JPH10314503A - Apparatus fordegassing fluid - Google Patents
Apparatus fordegassing fluidInfo
- Publication number
- JPH10314503A JPH10314503A JP12539397A JP12539397A JPH10314503A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A JP 12539397 A JP12539397 A JP 12539397A JP 12539397 A JP12539397 A JP 12539397A JP H10314503 A JPH10314503 A JP H10314503A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- fluid
- bubbles
- capillary
- degassing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、気体により加圧し
て供給される流体中に含まれる気体を除去するための脱
気装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a degassing apparatus for removing gas contained in a fluid supplied under pressure by gas.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、例えば半導体製造においては、半
導体基板の表面にパターン形成を行なう場合、半導体基
板の表面に、レジストを塗布して、パターンマスクを利
用してレジストを露光させた後、現像液によってレジス
トを現像することにより、所望のパターンのレジストが
半導体基板の表面に形成されるようになっている。この
ようなレジストの現像を行なう場合、従来は、現像液を
貯蔵する現像液タンクから、現像液タンク内を窒素等の
気体によって加圧したり、ポンプ等を使用することによ
り、現像液を供給ラインを介して現像装置内に圧送する
ようになっている。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, in semiconductor manufacturing, when a pattern is formed on the surface of a semiconductor substrate, a resist is applied to the surface of the semiconductor substrate, the resist is exposed using a pattern mask, and then developed. By developing the resist with the liquid, a resist having a desired pattern is formed on the surface of the semiconductor substrate. Conventionally, when such a resist is developed, the developer is supplied from a developer tank that stores the developer by pressurizing the interior of the developer tank with a gas such as nitrogen, or by using a pump or the like. Through the developing device.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
現像液の圧送は、加圧によって現像液中に気体が溶解し
やすくなる。これにより、現像液が現像装置内に供給さ
れ、圧力が解放された後に、現像液中の溶存気体が、現
像液内で微小気泡を発生させることになる。この微小気
泡が、現像の際に、半導体基板の表面に付着すると、微
小気泡の部分にて現像が進行せず、現像不良が発生し
て、半導体製造の歩留まりが低下してしまうことにな
る。このため、現像液中の溶存気体を除去するために、
従来は、現像液の供給ラインの現像装置手前にて、バッ
ファータンクを備えることにより、現像液が一旦バッフ
ァータンク内に貯留され、バッファータンク内にて撹拌
されることにより、現像液中の溶存気体の脱気を促進す
るようにしている。By the way, in such a pressure feeding of the developer, the gas is easily dissolved in the developer by pressurization. Thus, after the developer is supplied into the developing device and the pressure is released, the dissolved gas in the developer generates fine bubbles in the developer. If the microbubbles adhere to the surface of the semiconductor substrate during development, the development does not proceed at the microbubble portion, resulting in poor development and a reduction in semiconductor manufacturing yield. Therefore, in order to remove dissolved gas in the developer,
Conventionally, by providing a buffer tank in front of the developing device on the developer supply line, the developing solution is temporarily stored in the buffer tank and stirred in the buffer tank to dissolve dissolved gas in the developing solution. Promotes degassing.
【０００４】しかしながら、このようなバッファータン
クを使用しても、現像液自体が粘性を有していることか
ら、脱気が不十分であり、現像不良の発生が不可避であ
るという問題があった。また、このようなバッファータ
ンクは比較的大型であり、設置スペースの点で問題があ
った。However, even if such a buffer tank is used, there is a problem that the deaeration is insufficient due to the viscous nature of the developer itself, and the occurrence of defective development is inevitable. . Further, such a buffer tank is relatively large, and has a problem in terms of installation space.
【０００５】本発明は、以上の点に鑑み、小型に構成さ
れると共に、流体の脱気が十分に行われるようにした、
流体の脱気装置を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of the above points, and has been designed to be compact and sufficiently deaerated a fluid.
It is an object of the present invention to provide a fluid deaerator.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、貯蔵源から加圧されて流体が圧送される供給ライ
ン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二のタンク
と、前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備
えている、流体の脱気装置により、達成される。SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, there is provided, in accordance with the present invention, a first tank and a second tank provided sequentially in a supply line through which a fluid is pumped under pressure from a storage source. This is achieved by a fluid degassing device, comprising: a degassing promoting means provided in the first tank.
【０００７】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第一のタンクが、脱気促進手段として、タンク
中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷き詰めたキ
ャピラリーを有しており、このキャピラリーの下方にて
貯蔵源からの供給ラインが開口していると共に、第二の
タンクへの供給管が、キャピラリーの上方にて第一のタ
ンク内に開口している。[0007] In the fluid degassing apparatus according to the present invention, preferably, the first tank has, as degassing promoting means, a capillary in which a fine glass tube extending vertically in the middle of the tank is spread. A supply line from the storage source opens below the capillary, and a supply pipe to the second tank opens into the first tank above the capillary.
【０００８】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第二のタンクが、減圧されている。[0008] In the fluid degassing apparatus according to the present invention, preferably, the second tank is depressurized.
【０００９】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、前記第二のタンクが、その底部に撹拌手段を備えて
いる。In the fluid degassing apparatus according to the present invention, preferably, the second tank is provided with a stirring means at the bottom thereof.
【００１０】本発明による流体の脱気装置は、好ましく
は、上記第一のタンクが、上下に延びる回転軸の周りに
回転駆動されると共に、底面が中心から外側に向かって
下向きに傾斜して形成されており、第二のタンクへの供
給管が、第一のタンクの底面付近にて第一のタンク内に
開口している。In the fluid degassing apparatus according to the present invention, preferably, the first tank is driven to rotate around a vertically extending rotation axis, and the bottom surface is inclined downward from the center to the outside. A supply pipe to the second tank is formed and opens into the first tank near the bottom surface of the first tank.
【００１１】上記構成によれば、第一のタンク内に供給
された流体は、脱気促進手段、例えばキャピラリー及び
／又は第一のタンク自体の回転駆動によって、微小気泡
が纒められて、第二のタンクに供給される。そして、第
二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵されることによっ
て、微小気泡よりやや大きくなった気泡が流体中から浮
上することにより、脱気が行なわれる。[0011] According to the above configuration, the fluid supplied into the first tank is combined with microbubbles by the deaeration promoting means, for example, the rotation drive of the capillary and / or the first tank itself. It is supplied to the second tank. Then, in the second tank, the fluid is temporarily stored, so that bubbles slightly larger than the microbubbles float from the fluid, thereby performing deaeration.
【００１２】上記第一のタンクが、脱気促進手段とし
て、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷
き詰めたキャピラリーを有しており、このキャピラリー
の下方にて貯蔵源からの供給ラインが開口していると共
に、第二のタンクへの供給管が、キャピラリーの上方に
て第一のタンク内に開口している場合には、キャピラリ
ーの下方にて導入された流体は、上方に向かって流れる
ことにより、キャピラリーを構成する微細ガラス管中を
通過して、キャピラリー上方から供給管を通って、第二
のタンクに供給される。ここで、流体がキャピラリーを
構成する各微細ガラス管内を通過する際に、流体内の微
小気泡が、微細ガラス管の内壁に付着し、互いに隣接す
る微小気泡同士が接触して、大きな気泡を形成する。こ
の大きな気泡は、微小気泡に比較して脱気しやすいとい
う性質がある。そして、大きな気泡は、流体の流れによ
ってキャピラリー上方に達し、流体と共に、第二のタン
クに供給される。The first tank has, as deaeration promoting means, a capillary lined with fine glass tubes extending vertically in a middle stage of the tank, and a supply line from a storage source is provided below the capillary. If it is open and the supply pipe to the second tank opens into the first tank above the capillary, the fluid introduced below the capillary will By flowing, it passes through the fine glass tube constituting the capillary, and is supplied to the second tank from above the capillary through the supply tube. Here, when the fluid passes through each of the microscopic glass tubes constituting the capillary, microbubbles in the fluid adhere to the inner wall of the microscopic glass tube, and adjacent microbubbles come into contact with each other to form large bubbles. I do. These large bubbles have a property that they are more easily degassed than micro bubbles. Then, the large bubbles reach above the capillary by the flow of the fluid and are supplied to the second tank together with the fluid.
【００１３】ここで、上記第二のタンクが、減圧されて
いる場合には、流体中の溶存気体が、気泡として浮上し
やすく、容易に脱気されることになる。When the pressure in the second tank is reduced, the dissolved gas in the fluid easily floats as bubbles and is easily degassed.
【００１４】さらに、上記第二のタンクが、その底部に
撹拌手段を備えている場合には、撹拌手段の撹拌によっ
て、流体中の溶存気体が、より一層気泡として浮上しや
すくなり、容易に脱気されることになる。この場合、撹
拌手段は、第二のタンクの底部の領域の流体のみを撹拌
すればよいことから、撹拌手段が小型に構成されること
になり、第二のタンク自体も小型に構成されることにな
る。Further, when the second tank is provided with a stirring means at the bottom thereof, the dissolved gas in the fluid is more easily floated as bubbles by the stirring of the stirring means, and is easily removed. You will be bothered. In this case, since the stirring means only needs to stir the fluid in the region at the bottom of the second tank, the stirring means is configured to be small, and the second tank itself is also configured to be small. become.
【００１５】また、上記第一のタンクが、上下に延びる
回転軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から
外側に向かって下向きに傾斜して形成されており、第二
のタンクへの供給管が、底面付近にて第一のタンク内に
開口している場合には、第一のタンクの回動によって、
流体中の気泡は、軽いことから、遠心分離によって、タ
ンクの回転軸付近に集まり、また流体は、遠心力を受け
て、外側に集まることになる。そして、第一のタンクの
底面が外側に向かって傾斜していることから、気泡がタ
ンクの外側付近に流れるようなことはなく、流体のみが
供給管を通って、第二のタンクに供給される。The first tank is rotatably driven around a vertically extending rotation axis, and the bottom surface is formed so as to be inclined downward from the center outward. When the supply pipe is open into the first tank near the bottom surface, the rotation of the first tank causes
Since the bubbles in the fluid are light, they are collected near the rotation axis of the tank by centrifugation, and the fluid is collected outside by the centrifugal force. Then, since the bottom surface of the first tank is inclined outward, bubbles do not flow near the outside of the tank, and only the fluid is supplied to the second tank through the supply pipe. You.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図１乃至図４を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. still,
Since the embodiments described below are preferred specific examples of the present invention, various technically preferred limitations are added.
The scope of the present invention is not limited to these embodiments unless otherwise specified in the following description.
【００１７】図１は、本発明による流体の脱気装置の第
一の実施形態を示している。図１において、脱気装置１
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置（共に図示せず）への供給ライン１１中に配設され
ている。脱気装置１０は、供給ライン１１中に順次に設
けられた二つのタンク、即ち第一のタンク１２及び第二
のタンク２０を含んでいる。FIG. 1 shows a first embodiment of a fluid deaerator according to the present invention. In FIG. 1, a deaerator 1
Numeral 0 is provided in a supply line 11 from a developer tank to a developing device (both not shown) for deaeration of a developer used for developing a resist in the manufacture of a semiconductor, for example. . The deaerator 10 includes two tanks provided in a supply line 11 in order, a first tank 12 and a second tank 20.
【００１８】第一のタンク１２は、図示の場合、全体が
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク１２は、その上下方向の中段位置に
て、第一のタンク１２内を上下に仕切るように配設され
たキャピラリー１３を備えている。The first tank 12, as shown, is formed entirely in a cylindrical shape and has an open upper end. The first tank 12 includes a capillary 13 disposed at a middle position in the vertical direction so as to partition the inside of the first tank 12 up and down.
【００１９】さらに、第一のタンク１２は、キャピラリ
ー１３の下方にて、現像液タンクからの供給ライン１１
が開口していると共に、キャピラリー１３の上方にて、
第二のタンク２０への供給管１４が開口している。Further, the first tank 12 is provided below the capillary 13 with a supply line 11 from the developer tank.
Is open, and above the capillary 13,
The supply pipe 14 to the second tank 20 is open.
【００２０】上記キャピラリー１３は、図２に示すよう
に、第二のタンク１２の内壁を水平方向に埋め尽くすよ
うに、上下方向に延びる短い微細ガラス管１３ａを隙間
なく並べることにより、構成されている。この微細ガラ
ス管１３ａは、脱気すべき流体（この場合、現像液）に
対して反応しない組成のガラスから構成されており、そ
の寸法が、例えばその外径１．０ｍｍ，内径０．７ｍｍ
で、長さ３０．０ｍｍ程度に選定されている。As shown in FIG. 2, the capillary 13 is formed by arranging short vertical glass tubes 13a extending in the vertical direction without gaps so as to fill the inner wall of the second tank 12 in the horizontal direction. I have. The fine glass tube 13a is made of glass having a composition that does not react with a fluid to be degassed (in this case, a developer), and has a size of, for example, an outer diameter of 1.0 mm and an inner diameter of 0.7 mm.
And the length is selected to be about 30.0 mm.
【００２１】上記第二のタンク２０は、図示の場合、全
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が絞
られてキャップ２１により密閉されている。そして、第
二のタンク２０は、キャップ２１を貫通する真空排気管
２２に接続された真空排気装置（図示せず）によって、
内部が減圧されるようになっている。また、上記第二の
タンク２０は、その底部に、撹拌装置２３を備えてい
る。この撹拌装置２３は、図示の場合、スターラーであ
るが、同様の作用を発揮する小型の撹拌装置なら、その
態様を問わず採用できる。これにより、第二のタンク２
０も小型に構成されることになる。In the case of the drawing, the second tank 20 is formed in a substantially cylindrical shape as a whole, and the upper end thereof is squeezed and sealed by a cap 21. Then, the second tank 20 is evacuated by a vacuum exhaust device (not shown) connected to a vacuum exhaust pipe 22 penetrating the cap 21.
The inside is decompressed. Further, the second tank 20 is provided with a stirring device 23 at the bottom thereof. The stirrer 23 is a stirrer in the case of the drawing, but any small stirrer that exerts the same effect can be adopted regardless of the mode. Thereby, the second tank 2
0 is also made compact.
【００２２】さらに、第二のタンク２０は、底部付近に
て、第一のタンク１２からの供給管１４と、現像装置
（図示せず）への供給ライン１１が開口している。Further, in the vicinity of the bottom of the second tank 20, a supply pipe 14 from the first tank 12 and a supply line 11 to a developing device (not shown) are opened.
【００２３】本実施形態による流体の脱気装置１０は、
以上のように構成されており、供給ライン１１を介して
現像液タンク（図示せず）から現像液が、第一のタンク
１２内に供給されると、現像液は、第一のタンク１２内
にて、キャピラリー１３の下方から、キャピラリー１３
を構成する各微細ガラス管１３ａ内を通過して、キャピ
ラリー１３の上方に進む。このとき、現像液中の溶存気
体は、キャピラリー１３の各微細ガラス管１３ａの内壁
に微小気泡として付着することになる。そして、微細ガ
ラス管１３ａの内壁に付着した微小気泡が徐々に増えて
くると、互いに隣接する微小気泡が接触して、大きな気
泡となり、流体の流れによって、キャピラリー１３の上
方に進むことになる。これにより、現像液中の微小気泡
は、キャピラリー１３の作用によって、より大きな気泡
となり、脱気が容易に行われるようになる。そして、キ
ャピラリー１３の上方に進んだ現像液は、供給管１４を
通って、第二のタンク２０の底部付近に供給されること
になる。The fluid deaerator 10 according to the present embodiment is
When the developing solution is supplied from the developing solution tank (not shown) into the first tank 12 through the supply line 11, the developing solution is stored in the first tank 12. At the bottom of the capillary 13, the capillary 13
Passes through each of the fine glass tubes 13a, and proceeds to above the capillary 13. At this time, the dissolved gas in the developer adheres to the inner wall of each fine glass tube 13a of the capillary 13 as fine bubbles. Then, as the number of microbubbles attached to the inner wall of the microscopic glass tube 13a gradually increases, the microbubbles adjacent to each other come into contact with each other to become large bubbles, and the fluid flows to the upper part of the capillary 13. Thereby, the minute bubbles in the developer become larger bubbles due to the action of the capillary 13, and the degassing is easily performed. Then, the developer that has proceeded above the capillary 13 is supplied to the vicinity of the bottom of the second tank 20 through the supply pipe 14.
【００２４】第二のタンク２０内に収容された現像液
は、第二のタンク２０の底部に設けられた撹拌装置２３
によって撹拌されることにより、現像液の液面に浮上す
ることになる。その際、第二のタンク２０内が減圧され
ていることにより、現像液中の気泡は、より一層容易に
浮上できることになる。そして、第二のタンク２０内の
現像液は、一定時間だけ、上述した撹拌装置２３による
撹拌と真空排気管２２からの真空排気による減圧によっ
て脱気された後、供給ライン１１を通って、現像装置に
送出される。The developer contained in the second tank 20 is supplied to a stirring device 23 provided at the bottom of the second tank 20.
As a result, the developer floats on the surface of the developer. At this time, since the pressure in the second tank 20 is reduced, bubbles in the developer can float more easily. Then, the developer in the second tank 20 is degassed for a certain period of time by the stirring by the above-described stirring device 23 and decompression by evacuation from the evacuation pipe 22, and then passes through the supply line 11 to Sent to the device.
【００２５】図３は、本発明による流体の脱気装置の第
二の実施形態を示している。図３において、脱気装置３
０は、例えば半導体製造の際にレジストの現像に使用さ
れる現像液の脱気のために、その現像液タンクから現像
装置への供給ライン１１中に配設されている。脱気装置
３０は、供給ライン１１中に順次に設けられた二つのタ
ンク、即ち第一のタンク３１及び第二のタンク４０を含
んでいる。FIG. 3 shows a second embodiment of the fluid deaerator according to the present invention. In FIG. 3, the deaerator 3
Numeral 0 is provided in a supply line 11 from the developer tank to the developing device, for example, for degassing a developer used for developing a resist in the manufacture of a semiconductor. The deaerator 30 includes two tanks provided in the supply line 11 sequentially, that is, a first tank 31 and a second tank 40.
【００２６】第一のタンク３１は、図示の場合、全体が
円筒状に形成されており、上端が開放している。そし
て、第一のタンク３１は、その全体が中心軸の周りに、
駆動手段４１によって、矢印で示すように、回転駆動さ
れるようになっている。In the case of the drawing, the first tank 31 is formed entirely in a cylindrical shape and has an open upper end. And the first tank 31 is entirely around the central axis,
The driving means 41 is driven to rotate as indicated by the arrow.
【００２７】さらに、第一のタンク３１は、現像液タン
クからの供給ライン１１が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面３１ａが、中間から外側に向か
って下方に傾斜して形成されており、最外縁付近の底面
に、第二のタンク４０への供給管３２が開口している。Further, in the first tank 31, the supply line 11 from the developer tank extends from the open end to the vicinity of the bottom, and the bottom surface 31a is formed so as to be inclined downward from the middle to the outside. The supply pipe 32 to the second tank 40 is opened on the bottom surface near the outermost edge.
【００２８】上記底面３１ａは、好ましくは、図４に示
すように、等角度間隔で半径方向に延びる突条部もしく
はフィン３１ｂを備えている。As shown in FIG. 4, the bottom surface 31a is preferably provided with ridges or fins 31b extending radially at equal angular intervals.
【００２９】上記第二のタンク４０は、図示の場合、全
体がほぼ円筒状に形成されていると共に、その上端が開
放している。そして、第二のタンク４０は、第一のタン
ク３１からの供給管３２が、開放端から底部付近にまで
延びていると共に、底面に、現像装置への供給ライン１
１が開口している。In the case of the drawing, the second tank 40 has a substantially cylindrical shape as a whole, and has an open upper end. In the second tank 40, a supply pipe 32 from the first tank 31 extends from the open end to near the bottom, and a supply line 1 to the developing device is provided on the bottom.
1 is open.
【００３０】このような構成の流体の脱気装置３０によ
れば、供給ライン１１を介して現像液タンク（図示せ
ず）から現像液が、第一のタンク３１内に供給される
と、現像液は、第一のタンク３１の回転駆動によって、
底面に設けられた突条部３１ｂにより撹拌されることに
なり、遠心力を受けることになる。このとき、現像液中
の溶存気体は、現像液に比較して軽いことから、微小気
泡として、遠心分離され、回転軸付近に集まって、大き
な気泡を形成することになる。According to the fluid deaerator 30 having such a configuration, when the developing solution is supplied from the developing solution tank (not shown) into the first tank 31 through the supply line 11, the developing solution is developed. The liquid is driven by the rotation of the first tank 31.
Stirring is performed by the ridges 31b provided on the bottom surface, and receives centrifugal force. At this time, since the dissolved gas in the developing solution is lighter than the developing solution, the dissolved gas is centrifuged as fine bubbles and gathers near the rotation axis to form large bubbles.
【００３１】これに対して、遠心力を受けた現像液は、
遠心力によって、第一のタンク３１の外側に向かって移
動する。ここで、第一のタンク３１の底面３１ａが外側
に向かって低くなるように傾斜していることから、回転
軸付近に集まった微小気泡が、この底面３１ａに沿って
外側に移動するようなことはない。従って、第一のタン
ク３１内に導入された現像液は、第一のタンク３１の回
転駆動によって、ある程度微小気泡が除去された状態
で、第一のタンク３１の底面外側に開口する供給管３２
を通って、第二のタンク４０内に供給されることにな
る。第二のタンク４０内に進入した現像液は、一定時間
だけ貯蔵されることにより、現像液内の溶存気体が現像
液の表面に浮上して脱気された後、供給ライン１１を通
って、現像装置に送出される。かくして、現像液の脱気
が行われることになる。On the other hand, the developer subjected to the centrifugal force is
The centrifugal force causes the first tank 31 to move outward. Here, since the bottom surface 31a of the first tank 31 is inclined so as to become lower toward the outside, the minute bubbles collected near the rotation axis may move outward along the bottom surface 31a. There is no. Therefore, the developing solution introduced into the first tank 31 is supplied to the supply pipe 32 which is opened to the outside of the bottom surface of the first tank 31 in a state in which fine bubbles are removed to some extent by the rotation of the first tank 31.
To be supplied into the second tank 40. The developer that has entered the second tank 40 is stored for a certain period of time, so that the dissolved gas in the developer floats on the surface of the developer and is degassed. It is sent to the developing device. Thus, the developer is degassed.
【００３２】このように、上述の実施形態によれば、第
一のタンク内に供給された流体は、脱気促進手段、例え
ばキャピラリーあるいは第一のタンク自体の回転駆動に
よって、微小気泡が纒められて、第二のタンクに供給さ
れる。そして、第二のタンク内で、流体が一時的に貯蔵
されることによって、微小気泡よりやや大きくなった気
泡が流体中から浮上することにより、脱気が行なわれ
る。これにより、流体中の溶存気体が、十分に且つ確実
に脱気されることになる。従って、例えば半導体製造に
おける半導体基板に塗布されたレジストの現像のための
現像液の脱気を行なう場合、脱気が十分に且つ確実に行
われることにより、現像不良の発生が抑制されることに
なり、半導体製造の歩留まりが向上することになる。As described above, according to the above-described embodiment, the fluid supplied into the first tank is combined with microbubbles by the deaeration promoting means, for example, by rotating the capillary or the first tank itself. And supplied to the second tank. Then, in the second tank, the fluid is temporarily stored, so that bubbles slightly larger than the microbubbles float from the fluid, thereby performing deaeration. Thereby, the dissolved gas in the fluid is sufficiently and surely degassed. Therefore, for example, when degassing a developing solution for developing a resist applied to a semiconductor substrate in semiconductor manufacturing, the degassing is sufficiently and reliably performed, thereby suppressing the occurrence of development defects. As a result, the yield of semiconductor manufacturing is improved.
【００３３】尚、上述した実施形態においては、半導体
製造におけるレジストの現像液を脱気するための脱気装
置１０，３０について説明したが、これに限らず、気体
の加圧によって給送される種々の流体の脱気のために、
本発明が適用されることは明らかである。In the above-described embodiment, the degassing devices 10 and 30 for degassing the developing solution of the resist in the semiconductor manufacturing have been described. However, the present invention is not limited to this, and the gas is fed by pressurizing gas. For deaeration of various fluids,
It is clear that the invention applies.
【００３４】[0034]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、小
型に構成されると共に、流体の脱気が十分に行われるよ
うにした、脱気装置を提供することができる。As described above, according to the present invention, it is possible to provide a deaeration device which is small in size and sufficiently deaerated a fluid.
【図１】本発明による流体の脱気装置の第一の実施形態
を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view showing a first embodiment of a fluid deaerator according to the present invention.
【図２】図１の流体の脱気装置における第一のタンク内
のキャピラリーの構成を示す部分拡大斜視図である。FIG. 2 is a partially enlarged perspective view showing a configuration of a capillary in a first tank in the fluid deaerator of FIG.
【図３】本発明による流体の脱気装置の第二の実施形態
を示す概略斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view showing a second embodiment of the fluid deaerator according to the present invention.
【図４】図１の流体の脱気装置における第一のタンクの
底部を示す部分拡大斜視図である。FIG. 4 is a partially enlarged perspective view showing a bottom of a first tank in the fluid deaerator of FIG. 1;
１０・・・流体の脱気装置、１１・・・流体の供給ライ
ン、１２・・・第一のタンク、１３・・・キャピラリ
ー、１３ａ・・・微細ガラス管、１４・・・供給管、２
０・・・第二のタンク、２１・・・キャップ、２２・・
・真空排気管、２３・・・撹拌装置、３０・・・流体の
脱気装置、３１・・・第一のタンク、３１ａ・・・底
面、３１ｂ・・・突条部、３２・・・供給管、４０・・
・第二のタンク。DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Fluid deaerator, 11 ... Fluid supply line, 12 ... First tank, 13 ... Capillary, 13a ... Fine glass tube, 14 ... Supply tube, 2
0 ... second tank, 21 ... cap, 22 ...
-Vacuum exhaust pipe, 23-stirring device, 30-fluid deaerator, 31-first tank, 31a-bottom surface, 31b-ridge, 32-supply Tube, 40 ...
・ Second tank.
Claims (5)
供給ライン中に順次に設けられた第一のタンク及び第二
のタンクと、 前記第一のタンクに設けられる脱気促進手段とを備えて
いることを特徴とする流体の脱気装置。1. A first tank and a second tank sequentially provided in a supply line to which a fluid is pressurized and fed from a storage source, and a deaeration promoting means provided in the first tank. A fluid deaerator comprising:
て、タンク中段にて上下方向に延びる微細ガラス管を敷
き詰めたキャピラリーを有しており、 このキャピラリーの下方にて貯蔵源からの供給ラインが
開口していると共に、第二のタンクへの供給管が、キャ
ピラリーの上方にて第一のタンク内に開口していること
を特徴とする請求項１に記載の流体の脱気装置。2. The first tank has, as deaeration promoting means, a capillary in which a fine glass tube extending vertically in the middle of the tank is spread, and a supply from a storage source below the capillary. 2. The fluid degassing device according to claim 1, wherein the line is open and the supply pipe to the second tank opens into the first tank above the capillary.
とを特徴とする請求項２に記載の流体の脱気装置。3. The fluid degassing device according to claim 2, wherein the pressure in the second tank is reduced.
段を備えていることを特徴とする請求項２に記載の流体
の脱気装置。4. The degassing device according to claim 2, wherein the second tank is provided with a stirring means at a bottom thereof.
軸の周りに回転駆動されると共に、底面が中心から外側
に向かって下向きに傾斜して形成されており、 第二のタンクへの供給管が、第一のタンクの底面付近に
て第一のタンク内に開口していることを特徴とする請求
項１に記載の流体の脱気装置。5. The first tank is driven to rotate about a vertically extending rotation axis, and the bottom surface is formed to be inclined downward from the center outward. 2. The fluid degassing device according to claim 1, wherein the supply pipe opens into the first tank near a bottom surface of the first tank.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12539397A JPH10314503A (en) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | Apparatus fordegassing fluid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12539397A JPH10314503A (en) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | Apparatus fordegassing fluid |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10314503A true JPH10314503A (en) | 1998-12-02 |
Family
ID=14909037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12539397A Withdrawn JPH10314503A (en) | 1997-05-15 | 1997-05-15 | Apparatus fordegassing fluid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10314503A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007002429A2 (en) * | 2005-06-21 | 2007-01-04 | Intel Corporation | Capillary tube bubble containment in liquid cooling systems |
| JP2008053689A (en) * | 2006-07-26 | 2008-03-06 | Shibaura Mechatronics Corp | Apparatus of processing substrate |
| CN102452310A (en) * | 2010-10-19 | 2012-05-16 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | Cooling systems with deaeration reservoirs |
| JP2014090189A (en) * | 2003-07-09 | 2014-05-15 | Nikon Corp | Exposure device and device manufacturing method |
| JP2017023990A (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | Coating apparatus and coating method |
| JP2019214011A (en) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | Defoaming apparatus and defoaming method |
-
1997
- 1997-05-15 JP JP12539397A patent/JPH10314503A/en not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9500959B2 (en) | 2003-07-09 | 2016-11-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| JP2014090189A (en) * | 2003-07-09 | 2014-05-15 | Nikon Corp | Exposure device and device manufacturing method |
| JP2016053734A (en) * | 2003-07-09 | 2016-04-14 | 株式会社ニコン | Exposure device and method for producing device |
| US9977352B2 (en) | 2003-07-09 | 2018-05-22 | Nikon Corporation | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| WO2007002429A3 (en) * | 2005-06-21 | 2007-06-28 | Intel Corp | Capillary tube bubble containment in liquid cooling systems |
| US7274567B2 (en) | 2005-06-21 | 2007-09-25 | Intel Corporation | Capillary tube bubble containment in liquid cooling systems |
| WO2007002429A2 (en) * | 2005-06-21 | 2007-01-04 | Intel Corporation | Capillary tube bubble containment in liquid cooling systems |
| JP2008053689A (en) * | 2006-07-26 | 2008-03-06 | Shibaura Mechatronics Corp | Apparatus of processing substrate |
| TWI400131B (en) * | 2006-07-26 | 2013-07-01 | Shibaura Mechatronics Corp | Apparatus for treating substrates |
| CN102452310A (en) * | 2010-10-19 | 2012-05-16 | 通用汽车环球科技运作有限责任公司 | Cooling systems with deaeration reservoirs |
| US8966917B2 (en) | 2010-10-19 | 2015-03-03 | GM Global Technology Operations LLC | Cooling systems with deaeration reservoirs |
| JP2017023990A (en) * | 2015-07-28 | 2017-02-02 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | Coating apparatus and coating method |
| JP2019214011A (en) * | 2018-06-12 | 2019-12-19 | 東京エレクトロン株式会社 | Defoaming apparatus and defoaming method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3676983A (en) | Apparatus and method for degassing a liquid | |
| JP5107238B2 (en) | Coating material degassing method and apparatus | |
| US20030116014A1 (en) | Integrated use of deaeration methods to reduce bubbles and liquid waste | |
| JPH10314503A (en) | Apparatus fordegassing fluid | |
| TW200837030A (en) | Substrate slimming apparatus and method of slimming substrate | |
| JP3631999B2 (en) | Fine bubble feeder | |
| JPH0947647A (en) | Flow plate rotating type mixing and defoaming device | |
| JP2006027012A (en) | Defoaming method and defoaming apparatus therefor | |
| JP2009262017A (en) | Defoaming system of planetary movement type, and defoaming method of planetary movement type | |
| KR20010078283A (en) | Method of and apparatus for developing exposed photoresist to prevent impurity from being attached to wafer surface | |
| JP2007262466A (en) | Method of manufacturing semiconductor device | |
| JP3338380B2 (en) | Wafer processing apparatus and wafer processing method | |
| JP2002273190A (en) | Coating liquid stirring device | |
| JP2002200453A (en) | Coating apparatus and coating method | |
| JP2006179764A (en) | Substrate processing apparatus and particle removing method | |
| JP2000246007A (en) | Method for deaerating highly viscous liquid | |
| JP2000167374A (en) | Stirrer | |
| CN113838784A (en) | Wafer processing equipment, system and method | |
| JP3494521B2 (en) | Gas-liquid separation device for chemical liquid supply device | |
| JP2669054B2 (en) | Developing device | |
| JP2004290859A (en) | Method and apparatus for deaerating liquid | |
| JP2000068197A (en) | Bubble preventer and eliminator | |
| JPH0822952A (en) | Board rotation developing method and its equipment | |
| JP3110370B2 (en) | Semiconductor substrate developing apparatus and developing method | |
| JP2000294132A (en) | Apparatus and method for applying frit glass |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040803 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20040817 |
|
| A072 | Dismissal of procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A072 Effective date: 20041124 |