JPH1036894A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
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- JPH1036894A JPH1036894A JP385297A JP385297A JPH1036894A JP H1036894 A JPH1036894 A JP H1036894A JP 385297 A JP385297 A JP 385297A JP 385297 A JP385297 A JP 385297A JP H1036894 A JPH1036894 A JP H1036894A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属部品等への油やフラックス等の汚れに対
し、ＣＦＣ−１１３等のクロロフルオロカーボンと同
様、不燃性、低毒性で優れた洗浄効果が得られ、オゾン
層を破壊する恐れがない新規なハイドロフルオロカーボ
ン系溶剤を用いた洗浄方法の提供。 【解決手段】 被洗浄物品を、沸点が３０〜１５０℃の
範囲のハイドロフルオロカーボンまたはハイドロフルオ
ロエーテル（ＨＦＣ／Ｅ）もしくはそれらの混合物液体
と、該ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点よりも５０℃以上高い沸点
を有し、且つ該ＨＦＣ／Ｅと相溶性のあるグリコールエ
ーテル、エステル等の有機化合物との混合物の温浴を用
いて汚れを除去し、次いで該ＨＦＣ／Ｅ単体にて被洗浄
部品に付着した有機化合物をすすいで除去することから
なる物品の洗浄方法。
し、ＣＦＣ−１１３等のクロロフルオロカーボンと同
様、不燃性、低毒性で優れた洗浄効果が得られ、オゾン
層を破壊する恐れがない新規なハイドロフルオロカーボ
ン系溶剤を用いた洗浄方法の提供。 【解決手段】 被洗浄物品を、沸点が３０〜１５０℃の
範囲のハイドロフルオロカーボンまたはハイドロフルオ
ロエーテル（ＨＦＣ／Ｅ）もしくはそれらの混合物液体
と、該ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点よりも５０℃以上高い沸点
を有し、且つ該ＨＦＣ／Ｅと相溶性のあるグリコールエ
ーテル、エステル等の有機化合物との混合物の温浴を用
いて汚れを除去し、次いで該ＨＦＣ／Ｅ単体にて被洗浄
部品に付着した有機化合物をすすいで除去することから
なる物品の洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、精密機械工業、光
学機械工業や電子工業等において金属部品・プラスチッ
ク部品・ガラス部品等に付着した油汚れ等、特にフラッ
クスを効率的に除去する洗浄方法であり、さらには高度
に弗素化されたハイドロフルオロカーボンまたはハイド
ロフルオロエーテル液体を用いる洗浄方法に関するもの
である。
学機械工業や電子工業等において金属部品・プラスチッ
ク部品・ガラス部品等に付着した油汚れ等、特にフラッ
クスを効率的に除去する洗浄方法であり、さらには高度
に弗素化されたハイドロフルオロカーボンまたはハイド
ロフルオロエーテル液体を用いる洗浄方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来、上記金属部品等の洗浄方法におい
ては、洗浄液として１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタン（以下、ＣＦＣ−１１３とい
う。）にアルコール類または水及び界面活性剤を添加し
たものが多く使用されてきた。しかし、近年オゾン問題
によりＣＦＣ−１１３のようなクロロフルオロカーボン
（以下、ＣＦＣという）の使用は規制されている。
ては、洗浄液として１，１，２−トリクロロ−１，２，
２−トリフルオロエタン（以下、ＣＦＣ−１１３とい
う。）にアルコール類または水及び界面活性剤を添加し
たものが多く使用されてきた。しかし、近年オゾン問題
によりＣＦＣ−１１３のようなクロロフルオロカーボン
（以下、ＣＦＣという）の使用は規制されている。
【０００３】ＣＦＣ−１１３の代替品として、炭化水素
のすべての水素原子が弗素原子で置換されたパーフルオ
ロカーボン（以下、ＦＣという。）液体や、炭化水素の
水素原子の一部が弗素原子のみで置換され、塩素原子を
含まないハイドロフルオロカーボン（以下、ＨＦＣとい
う。）液体を洗浄液として用いることができ、これらＦ
ＣあるいはＨＦＣ洗浄液は、ＣＦＣ−１１３等のＣＦＣ
液体と同様、低毒性、不燃性、低腐食性であり、しかも
塩素を含まないのでオゾン層を破壊する恐れがないが、
汚れ成分の溶解力（以下、洗浄力という。）が劣るた
め、先ず被洗浄物を洗浄力に優れたハイドロカーボン
（以下、ＨＣという。）系液体、例えば石油系洗浄液、
テルペン系洗浄液、又はアルコール系洗浄液等で洗浄し
た後、被洗浄物に付着した洗浄液をＦＣ液体或いはＨＦ
Ｃ液体ですすぎ洗浄を行なう方法、或いはＦＣ液体もし
くはＨＦＣ液体とＨＣ系液体との混合物で洗浄した後、
ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ洗浄を行う方法が提
唱されている。
のすべての水素原子が弗素原子で置換されたパーフルオ
ロカーボン（以下、ＦＣという。）液体や、炭化水素の
水素原子の一部が弗素原子のみで置換され、塩素原子を
含まないハイドロフルオロカーボン（以下、ＨＦＣとい
う。）液体を洗浄液として用いることができ、これらＦ
ＣあるいはＨＦＣ洗浄液は、ＣＦＣ−１１３等のＣＦＣ
液体と同様、低毒性、不燃性、低腐食性であり、しかも
塩素を含まないのでオゾン層を破壊する恐れがないが、
汚れ成分の溶解力（以下、洗浄力という。）が劣るた
め、先ず被洗浄物を洗浄力に優れたハイドロカーボン
（以下、ＨＣという。）系液体、例えば石油系洗浄液、
テルペン系洗浄液、又はアルコール系洗浄液等で洗浄し
た後、被洗浄物に付着した洗浄液をＦＣ液体或いはＨＦ
Ｃ液体ですすぎ洗浄を行なう方法、或いはＦＣ液体もし
くはＨＦＣ液体とＨＣ系液体との混合物で洗浄した後、
ＦＣ液体或いはＨＦＣ液体ですすぎ洗浄を行う方法が提
唱されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、洗浄に
使用される石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又は高級
アルコール系洗浄液等は、洗浄力は優れているものの、
ＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体に難溶性であるため、これ
らの洗浄液は被洗浄物表面に付着したまま除去されない
ため、被洗浄物のすすぎ不良が起こり使用することが出
来なかった。また、ＨＦＣ液体に相溶性のある低級アル
コール類は沸点が低く、引火性という欠点があった。
使用される石油系洗浄液、テルペン系洗浄液、又は高級
アルコール系洗浄液等は、洗浄力は優れているものの、
ＦＣ液体もしくはＨＦＣ液体に難溶性であるため、これ
らの洗浄液は被洗浄物表面に付着したまま除去されない
ため、被洗浄物のすすぎ不良が起こり使用することが出
来なかった。また、ＨＦＣ液体に相溶性のある低級アル
コール類は沸点が低く、引火性という欠点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ＨＦＣ液
体と混合して用いる有機化合物として、ＨＦＣと相溶性
が有り、且つ高沸点の有機化合物を用いることにより、
被洗浄物に付着した洗浄液のすすぎ不良や引火の危険が
なく、被洗浄物表面の汚れをきれいに落とすことができ
ることを見いだした。
体と混合して用いる有機化合物として、ＨＦＣと相溶性
が有り、且つ高沸点の有機化合物を用いることにより、
被洗浄物に付着した洗浄液のすすぎ不良や引火の危険が
なく、被洗浄物表面の汚れをきれいに落とすことができ
ることを見いだした。
【０００６】即ち本発明は、被洗浄物品を、沸点が３０
〜１５０℃の範囲のハイドロフルオロカーボン（ＨＦ
Ｃ）またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）もしく
はそれらの混合物液体と、該ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の
沸点よりも５０℃以上高い沸点を有し、且つ該ＨＦＣま
たはＨＦＥと相溶性のある有機化合物との混合物の温浴
を用いて汚れを除去し、次いで該ＨＦＣまたはＨＦＥ単
体にて被洗浄部品に付着した有機化合物をすすいで除去
することを特徴とする物品の洗浄方法である。
〜１５０℃の範囲のハイドロフルオロカーボン（ＨＦ
Ｃ）またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）もしく
はそれらの混合物液体と、該ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の
沸点よりも５０℃以上高い沸点を有し、且つ該ＨＦＣま
たはＨＦＥと相溶性のある有機化合物との混合物の温浴
を用いて汚れを除去し、次いで該ＨＦＣまたはＨＦＥ単
体にて被洗浄部品に付着した有機化合物をすすいで除去
することを特徴とする物品の洗浄方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】ここでハイドロフルオロカーボン
（ＨＦＣ）とは、炭化水素の水素原子の一部が弗素原子
のみで置換され、塩素原子を含まない弗素化炭化水素で
あり、ハイドロフルオロエーテル（以下、ＨＦＥとい
う。）とはエーテル類の水素原子の一部が弗素原子のみ
で置換され、塩素原子を含まない弗素化エーテルであ
る。
（ＨＦＣ）とは、炭化水素の水素原子の一部が弗素原子
のみで置換され、塩素原子を含まない弗素化炭化水素で
あり、ハイドロフルオロエーテル（以下、ＨＦＥとい
う。）とはエーテル類の水素原子の一部が弗素原子のみ
で置換され、塩素原子を含まない弗素化エーテルであ
る。
【０００８】本発明で用いられるＨＦＣまたはＨＦＥ液
体としては沸点が３０〜１５０℃のものである。（以下
ＨＦＣ、ＨＦＥの両者を総称して「ＨＦＣ／Ｅ」とい
う。）ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点が３０℃未満では、蒸発ロ
スが大きく、水の結露の問題もある。また、ＨＦＣ液体
の沸点が１５０℃を越えるとその蒸発速度が遅くなり、
被洗浄物品表面に残存するＨＦＣ／Ｅが汚れを濃縮した
状態で液滴となり、その蒸発した後に汚れが集中した部
分を被洗浄物表面に形成する原因になる。
体としては沸点が３０〜１５０℃のものである。（以下
ＨＦＣ、ＨＦＥの両者を総称して「ＨＦＣ／Ｅ」とい
う。）ＨＦＣ／Ｅ液体の沸点が３０℃未満では、蒸発ロ
スが大きく、水の結露の問題もある。また、ＨＦＣ液体
の沸点が１５０℃を越えるとその蒸発速度が遅くなり、
被洗浄物品表面に残存するＨＦＣ／Ｅが汚れを濃縮した
状態で液滴となり、その蒸発した後に汚れが集中した部
分を被洗浄物表面に形成する原因になる。
【０００９】このようなＨＦＣ／Ｅのうち、ＨＦＣとし
ては具体的には１，１，１，２，３，４，４，５，５，
５−デカフルオロペンタン（以下、ＨＦＣ４３−１０ｍ
ｅｅという。沸点５５℃）、１，１，２，２，３，３，
４，４−オクタフルオロブタン（以下、３３８ｐｃｃと
いう。沸点４４℃）などがあり、ＨＦＥとしては１，
２，２，２−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプ
ロピルエーテル（沸点４０℃）、１，１，１，２，３，
３−ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ
−３−（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−
プロパン（沸点１０４℃）などを挙げることができる。
ては具体的には１，１，１，２，３，４，４，５，５，
５−デカフルオロペンタン（以下、ＨＦＣ４３−１０ｍ
ｅｅという。沸点５５℃）、１，１，２，２，３，３，
４，４−オクタフルオロブタン（以下、３３８ｐｃｃと
いう。沸点４４℃）などがあり、ＨＦＥとしては１，
２，２，２−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプ
ロピルエーテル（沸点４０℃）、１，１，１，２，３，
３−ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ
−３−（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−
プロパン（沸点１０４℃）などを挙げることができる。
【００１０】該ＨＦＣ／Ｅ液体と混合して用いる有機化
合物（以下、単に有機化合物という。）は、その沸点が
ＨＦＣ液体の沸点よりも５０℃以上、好ましくは１００
℃以上高く、且つＨＦＣ／Ｅ液体と相溶性のあるもので
ある。
合物（以下、単に有機化合物という。）は、その沸点が
ＨＦＣ液体の沸点よりも５０℃以上、好ましくは１００
℃以上高く、且つＨＦＣ／Ｅ液体と相溶性のあるもので
ある。
【００１１】ＨＦＣ／Ｅ液体と相溶性がない有機化合物
で洗浄すると、被洗浄物品の表面に付着した有機化合物
をＨＦＣ／Ｅですすぎ落とすことが困難であり、また、
有機化合物の沸点がＨＦＣ／Ｅ液体の沸点よりも５０℃
以上、好ましくは１００℃以上高くないと、ＨＦＣ／Ｅ
液体の沸点以上の温度にならないので加熱による洗浄効
果が期待できず、また引火性の低減という効果が期待で
きない。
で洗浄すると、被洗浄物品の表面に付着した有機化合物
をＨＦＣ／Ｅですすぎ落とすことが困難であり、また、
有機化合物の沸点がＨＦＣ／Ｅ液体の沸点よりも５０℃
以上、好ましくは１００℃以上高くないと、ＨＦＣ／Ｅ
液体の沸点以上の温度にならないので加熱による洗浄効
果が期待できず、また引火性の低減という効果が期待で
きない。
【００１２】このような有機化合物として、沸点がＨＦ
Ｃ／Ｅの沸点よりも５０℃以上高いグリコールエーテル
或いはエステル系化合物が好適であり、また両者の混合
物を用いることもできる。具体的には、グリコールエー
テルとしてトリエチレングリコールジメチルエーテル
等、エステル系化合物としてジメチルコハク酸、ジメチ
ルグルタル酸、ジメチルアジピン酸、或いはそれらの混
合物等を例示することが出来る。
Ｃ／Ｅの沸点よりも５０℃以上高いグリコールエーテル
或いはエステル系化合物が好適であり、また両者の混合
物を用いることもできる。具体的には、グリコールエー
テルとしてトリエチレングリコールジメチルエーテル
等、エステル系化合物としてジメチルコハク酸、ジメチ
ルグルタル酸、ジメチルアジピン酸、或いはそれらの混
合物等を例示することが出来る。
【００１３】ＨＦＣ／Ｅ液体およびそれと相溶性の有る
有機化合物との混合比率は両成分の種類、両者の沸点差
や、被洗浄物品の汚れの程度等にもよるが、ＨＦＣ／Ｅ
液体／有機化合物（重量比）＝１０／９０〜７０／３０
の範囲で混合するのが好ましい。ＨＦＣ／Ｅ液体に対し
有機化合物の量が少ないと洗浄力が低下し、また多すぎ
ると引火性が高くなったり、次工程のＨＦＣ／Ｅによる
有機化合物のすすぎ不良となるので好ましくない。
有機化合物との混合比率は両成分の種類、両者の沸点差
や、被洗浄物品の汚れの程度等にもよるが、ＨＦＣ／Ｅ
液体／有機化合物（重量比）＝１０／９０〜７０／３０
の範囲で混合するのが好ましい。ＨＦＣ／Ｅ液体に対し
有機化合物の量が少ないと洗浄力が低下し、また多すぎ
ると引火性が高くなったり、次工程のＨＦＣ／Ｅによる
有機化合物のすすぎ不良となるので好ましくない。
【００１４】本発明の洗浄方法は、フラックス等の汚れ
の洗浄に好適に使用される。本発明においては、先ず被
洗浄物品を、ＨＦＣ／Ｅと有機化合物との混合物を用い
て汚れを除去し、次いで被洗浄物品に付着した有機化合
物を該ＨＦＣ／Ｅ単体にてすすぐ。
の洗浄に好適に使用される。本発明においては、先ず被
洗浄物品を、ＨＦＣ／Ｅと有機化合物との混合物を用い
て汚れを除去し、次いで被洗浄物品に付着した有機化合
物を該ＨＦＣ／Ｅ単体にてすすぐ。
【００１５】このような方法で物品を洗浄するには、図
１に示すような、ＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物を充
填した槽（洗浄槽）、ＨＦＣ／Ｅを充填した槽（すすぎ
槽）を１つの容器中に収容したものでそれぞれの上部は
共通の空間となっており、洗浄槽とすすぎ槽の蒸気層が
共有されている洗浄装置が適している。
１に示すような、ＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物を充
填した槽（洗浄槽）、ＨＦＣ／Ｅを充填した槽（すすぎ
槽）を１つの容器中に収容したものでそれぞれの上部は
共通の空間となっており、洗浄槽とすすぎ槽の蒸気層が
共有されている洗浄装置が適している。
【００１６】以下、本発明の方法を添付図面に基づいて
具体的に説明する。図１において、洗浄装置１の底部に
複数の槽、２，３及び４が設置され、これらは仕切壁１
０、１１等により仕切られている。また洗浄装置１は頂
部が開放されており、その上部の側面上に冷却部６を有
する。冷却部６は、ＨＦＣ／Ｅ蒸気のロスを防ぐ目的で
頂部近くに、又被洗浄物の出し入れに邪魔にならないよ
うに側面に設けられている。
具体的に説明する。図１において、洗浄装置１の底部に
複数の槽、２，３及び４が設置され、これらは仕切壁１
０、１１等により仕切られている。また洗浄装置１は頂
部が開放されており、その上部の側面上に冷却部６を有
する。冷却部６は、ＨＦＣ／Ｅ蒸気のロスを防ぐ目的で
頂部近くに、又被洗浄物の出し入れに邪魔にならないよ
うに側面に設けられている。
【００１７】洗浄槽２は、ＨＦＣ／Ｅおよびそれと相溶
性を有する有機化合物との混合溶剤を収容する温浴であ
り、ヒーター７で加熱され、またその洗浄効果を高める
ため撹拌機８を取り付けても良い。被洗浄物品は、洗浄
装置１の上部開口部より装置内に導入され、所望の割合
で混合されたＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物を収容し
た洗浄槽２に浸漬され、被洗浄物品表面に付着した汚れ
を除去する。
性を有する有機化合物との混合溶剤を収容する温浴であ
り、ヒーター７で加熱され、またその洗浄効果を高める
ため撹拌機８を取り付けても良い。被洗浄物品は、洗浄
装置１の上部開口部より装置内に導入され、所望の割合
で混合されたＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物を収容し
た洗浄槽２に浸漬され、被洗浄物品表面に付着した汚れ
を除去する。
【００１８】洗浄槽２の温度は高い温度であることが洗
浄効果を高める意味で好ましいが、一方、混合物が沸騰
する温度を用いた場合には、混合物の蒸発により液組成
が変化してくるという問題がある。そのため、洗浄槽の
温度は通常ＨＦＣ／Ｅの沸点と混合物の沸点との間で、
且つ被洗浄物品が熱による損傷を受けない温度が採用さ
れる。
浄効果を高める意味で好ましいが、一方、混合物が沸騰
する温度を用いた場合には、混合物の蒸発により液組成
が変化してくるという問題がある。そのため、洗浄槽の
温度は通常ＨＦＣ／Ｅの沸点と混合物の沸点との間で、
且つ被洗浄物品が熱による損傷を受けない温度が採用さ
れる。
【００１９】洗浄が終了した被洗浄物品は、その表面に
ＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物が付着している。有機
化合物が被洗浄物品表面に残存していると、有機化合物
に溶解された汚れが被洗浄物品表面にシミを作る原因と
なる恐れがあること、及び蒸発速度が遅いために乾燥に
時間がかかるという問題があるので、被洗浄物品をすす
ぎ槽中、ＨＦＣ／Ｅ単体ですすぐことにより混合物中の
有機化合物をＨＦＣ／Ｅと置換する。
ＨＦＣ／Ｅと有機化合物の混合物が付着している。有機
化合物が被洗浄物品表面に残存していると、有機化合物
に溶解された汚れが被洗浄物品表面にシミを作る原因と
なる恐れがあること、及び蒸発速度が遅いために乾燥に
時間がかかるという問題があるので、被洗浄物品をすす
ぎ槽中、ＨＦＣ／Ｅ単体ですすぐことにより混合物中の
有機化合物をＨＦＣ／Ｅと置換する。
【００２０】図１において、３は第１すすぎ槽、４は第
２すすぎ槽であり、いずれも実質的にＨＦＣ／Ｅ溶剤単
独よりなる液を収容する槽である。第１すすぎ槽３には
加熱器９を備え、ＨＦＣ／Ｅ溶剤を沸騰状態に保持する
ことができ、一方、第２すすぎ槽はＨＦＣ／Ｅ溶剤の沸
点以下の温度に保持され、すすぎ効果を高めるために撹
拌機または超音波発振子１２を設置することもできる。
各槽間はそれぞれ仕切り板で仕切られているが、上部は
共通の空間で、冷却部６と下部の槽群（２〜４）との間
がＨＦＣ／Ｅ飽和蒸気域５となっている。
２すすぎ槽であり、いずれも実質的にＨＦＣ／Ｅ溶剤単
独よりなる液を収容する槽である。第１すすぎ槽３には
加熱器９を備え、ＨＦＣ／Ｅ溶剤を沸騰状態に保持する
ことができ、一方、第２すすぎ槽はＨＦＣ／Ｅ溶剤の沸
点以下の温度に保持され、すすぎ効果を高めるために撹
拌機または超音波発振子１２を設置することもできる。
各槽間はそれぞれ仕切り板で仕切られているが、上部は
共通の空間で、冷却部６と下部の槽群（２〜４）との間
がＨＦＣ／Ｅ飽和蒸気域５となっている。
【００２１】第１すすぎ槽３を加熱することにより、Ｈ
ＦＣ／Ｅは沸騰状態になり気化するが、ＨＦＣ／Ｅ蒸気
の密度は空気に比べて大きいため（例えば常温での空気
の密度は約１．３ｋｇ／ｌであるのに対し、ＨＦＣ４３
−１０ｍｅｅの沸点での飽和蒸気密度は約１０．０ｇ／
ｌである。）、ＨＦＣ／Ｅの蒸気は容器内に停滞し、さ
らに上昇しようとすると蒸気は容器の上部に配置された
冷却部６により凝縮され液化することによって槽群２，
３，４と冷却部６との間にＨＦＣ／Ｅ溶剤の飽和蒸気域
５が形成される。
ＦＣ／Ｅは沸騰状態になり気化するが、ＨＦＣ／Ｅ蒸気
の密度は空気に比べて大きいため（例えば常温での空気
の密度は約１．３ｋｇ／ｌであるのに対し、ＨＦＣ４３
−１０ｍｅｅの沸点での飽和蒸気密度は約１０．０ｇ／
ｌである。）、ＨＦＣ／Ｅの蒸気は容器内に停滞し、さ
らに上昇しようとすると蒸気は容器の上部に配置された
冷却部６により凝縮され液化することによって槽群２，
３，４と冷却部６との間にＨＦＣ／Ｅ溶剤の飽和蒸気域
５が形成される。
【００２２】ＨＦＣ／Ｅによるすすぎ方法は如何なる方
法でも良く、例えば図１においてヒーターで加熱されＨ
ＦＣ／Ｅ単体が沸騰している状態にある第１すすぎ槽３
（沸騰ＨＦＣ／Ｅ浴）、または撹拌機あるいは超音波発
振子が設置されている第２すすぎ槽４（冷ＨＦＣ／Ｅ
浴）のいづれか一方、もしくは双方のすすぎ槽を用い、
被洗浄物品表面の混合液をすすぎ落とせば良い。
法でも良く、例えば図１においてヒーターで加熱されＨ
ＦＣ／Ｅ単体が沸騰している状態にある第１すすぎ槽３
（沸騰ＨＦＣ／Ｅ浴）、または撹拌機あるいは超音波発
振子が設置されている第２すすぎ槽４（冷ＨＦＣ／Ｅ
浴）のいづれか一方、もしくは双方のすすぎ槽を用い、
被洗浄物品表面の混合液をすすぎ落とせば良い。
【００２３】精密なすすぎを行うためには、洗浄が終了
した被洗浄物品を第１すすぎ槽３の沸騰ＨＦＣ／Ｅに浸
漬し、被洗浄物品表面に付着した混合液中の有機化合物
をＨＦＣ／Ｅで置換し、更に第２すすぎ槽４（冷ＨＦＣ
／Ｅ浴）に浸漬し、残りの有機化合物をＨＦＣ／Ｅで置
換した後、ＨＦＣ／Ｅの沸点よりも低い温度に冷却され
た被洗浄物品を引き上げて、ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気域５
に導入し、被洗浄物品表面で凝縮液化するＨＦＣ／Ｅに
より更に有機化合物とＨＦＣ／Ｅとの置換を行い、すす
ぎを完了する方法が行われる。
した被洗浄物品を第１すすぎ槽３の沸騰ＨＦＣ／Ｅに浸
漬し、被洗浄物品表面に付着した混合液中の有機化合物
をＨＦＣ／Ｅで置換し、更に第２すすぎ槽４（冷ＨＦＣ
／Ｅ浴）に浸漬し、残りの有機化合物をＨＦＣ／Ｅで置
換した後、ＨＦＣ／Ｅの沸点よりも低い温度に冷却され
た被洗浄物品を引き上げて、ＨＦＣ／Ｅの飽和蒸気域５
に導入し、被洗浄物品表面で凝縮液化するＨＦＣ／Ｅに
より更に有機化合物とＨＦＣ／Ｅとの置換を行い、すす
ぎを完了する方法が行われる。
【００２４】すすぎを終了した被洗浄物品は洗浄装置１
の上部開口部より取り出される。被洗浄物品の表面は、
既に汚れも高沸点有機化合物も取り除かれ、ＨＦＣ／Ｅ
単体のみにより濡れている状態であるため、これを気化
蒸散させることにより、きれいに洗浄された染みの無い
物品が得られる。
の上部開口部より取り出される。被洗浄物品の表面は、
既に汚れも高沸点有機化合物も取り除かれ、ＨＦＣ／Ｅ
単体のみにより濡れている状態であるため、これを気化
蒸散させることにより、きれいに洗浄された染みの無い
物品が得られる。
【００２５】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
る。 ［実施例１］一辺が１００ｍｍの正方形ステンレス製の
板にカルナバワックスを加熱溶解し均一に塗布したもの
を被洗浄物サンプルとした。ＨＦＣ液体としてＨＦＣ４
３−１０ｍｅｅ（沸点５５℃）を使用し、有機化合物と
してコハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン
酸ジメチルからなる混合物（ＤＢＥ；Ｄｕ Ｐｏｎｔ社
製；沸点２０５℃）を用い、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを
３５重量％、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、
アジピン酸ジメチルからなる混合物を６５重量％の割合
で混合し、洗浄液混合物とした。
る。 ［実施例１］一辺が１００ｍｍの正方形ステンレス製の
板にカルナバワックスを加熱溶解し均一に塗布したもの
を被洗浄物サンプルとした。ＨＦＣ液体としてＨＦＣ４
３−１０ｍｅｅ（沸点５５℃）を使用し、有機化合物と
してコハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン
酸ジメチルからなる混合物（ＤＢＥ；Ｄｕ Ｐｏｎｔ社
製；沸点２０５℃）を用い、ＨＦＣ４３−１０ｍｅｅを
３５重量％、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、
アジピン酸ジメチルからなる混合物を６５重量％の割合
で混合し、洗浄液混合物とした。
【００２６】この混合物を図１に示した装置（但し超音
波発振子１２は設置せず）の洗浄槽２に収容し、第１す
すぎ槽３及び第２すすぎ槽４にはＨＦＣ４３−１０ｍｅ
ｅを充填した。洗浄槽の温度を８０℃に設定し、第１す
すぎ槽は沸騰させ、一方、第２すすぎ槽はＨＦＣ４３−
１０ｍｅｅが沸騰以下に維持した。この状態で、前記被
洗浄物サンプルを先ず洗浄槽に浸漬し、下記の洗浄サイ
クルによりサンプルを各洗浄液に逐次浸漬及び蒸気接触
させて洗浄を行った。 （１）洗浄槽：洗浄液混合物温浴（８０℃） ：浸漬２分 （２）第１すすぎ槽：沸騰ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （３）第２すすぎ槽：冷ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 ：蒸気洗浄３０秒 洗浄終了後、サンプルを取り出し、目視により下記２段
階により洗浄性を判定した。 良好：ワックスが完全に除去 不可：一面にワックスが付着 結果を表１に示す。
波発振子１２は設置せず）の洗浄槽２に収容し、第１す
すぎ槽３及び第２すすぎ槽４にはＨＦＣ４３−１０ｍｅ
ｅを充填した。洗浄槽の温度を８０℃に設定し、第１す
すぎ槽は沸騰させ、一方、第２すすぎ槽はＨＦＣ４３−
１０ｍｅｅが沸騰以下に維持した。この状態で、前記被
洗浄物サンプルを先ず洗浄槽に浸漬し、下記の洗浄サイ
クルによりサンプルを各洗浄液に逐次浸漬及び蒸気接触
させて洗浄を行った。 （１）洗浄槽：洗浄液混合物温浴（８０℃） ：浸漬２分 （２）第１すすぎ槽：沸騰ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （３）第２すすぎ槽：冷ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 ：蒸気洗浄３０秒 洗浄終了後、サンプルを取り出し、目視により下記２段
階により洗浄性を判定した。 良好：ワックスが完全に除去 不可：一面にワックスが付着 結果を表１に示す。
【００２７】［実施例２］一辺が６５ｍｍ正方形プリン
ト基板にフラックス（住友金属社製；ＰＯ−Ｆ−３５０
０Ｍ）６０μｌをはんだ付けした。このプリント基板を
室温で１時間放置し被洗浄物品サンプルとした。ＨＦＣ
液体としてＨＦＣ４３−１３ｍｅｅ（沸点５５℃）を使
用し、有機化合物としてトリエチレングリコールジメチ
ルエーテル（沸点２１８℃）を用い、ＨＦＣ４３−１０
ｍｅｅを３５重量％、トリエチレングリコールジメチル
エーテルを６５重量％の割合で混合し、洗浄液混合物と
した。
ト基板にフラックス（住友金属社製；ＰＯ−Ｆ−３５０
０Ｍ）６０μｌをはんだ付けした。このプリント基板を
室温で１時間放置し被洗浄物品サンプルとした。ＨＦＣ
液体としてＨＦＣ４３−１３ｍｅｅ（沸点５５℃）を使
用し、有機化合物としてトリエチレングリコールジメチ
ルエーテル（沸点２１８℃）を用い、ＨＦＣ４３−１０
ｍｅｅを３５重量％、トリエチレングリコールジメチル
エーテルを６５重量％の割合で混合し、洗浄液混合物と
した。
【００２８】この混合物を用いて、実施例１と同様にし
て洗浄試験を行った。ただし第２すすぎ槽に超音波発振
子１２を設置した装置を用いて、第２すすぎ槽において
は超音波洗浄を行い、洗浄サイクルは下記の通りとし
た。 （１）洗浄槽：洗浄液混合物温浴（８０℃） ：浸漬３０秒 （２）第１すすぎ槽：沸騰ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （３）第２すすぎ槽：冷ＨＦＣ浴 ：超音波洗浄３０秒 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 ：蒸気洗浄３０秒 結果を表１に示す。
て洗浄試験を行った。ただし第２すすぎ槽に超音波発振
子１２を設置した装置を用いて、第２すすぎ槽において
は超音波洗浄を行い、洗浄サイクルは下記の通りとし
た。 （１）洗浄槽：洗浄液混合物温浴（８０℃） ：浸漬３０秒 （２）第１すすぎ槽：沸騰ＨＦＣ浴 ：浸漬３０秒 （３）第２すすぎ槽：冷ＨＦＣ浴 ：超音波洗浄３０秒 （４）ＨＦＣ飽和蒸気域 ：蒸気洗浄３０秒 結果を表１に示す。
【００２９】［実施例３］実施例１と同様の被洗浄物品
サンプルを用いた。ＨＦＥ液体として１，２，２，２−
テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエーテ
ル（沸点４０℃；”フレオンＥ−ｌ”（Ｄｕ Ｐｏｎｔ
社製）・・・以下ＨＦＥと呼ぶ）を使用し、有機化合
物としてコハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジ
ピン酸ジメチルからなる混合物（ＤＢＥ；Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社製；沸点２０５℃）を用いＨＦＥを２０重量％、
コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジ
メチルからなる混合物を８０重量％の割合で混合し、洗
浄液混合物とした。この混合物を用いて、実施例１と同
様にして、図１の装置を用いて、洗浄試験を行い、目視
により洗浄性を判定した。結果を表１に示す。
サンプルを用いた。ＨＦＥ液体として１，２，２，２−
テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピルエーテ
ル（沸点４０℃；”フレオンＥ−ｌ”（Ｄｕ Ｐｏｎｔ
社製）・・・以下ＨＦＥと呼ぶ）を使用し、有機化合
物としてコハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジ
ピン酸ジメチルからなる混合物（ＤＢＥ；Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社製；沸点２０５℃）を用いＨＦＥを２０重量％、
コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジ
メチルからなる混合物を８０重量％の割合で混合し、洗
浄液混合物とした。この混合物を用いて、実施例１と同
様にして、図１の装置を用いて、洗浄試験を行い、目視
により洗浄性を判定した。結果を表１に示す。
【００３０】［実施例４］実施例３と同様の被洗浄物品
を用いた。ＨＦＥ液体として１，１，１，２，３，３−
ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロポキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ン（沸点１０４℃；”フレオンＥ−２”（Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社製）・・・以下ＨＦＥと呼ぶ）を使用し、有機化
合物としてプロピレングリコールモノプロピルエーテル
を用い、ＨＦＥを４０重量％、プロピレングリコール
モノプロピルエーテルを６０重量％の割合で混合し、洗
浄液混合物とした。この混合物を用いて、実施例３と同
様にして、図１の装置を用いて、洗浄試験を行い、目視
により洗浄性を判定した。結果を表１に示す。
を用いた。ＨＦＥ液体として１，１，１，２，３，３−
ヘキサフルオロ−２−ヘプタフルオロプロポキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ン（沸点１０４℃；”フレオンＥ−２”（Ｄｕ Ｐｏｎ
ｔ社製）・・・以下ＨＦＥと呼ぶ）を使用し、有機化
合物としてプロピレングリコールモノプロピルエーテル
を用い、ＨＦＥを４０重量％、プロピレングリコール
モノプロピルエーテルを６０重量％の割合で混合し、洗
浄液混合物とした。この混合物を用いて、実施例３と同
様にして、図１の装置を用いて、洗浄試験を行い、目視
により洗浄性を判定した。結果を表１に示す。
【００３１】［比較例１］実施例１において、高沸点有
機化合物として、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチ
ル、アジピン酸ジメチル混合物の代わりに、ノルマルド
デカンとノルマルウンデカンからなる混合物（ＮＳクリ
ーン２００；日鉱石化社製；初留点１８９℃）を用いた
以外は、実施例１と同様にして、図１の装置を用いて、
ＨＦＣ４３−１３ｍｅｅとの混合溶剤による洗浄試験を
行ったが、使用した有機溶剤がＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ
と相溶性が無いため、混合溶剤の温度はＮＳクリーン２
００沸騰状態でも５０℃迄しか上がらず、一面にワック
スが付着しており、ワックスの除去ができなかった。結
果を表１に示す。
機化合物として、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチ
ル、アジピン酸ジメチル混合物の代わりに、ノルマルド
デカンとノルマルウンデカンからなる混合物（ＮＳクリ
ーン２００；日鉱石化社製；初留点１８９℃）を用いた
以外は、実施例１と同様にして、図１の装置を用いて、
ＨＦＣ４３−１３ｍｅｅとの混合溶剤による洗浄試験を
行ったが、使用した有機溶剤がＨＦＣ４３−１０ｍｅｅ
と相溶性が無いため、混合溶剤の温度はＮＳクリーン２
００沸騰状態でも５０℃迄しか上がらず、一面にワック
スが付着しており、ワックスの除去ができなかった。結
果を表１に示す。
【００３２】
【表１】 ＨＦＣ：HFC43-10mee ＨＦＥ：1,2,2,2-テトラフルオロエチル−ヘプタフル
オロプロピルエーテル ＨＦＥ：1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ−２−ヘプタフ
ルオロプロポキシ−３-(1,2,2,2-テトラフルオロエトキ
シ）−プロパン
オロプロピルエーテル ＨＦＥ：1,1,1,2,3,3-ヘキサフルオロ−２−ヘプタフ
ルオロプロポキシ−３-(1,2,2,2-テトラフルオロエトキ
シ）−プロパン
【００３３】
【発明の効果】本発明の洗浄方法により、非引火性であ
るが洗浄力の乏しいハイドロフルオロカーボン（ＨＦ
Ｃ）またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）と特定
の有機化合物とを用い、洗浄とすすぎを行うことによ
り、油フラックス等の汚れに対し、引火性の危険もな
く、ＣＦＣ−１１３と同等の洗浄効果を得ることが可能
となった。
るが洗浄力の乏しいハイドロフルオロカーボン（ＨＦ
Ｃ）またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）と特定
の有機化合物とを用い、洗浄とすすぎを行うことによ
り、油フラックス等の汚れに対し、引火性の危険もな
く、ＣＦＣ−１１３と同等の洗浄効果を得ることが可能
となった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の洗浄方法を実施するための装置の１例
である。
である。
１ 容器 ２ 洗浄槽 ３ 第１すすぎ槽（沸騰ＨＦＣ／Ｅ浴） ４ 第２すすぎ槽（冷ＨＦＣ／Ｅ浴） ５ ＨＦＣ／Ｅ飽和蒸気域 ６ 冷却部 ７ ヒーター ８ 攪拌機 ９ ヒーター 10 仕切壁 11 仕切壁 12 超音波発振子
Claims (4)
- 【請求項１】 被洗浄物品を、沸点が３０〜１５０℃の
範囲のハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）またはハイ
ドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）もしくはそれらの混合
物液体と、該ＨＦＣまたはＨＦＥ液体の沸点よりも５０
℃以上高い沸点を有し、且つ該ＨＦＣまたはＨＦＥと相
溶性のある有機化合物との混合物の温浴を用いて汚れを
除去し、次いで該ＨＦＣまたはＨＦＥ単体にて被洗浄部
品に付着した有機化合物をすすいで除去することを特徴
とする物品の洗浄方法。 - 【請求項２】 ハイドロフルオロカーボンが、１，１，
１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタ
ン及び／または１，１，２，２，３，３，４，４−オク
タフルオロブタンである請求項２記載の洗浄方法。 - 【請求項３】 ハイドロフルオロエーテルが、１，２，
２，２−テトラフルオロエチル−ヘプタフルオロプロピ
ルエーテル及び／または１，１，１，２，３，３−ヘキ
サフルオロ−２−ヘプタフルオロプロピロキシ−３−
（１，２，２，２−テトラフルオロエトキシ）−プロパ
ンである請求項１記載の洗浄方法。 - 【請求項４】 有機化合物がグリコールエーテル、エス
テルのいづれかもしくはそれらの混合物である請求項１
〜３のいづれかに記載の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00385297A JP4063906B2 (ja) | 1996-05-20 | 1997-01-13 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12445296 | 1996-05-20 | ||
| JP8-124452 | 1996-05-20 | ||
| JP00385297A JP4063906B2 (ja) | 1996-05-20 | 1997-01-13 | 洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1036894A true JPH1036894A (ja) | 1998-02-10 |
| JP4063906B2 JP4063906B2 (ja) | 2008-03-19 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00385297A Expired - Fee Related JP4063906B2 (ja) | 1996-05-20 | 1997-01-13 | 洗浄方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP2001334104A (ja) * | 2000-05-30 | 2001-12-04 | Asahi Kasei Corp | 分離方法および装置 |
| WO2002026923A1 (fr) * | 2000-09-29 | 2002-04-04 | Commissariat A L'energie Atomique | Procede et dispositif de degraissage |
| EP1288284A1 (en) * | 2000-06-01 | 2003-03-05 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus |
| WO2005001015A1 (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-06 | Asahi Glass Company, Limited | 洗浄すすぎ方法 |
| US6951835B1 (en) | 1999-03-22 | 2005-10-04 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope-like compositions of 1,1,1,3,3-pentafluorobutane |
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| JP2008153452A (ja) * | 2006-12-18 | 2008-07-03 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JP2008198741A (ja) * | 2007-02-09 | 2008-08-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理方法および基板処理装置 |
| JPWO2014156768A1 (ja) * | 2013-03-26 | 2017-02-16 | 日本碍子株式会社 | 成形体の乾燥方法 |
| KR20180092956A (ko) | 2015-12-18 | 2018-08-20 | 가부시키가이샤 토쿠야마 메텔 | 세정제 조성물, 헹굼제 조성물 및 세정방법 |
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| WO2023009358A1 (en) | 2021-07-29 | 2023-02-02 | Chemours-Mitsui Fluoroproducts Co., Ltd | Fluorine-based solvent composition |
| CN116568875A (zh) * | 2021-08-23 | 2023-08-08 | 株式会社德山 | Iii族氮化物单晶基板的清洗方法及制造方法 |
-
1997
- 1997-01-13 JP JP00385297A patent/JP4063906B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US8529703B2 (en) | 2000-06-01 | 2013-09-10 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus |
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