JPH1039132A - 液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な工程により、色特性が優れ且つＬＣＤ
の高速応答性などの高性能化が可能で、しかも視角依存
性が少ないカラーフィルターを安価に製造することがで
きる液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法を
提供する。 【構成】 フィルター剤塗布工程Ａにおいて、感光性高
分子材料であるフィルター剤１を基盤１０上に塗布し、
乾燥工程Ｂで乾燥する。しかる後、Ｒ露光工程Ｃにおい
て、赤色光ＲのレーザＬ1をマスク１３を介してフィル
ター剤１に照射し、反射したレーザＬ1と照射レーザＬ1
とを干渉させる。すると、屈折率が異なる層を干渉部分
に有したＲ部分Ｒ１がマスク孔１３ａの真下に形成され
る。そして、Ｇ露光工程Ｄ、Ｂ露光工程Ｅを順次行った
後、定着，固定工程Ｆを行う。これにより、赤色光のみ
を反射するＲ部分Ｒ１と緑色光のみを反射するＧ部分Ｇ
１と青色光のみを反射するＢ部分Ｂ１とを有した干渉型
カラーフィルター３０が製造される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＣＤ（液晶ディ
スプレイ）の色選別に用いられる液晶ディスプレイ用カ
ラーフィルターの製造方法に関し、特に、干渉型及び透
過型のカラーフィルターの製造方法に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】カラーフィルターは、ＬＣＤの重要な部
品であり、ＬＣＤのローコスト化と高速応答性などの高
性能化の鍵を握っている。カラーフィルターは、吸収型
カラーフィルターと干渉型カラーフィルターとの２種類
に大別することができる。

【０００３】吸収型カラーフィルターは、染料，顔料の
光の吸収を利用したものである。染料の光の吸収を利用
した吸収型カラーフィルターは、染色法によるフォトリ
ソグラフィによって製造される。すなわち、感光性高分
子にマスクを使ってパターニングした後、染料によって
染色することで製造される。また、顔料の光の吸収を利
用した吸収型カラーフィルターは、顔料分散法によるフ
ォトリソグラフィによって製造される。すなわち、予め
感光性高分子中に顔料を分散させておき、それをマスク
を使ってパターニングすることで製造される。

【０００４】干渉型カラーフィルターは、図１１に示す
ように、ＺｎＳ等の高屈折率の薄膜９ａとＮａ3ＡｌＦ6
等の低屈折率の薄膜９ｂとを、１／４波長の光学厚さで
交互に積層した構造になっており、入射した光が、２種
類の薄膜９ａ，９ｂの界面で反射と干渉を繰り返し、特
定波長の光だけが強められて外部に取り出されるように
なっている。したがって、フィルター特性を上げるため
には、積層する薄膜９ａ，９ｂを増やす必要があり、通
常は１０層程度のものから数１０層に及ぶものまで存在
する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
のカラーフィルターでは、次のような問題がある。吸収
型カラーフィルターでは、加工精度の高いものが製造さ
れるが、製造工程が複雑である。図１３は、顔料の光の
吸収を利用した吸収型カラーフィルターの製造方法を示
す。すなわち、図１３に示すように、まず、ブラックマ
トリックス基盤１０上に、フィルター剤１１を塗布する
フィルター剤塗布工程を行い、しかる後、酸素遮蔽剤１
２をフィルター剤１１の上に塗布する酸素遮蔽剤塗布工
程を行う。そして、乾燥工程を経た後、マスク１３を介
して、光を照射する露光工程を行い、現像工程及び乾
燥，定着工程とを施すことにより、例えばＲ（赤）部分
１４を形成する。このような一連の工程を繰り返して、
Ｇ（緑）部分１５とＢ（青）部分１６とを形成し、オー
バーコート剤塗布工程と乾燥工程とを経て、オーバーコ
ート剤１７で覆われた吸収型カラーフィルター２０を製
造するのである。このように、従来の吸収型カラーフィ
ルターを製造するには、フィルター剤塗布工程から乾
燥，定着工程にいたる複雑な工程を、Ｒ，Ｇ，Ｂ部分１
４〜１６形成のために、３回も繰り返さなければならな
い。このため、製造コストが著しく高くついていた。ま
た、高価な色素材料を不効率に使用するので、製造コス
トが高くついてしまう。さらに、オーバーコート剤１７
表面の凸凹が、ＬＣＤのパネルギャップの狭小化を妨げ
るので、高速応答性など、ＬＣＤの高性能化が困難であ
った。

【０００６】これに対して、干渉型カラーフィルター
は、吸収型カラーフィルターに比べると、フィルター特
性が良く且つ透過率が高いという長所がある。しかしな
がら、ＺｎＳとＮａ3ＡｌＦ6というような薄膜を、スパ
ッタリングなどの製膜プロセスによって積層することで
製造するので、製造コストが非常に高くついてしまう。
また、フィルタリングする光の波長毎に構造を設計し直
す必要がある。したがって、Ｒ（赤），Ｇ（緑），Ｂ
（青）の３色タイプのフィルターを製造する場合には、
複雑なリソグラフィプロセスが必要となる。また、吸収
型カラーフィルターほどではないが、構造の違いによっ
て生じる表面の凸凹がＬＣＤの高性能化の妨げとなって
いる。さらに、干渉を利用して、色選別を行う構造であ
るので、視角依存性が大きい。このため、設計と異なる
見方をすると、色特性が劣化してしまう。

【０００７】本発明は上述した課題を解決するためにな
されたもので、簡単な工程により、色特性が優れ且つＬ
ＣＤの高速応答性などの高性能化が可能で、しかも視角
依存性が少ないカラーフィルターを安価に製造すること
ができる液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方
法を提供することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１の発明に係る液晶ディスプレイ用カラーフ
ィルターの製造方法は、感光性高分子材料に特定波長の
光を照射して、この光を上記感光性高分子材料内で干渉
させることにより、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率
を有した層を光が強められる干渉部分に形成する露光工
程と、上記露光工程で形成した上記層を固定する固定工
程とを具備する構成とした。

【０００９】請求項２の発明は、請求項１に記載の液晶
ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法において、
上記露光工程は、異なる波長の複数の光を順次照射し
て、各光を上記感光性高分子材料内で各々干渉させるこ
とにより、屈折率が異なる複数の層を各光の干渉部分に
形成するものである構成とした。

【００１０】上記請求項１の発明によれば、露光工程に
おいて、特定波長の光が感光性高分子材料に照射され、
その干渉により、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率の
層が干渉部分に形成される。そして、固定工程におい
て、その層が固定されて、カラーフィルターが製造され
る。白色光をこのカラーフィルターに照射すると、上記
特定波長の光が上記層の界面において反射，干渉を繰り
返し、白色光照射側から出てくる。したがって、製造さ
れたカラーフィルターは、干渉型カラーフィルターとし
て使用することができる。

【００１１】請求項２の発明によれば、露光工程におい
て、異なる波長の複数の光が感光性高分子材料に順次照
射され、屈折率が異なる複数の層が各光の干渉部分に形
成される。そして、白色光をこのカラーフィルターに照
射すると、各光が各光の干渉部分に形成された層の界面
で反射，干渉を繰り返して、白色光照射側から出てく
る。したがって、製造されたカラーフィルターは、複数
光を同時にフィルタリングする干渉型カラーフィルター
として使用することができる。また、このカラーフィル
ターは、上記異なる波長の光以外の光を透過させるの
で、この光をフィルタリングする透過型カラーフィルタ
ーとしても使用することができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。 （第１の実施形態）まず、本発明の第１の実施形態に係
る液晶ディスプレイ用カラーフィルターの製造方法につ
いて説明する。本実施形態は、単色光用の干渉型カラー
フィルターの製造方法であり、図１はその工程図であ
る。なお、図１３に示した部材と同一部材については同
一符号を付して説明する。図１に示すように、本実施形
態の製造方法は、フィルター剤塗布工程Ａと乾燥工程Ｂ
とＲ露光工程ＣとＧ露光工程ＤとＢ露光工程Ｅと定着，
固定工程Ｆとでなる。本製造方法に用いられる基盤は、
ブラックマトリックス基盤１０であり、ガラス１０ａ上
に、格子状又はスプライト状のブラックマトリックス線
１０ｂが形成されている。

【００１３】まず、フィルター剤塗布工程Ａにおいて、
上記基盤１０上にフィルター剤１を塗布する。このフィ
ルター剤１は、感光性高分子材料であるデュポン社製の
「ＯＭＮＩ−ＤＥＸ」である。そして、乾燥工程Ｂにお
いて、塗布したフィルター剤１を乾燥した後、Ｒ露光工
程Ｃに移行する。

【００１４】Ｒ露光工程Ｃにおいては、図２に示すホロ
グラム（ｈｏｌｏｇｒａｍ）装置２が用いられる。ホロ
グラム装置２は、レーザー発振器３とミラー４とシャッ
ター５とビームエキスパンダー６と台座７とを具備して
いる。レーザー発振器３は、波長６４７（ｎｍ）のＫr
（クリプトン）レーザーＬ1と、波長５１４（ｎｍ）の
Ａr（アルゴン）レーザーＬ2と、波長４８８（ｎｍ）の
ＡrレーザーＬ3とを選択的に発振可能な機器である。ま
た、台座７上には、反射面をビームエキスパンダー６側
に向けたミラー８が取り付けられている。Ｒ露光工程Ｃ
では、乾燥工程Ｂを終了した基盤１０をこのミラー８の
上に固定することにより、基盤１０をミラー８とマスク
１３との間に介在させて露光する。具体的には、レーザ
ーＬ1をレーザー発振器３から例えば５００ｍＪ／平方
センチメートルのパワーで発振し、ミラー４で反射した
レーザーＬ1をシャッター５で絞った後、ビームエキス
パンダー６で平行光にし、このレーザーＬ1をマスク１
３を介して、基盤１０のフィルター剤１の表面に９０度
の角度で入射させる。

【００１５】図３に示すように、レーザーＬ1が基盤１
０のフィルター剤１に入射すると、レーザーＬ1は、フ
ィルター剤１とガラス１０ａとを通過してミラー８に至
り、反射される。したがって、入射レーザーＬ1と反射
レーザーＬ1との干渉現象がフィルター剤１内で発生す
ることとなる。ところで、フィルター剤１であるデュポ
ン社製の「ＯＭＮＩ−ＤＥＸ」は、図４の（ａ）に示す
ように、初期状態では、モノマー１ａがマトリックスポ
リマー１ｂに均一に分散している。そして、上記のよう
に、レーザーＬ1がこのフィルター剤１内で干渉する
と、図４の（ｂ）に示すように、モノマー１ａが、光が
強められた干渉部分に移動し、重合反応を起こす。した
がって、モノマー１ａの濃度が場所によって変わり、屈
折率変調が生じする。すなわち、斜線を施した重合反応
済みのモノマー１ａ´の層がレーザーＬ1の１／２波長
（３２３．５ｎｍ）の間隔で多数形成される。この結
果、屈折率が異なる層が交互に積層された状態になり、
図１に示すマスク孔１３ａ真下のフィルター剤１部分
に、３２３．５ｎｍ間隔のモノマー１ａ´の層を有した
Ｒ部分Ｒ１が形成される。これにより、図１のＲ露光工
程Ｃが終了し、Ｇ露光工程Ｄに移行する。

【００１６】Ｇ露光工程Ｄにおいては、マスク孔１３ａ
の位置をずらし、レーザーＬ2を、例えば３０ｍＪ／平
方センチメートルのパワーで図２のレーザー発振器３か
ら発振する。これにより、レーザーＬ1の場合と同様
に、モノマー１ａ´の層が１／２波長（２５７ｎｍ）の
間隔で形成される。この結果、かかる層を有したＧ部分
Ｇ１がマスク孔１３ａの真下に形成され、Ｂ露光工程Ｅ
への移行が行われる。Ｂ露光工程Ｅにおいても、Ｒ露光
工程Ｃ，Ｇ露光工程Ｄとほぼ同様に、パワーが例えば２
５ｍＪ／平方センチメートルのレーザーＬ3をレーザー
発振器３から発振することで、１／２波長（２４４ｎ
ｍ）の間隔のモノマー１ａ´層を有したＢ部分Ｂ１がマ
スク孔１３ａの真下に形成される。かかるＧ露光工程Ｄ
の終了後、定着，固定工程Ｆに移行する。

【００１７】定着，固定工程Ｆは、モノマー１ａの重合
を完了させる工程である。すなわち、図４の（ｂ）に示
すように、レーザーＬ1〜Ｌ3の照射だけでは、未反応の
モノマー１ａが多少残存する。したがって、１００ｍＪ
／平方センチメートルの紫外光ＵＶ（または可視光）を
フィルター剤１の全面に照射することにより、未反応の
モノマー１ａを反応させて重合を完了する。さらに、フ
ィルター剤１の部分を例えば１２０°Ｃの温度で２時間
加熱して、屈折率変調度の増強を行う。これにより、Ｒ
部分Ｒ１，Ｇ部分Ｇ１，Ｂ部分Ｂ１を有した干渉型カラ
ーフィルター３０が製造される。

【００１８】次に、本実施形態の製造方法で製造した干
渉型カラーフィルター３０の特性について説明する。図
５に示すように、Ｒ部分Ｒ１，Ｇ部分Ｇ１，Ｂ部分Ｂ１
が並んだ干渉型カラーフィルター３０の表面側から、白
色光ｗを照射する。Ｒ部分Ｒ１においては、モノマー１
ａ´の層が３２３．５ｎｍ間隔で形成されているので、
入射光がモノマー１ａ´の層と他の層との界面で反射，
干渉を繰り返し、６４７ｎｍの赤色光Ｒのみが強められ
て干渉型カラーフィルター３０の表面側に出てくる。Ｇ
部分Ｇ１，Ｂ部分Ｂ１においても同様にして５１４ｎｍ
の緑色光Ｇ，４８８ｎｍの青色光Ｂのみが表面側に出て
くる。すなわち、干渉型カラーフィルター３０は、Ｒ部
分Ｒ１で赤色光Ｒを、Ｇ部分Ｇ１で緑色光Ｇを、Ｂ部分
Ｂ１で青色光Ｂをフィルタリングするカラーフィルター
としての特性を示す。

【００１９】図６は、干渉型カラーフィルター３０の分
光特性図であり、赤色光Ｒ，緑色光Ｇ，青色光Ｂの特性
曲線が、６４７ｎｍ，５１４ｎｍ，４８８ｎｍのところ
で先鋭に立ち上がっている。これに対して、従来の顔料
を分散した吸収型のカラーフィルターでは、図１２に示
すように、赤色光Ｒ，緑色光Ｇ，青色光Ｂの特性曲線が
先鋭に立ち上がっていない。したがって、本実施形態の
製造方法で製造した干渉型カラーフィルター３０を用い
ることで、従来の吸収型カラーフィルターよりも、色度
図の広い範囲を再現することができる。なお、色の再現
領域は、干渉型カラーフィルター３０の厚みをコントロ
ールすることで調整可能である。すなわち、フィルター
剤塗布工程Ａでフィルター剤１の厚さを調整すること
で、図６に示す赤色光Ｒ，緑色光Ｇ，青色光Ｂの特性曲
線の幅を変えることができる。

【００２０】このように、本実施形態の液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法によれば、色特性の良
い干渉型カラーフィルター３０を製造することができ
る。また、図１３に示した従来の吸収型カラーフィルタ
ー２０のようにオーバーコート剤１７を使用する必要が
ないので、干渉型カラーフィルター３０の表面に凸凹が
発生しない。したがって、この干渉型カラーフィルター
３０を用いれば、ＬＣＤのパネルギャップの狭小化が可
能となり、高速応答性など、ＬＣＤの高性能化が可能と
なる。また、従来の吸収型カラーフィルター２０を製造
するには、Ｒ，Ｇ，Ｂ部分１４〜１６形成のために、フ
ィルター剤塗布工程から乾燥，定着工程にいたる複雑な
工程を３回も繰り返さなければならなかった。一方、従
来の干渉型カラーフィルターの製造では、屈折率が異な
る多層の薄膜を、スパッタリングなどを繰り返して形成
しなければならなかった。このため、従来の吸収型及び
干渉型カラーフィルターでは、複雑且つ多数の工程が必
要であり、製造コストが著しく高くついていた。これに
対して、本実施形態の製造方法では、図１に示すよう
に、Ｒ露光工程Ｃ，Ｇ露光工程Ｄ，Ｂ露光工程Ｅを連続
して行うことで、干渉型カラーフィルター３０のＲ部分
Ｒ１，Ｇ部分Ｇ１，Ｂ部分Ｂ１を一度に形成することが
できる。さらに、Ｒ部分Ｒ１，Ｇ部分Ｇ１，Ｂ部分Ｂ１
内の屈折率が異なる層を形成する際にも、スパッタリン
グなどを繰り返す必要がなく、露光によって一度に形成
することができる。したがって、本実施形態の製造方法
によれば、少ない工程で、高性能の干渉型カラーフィル
ター３０を製造することができるので、製造コストを大
きく削減することができる。

【００２１】（第２の実施形態）次いで、本発明の第２
の実施形態に係る液晶ディスプレイ用カラーフィルター
の製造方法について説明する。本実施形態の液晶ディス
プレイ用カラーフィルターの製造方法は、複数光を反射
して取り出すことができる干渉型カラーフィルターの製
造方法である。この製造方法は、図１において、基盤１
０にフィルター剤１を塗布するフィルター剤塗布工程Ａ
と、フィルター剤１を乾燥させる乾燥工程Ｂと、定着，
固定工程Ｆとを具備する点は上記第１の実施形態と同様
であるが、乾燥工程Ｂと定着，固定工程Ｆとの間の露光
工程が異なる。したがって、重複記載を避けるため、こ
こでは、露光工程についてのみ説明する。

【００２２】赤色光Ｒ，緑色光Ｇを反射可能な干渉型カ
ラーフィルターを製造する際の露光工程では、乾燥工程
Ｂの終了後、まず、パワーが例えば２００ｍＪ／平方セ
ンチメートルのレーザーＬ1を基盤１０のフィルター剤
１に照射する。これにより、レーザーＬ1の１／２波長
（３２３．５ｎｍ）の間隔で、モノマー１ａ´の層がフ
ィルター剤１に形成される。しかる後、パワーが例えば
１０ｍＪ／平方センチメートルのレーザーＬ2をフィル
ター剤１に照射すると、レーザーＬ2の１／２波長（２
５７ｎｍ）の間隔でモノマー１ａ´の層が形成される。
すなわち、レーザーＬ1とレーザーＬ2の波長が異なるこ
とから、フィルター剤１内には、図７の（ａ）に示すよ
うに、レーザーＬ1によるモノマー１ａ´の層Ｒ２とレ
ーザーＬ2によるモノマー１ａ´の層Ｇ２とが形成され
ることとなる。しかる後、定着，固定工程Ｆに移行し、
紫外光ＵＶ（または可視光）の照射と加熱とを行って、
重合を完成させることで、干渉型カラーフィルター３１
が製造される。

【００２３】このようにして製造された干渉型カラーフ
ィルター３１は、図７の（ａ）に示すように、白色光ｗ
が照射されると、層Ｒ２で赤色光Ｒが反射され、層Ｇ２
で緑色光Ｇが反射されて、赤色光Ｒ，緑色光Ｇの２つの
光が取り出される。図８は、上記干渉型カラーフィルタ
ー３１の分光特性図である。図８に示すように、干渉型
カラーフィルター３１によれば、６４７ｎｍ，５１４ｎ
ｍのところで先鋭に立ち上がる赤色光Ｒ，緑色光Ｇの特
性曲線を得ることができ、干渉型カラーフィルター３１
の色特性が非常に優れていることが判る。

【００２４】また、赤色光Ｒ，青色光Ｂを反射可能な干
渉型カラーフィルターを製造する際の露光工程では、レ
ーザーＬ1をフィルター剤１に照射後、レーザーＬ3を照
射する。これにより、図７の（ｂ）に示すように、フィ
ルター剤１にレーザーＬ1によるモノマー１ａ´の層Ｒ
２が形成され、レーザーＬ3による２４４ｎｍ間隔のモ
ノマー１ａ´の層Ｂ２が形成される。しかる後、定着，
固定工程Ｆを行うことで、赤色光Ｒ，青色光Ｂの２つの
光を反射する干渉型カラーフィルター３２が製造され
る。同様に、緑色光Ｇ，青色光Ｂを反射可能な干渉型カ
ラーフィルターを製造する際の露光工程では、レーザー
Ｌ2とレーザーＬ3とをフィルター剤１に照射して、図７
の（ｃ）に示すように、層Ｇ２，層Ｂ２をフィルター剤
１に形成する。

【００２５】従来の干渉型カラーフィルターでは、特定
の波長に対して一義的に設計を行うため、複数の光を同
時にフィルタリングする構造にすることは困難であっ
た。しかし、本実施形態の製造方法によれば、上記した
ように、定着，固定工程Ｆの前であれば、フィルター剤
１を複数のレーザー光で多重に露光することができるの
で、複数の光を同時にフィルタリングする構造の干渉型
カラーフィルター３１を容易に製造することができる。

【００２６】ところで、図７に示すように、白色光ｗを
照射すると、干渉型カラーフィルター３１〜３３が、赤
色光Ｒ及び緑色光Ｇ，赤色光Ｒ及び青色光Ｂ，緑色光Ｇ
及び青色光Ｂを表面側に反射するということは、青色光
Ｂ，緑色光Ｇ，赤色光Ｒが、干渉型カラーフィルター３
１〜３３を透過して裏面側に出てくることを意味する。
したがって、図９に示すように、干渉型カラーフィルタ
ー３１〜３３の一方側から白色光ｗを照射すると、青色
光Ｂ，緑色光Ｇ，赤色光Ｒを他方側で取り出せることと
なり、干渉型カラーフィルター３１〜３３を透過型カラ
ーフィルターとして使用することができる。すなわち、
本実施形態の製造方法は、干渉型カラーフィルター３１
〜３３だけでなく、透過型カラーフィルター３１〜３３
をも製造することができる。このように製造された透過
型カラーフィルター３１〜３３は、反射，干渉を利用し
て光を取り出すものではなく、カラーフィルターを透過
した青色光Ｂ，緑色光Ｇ，赤色光Ｒを取り出すので、視
角依存性がほとんど無い。その他の構成，作用効果は上
記第１の実施形態と同様であるので、その記載は省略す
る。

【００２７】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の変
形や変更が可能である。例えば、上記実施形態では、レ
ーザー光をフィルター剤１内で干渉させるホログラム光
学系として、図２のホログラム装置２を適用したが、図
１０に示すようなホログラム光学系を適用しても良い。
このホログラム光学系は、一般的に使用されているもの
で、カラーフィルターの使用方法（視認方向など）に対
応させて、レーザー光の干渉させ方を調整することがで
きるようになっている。すなわち、レーザー光源４０か
らのレーザー光Ｌをシャッタ４１を介してハーフミラー
４２に送出し、ハーフミラー４２で反射したレーザー光
Ｌを参照光Ｌとし、ハーフミラー４２を透過したレーザ
ー光Ｌを物体光Ｌとする。そして、参照光Ｌをスペーシ
ャルフィルター４３で広げ、コリメーションレンズ４４
で平行光にして、ミラー４５に入射させる。一方、物体
光Ｌは、ミラー４６で反射させて、スペーシャルフィル
ター４７，コリメーションレンズ４８，投影レンズ４９
を介して、集光レンズ５０に送出する。これにより、物
体光Ｌが集光レンズ５０を介してフィルター剤１の一方
側に照射し、参照光Ｌがミラー４５の角度でフィルター
剤１の他方側に照射する。したがって、物体光Ｌと参照
光Ｌとがフィルター剤１内で干渉するが、ミラー４５の
角度を変化させることで、干渉のさせ方を調整すること
ができる。また、上記第１の実施形態では、Ｒ露光工程
Ｃ，Ｇ露光工程Ｄ，Ｂ露光工程Ｅの順序で露光を行った
が、これらの工程の順序は任意である。同様に、上記第
２の実施形態における２つのレーザー光の照射順序も任
意である。さらに、上記実施形態では、感光性高分子材
料として、デュポン社製の「ＯＭＮＩ−ＤＥＸ」を用い
たが、これに限るものではなく、光の干渉部分の屈折率
が変化し、材料内の屈折率の差を固定，定着することが
できる材料であるならば良い。

【００２８】

【発明の効果】以上詳しく説明したように、請求項１の
発明によれば、感光性高分子材料に特定波長の光を照射
して、固定するだけで、干渉部分に屈折率が異なる層を
一度に形成することができるので、カラーフィルター製
造工程の削減を図ることができ、この結果、製造コスト
の低廉化を図ることができるという優れた効果がある。
また、カラーフィルターの表面にオーバーコート剤など
を塗布しないので、このカラーフィルターを使用すれ
ば、高速応答性など、ＬＣＤの高性能化が可能となる。

【００２９】請求項２の発明によれば、従来の干渉型カ
ラーフィルターの製造方法では、困難とされていた複数
光の同時フィルタリングが可能な干渉型カラーフィルタ
ーを容易に製造することができるという効果がある。ま
た、視角依存性がほとんど無い透過型カラーフィルター
をも製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係る液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法の工程図である。

【図２】図１の露光工程で適用されるホログラム装置の
概略図である。

【図３】露光時におけるレーザー光の干渉を示す断面図
である。

【図４】フィルター剤の重合状態を示す説明図であり、
図４の（ａ）は初期状態を示し、図４の（ｂ）は露光時
の状態を示し、図４の（ｃ）は固定，定着時の状態を示
す。

【図５】製造された干渉型カラーフィルターのフィルタ
リング作用を示す概略断面図である。

【図６】干渉型カラーフィルターの分光特性図である。

【図７】本発明の第２の実施形態に係る液晶ディスプレ
イ用カラーフィルターの製造方法で製造された干渉型カ
ラーフィルターのフィルタリング作用を示す概略断面図
であり、図７の（ａ）は赤色光及び緑色光のフィルタリ
ングを示し、図７の（ｂ）は赤色光及び青色光のフィル
タリングを示し、図７の（ｃ）は緑色光及び青色光のフ
ィルタリングを示す。

【図８】赤色光及び緑色光用の干渉型カラーフィルター
が示す分光特性図である。

【図９】透過型カラーフィルターのフィルタリング作用
を示す概略断面図であり、図９の（ａ）は青色光のフィ
ルタリングを示し、図９の（ｂ）は緑色光のフィルタリ
ングを示し、図９の（ｃ）は赤色光のフィルタリングを
示す。

【図１０】ホログラム光学系の他の例を示す概略図であ
る。

【図１１】従来の干渉型カラーフィルターを示す概略図
である。

【図１２】図１１の干渉型カラーフィルターの分光特性
図である。

【図１３】従来の干渉型カラーフィルターの製造方法を
示す工程図である。

【符号の説明】

１・・・フィルター剤、 １ａ・・・モノマー、 １ａ
´・・・重合済みモノマー、 １０・・・基盤、 ３０
・・・干渉型カラーフィルター、 Ａ・・・フィルター
剤塗布工程、 Ｃ・・・Ｒ露光工程、 Ｄ・・・Ｇ露光
工程、 Ｅ・・・Ｂ露光工程、 Ｆ・・・定着，固定工
程、 Ｌ1，Ｌ2，Ｌ3・・・レーザー。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光性高分子材料に特定波長の光を照射
   して、この光を上記感光性高分子材料内で干渉させるこ
   とにより、非干渉部分の屈折率と異なる屈折率を有した
   層を光が強められる干渉部分に形成する露光工程と、 上記露光工程で形成した上記層を固定する固定工程と、 を具備することを特徴とする液晶ディスプレイ用カラー
   フィルターの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の液晶ディスプレイ用カ
   ラーフィルターの製造方法において、 上記露光工程は、 異なる波長の複数の光を順次照射して、各光を上記感光
   性高分子材料内で各々干渉させることにより、屈折率が
   異なる複数の層を各光の干渉部分に形成するものであ
   る、 ことを特徴とする液晶ディスプレイ用カラーフィルター
   の製造方法。