JPH1036133A - 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用 - Google Patents
無アルカリアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用Info
- Publication number
- JPH1036133A JPH1036133A JP9089769A JP8976997A JPH1036133A JP H1036133 A JPH1036133 A JP H1036133A JP 9089769 A JP9089769 A JP 9089769A JP 8976997 A JP8976997 A JP 8976997A JP H1036133 A JPH1036133 A JP H1036133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- weight
- aluminoborosilicate glass
- alkali
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/004—Refining agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
する。 【解決手段】 1013dPasの粘度で700℃を越え
る温度、1220℃未満の加工温度VA 及び非常に良好
な化学安定性を有する無アルカリアルミノホウケイ酸ガ
ラスであって、フロート法設備で製造することができ、
また以下の組成(酸化物を基準とした重量%で):Si
O2 48〜55、B2 O3 7〜15、Al2 O3
20超〜26、MgO 0〜8、CaO 4〜12、B
aO 0〜2、SrO 0〜2、ZnO 1〜8、Zr
O2 0〜2、SnO2 0.5〜2を有するガラスに
よる。
Description
ー(表示素子)技術において使用するためのフロート法
によって良好な品質で製造することができる、無アルカ
リアルミノホウケイ酸ガラスに関わる。
のようなディスプレー技術に用いられるガラスの要求性
能は、W.H.Dumbaugh,P.L.Bocko
及びF.P.Fehlnerによって詳細に記述されて
いる(M.Cable及びJ.M.Parker編集の
“高性能ガラス”中の“平板パネルディスプレー用のガ
ラス”、Blackie and Son社グラスゴー
及びロンドン、1992年)。このような用途に入手で
きるガラスも、J.C.Lapp,P.L.Bocko
及びJ.W.Nelsonの文献“平板パネルディスプ
レー用の先端ガラス基板”、Corning Rese
arch社、1994年に列挙されている。
Ds(アクティブアトリクス液晶ディスプレー)、TF
ELDs(薄膜エレクトロルミネセンスディスプレー)
又はPDPs(プラスチックディスプレーパネル)の基
板として用いられるガラスは、熱衝撃に対する良好な抵
抗性及び平板ディスプレーの製造工程で用いられる試薬
に関しては良好な化学的安定性をもたなければならず、
またその熱膨脹挙動については多結晶シリコンと合致し
なければならない。更にこれらのガラスは、ガラス基板
上に直接置かれる集積回路を拡散アルカリイオンによる
汚染から保全するために、できる限り無アルカリにすべ
きである。この場合、酸化ナトリウムの製品関連比率は
ガラス中1,000ppm含有量まで許容される。
ス鏡板は、製造工程で遭遇する温度で良好な寸法安定
性、低い収縮(圧縮)並びに結晶包含物、節及び泡がな
いように非常に良好な品質を有しなければならない。平
板ディスプレー用途のガラスの必要な性質は、かくし
て、 −約3.7×10-6/Kの熱膨脹係数α20/300(多結晶
シリコンと合致するために) −1013dPasの粘度で700℃を越える温度(低い
圧縮のために) −良好な化学安定性 −低い失透への傾向性である。
の組成(酸化物を基準とした重量%で):SiO2 5
7.7、B2 O3 8.4、Al2 O3 16.4、M
gO0.8、CaO 4.2、SrO 2.0、Bao
9.5、As2 O3 1.0を有する商業的に入手で
きるガラス (V1)によって基本的に満たされる。
ラスの製造を確実にする特殊な「オーバーフロー融解」
工程に従って製造される。しかしこの工程に適している
ガラスは、極端に少ない結晶化傾向を示すべきであり、
すなわち液相線温度(生成する結晶がこの温度を越える
と再び溶解する)が加工温度VA (粘度104 dPas
の温度)よりからなり低くなければならない。このこと
が同様に1,300℃以上というこのガラスの非常に高
いVA の主な理由である。しかしVA が高いとそれだけ
耐熱性材料の腐食の進行が早く、また混合物からのガス
生産における一次エネルギーコストが高い。
の酸化ヒ素であり、これは選択した製造工程で泡をなく
す必要性を確実にするために明らかに精製剤として必要
とされるものである。酸化ヒ素の毒性のためにこれらガ
ラス成分の使用を避けることが懸命であることとは別
に、ここで存在する還元性条件(液体スズ、還元性保護
ガス雰囲気、すなわち成形ガス)が金属ヒ素の沈殿をも
たらすため、ガラスに望ましくない灰色色相を与え使用
できないものにするので酸化ヒ素が存在するとフロート
法設備でガラスの延伸ができなくなる。
V1の組成と同様であるガラス組成範囲(酸化物を基準
とした重量%):SiO2 55〜70、B2 O3 0
〜10、Al2 O3 13〜25、アルカリ土類金属酸
化物10〜25をハロゲン電球について示している。し
かし精製については何も示していない。これらのガラス
の熱膨脹値は低く、1013dPasの粘度のための温度
は高い。それらの化学安定性は記述されていない。
熱安定性、化学安定性及び光学同質性を有しまた以下の
組成範囲(酸化物を基準とした重量%):SiO2 5
4〜60、B2 O3 6〜10、Al2 O3 10〜1
5、MgO 0〜2、CaO8〜15、BaO 4〜1
0、ZnO 1〜6、TiO2 及び/又はZrO20.
3〜4を有する電子部品用の無アルカリガラスを記述し
ている。
平板ディスプレー用のアルミノホウケイ酸ガラスを記述
している。これは種々の熱膨脹係数及び酸安定性に関す
る異なった品質をもつ種々の組成範囲を示し、これらは
すべて比較的多量のアルカリ土類金属酸化物を必要とす
る。
は、分離相を有しそして少なくとも55〜70重量%の
SiO2 、1〜8.3重量%のB2 O3 、7〜23重量
%のAl2 O3 及び6.7〜16.5重量%のMgOを
含有するホウケイ酸ガラスを記述している。これらの成
分は、熱処理を用いて相分離を確実にする。
膨脹係数α20/300、1013dPasの粘度を示す温度が
700℃を越える温度及び1,220℃より低い加工温
度VA を有し、非常に良好な化学安定性を有し、また基
本的にアルカリ酸化物のないデイスプレー技術に用いら
れる透明ガラスを発見することである。更にこれは容易
に還元される成分がなく、そしてかくしてフロート法設
備で製造することができる。
したガラスによって達成される。このガラスは比較的少
量のSiO2 、すなわち48〜55重量%未満を含有す
る。更にこれより少量の比率の場合には、熱膨脹αが高
い値に増大しまた良好な加水分解安定性が損なわれ、ま
たこれにより高い比率では、VA が高い値に増大しそし
てガラスがより加工困難になる。従って49〜53重量
%の範囲が好ましい。
20〜26重量%の高いAl2 O3含有量によって促進
される。26重量%を越えるだけでVA は上昇し過ぎ、
そして相分離への傾向が増大する。20重量%以下で
は、失透安定性及び1013dPas粘度の温度が大きく
低下する。この範囲は好ましくは20〜24重量%であ
る。より古いしかし未だ未公開の本出願人のドイツ出願
(出願番号:P19603698.4)に、同様の組成
のガラスを記述している。これはより高いSiO2含有
量(52〜62重量%)及びより低い比率のAl2 O3
(12〜20重量%)によって、主に本発明によるガラ
スと区別される。このガラスと比較して、本出願に記述
するガラスは望ましい熱膨脹及び高い化学安定性を保持
しながら、より高い失透安定性及びより低い加工温度V
A を有する。
して、B2 O3 が本発明による無アルカリガラス中少な
くとも7重量%の比率で用いられる。高比率の酸化ホウ
素も良好な化学安定性及び失透安定性のために、また電
気絶縁性のために望ましい。耐熱材料への融液の攻撃も
同様に低減される。B2 O3 の比率は15重量%を越え
てはならないが、そうでないと1013dPas粘度の温
度が望ましい高い値に到達しないからである。9〜13
重量%の範囲が好ましい。
Pas粘度の温度を上昇させる。従ってガラスは4〜1
2重量%のCaO(好ましくは6〜11重量%)、0〜
8重量%のMgO(好ましくは0〜6重量%)、0〜2
重量%のSrO(好ましくは0〜1重量%)及び0〜2
重量%のBaO(好ましくは0〜1重量%)を含有す
る。この低比率のBaOはガラスの望ましい低密度を促
進する。可溶性バリウム化合物はすべてかなり毒性があ
るために、最大許容濃度値を固守するために回分室内で
及び加熱工程時にある予防措置がとられる。本発明の好
ましい態様ではこの成分の添加を完全に不必要にでき、
更に有利なものにする。
BaOの全体の比率は12重量%未満に制限されるが、
より高い比率では失透への傾向が増大しそしてα20/300
が高い値に増大するからである。本発明の特に有利な態
様においては、二つの成分MgO及びCaOがドロマイ
トとして導入され、このことは混合物調製を単純化す
る。このようにして供給される1:1のモル比で、Ca
O/MgOの重量比は約1.4である。
(好ましくは2〜6重量%)のZnO及び0〜2重量%
のZrO2 を含有する。ZrO2 は化学安定性に対して
確実な効果を有する。しかしその劣った可溶性のために
その比率は2重量%を越えてはならない。そうでないと
融解残片、所謂ジルコニウムエステルが完成ガラス中に
避けられないからである。
み合わされ、成分の計量上の組み合せのために特に好ま
しいガラス組成混合物は、以下の範囲(酸化物を基準と
した重量%で):SiO2 50〜52、B2 O3 1
0.5〜12、Al2 O3 20〜22.5、MgO 0
〜5.5、CaO 6〜10、BaO 0〜1、ZnO
2〜3、ZrO2 0〜2、SnO2 0.5〜1.
5で表される。
元)で、フロート法設備における実際の融解工程に従っ
て加工されるガラスの精製にヒ素を用いることはできな
い。酸化ヒ素が用いられる。酸化アンチモンについても
同様のことがいえ、これは頻繁に代替物として用いられ
る。
いられ、そして約1,410℃で開始する蒸発によって
精製に寄与する普通の塩が、もう一つの標準製剤を代表
し、それによって用いられる塩化ナトリウムの一部が酸
化ナトリウムの形状でガラス中にみられる。しかしディ
スプレーガラスは可能な限り無アルカリであるべきであ
るので、ここではこの精製剤を用いることも同様に不可
能である。
証明されているアルカリ土類金属塩化物も、普通の塩の
それと同様な精製能を有するので、適した精製剤として
残る。しかし約150℃高い沸点が、同様に対応して高
い融点を必要とする。これらの成分の他の欠点は、既に
指摘したすべての可溶性バリウム化合物のかなりの毒性
である。
0.5〜1.5重量%)を精製剤として用いると、驚く
べきことに、ヒ素精製のものと匹敵するガラス品質を達
成できることが分かった。この場合には、混合物中硝酸
塩の添加によって、この酸化段階の混合物に維持される
四価スズ酸化物SnO2 が用いられる。融解トレイの精
製部分に支配的な高温で、スズイオンが二価状態に部分
的にシフトし、それによって生成酸素気泡が上昇し、そ
してかくして融液に溶解した気体がこれら気泡に拡散
し、ガラスから除去されることによって精製に寄与す
る。非常に小さな上昇しない気泡は、精製相の末端です
なわち低温で現実に存在し、そしてこの場合SnO2 に
再び参加される一酸化スズSnOによって再度吸収され
る。
他の利点は、拡散の推進力としての濃度差がスズ含有ガ
ラスの場合に小さいので、フロート浴からガラス表面へ
のスズの拡散が低減する事実である。四価スズイオンを
安定化するための硝酸塩は種々のガラス成分の形で添加
することができ、例えばBa(NO3 )2 として又は好
ましい態様として記述したようにBaOが不必要なとき
はMg(NO3 )2 、Ca(NO3 )2 、Al(N
O3 )3 として導入することができる。
術における基板ガラスとしての用途に非常によく適して
いる。これらがすべて平板ディスプレー用途に必要な性
質を有することに加えて、本発明によるガラスは以下の
特殊な利点を有する。これらは容易に還元される成分が
ないため、フロート法設備で製造することができる。環
境保護の観点からも精製にAs2 O3 が用いられていな
いので、同様にBaOをガラス成分として用いる必要が
ないという利点がある。本ガラスは低い加工温度を有
し、このことが生産に際してエネルギー及び費用を節約
できる。本ガラスは非常に高い化学安定性を有し、そし
て非常に僅かな失透傾向のみを有する。
もつ本発明による5種のガラスを示す。ガラスは1,6
20℃で石英るつぼ中の通常の原料から溶融されるが、
融液をこの温度で1時間半精製し、電気誘導加熱白金る
つぼに注入し、そして均質化処理のために1,550℃
で30分撹はんした。
度 3)ガラスを400℃で1時間強化後の収縮 4)小さな磨いたガラス板(70mm×50mm×2mm)を9
5℃で24時間水中で処理した後の重量損失 5)小さな磨いたガラス板(70mm×50mm×2mm)を9
5℃で24時間5%塩酸中で処理した後の重量損失 6)小さな磨いたガラス板(70mm×50mm×2mm)を9
5℃で6時間5%水酸化ナトリウム溶液中で処理した後
の重量損失 7)小さな磨いたガラス板(70mm×50mm×2mm)を2
0℃で20分間10%NH4 F−HF溶液中で処理した
後の重量損失 8)生成する結晶成長の観察した最大長さ(結晶vの成長
速度を温度Tに対してプロットするとき、最大結晶成長
速度vmax は温度KGmax での成長速度に相当する)v
max が小さいと、生成する結晶体積は小さい。かくして
vmax 結晶化への傾向(失透への傾向)のためのパラメ
ーターである。
Claims (7)
- 【請求項1】 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラスで
あって、1013dPasの粘度で700℃を越える温
度、1220℃未満の加工温度VA 及び非常に良好な化
学安定性をもち、それがフロート法設備で製造すること
ができ、また以下の組成(酸化物を基準とした重量%
で) 【表1】 を有するガラス。 - 【請求項2】 以下の組成(酸化物を基準とした重量%
で) 【表2】 を有する請求の範囲第1項記載のアルミノホウケイ酸ガ
ラス。 - 【請求項3】 MgO,CaO,BaO及びSrOの合
計量が12重量%未満であることを特徴とする請求の範
囲第1又は2項記載のアルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項4】 不可避的な汚染を除いては、BaOがな
い、請求の範囲第1〜3項の少なくとも一つに記載のア
ルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項5】 以下の組成(酸化物を基準とした重量%
で) 【表3】 を特徴とする、請求の範囲第1〜3項の少なくとも一つ
に記載のアルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項6】 CaO:MgOのモル比=1(=約1.
4の重量比)を有する、請求の範囲第1〜5項の少なく
とも一つに記載のアルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項7】 請求の範囲第1〜6項の少なくとも一つ
に記載のアルミノホウケイ酸ガラスのディスプレー(表
示素子)技術における基板としての使用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19617344A DE19617344C1 (de) | 1996-04-30 | 1996-04-30 | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und seine Verwendung |
DE19617344.2 | 1996-04-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1036133A true JPH1036133A (ja) | 1998-02-10 |
Family
ID=7792932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9089769A Ceased JPH1036133A (ja) | 1996-04-30 | 1997-04-08 | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5908703A (ja) |
EP (1) | EP0805125B1 (ja) |
JP (1) | JPH1036133A (ja) |
DE (2) | DE19617344C1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004299947A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
WO2008149888A1 (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板 |
JP2011132125A (ja) * | 2000-01-12 | 2011-07-07 | Schott Ag | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
WO2012060277A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6508083B1 (en) | 1996-08-21 | 2003-01-21 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass and method for producing the same |
DE19739912C1 (de) * | 1997-09-11 | 1998-12-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
DE19840113B9 (de) * | 1998-09-03 | 2016-10-13 | Eglass Asia Ltd. | Alkalifreie Glaszusammensetzung zur Herstellung von Flachglas |
US6468933B1 (en) * | 1998-09-22 | 2002-10-22 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass and method of producing the same |
DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
DE19934072C2 (de) * | 1999-07-23 | 2001-06-13 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung |
US6537937B1 (en) * | 1999-08-03 | 2003-03-25 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass |
DE19939789A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-02-22 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen |
DE19939771B4 (de) * | 1999-08-21 | 2004-04-15 | Schott Glas | Verfahren zur Läuterung von Glasschmelzen |
DE19942259C1 (de) * | 1999-09-04 | 2001-05-17 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
DE19959084B4 (de) * | 1999-12-08 | 2005-05-12 | Schott Ag | Organisches LED-Display und Verfahren zu seiner Herstellung |
DE10000838B4 (de) | 2000-01-12 | 2005-03-17 | Schott Ag | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
DE10000839C1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-05-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
DE10000837C1 (de) | 2000-01-12 | 2001-05-31 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen |
DE10003948B4 (de) * | 2000-01-29 | 2006-03-23 | Schott Ag | Verfahren zum Erschmelzen, Läutern und Homogenisieren von Glasschmelzen |
DE10034985C1 (de) † | 2000-07-19 | 2001-09-06 | Schott Glas | Verfahren zur Herstellung von Aluminosilicatgläsern, Aluminosilicatgläser sowie deren Verwendungen |
JP2002053341A (ja) * | 2000-08-10 | 2002-02-19 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無機elディスプレイガラス基板 |
DE10064804C2 (de) * | 2000-12-22 | 2003-03-20 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung |
DE10114581C2 (de) * | 2001-03-24 | 2003-03-27 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen |
DE10209949A1 (de) * | 2002-03-06 | 2003-09-25 | Schott Glas | Glaskörper mit poröser Beschichtung |
FR2843107B1 (fr) * | 2002-07-31 | 2005-06-17 | Saint Gobain | Four a cuves en serie pour la preparation de composition de verre a faible taux d'infondus |
DE10307422B4 (de) * | 2003-02-21 | 2008-08-07 | Schott Ag | Verwendung eines Glassubstrats zur Herstellung eines Datenspeichers |
EP1786736A1 (de) * | 2004-09-18 | 2007-05-23 | Schott AG | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von flachglas nach dem floatverfahren |
US7534734B2 (en) * | 2006-11-13 | 2009-05-19 | Corning Incorporated | Alkali-free glasses containing iron and tin as fining agents |
US20080110775A1 (en) * | 2006-11-13 | 2008-05-15 | Theodora Beck | Absorbent articles with replaceable core components having stiffness characteristics and method for evaluating such characteristics |
JP2008273782A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Ohara Inc | ガラス |
DE202009018699U1 (de) | 2008-02-26 | 2012-11-20 | Corning Incorporated | Läutermittel für Silikatgläser |
US8975199B2 (en) * | 2011-08-12 | 2015-03-10 | Corsam Technologies Llc | Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass |
CN103717543B (zh) * | 2011-09-02 | 2016-09-21 | Lg化学株式会社 | 无碱玻璃及其制备方法 |
CN104276755B (zh) * | 2013-10-31 | 2017-02-15 | 东旭集团有限公司 | 一种高化学耐久性的无碱硼铝硅酸盐玻璃 |
DE102016101090A1 (de) | 2015-11-26 | 2017-06-01 | Schott Ag | Thermisch vorgespanntes Glaselement und seine Verwendungen |
CN112441743A (zh) * | 2020-11-26 | 2021-03-05 | 河南旭阳光电科技有限公司 | 一种无碱玻璃组合物、无碱玻璃及制备方法和应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3496401A (en) * | 1965-12-30 | 1970-02-17 | Corning Glass Works | Glass envelopes for iodine cycle incandescent lamps |
ZA707465B (en) * | 1969-11-26 | 1972-02-23 | Anchor Hocking Corp | Phase separable glasses containing b2o3 and sio2 |
JPH0624998B2 (ja) * | 1988-11-11 | 1994-04-06 | セントラル硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
US5508237A (en) * | 1994-03-14 | 1996-04-16 | Corning Incorporated | Flat panel display |
US5489558A (en) * | 1994-03-14 | 1996-02-06 | Corning Incorporated | Glasses for flat panel display |
JPH07277762A (ja) * | 1995-02-27 | 1995-10-24 | Hoya Corp | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
DE19536708C1 (de) * | 1995-09-30 | 1996-10-31 | Jenaer Glaswerk Gmbh | Zirkon- und lithiumoxidhaltiges Borosilicatglas hoher chemischer Beständigkeit und geringer Viskosität und dessen Verwendung |
-
1996
- 1996-04-30 DE DE19617344A patent/DE19617344C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-31 EP EP97101516A patent/EP0805125B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-01-31 DE DE59700947T patent/DE59700947D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-04-08 JP JP9089769A patent/JPH1036133A/ja not_active Ceased
- 1997-04-29 US US08/848,239 patent/US5908703A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011132125A (ja) * | 2000-01-12 | 2011-07-07 | Schott Ag | アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラスおよびその使用 |
JP2004299947A (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-28 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
WO2008149888A1 (ja) * | 2007-06-08 | 2008-12-11 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板 |
CN102653449A (zh) * | 2007-06-08 | 2012-09-05 | 日本电气硝子株式会社 | 无碱玻璃及无碱玻璃基板 |
US8455378B2 (en) | 2007-06-08 | 2013-06-04 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Alkali-free glass and alkali-free glass substrate |
WO2012060277A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | 日本電気硝子株式会社 | 無アルカリガラス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0805125B1 (de) | 2000-01-05 |
US5908703A (en) | 1999-06-01 |
DE19617344C1 (de) | 1997-08-07 |
DE59700947D1 (de) | 2000-02-10 |
EP0805125A1 (de) | 1997-11-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH1036133A (ja) | 無アルカリアルミノホウケイ酸ガラス及びその使用 | |
JP2871163B2 (ja) | 無アルカリガラス | |
US5770535A (en) | Alkali-free aluminoborosilicate glass and its use | |
JP4739468B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびその清澄方法 | |
US5348916A (en) | Alkali free glass | |
KR101666750B1 (ko) | 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 | |
EP0510544B1 (en) | Alkali free glass | |
JP3396835B2 (ja) | アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスとその用途 | |
CA2314295C (en) | Alkali-free aluminoborosilicate glass, its use and process for its preparation | |
KR101273847B1 (ko) | 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 | |
JP3800657B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル | |
JP3666610B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
JP3666608B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
JP3800438B2 (ja) | 無アルカリガラス及びその製造方法 | |
JP3800443B2 (ja) | ディスプレイ用無アルカリガラス基板及びその製造方法 | |
JP7182871B2 (ja) | ガラス | |
WO2012066948A1 (ja) | Li2O-Al2O3-SiO2系結晶性ガラスおよびそれを結晶化させてなるLi2O-Al2O3-SiO2系結晶化ガラス | |
JP4306044B2 (ja) | 無アルカリガラス及びその製造方法 | |
US5885914A (en) | Alkali-free glass and display substrate | |
JPH02133334A (ja) | 無アルカリガラス | |
KR20180022871A (ko) | 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법 | |
JP2707625B2 (ja) | ディスプレイ基板用無アルカリガラス | |
JPH09110460A (ja) | 無アルカリガラス | |
JP2004284949A (ja) | 無アルカリガラスの清澄方法 | |
JP2004299947A (ja) | 無アルカリガラス及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050831 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051024 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061122 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20070221 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070227 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070411 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081015 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20090225 |