JPH10328854A - Clad material and production thereof - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a clad material at low electric power and with a simple equipment in producing the clad material having combination of metals selected among a plurality of metals of Ti, Zr, etc., by approaching and holding the metals under a specific pressure and a specific temp. atmosphere. SOLUTION: The clad material is constituted of the metal A and the metal B having lower m.p. Tm (K) than that of the metal A. The combination of the metal A and the metal B is selected from group composed of Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Re, Fe, Co, Ni, Cu, Al, Ga, Si, Ge and Sn. Then, the metal A and the metal B are arranged by approaching and holding at <=1×10<-5> mbar pressure and the lower temp. than the m.p. of the metal B, particularly, 0.48×Tm-0.9×Tm to form the metal B film on the surface of the metal A. For example, as the combination of the metal A/the metal B, Nb/Ti, Nb/Zr, Ta/Ti, Ta/Zr, etc., are given. By this method, filming speed of the metal B on the metal A is quickened and the excellent productivity is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ニオブ、レニウ
ム、タンタル等の高融点活性金属とそれより低い融点を
有する他の活性金属とからなるクラッド材及びその製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cladding material comprising a high melting point active metal such as niobium, rhenium, tantalum and the like and another active metal having a lower melting point than the cladding material and a method for producing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、各種の異種金属から構成されるク
ラッド材を製造する方法として、圧延法、爆着法、ろう
付け法、鋳ぐるみ法、電解法等の種々の方法が知られて
いる。このうち、圧延法は異種金属を重ね合わせて、両
者を冷間圧延または熱間圧延のいずれかでロール圧延す
る方法である。爆着法では、素材の金属を重ね合わせた
状態で火薬を爆発させ、その爆発エネルギーで両者を接
合させている。ろう付け法は、箔状あるいは線状のろう
材を異種金属間に挟み、高真空下で加熱して接合してい
る。また、鋳ぐるみ法では、芯材を被覆材で鋳ぐるみ、
熱間や冷間加工により線引きして線状のクラッド材を得
ることができる。同様に線状のクラッド材を得る方法と
して、電解法では芯材を電解によって被覆材で被覆した
後、熱間や冷間加工している。上記の方法のうち爆着法
は設備が大掛かりとなり、安全性に十分な配慮が必要で
あった。圧延法は金属の合わせ面を研磨する等の前処理
が必要であった。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for producing a clad material composed of various kinds of dissimilar metals, various methods such as a rolling method, an explosion bonding method, a brazing method, a casting method, and an electrolytic method are known. . Among these, the rolling method is a method in which dissimilar metals are overlapped and rolled by either cold rolling or hot rolling. In the explosion method, explosives are exploded in a state in which the metal materials are superposed, and the two are joined by the explosive energy. In the brazing method, a foil or linear brazing material is sandwiched between different kinds of metals, and joined by heating under high vacuum. In the cast-in method, the core material is cast-in with a coating material,
A linear clad material can be obtained by drawing by hot or cold working. Similarly, as a method of obtaining a linear clad material, in an electrolytic method, a core material is coated with a coating material by electrolysis, and then hot or cold worked. Of the above methods, the explosion method requires large equipment and requires sufficient consideration for safety. The rolling method required a pre-treatment such as polishing the mating surface of the metal.

【０００３】クラッド材の製造方法として、例えば、特
開昭５４−５１９６６号は、タングステンやモリブデン
等の高融点金属からなる基材上にそれより低融点の金属
粉粒を設置し、レーザ光を照射することによって金属粉
粒を溶融して、基材表面上に低融点金属膜を形成するこ
とからなる高融点金属のクラッド材の製造方法を開示し
ている。As a method for manufacturing a clad material, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-51966 discloses a method in which a metal powder having a lower melting point is provided on a base made of a high melting point metal such as tungsten or molybdenum, and laser light is applied. A method for manufacturing a high-melting-point metal clad material comprising melting a metal powder particle by irradiation to form a low-melting-point metal film on the surface of a base material is disclosed.

【０００４】また、クラッド材の別の製造方法として、
特公昭５９−５８９号は、融点が５０℃以上異なる２種
の金属から構成されるクラッド板の製造方法として、高
融点金属母材上に低融点金属を載置して両者の融点の中
間温度に昇温保持させた後に冷却することで両者を接合
させる方法を開示している。Further, as another method of manufacturing a clad material,
Japanese Patent Publication No. 59-589 discloses a method of manufacturing a clad plate composed of two metals having melting points different from each other by 50 ° C. or more. Discloses a method in which the two are joined by cooling and then cooling.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術の方法は、クラッド材を構成する高融点金属と異
種金属との接合面に不純物が残留し易いという問題があ
った。また、クラッド材の製造設備も比較的大掛かりで
あった。However, the above-mentioned prior art method has a problem that impurities are likely to remain on the joining surface between the high melting point metal and the dissimilar metal constituting the clad material. Also, the manufacturing facilities for the clad material were relatively large.

【０００６】クラッド材を製造する際、スパッタ法、Ｃ
ＶＤ法、イオンミキシング法及びイオンクラスター法等
の物理的または化学的手法を用いることが考えられる。
即ち、これらの手法を用いることにより、金属基板上に
別の金属種を数μｍ以下の膜厚で形成することが可能で
ある。しかしながら、これらの手法は一般に成膜速度が
極めて遅いためクラッド材の製造には適していない。When manufacturing a clad material, a sputtering method, C
It is conceivable to use a physical or chemical method such as a VD method, an ion mixing method and an ion cluster method.
That is, by using these methods, it is possible to form another metal species with a thickness of several μm or less on the metal substrate. However, these methods are generally not suitable for manufacturing a clad material because the deposition rate is extremely low.

【０００７】本発明の目的は、前記従来技術の問題を解
決した新規なクラッド材及びその製造方法を提供するこ
とにある。An object of the present invention is to provide a novel clad material which solves the problems of the prior art and a method for manufacturing the same.

【０００８】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、金属Ａと、金属Ａよりも低い融点Ｔｍ（Ｋ）を有
する金属Ｂとから構成されたクラッド材の製造方法にお
いて、上記金属Ａと金属Ｂの組み合わせが、チタン、ジ
ルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタ
ル、クロム、モリブデン、タングステン、レニウム、
鉄、コバルト、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウ
ム、シリコン、ゲルマニウム、スズからなる群から選ば
れた金属の組み合わせであり、１×１０^-5ｍｂａｒ以下
の圧力及び０．４８×Ｔｍ〜０．９×Ｔｍの温度雰囲気
下に金属Ａと金属Ｂとを近接させて保持することによっ
て金属Ａの表面に金属Ｂの膜を形成することを特徴とす
るクラッド材の製造方法が提供される。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for producing a clad material comprising a metal A and a metal B having a lower melting point Tm (K) than the metal A, The combination of metal A and metal B is titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, rhenium,
It is a combination of metals selected from the group consisting of iron, cobalt, nickel, copper, aluminum, gallium, silicon, germanium, and tin, and has a pressure of 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less and a pressure of 0.48 × Tm to 0.9 ×. There is provided a method for manufacturing a clad material, wherein a metal B film is formed on a surface of a metal A by holding the metal A and the metal B close to each other in an atmosphere of a temperature of Tm.

【０００９】本発明によると、金属Ａと金属Ｂを接近さ
せて配置し、１×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力、金属Ｂの
融点よりも低い温度、特に、０．４８×Ｔｍ〜０．９×
Ｔｍの温度で保持させるだけで、金属Ｂを金属Ａの表面
上に成膜することに成功した。この成膜原理は、未だ明
確ではないが、金属Ｂが減圧下で加熱された結果、熱エ
ネルギーを得た金属Ｂの原子が金属Ｂの表面から飛び出
し、金属Ａの表面に付着するものと考えられる。この方
法では、真空蒸着法とは異なり金属Ｂをその融点まで加
熱する必要がないために、電力等のエネルギーを節約で
き、また、溶融ルツボ等は不要であり、上記雰囲気に金
属Ａと金属Ｂを接近させて保持させるだけでよい。この
ため、クラッド材の製造のための設備は極めて簡略でよ
く、例えば、加熱ヒータを備えた真空槽で足りる。ま
た、この方法では１０μｍ／ｈを超える速度で成膜が可
能であり、ＣＶＤやスパッタ法に比べて成膜が速いため
生産性に優れる。According to the present invention, the metal A and the metal B are arranged close to each other, and the pressure is 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less, and the temperature is lower than the melting point of the metal B, especially 0.48 × Tm to 0.9. ×
The metal B was successfully formed on the surface of the metal A only by maintaining the temperature at Tm. Although the principle of this film formation is not yet clear, it is considered that as a result of heating the metal B under reduced pressure, the atoms of the metal B that have obtained thermal energy jump out from the surface of the metal B and adhere to the surface of the metal A. Can be In this method, unlike the vacuum deposition method, there is no need to heat the metal B to its melting point, so that energy such as electric power can be saved. Further, a melting crucible or the like is not required. Only need to be brought closer together. For this reason, the equipment for manufacturing the clad material may be extremely simple, and for example, a vacuum tank equipped with a heater is sufficient. Further, in this method, a film can be formed at a speed exceeding 10 μm / h, and the productivity is excellent because the film is formed faster than the CVD or sputtering method.

【００１０】本発明のクラッド材を構成する金属Ａと金
属Ｂの組み合わせは、周期率表でIVａ族のＴｉ、Ｚｒ、
Ｈｆ、Vａ族のＶ、Ｎｂ、Ｔａ、VIａ族のＣｒ、Ｍｏ、
Ｗ、VIIａ族のＲｅ、VIII族のＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Iｂ族
のＣｕ、IIIｂ族のＡｌ、Ｇａ、IVｂ族のＳｉ、Ｇｅ、
Ｓｎからなる群から選ばれた金属の組み合わせであり、
好ましくは金属Ａの融点と金属Ｂの融点との差が３００
℃以上となるような金属の組み合わせである。すなわ
ち、金属Ａは、高融点を有する活性な金属であり、金属
Ｂは金属Ｂとともにクラッド材を構成する金属Ａよりも
低い融点（Ｔｍ）を有する活性な金属である。ここで、
本発明のクラッド材を構成する金属Ａ／金属Ｂの組み合
わせとして、Ｎｂ／Ｔｉ、Ｎｂ／Ｚｒ、Ｎｂ／Ｈｆ、Ｎ
ｂ／Ｖ、Ｎｂ／Ｆｅ、Ｎｂ／Ｃｏ、Ｎｂ／Ｎｉ、Ｎｂ／
Ａｌ、Ｎｂ／Ｃｒ、Ｔａ／Ｔｉ、Ｔａ／Ｚｒ、Ｔａ／Ｈ
ｆ、Ｔａ／Ｖ、Ｔａ／Ｎｂ、Ｔａ／Ｆｅ、Ｔａ／Ｃｏ、
Ｔａ／Ｎｉ、Ｔａ／Ｃｕ、Ｔａ／Ａｌ、Ｔａ／Ｃｒ、Ｒ
ｅ／Ｔｉ、Ｒｅ／Ｚｒ、Ｒｅ／Ｈｆ、Ｒｅ／Ｖ、Ｒｅ／
Ｆｅ、Ｒｅ／Ｃｏ、Ｒｅ／Ｎｉ、Ｒｅ／Ｃｕ、Ｒｅ／Ａ
ｌ、Ｒｅ／Ｃｒ、Ｒｅ／Ｍｏ、Ｍｏ／Ｔｉ、Ｍｏ／Ｚ
ｒ、Ｍｏ／Ｈｆ、Ｍｏ／Ｖ、Ｍｏ／Ｆｅ、Ｍｏ／Ｃｏ、
Ｍｏ／Ｎｉ、Ｍｏ／Ｃｕ、Ｍｏ／Ａｌ、Ｍｏ／Ｃｒ、Ｍ
ｏ／Ｎｂ、Ｗ／Ｔｉ、Ｗ／Ｚｒ、Ｗ／Ｈｆ、Ｗ／Ｖ、Ｗ
／Ｆｅ、Ｗ／Ｃｏ、Ｗ／Ｎｉ、Ｗ／Ｃｕ、Ｗ／Ａｌ、Ｗ
／Ｃｒ、Ｗ／Ｍｏ、Ｗ／Ｒｅ、Ｎｂ／Ｇａ、Ｎｂ／Ｇ
ｅ、Ｎｂ／Ｓｎ、Ｎｂ／Ｓｉ、Ｒｅ／Ｓｉ、Ｍｏ／Ｓ
ｉ、Ｗ／Ｓｉ、Ｈｆ／Ｓｉが好ましく、特に好ましくは
Ｎｂ／Ｔｉ、Ｔａ／Ｔｉ、Ｔａ／Ｎｂである。また、３
元系の組み合わせも可能であり、組み合わせとしては、
例えば、Ｎｂ／Ｔａ／Ｔｉ、Ｎｂ／Ｔａ／Ａｌ、Ｎｂ／
Ｔａ／Ｇｅ、Ｎｂ／Ｔａ／Ｇａ、Ｎｂ／Ｔａ／Ｓｎ、Ｎ
ｂ／Ｔｉ／Ａｌ、Ｎｂ／Ｔｉ／Ｇｅ、Ｎｂ／Ｔｉ／Ｇ
ａ、Ｎｂ／Ｔｉ／Ｓｎが好ましい。The combination of the metal A and the metal B constituting the clad material of the present invention is made of Ti, Zr,
Hf, V of the Va group, Nb, Ta, Cr, Mo of the VIa group,
W, Re of group VIIa, Fe, Co, Ni of group VIII, Cu of group Ib, Al, Ga of group IIIb, Si, Ge of group IVb,
A combination of metals selected from the group consisting of Sn,
Preferably, the difference between the melting points of metal A and metal B is 300
It is a combination of metals that will be at or above ° C. That is, the metal A is an active metal having a high melting point, and the metal B is an active metal having a lower melting point (Tm) than the metal A constituting the clad material together with the metal B. here,
Nb / Ti, Nb / Zr, Nb / Hf, Nb / Ti, Nb / Ti, Nb / Ti
b / V, Nb / Fe, Nb / Co, Nb / Ni, Nb /
Al, Nb / Cr, Ta / Ti, Ta / Zr, Ta / H
f, Ta / V, Ta / Nb, Ta / Fe, Ta / Co,
Ta / Ni, Ta / Cu, Ta / Al, Ta / Cr, R
e / Ti, Re / Zr, Re / Hf, Re / V, Re /
Fe, Re / Co, Re / Ni, Re / Cu, Re / A
1, Re / Cr, Re / Mo, Mo / Ti, Mo / Z
r, Mo / Hf, Mo / V, Mo / Fe, Mo / Co,
Mo / Ni, Mo / Cu, Mo / Al, Mo / Cr, M
o / Nb, W / Ti, W / Zr, W / Hf, W / V, W
/ Fe, W / Co, W / Ni, W / Cu, W / Al, W
/ Cr, W / Mo, W / Re, Nb / Ga, Nb / G
e, Nb / Sn, Nb / Si, Re / Si, Mo / S
i, W / Si and Hf / Si are preferred, and Nb / Ti, Ta / Ti and Ta / Nb are particularly preferred. Also, 3
The combination of the original system is also possible, and as the combination,
For example, Nb / Ta / Ti, Nb / Ta / Al, Nb /
Ta / Ge, Nb / Ta / Ga, Nb / Ta / Sn, N
b / Ti / Al, Nb / Ti / Ge, Nb / Ti / G
a, Nb / Ti / Sn is preferred.

【００１１】本発明の方法に従えば、１×１０^-5ｍｂａ
ｒ以下の圧力及び０．４８×Ｔｍ〜０．９×Ｔｍの温度
雰囲気下に金属Ａと金属Ｂとを接近させて保持する。金
属Ａの表面と金属Ｂの表面との間隔は、特に限定されな
いが、成膜効率の観点から、２００ｍｍ未満にすること
が望ましい。すなわち、本発明の実施例において後述す
るように、金属Ａの表面と金属Ｂの表面との間隔が短い
程、成膜速度は高くなる。According to the method of the present invention, 1 × 10 ⁻⁵ mba
The metal A and the metal B are held close to each other under an atmosphere of a pressure of r or less and a temperature of 0.48 × Tm to 0.9 × Tm. The distance between the surface of the metal A and the surface of the metal B is not particularly limited, but is preferably less than 200 mm from the viewpoint of film formation efficiency. That is, as described later in the embodiments of the present invention, the shorter the distance between the surface of the metal A and the surface of the metal B, the higher the deposition rate.

【００１２】上記成膜雰囲気において、加熱温度は高融
点金属である金属Ａに比べて低融点を持つ金属Ｂの融点
Ｔｍ未満でよく、０．４８×Ｔｍ〜０．９×Ｔｍの温度
範囲に調節する。温度が０．４８×Ｔｍ未満になると成
膜速度が極端に遅くなる。温度が０．９×Ｔｍを超える
と金属Ｂが極端に軟化し座屈を起こし始め金属Ａと所定
の距離が保てなくなり、その結果、成膜厚さを制御する
ことが困難になる。好ましくは、加熱温度は０．６×Ｔ
ｍ〜０．８５×Ｔｍである。例えば、金属Ａがニオブで
あり、金属Ｂがチタンである場合には、加熱温度は９０
０℃〜１４００℃（１１７３Ｋ〜１６７３Ｋ）が好まし
く、例えば、金属Ａがタンタルであり、金属Ｂがニオブ
である場合には、加熱温度は１４００℃〜２２００℃が
好ましい。In the above-mentioned film formation atmosphere, the heating temperature may be lower than the melting point Tm of the metal B having a lower melting point than that of the metal A which is a high melting point metal, and is set in a temperature range of 0.48 × Tm to 0.9 × Tm. Adjust. When the temperature is lower than 0.48 × Tm, the film forming speed becomes extremely slow. If the temperature exceeds 0.9 × Tm, the metal B is extremely softened and starts to buckle, so that a predetermined distance from the metal A cannot be maintained, and as a result, it becomes difficult to control the film thickness. Preferably, the heating temperature is 0.6 × T
m to 0.85 × Tm. For example, if the metal A is niobium and the metal B is titanium, the heating temperature is 90
0 ° C to 1400 ° C (1173K to 1673K) is preferable. For example, when the metal A is tantalum and the metal B is niobium, the heating temperature is preferably 1400 ° C to 2200 ° C.

【００１３】上記成膜雰囲気において、圧力は１×１０
^-5ｍｂａｒ以下が好ましく、一層好ましくは、真空中の
不純物分子との衝突を避け分子の平均自由工程を大きく
するという理由から圧力は１×１０^-6ｍｂａｒである。In the above film formation atmosphere, the pressure is 1 × 10
^The pressure is preferably ^-5 mbar or less, and more preferably the pressure is 1 × 10 ^-6 mbar because it avoids collision with impurity molecules in a vacuum and increases the mean free path of the molecules.

【００１４】本発明のクラッド材の製造方法において、
上記雰囲気の保持時間若しくは金属Ａと金属Ｂの間隔、
またはそれらの両者を適宜変更することによって金属Ａ
の表面上に形成される金属Ｂの膜厚を所望の値に制御す
ることができる。さらに、上記加熱温度を調節して膜厚
を制御してもよい。In the method for producing a clad material according to the present invention,
Holding time of the above atmosphere or interval between metal A and metal B,
Alternatively, by appropriately changing both of them, metal A
The thickness of the metal B formed on the surface of the substrate can be controlled to a desired value. Further, the film thickness may be controlled by adjusting the heating temperature.

【００１５】本発明の第２の態様に従えば、金属Ａと、
金属Ａよりも低い融点Ｔｍ（Ｋ）を有する金属Ｂとから
構成されたクラッド材であって、金属Ａと金属Ｂの組み
合わせが、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジ
ウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タング
ステン、レニウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、アル
ミニウム、ガリウム、シリコン、ゲルマニウム、スズか
らなる群から選ばれた金属の組み合わせであり、１×１
０^-5ｍｂａｒ以下の圧力及び０．６×Ｔｍ〜０．９×Ｔ
ｍの温度雰囲気下に金属Ａと金属Ｂとを近接させて保持
することによって金属Ａの表面に金属Ｂの膜が形成され
てなるクラッド材が提供される。According to a second aspect of the present invention, metal A is
A clad material composed of metal B having a lower melting point Tm (K) than metal A, wherein the combination of metal A and metal B is titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, A combination of metals selected from the group consisting of tungsten, rhenium, iron, cobalt, nickel, copper, aluminum, gallium, silicon, germanium, and tin, and 1 × 1
Pressure below 0 ^-5 mbar and 0.6 × Tm to 0.9 × T
By holding the metal A and the metal B close to each other in an atmosphere at a temperature of m, a clad material having a metal B film formed on the surface of the metal A is provided.

【００１６】本発明のクラッド材は、例えば、金属Ａと
金属Ｂが異なる結晶構造を有する場合に、クラッド材の
金属Ａ側に金属Ａと同一の結晶構造を有する金属Ｃを容
易に接合することができるとともに、金属Ｂ側に金属Ｂ
と同一の結晶構造を有する金属Ｄを容易に接合すること
ができる。すなわち、本発明のクラッド材は、金属Ａ／
Ｂの接合を介して金属Ｃと金属Ｄのジョイント材として
機能する。In the clad material of the present invention, for example, when the metal A and the metal B have different crystal structures, the metal C having the same crystal structure as the metal A can be easily joined to the metal A side of the clad material. And metal B on the metal B side
Metal D having the same crystal structure can be easily joined. That is, the clad material of the present invention has a metal A /
It functions as a joint material of metal C and metal D through the bonding of B.

【００１７】特に、金属Ａがニオブであり且つ金属Ｂが
チタンであり、両者を１×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力及
び８００〜１４００℃の温度雰囲気下に接近させて保持
して得られたニオブ／チタン、或いは、金属Ａがタンタ
ルであり且つ金属Ｂがニオブであり、両者を１×１０^-5
ｍｂａｒ以下の圧力及び１４００〜２２００℃の温度雰
囲気下に接近させて保持して得られたタンタル／ニオブ
からなるクラッド材は、耐熱材料、超電導材料等の種々
の用途を有するために好適である。In particular, niobium obtained by holding the metal A close to an atmosphere of niobium and the metal B titanium and a pressure of 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less and a temperature of 800 to 1400 ° C. / Titanium or metal A is tantalum and metal B is niobium, and both are 1 × 10 ⁻⁵
A clad material made of tantalum / niobium obtained by being held close to an atmosphere at a pressure of 1 mbar or less and a temperature of 1400 to 2200 ° C. is suitable because it has various uses such as a heat-resistant material and a superconducting material.

【００１８】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態及び実
施例を図面を用いて具体的に説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments and examples of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【００１９】実施例１ 加熱ヒータを備えた真空槽内に、厚さ０．１ｍｍ、幅２
ｍｍ、長さ２０ｍｍのニオブシートを固定した後、厚さ
３０μｍ、幅５０ｍｍ、長さ２０ｍｍのチタンシートで
ニオブシートの両面を覆った。この際、治具を用いて、
ニオブシートにチタンシートが接触しないように両シー
トの間隔を約０．１ｍｍに維持した。次いで、真空槽を
７×１０^-6ｍｂａｒに減圧し、加熱ヒータによりチタン
の温度が１０００℃になるように加熱して、３時間の熱
処理を施した。Example 1 A vacuum chamber equipped with a heater was set to a thickness of 0.1 mm and a width of 2 mm.
After fixing a niobium sheet having a thickness of 20 mm and a length of 20 mm, both surfaces of the niobium sheet were covered with a titanium sheet having a thickness of 30 μm, a width of 50 mm and a length of 20 mm. At this time, using a jig,
The interval between the two sheets was maintained at about 0.1 mm so that the titanium sheet did not contact the niobium sheet. Then, the pressure in the vacuum chamber was reduced to 7 × 10 ⁻⁶ mbar, the titanium was heated by a heater so that the temperature of the titanium became 1000 ° C., and heat treatment was performed for 3 hours.

【００２０】３時間の熱処理後、ニオブシートの表面を
ＥＰＭＡ観察（ＳＥＭ像、ライン分析）したところ、ニ
オブシート表面上にチタンが約２０μｍの厚さで付着し
ていることがわかった。なお、熱処理開始後、３０分及
び１時間経過時にニオブシート上のチタンの膜厚を測定
したところ、それぞれ、５．５μｍ及び１０μｍであっ
た。After the heat treatment for 3 hours, the surface of the niobium sheet was observed by EPMA (SEM image, line analysis). As a result, it was found that titanium had a thickness of about 20 μm on the surface of the niobium sheet. The thickness of the titanium film on the niobium sheet was measured 30 minutes and 1 hour after the start of the heat treatment, and was found to be 5.5 μm and 10 μm, respectively.

【００２１】実施例２ 厚さ１ｍｍのＣＰチタン板を用いて、図１(a) に示すよ
うな寸法５００ｍｍ×５００ｍｍ×４００ｍｍのチタン
製のボックス１０を作製した。ボックス１０の天板１２
及び４つの側面１４ａ〜１４ｄには、それぞれ、φ１０
ｍｍの複数の穴１６が図１(b) に示したような間隔で形
成されている。Example 2 A titanium box 10 having dimensions of 500 mm × 500 mm × 400 mm as shown in FIG. 1A was prepared by using a CP titanium plate having a thickness of 1 mm. Top plate 12 of box 10
And four side surfaces 14a to 14d respectively have φ10
A plurality of holes 16 of mm are formed at intervals as shown in FIG.

【００２２】厚さ０．１ｍｍ、幅３２０ｍｍ、長さ２０
ｍのニオブシートを、図２(a) に示すように、半径方向
に約１〜３ｍｍの間隔が設けられるように約３０巻のロ
ール状に巻いた。次いで、図２(b) に示したように、こ
のニオブロール１８を、その最外周がチタン製のボック
ス１０の側面１４ａ〜１４ｄから約１ｍｍの距離を隔て
るようにしてチタン製のボックス１０内に収容した。次
いで、ニオブロール１８を収容したチタン製のボックス
１０を加熱ヒータを備えた真空装置内に配置し、真空度
７×１０^-6ｍｂａｒ、温度１２００℃の条件で、３時間
の熱処理を施した。Thickness 0.1 mm, width 320 mm, length 20
As shown in FIG. 2 (a), about 30 m of niobium sheet were wound in a roll shape so that a gap of about 1 to 3 mm was provided in the radial direction. Next, as shown in FIG. 2 (b), the niobium roll 18 is housed in the titanium box 10 so that the outermost periphery thereof is separated from the side surfaces 14a to 14d of the titanium box 10 by a distance of about 1 mm. did. Next, the titanium box 10 accommodating the niobium roll 18 was placed in a vacuum device equipped with a heater, and heat-treated for 3 hours under the conditions of a degree of vacuum of 7 × 10 ⁻⁶ mbar and a temperature of 1200 ° C.

【００２３】熱処理後、ニオブロール１８をチタン製の
ボックス１０から取り出したところ、ニオブロール１８
のチタンボックス側に面しているニオブロールの片面の
みにチタン層が付着していることがわかった。熱処理の
間、ニオブロール１８の表面観察を続けたところ、熱処
理時間の経過とともにニオブ層の厚みが増すのが確認さ
れた。図３に、熱処理におけるニオブ表面上に形成され
たチタン層厚さと熱処理時間の関係を示す。図３には、
ニオブロールの最外周位置（チタン製のボックス１０の
側面と１ｍｍの間隔）及びチタン製のボックス１０の側
面から９ｍｍ隔てた位置におけるニオブロール表面に付
着したチタン層の厚みをそれぞれ表してある。なお、図
３には、実施例１における熱処理時間と形成されたチタ
ン層の膜厚との関係も併せて示した。チタン層の厚さは
後述する相対残留抵抗の測定結果から求めた。After the heat treatment, the niobium roll 18 was taken out from the box 10 made of titanium.
It was found that the titanium layer adhered to only one side of the niobium roll facing the titanium box side of the above. When the surface observation of the niobium roll 18 was continued during the heat treatment, it was confirmed that the thickness of the niobium layer increased with the lapse of the heat treatment time. FIG. 3 shows the relationship between the thickness of the titanium layer formed on the niobium surface and the heat treatment time in the heat treatment. In FIG.
The thickness of the titanium layer adhered to the niobium roll surface at the outermost peripheral position of the niobium roll (1 mm apart from the side surface of the titanium box 10) and at a position 9 mm apart from the side surface of the titanium box 10 is shown. FIG. 3 also shows the relationship between the heat treatment time and the thickness of the formed titanium layer in Example 1. The thickness of the titanium layer was determined from the measurement result of relative residual resistance described later.

【００２４】図３に示すように、熱処理時間に従ってチ
タン層の厚みが増加することがわかる。また、ニオブロ
ールの巻き面の外側程、すなわち、チタンとニオブの距
離が近い程、チタン層の形成速度が速いことがわかる。
従って、熱処理温度及びニオブシートとチタンとの間隔
の条件が一定であれば、図３に示した関係を用いて熱処
理時間を制御することにより所望の厚さのチタン層をニ
オブシート上に形成することができる。FIG. 3 shows that the thickness of the titanium layer increases with the heat treatment time. In addition, it can be seen that the closer to the outside of the winding surface of the niobium roll, that is, the shorter the distance between titanium and niobium, the faster the formation speed of the titanium layer.
Therefore, if the conditions of the heat treatment temperature and the interval between the niobium sheet and titanium are constant, a titanium layer having a desired thickness is formed on the niobium sheet by controlling the heat treatment time using the relationship shown in FIG. be able to.

【００２５】実施例２で熱処理して得られたニオブロー
ル１８の半径方向外側位置、中程位置及び内側位置から
ニオブ片をそれぞれ切り出し、元素分析により不純物と
しての酸素、窒素、炭素及び水素の含有量（重量ｐｐ
ｍ）を測定した。元素分析の結果を、それらの試料の平
均値として表１に示す。表１には、比較のため、熱処理
前のニオブロールを同一条件でサンプリングして元素分
析した結果を示す。Niobium pieces were cut out from the radially outer, middle and inner positions of the niobium roll 18 obtained by heat treatment in Example 2, and the contents of oxygen, nitrogen, carbon and hydrogen as impurities were analyzed by elemental analysis. (Weight pp
m) was measured. The results of the elemental analysis are shown in Table 1 as the average values of those samples. Table 1 shows, for comparison, the results of elemental analysis of a sample of niobium before heat treatment under the same conditions.

【００２６】[0026]

【表１】 元素分析（重量ｐｐｍ）結果 Ｏ Ｎ Ｃ Ｈ 熱処理前のＮｂシート ４０ ＜１０ ＜１０ ＜１ 熱処理後のＮｂシート ＜１０ ＜１０ ＜１０ ＜１TABLE 1 Elemental analysis (wt ppm) Result O N C H before the heat treatment Nb sheet 40 <10 <10 <Nb sheet <10 after one heat treatment <10 <10 <1

【００２７】上記元素分析の結果より、３時間の熱処理
によりニオブ中の酸素が低減されたことがわかる。これ
は、チタンボックス面を構成するチタンによる酸素のゲ
ッター効果によると考えられる。From the results of the above elemental analysis, it can be seen that the oxygen in niobium was reduced by the heat treatment for 3 hours. This is considered to be due to the getter effect of oxygen by titanium constituting the titanium box surface.

【００２８】また、この実施例で得られたニオブロール
について、ビッカース硬度Ｈｖ及び相対残留抵抗値（Ｒ
ＲＲ）の測定を行った。測定結果を表２に示す。表２に
は、熱処理前と熱処理後のニオブロールの相対残留抵抗
値（ＲＲＲ）及びビッカース硬度Ｈｖを示してあり、そ
れらは前述の元素分析と同様にニオブロールの半径方向
外側、中程及び内側位置から切り出した各試料の測定結
果の平均値である。Further, with respect to the niobium roll obtained in this embodiment, the Vickers hardness Hv and the relative residual resistance value (R
RR) was measured. Table 2 shows the measurement results. Table 2 shows the relative residual resistance value (RRR) and the Vickers hardness Hv of the niobium roll before and after the heat treatment, which are measured from the radially outer, middle and inner positions of the niobium roll in the same manner as in the above-described elemental analysis. It is the average value of the measurement results of each sample cut out.

【００２９】[0029]

【表２】 ＲＲＲ （BFC ） （arb.） Ｈｖ 熱処理前のＮｂシート ６１ ５２ １３８ 熱処理後のＮｂシート ４５７ ２２３ ４２Table 2 RRR (BFC) (arb.) Nb sheet before Hv heat treatment 61 52 138 Nb sheet after heat treatment 457 223 42

【００３０】ここで、相対残留抵抗値（ＲＲＲ）は、室
温で測定した電気抵抗を各温度で測定した電気抵抗を除
した値である。また、ビッカース硬度測定の荷重は１０
０ｇとした。表２中、ＲＲＲ（ＢＦＣ）は温度を１０Ｋ
に外挿して得られた値であり、ＲＲＲ（ａｒｂ．）は２
０Ｋでの実測値を示す。この結果より、熱処理により、
得られたニオブシートの歪みの除去とともにチタンゲッ
ター効果により、酸素などのガス成分不純物が除去さ
れ、非常に展延性に富み高純度化が達成され、ほぼ出発
材料の高純度インゴット並みの特性を呈していることが
判明した。ただし、ＲＲＲ値が出発原料インゴットと比
較して低いのは、ニオブシート表面部にチタン層が付着
しているためであると考えられる。したがって、本発明
のクラッド材の製造方法によれば、チタンとニオブシー
トの距離を適切に選ぶことにより、チタン層の無いニオ
ブシートが得られ、それにより、出発材料とほとんど遜
色のないニオブシートを得ることができることが分か
る。Here, the relative residual resistance (RRR) is a value obtained by dividing the electric resistance measured at room temperature by the electric resistance measured at each temperature. The load of Vickers hardness measurement was 10
0 g. In Table 2, RRR (BFC) indicates a temperature of 10K.
, And RRR (arb.) Is 2
The measured value at 0K is shown. From this result, by heat treatment,
Gas component impurities such as oxygen are removed by the titanium getter effect together with the removal of the strain of the obtained niobium sheet, and extremely extensible and highly purified, achieving almost the same characteristics as the high-purity ingot of the starting material. Turned out to be. However, it is considered that the reason that the RRR value is lower than that of the starting material ingot is that the titanium layer is attached to the surface of the niobium sheet. Therefore, according to the method for manufacturing a clad material of the present invention, a niobium sheet having no titanium layer can be obtained by appropriately selecting the distance between titanium and a niobium sheet, and thereby a niobium sheet having almost the same quality as the starting material can be obtained. It can be seen that it can be obtained.

【００３１】以上、本発明のクラッド材の製造方法を、
金属Ａと金属Ｂの組み合わせとして金属Ａ（高融点活性
金属）にニオブを用い、金属Ｂ（活性金属）にチタンを
用いた実施例により説明してきたが、本発明の方法はそ
れらに限定されず、金属Ａと金属Ｂの組み合わせとし
て、金属Ａにタンタル、金属Ｂにチタンを用いても良好
な結果が得られ、また、金属Ａにタンタル、金属Ｂにニ
オブを用いても良好な結果が得られた。さらに、金属Ａ
と金属Ｂの組み合わせとして、周期率表でIVａ族のＴ
ｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Vａ族のＶ、Ｎｂ、Ｔａ、VIａ族のＣ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、VIIａ族のＲｅ、VIII族のＦｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Iｂ族のＣｕ、IIIｂ族のＡｌ、Ｇａ、IVｂ族のＳ
ｉ、Ｇｅ、Ｓｎからなる群から選ばれた金属の組み合わ
せを用いることができることは言うまでもない。As described above, the method for producing a clad material of the present invention
Although a combination of metal A and metal B has been described with reference to an example in which niobium is used for metal A (high melting point active metal) and titanium is used for metal B (active metal), the method of the present invention is not limited thereto. Good results are obtained even when tantalum is used for metal A and titanium is used for metal B as a combination of metal A and metal B, and good results are obtained when tantalum is used for metal A and niobium is used for metal B. Was done. Furthermore, metal A
In the periodic table, T
i, Zr, Hf, V of group Va, Nb, Ta, C of group VIa
r, Mo, W, Re of group VIIa, Fe, Co of group VIII,
Ni, Cu of group Ib, Al, Ga of group IIIb, S of group IVb
It goes without saying that a combination of metals selected from the group consisting of i, Ge, and Sn can be used.

【００３２】また、上記実施例では、金属Ｂと金属Ａと
接近させて配置させる方法を例示したが、上記の方法に
限定されず、任意の方法を用いることができる。例え
ば、実施例２で用いたチタンボックスの寸法を変更し、
平板状のニオブ板を対向するチタンの側面から等しい距
離において熱処理を施すことによりニオブ板の両側に等
しい膜厚のチタン層を形成することもできる。すなわ
ち、請求の範囲において特定した温度及び圧力の条件下
で熱処理する限り、金属Ａと金属Ｂとを任意の位置関係
で接近させてもよい。また、金属Ａ及び金属Ｂをそれぞ
れ支持する手段は、真空槽内に治具で固定してもよく、
あるいは、シート状の金属Ａまたは金属Ｂを支持ロール
に係合させたり、巻き付けてもよい。In the above embodiment, the method of arranging the metal B and the metal A close to each other has been exemplified. However, the present invention is not limited to the above method, and any method can be used. For example, by changing the dimensions of the titanium box used in Example 2,
By subjecting a flat niobium plate to heat treatment at an equal distance from the side surface of the opposing titanium, a titanium layer having an equal thickness can be formed on both sides of the niobium plate. That is, as long as the heat treatment is performed under the conditions of the temperature and the pressure specified in the claims, the metal A and the metal B may be brought close to each other in an arbitrary positional relationship. The means for supporting the metal A and the metal B, respectively, may be fixed with a jig in a vacuum chamber,
Alternatively, the sheet-shaped metal A or metal B may be engaged with or wound on a support roll.

【００３３】本発明の方法で得られたクラッド材には種
々の用途が考えられる。例えば、高融点を有する金属Ａ
に金属Ｂを上記の方法で成膜し、このクラッド材を異な
る結晶構造を有する２種の金属のジョイント材として用
いることができる。例えば、ＮｂとＴｉを上記本発明の
方法で接合した後、Ｎｂ側にＮｂと同じ（ＢＣＣ）結晶
構造を有する金属、例えば、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｗ等を接着
し、Ｔｉ側にＴｉと同じ（ＨＣＰ）結晶構造を有するＣ
ｏ、Ｚｒ、Ｈｆ等、更にはＨＣＰ結晶構造と原子の配列
方法が若干異なる（ＦＣＣ）結晶構造を有する金属、例
えば、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌなどの金属を接着することによ
り、異なる（ＢＣＣ）及び（ＨＣＰ）結晶構造を有する
金属同士をＮｂ−Ｔｉジョイント材を用いて結合するこ
とができ、傾斜材としての機能材料（熱など伝導性現象
を必要とする場合など）及び構造性材料（強い結合性が
必要な場合など）に幅広い用途をもたらすことが期待さ
れる。The clad material obtained by the method of the present invention has various applications. For example, a metal A having a high melting point
Metal B is formed by the above method, and this clad material can be used as a joint material of two metals having different crystal structures. For example, after joining Nb and Ti by the method of the present invention, a metal having the same (BCC) crystal structure as Nb, such as Fe, Mo, W, or the like, is bonded to the Nb side, and the same as Ti ( HCP) C having a crystal structure
o, Zr, Hf, etc., and a metal having a crystal structure slightly different from the HCP crystal structure (FCC), such as Cu, Ni, Al, etc. (HCP) Metals having a crystal structure can be bonded to each other using an Nb-Ti joint material, and a functional material (such as a case requiring a conductive phenomenon such as heat) as a gradient material and a structural material (strong bonding) Is expected to provide a wide range of applications (e.g., when the nature is required).

【００３４】また、次のような用途も考えられる。実施
例２で得られたＮｂ表面にＴｉが堆積したニオブロール
を、ＨＩＰまたは窒素等の不活性雰囲気での高温加圧に
よりＮｂ層とＴｉ層を拡散接合させる。このＮｂ／Ｔｉ
は超電導性を有する。一方、Ｎｂ／Ｔｉ拡散接合の両側
のＮｂ層及びＴｉ層は素材内部に侵入する磁場を遮蔽す
る効果（ピン止め効果）をが期待されるため、得られた
拡散接合部分を有するクラッド材は超電導磁石用素材に
好適である。The following uses are also conceivable. The niobium roll obtained by depositing Ti on the Nb surface obtained in Example 2 is subjected to diffusion bonding between the Nb layer and the Ti layer by high-temperature pressing in an inert atmosphere such as HIP or nitrogen. This Nb / Ti
Has superconductivity. On the other hand, since the Nb layer and the Ti layer on both sides of the Nb / Ti diffusion junction are expected to have an effect of shielding a magnetic field penetrating into the material (pinning effect), the obtained cladding material having the diffusion junction is superconducting. Suitable for magnet materials.

【００３５】[0035]

【発明の効果】本発明では、金属Ａとそれより低い融点
Ｔｍを持つ金属Ｂを、１×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力及
び０．４８×Ｔｍ〜０．９×Ｔｍの温度雰囲気下で、互
いに接近させて保持するだけで金属Ａの表面に金属Ｂを
付着させることができるため、低電力で且つ簡単な設備
でクラッド材を製造することができる。また、本発明の
方法は金属Ａから酸素等の不純物を除去する不純物ゲッ
ター効果も有する。さらに、本発明の方法は、ＣＶＤや
スパッタ法に比べて金属Ａ上への金属Ｂの成膜速度が速
く、生産性に優れる。According to the present invention, the metal A and the metal B having a lower melting point Tm are mixed under a pressure of 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less and a temperature of 0.48 × Tm to 0.9 × Tm. Since the metal B can be attached to the surface of the metal A only by holding the metal B close to each other, the clad material can be manufactured with low power and simple equipment. The method of the present invention also has an impurity getter effect for removing impurities such as oxygen from metal A. Furthermore, the method of the present invention has a higher deposition rate of the metal B on the metal A than the CVD or sputtering method, and is excellent in productivity.

【００３６】本発明の方法で得られたクラッド材は、異
なる結晶構造の金属同士を接合させるジョイント材とし
て機能することができ、また、耐熱材料や超電導材料等
の種々の用途の材料に加工するための出発材料として好
適である。The clad material obtained by the method of the present invention can function as a joint material for joining metals having different crystal structures, and can be processed into materials for various uses such as heat-resistant materials and superconducting materials. As a starting material for

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】ニオブシートにチタン層を付着させる際に用い
たチタン製のボックスを説明する図面であり、(a) はチ
タンボックスの形状を示す斜視図であり、(b) は天板及
び側板に形成された穴の配置を示す図である。FIG. 1 is a view for explaining a titanium box used for attaching a titanium layer to a niobium sheet, (a) is a perspective view showing the shape of a titanium box, and (b) is a top plate and a side plate. FIG. 3 is a view showing the arrangement of holes formed in FIG.

【図２】図１のチタンボックスに挿入されるニオブシー
トを説明する図であり、(a) はロール状に巻かれたニオ
ブシートを示し、(b) はチタンボックス中に収容された
ロール状のニオブシートを示す図である。FIGS. 2A and 2B are diagrams illustrating a niobium sheet inserted into the titanium box of FIG. 1, wherein FIG. 2A illustrates a niobium sheet wound in a roll shape, and FIG. 2B illustrates a roll shape accommodated in the titanium box. FIG. 4 is a view showing a niobium sheet of FIG.

【図３】本発明の実施例１及び２の熱処理における熱処
理時間とニオブ表面上に形成されるチタン層の厚みの関
係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing a relationship between a heat treatment time in heat treatments of Examples 1 and 2 of the present invention and a thickness of a titanium layer formed on a niobium surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１０ チタンボックス １２ 天板 １４ａ〜１４ｄ 側板 １６ 貫通穴 １８ ニオブロール（シート） DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Titanium box 12 Top plate 14a-14d Side plate 16 Through hole 18 Niobium roll (sheet)

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 金属Ａと、金属Ａよりも低い融点Ｔｍ
（Ｋ）を有する金属Ｂとから構成されたクラッド材の製
造方法において、 上記金属Ａと金属Ｂの組み合わせが、チタン、ジルコニ
ウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ク
ロム、モリブデン、タングステン、レニウム、鉄、コバ
ルト、ニッケル、銅、アルミニウム、ガリウム、シリコ
ン、ゲルマニウム、スズからなる群から選ばれた金属の
組み合わせであり、 １×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力及び０．４８×Ｔｍ〜
０．９×Ｔｍの温度雰囲気下に金属Ａと金属Ｂとを近接
させて保持することによって金属Ａの表面に金属Ｂの膜
を形成することを特徴とするクラッド材の製造方法。1. A metal A and a melting point Tm lower than that of the metal A
In the method for manufacturing a clad material composed of metal B having (K), the combination of metal A and metal B is titanium, zirconium, hafnium, vanadium, niobium, tantalum, chromium, molybdenum, tungsten, rhenium, iron , Cobalt, nickel, copper, aluminum, gallium, silicon, germanium, and a combination of metals selected from the group consisting of tin, a pressure of 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less and a pressure of 0.48 × Tm or less.
A method for manufacturing a clad material, comprising forming a metal B film on a surface of a metal A by holding the metal A and the metal B close to each other in an atmosphere of a temperature of 0.9 × Tm. 【請求項２】 上記金属Ａと金属Ｂの組み合わせが、金
属Ａの融点と金属Ｂの融点の差が３００℃以上になるよ
うな組み合わせであることを特徴とする請求項１に記載
のクラッド材の製造方法。2. The clad material according to claim 1, wherein the combination of the metal A and the metal B is such that the difference between the melting point of the metal A and the melting point of the metal B becomes 300 ° C. or more. Manufacturing method. 【請求項３】 上記雰囲気の保持時間及び金属Ａと金属
Ｂの間隔の少なくとも一方を制御することによって金属
Ａの表面上に形成される金属Ｂの膜厚を調節することを
特徴とする請求項１または２に記載のクラッド材の製造
方法。3. The film thickness of the metal B formed on the surface of the metal A by controlling at least one of the atmosphere holding time and the interval between the metal A and the metal B. 3. The method for producing a clad material according to 1 or 2. 【請求項４】 上記金属Ａの表面と金属Ｂの表面との間
隔が、２００ｍｍ未満となるように金属Ａ及び金属Ｂを
配置することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項
に記載のクラッド材の製造方法。4. The method according to claim 1, wherein the metal A and the metal B are arranged such that a distance between the surface of the metal A and the surface of the metal B is less than 200 mm. A method for producing the clad material described above. 【請求項５】 金属Ａがニオブであり、金属Ｂがチタン
であり、１×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力及び８００℃〜
１４００℃の温度雰囲気下にニオブとチタンを近接させ
て保持することによってニオブ表面上にチタン膜を形成
させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に
記載のクラッド材の製造方法。5. The metal A is niobium, the metal B is titanium, a pressure of 1 × 10 ⁻⁵ mbar or less and 800 ° C.
The method for manufacturing a clad material according to any one of claims 1 to 4, wherein the titanium film is formed on the niobium surface by holding niobium and titanium close to each other in an atmosphere at a temperature of 1400 ° C. . 【請求項６】 金属Ａがタンタルであり、金属Ｂがニオ
ブであり、１×１０^-5ｍｂａｒ以下の圧力および１４０
０℃〜２２００℃の温度雰囲気下にタンタルとニオブを
近接させて保持することによってタンタル表面上にニオ
ブ膜を形成させることを特徴とする請求項１〜４のいず
れか一項に記載のクラッド材の製造方法。6. The metal A is tantalum, the metal B is niobium and has a pressure of less than 1 × 10 ⁻⁵ mbar and a pressure of 140 × 10 ⁻⁵ mbar.
The clad material according to any one of claims 1 to 4, wherein the niobium film is formed on the surface of the tantalum by holding the tantalum and the niobium close to each other in an atmosphere at a temperature of 0C to 2200C. Manufacturing method. 【請求項７】 請求項１に記載の方法で製造された金属
Ａと金属Ｂからなるクラッド材。7. A clad material comprising a metal A and a metal B produced by the method according to claim 1. 【請求項８】 請求項５に記載の方法で製造されたニオ
ブとチタンからなるクラッド材。8. A cladding material comprising niobium and titanium produced by the method according to claim 5. 【請求項９】 請求項６に記載の方法で製造されたタン
タルとニオブからなるクラッド材。9. A clad material comprising tantalum and niobium produced by the method according to claim 6.