構成にも適用可能である。
【００１６】
【発明の効果】この出願の特許請求の範囲の請求項１に
係る発明は、スリットと受光手段（ラインセンサ）間に
凹レンズを設けるものであるから、受光手段に外乱光が
到達しないようにするために受光手段をスリットから離
すことが不要となり、受光部の奥行きを短縮できる。
係る発明は、スリットと受光手段（ラインセンサ）間に
凹レンズを設けるものであるから、受光手段に外乱光が
到達しないようにするために受光手段をスリットから離
すことが不要となり、受光部の奥行きを短縮できる。
【００１７】また、請求項２に係る発明によれば、スリ
ットと受光手段間に凸面鏡を設け、請求項３に係る発明
によれば、スリットと受光手段間に縦長の細い鏡を設け
ているので、受光手段に外乱光が到達しないようにする
ために、スリットと鏡間、鏡と受光手段間の距離を長く
することが不要になり、受光部の外形を小形化できる。
ットと受光手段間に凸面鏡を設け、請求項３に係る発明
によれば、スリットと受光手段間に縦長の細い鏡を設け
ているので、受光手段に外乱光が到達しないようにする
ために、スリットと鏡間、鏡と受光手段間の距離を長く
することが不要になり、受光部の外形を小形化できる。
【図１】光学式外形計測装置の透過形の光学系の基本構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図２】光学式外形計測装置の反射形の光学系の基本構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図３】光学式外形計測装置に使用される光学系を示す
図である。
図である。
【図４】光学式外形計測装置の全体構成を示すブロック
図である。
図である。
【図５】同光学式外形計測装置における２値化処理を説
明する波形図である。
明する波形図である。
【図６】光学式外形計測装置における他の２値化処理方
法を説明するための回路ブロック図である。
法を説明するための回路ブロック図である。
【図７】図６の回路における２値化処理を説明するため
の波形図である。
の波形図である。
【図８】光学式外形計測装置における外乱光の入光を説
明する図である。
明する図である。
【図９】外乱光による２値化処理への影響を説明する波
形図である。
形図である。
【図１０】外乱光とスリットとの関係を説明するための
概略図である。
概略図である。
【図１１】外乱光とスリットとの関係が受光手段への入
光波形に与える影響を説明する波形図である。
光波形に与える影響を説明する波形図である。
【図１２】光学式外形計測装置の受光部の他の例を示す
図である。
図である。
【図１３】この発明の一実施形態光学式外形計測装置に
使用される凹レンズを示す図である。
使用される凹レンズを示す図である。
【図１４】同実施形態光学式外形計測装置の受光部の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図１５】この発明の他の実施形態光学式外形計測装置
の受光部の採用原理を説明する図である。
の受光部の採用原理を説明する図である。
【図１６】同実施形態光学式外形計測装置に使用される
凸面鏡を示す図である。
凸面鏡を示す図である。
【図１７】同実施形態光学式外形計測装置の受光部の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図１８】この発明の他の実施形態光学式外形計測装置
の受光部の構成を示す図である。
の受光部の構成を示す図である。
２ｃ ラインセンサ ２ｃ1 受光素子列 ４ 参考光 １７ 外乱光 １８ スリット板 １８ａ スリット ２１ 凹レンズ
Claims (3)
- 【請求項１】参照光を測定対象物に照射する投光部と、
測定対象物からの透過光あるいは反射光をスリット板を
介して受光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出
力を処理して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備
えた光学式外形計測装置において、 前記スリットと前記受光手段の間に凹レンズを設け、前
記受光手段は前記透過光あるいは反射光をスリット、凹
レンズを介して受光するようにしたことを特徴とする光
学式外形計測装置。 - 【請求項２】参照光を測定対象物に照射する投光部と、
測定対象物からの透過光あるいは反射光をスリット板を
介して受光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出
力を処理して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備
えた光学式外形計測装置において、 前記スリットと前記受光手段の間に凸面鏡を設け、前記
受光手段は前記透過光あるいは反射光をスリット、凸面
鏡を介して受光するようにしたことを特徴とする光学式
外形計測装置。 - 【請求項３】参照光を測定対象物に照射する投光部と、
測定対象物からの透過光あるいは反射光をスリット板を
介して受光する受光手段を含む受光部と、受光手段の出
力を処理して測定対象物の外形計測を行う処理部とを備
えた光学式外形計測装置において、 前記スリットと前記受光手段の間に細幅縦長の鏡を設
け、前記受光手段は前記透過光あるいは反射光をスリッ
ト、細幅縦長の鏡を介して受光するようにしたことを特
徴とする光学式外形計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20669496A JPH1047928A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 光学式外形計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20669496A JPH1047928A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 光学式外形計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1047928A true JPH1047928A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16527574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20669496A Pending JPH1047928A (ja) | 1996-08-06 | 1996-08-06 | 光学式外形計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1047928A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216197A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Yamatake Corp | エッジ検出装置及びその光束調整方法 |
| CN114739314A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-07-12 | 上海交通大学 | 一种电液伺服阀阀套壳体方孔轮廓的精密测量方法和装置 |
-
1996
- 1996-08-06 JP JP20669496A patent/JPH1047928A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008216197A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Yamatake Corp | エッジ検出装置及びその光束調整方法 |
| CN114739314A (zh) * | 2022-03-01 | 2022-07-12 | 上海交通大学 | 一种电液伺服阀阀套壳体方孔轮廓的精密测量方法和装置 |
| CN114739314B (zh) * | 2022-03-01 | 2023-01-17 | 上海交通大学 | 一种电液伺服阀阀套壳体方孔轮廓的精密测量方法和装置 |
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