JPH103040A - 反射屈折光学系 - Google Patents
反射屈折光学系Info
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- JPH103040A JPH103040A JP8175922A JP17592296A JPH103040A JP H103040 A JPH103040 A JP H103040A JP 8175922 A JP8175922 A JP 8175922A JP 17592296 A JP17592296 A JP 17592296A JP H103040 A JPH103040 A JP H103040A
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- G02B17/0892—Catadioptric systems specially adapted for the UV
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/7025—Size or form of projection system aperture, e.g. aperture stops, diaphragms or pupil obscuration; Control thereof
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- G—PHYSICS
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 像側において十分大きな開口数および作動距
離を有し、物体面と像面とがほぼ平行で、良好な結像性
能を有する反射屈折光学系。 【解決手段】 物体面からの光は、正の屈折力を有する
第1レンズ群G1、光路を偏向するための平面を有する
光路偏向手段FM、負の屈折力を有する第2レンズ群G
2、ビームスプリッターBS、拡大倍率を有する凹面反
射鏡CM、ビームスプリッターBS、および正の屈折力
を有する第3レンズ群G3を介して、物体面とほぼ平行
な像面上に物体面の縮小像を形成する。また、第3レン
ズ群G3の物体側の主点位置は、第3レンズ群G3の最
も物体側の面よりも像側に位置している。
離を有し、物体面と像面とがほぼ平行で、良好な結像性
能を有する反射屈折光学系。 【解決手段】 物体面からの光は、正の屈折力を有する
第1レンズ群G1、光路を偏向するための平面を有する
光路偏向手段FM、負の屈折力を有する第2レンズ群G
2、ビームスプリッターBS、拡大倍率を有する凹面反
射鏡CM、ビームスプリッターBS、および正の屈折力
を有する第3レンズ群G3を介して、物体面とほぼ平行
な像面上に物体面の縮小像を形成する。また、第3レン
ズ群G3の物体側の主点位置は、第3レンズ群G3の最
も物体側の面よりも像側に位置している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は反射面と屈折面とを
有する反射屈折光学系に関し、特に半導体素子や液晶表
示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用
される露光装置の投影光学系に好適な反射屈折光学系に
関するものである。
有する反射屈折光学系に関し、特に半導体素子や液晶表
示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に使用
される露光装置の投影光学系に好適な反射屈折光学系に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、LSI集積回路等を製造する
ためのフォトリソグラフィ工程で使用される縮小露光装
置の投影光学系に好適な光学系として、反射系と屈折系
とを組み合わせた、いわゆる反射屈折光学系が種々提案
されている。近年、この種の縮小投影光学系では、より
微細なパターン加工を実現するために、露光光の短波長
化および開口数の増大化が要求されている。反射屈折光
学系は、これら2つの要求を同時に満たすために好適な
光学系の一つである。
ためのフォトリソグラフィ工程で使用される縮小露光装
置の投影光学系に好適な光学系として、反射系と屈折系
とを組み合わせた、いわゆる反射屈折光学系が種々提案
されている。近年、この種の縮小投影光学系では、より
微細なパターン加工を実現するために、露光光の短波長
化および開口数の増大化が要求されている。反射屈折光
学系は、これら2つの要求を同時に満たすために好適な
光学系の一つである。
【0003】従来の反射屈折光学系のうち、反射系に対
する光束の入出力を行なうための光路変換用ビームスプ
リッターを有する反射屈折光学系として、例えば特開平
2−66510号公報、特開平4−235516号公
報、および特開平5−72478号公報等に開示の反射
屈折光学系が知られている。これらの公報に開示されて
いる反射屈折光学系では、反射系である凹面鏡が縮小倍
率を有する収斂鏡として構成されている。
する光束の入出力を行なうための光路変換用ビームスプ
リッターを有する反射屈折光学系として、例えば特開平
2−66510号公報、特開平4−235516号公
報、および特開平5−72478号公報等に開示の反射
屈折光学系が知られている。これらの公報に開示されて
いる反射屈折光学系では、反射系である凹面鏡が縮小倍
率を有する収斂鏡として構成されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、光路変
換用ビームスプリッターを有する従来の反射屈折光学系
では、反射系である凹面鏡が縮小倍率を有するため、凹
面鏡よりも像側の光路中に配置されたレンズ系の結像倍
率が大きくなる。その結果、光学系の像側の開口数を大
きくすると、開口数の増大に応じてビームスプリッター
の口径が大きくなるという不都合があった。
換用ビームスプリッターを有する従来の反射屈折光学系
では、反射系である凹面鏡が縮小倍率を有するため、凹
面鏡よりも像側の光路中に配置されたレンズ系の結像倍
率が大きくなる。その結果、光学系の像側の開口数を大
きくすると、開口数の増大に応じてビームスプリッター
の口径が大きくなるという不都合があった。
【0005】また、凹面鏡が縮小倍率を有するため、ビ
ームスプリッターから像面までの距離が短くなり、像側
の作動距離(光学系の最も像側の面と像面との軸上間
隔)を十分に確保することが難しいという不都合があっ
た。さらに、ビームスプリッターの方向変換面に入射す
る光束の光線の角度が各々違うので、方向変換面の角度
特性などに起因して結像性能が低下するという不都合が
あった。なお、露光装置の投影光学系に本発明の反射屈
折光学系を適用する場合、物体面であるマスク面と像面
であるウエハ面とがほぼ平行になるように構成すること
が、マスクステージやウエハステージの構成上および制
御上有利である。
ームスプリッターから像面までの距離が短くなり、像側
の作動距離(光学系の最も像側の面と像面との軸上間
隔)を十分に確保することが難しいという不都合があっ
た。さらに、ビームスプリッターの方向変換面に入射す
る光束の光線の角度が各々違うので、方向変換面の角度
特性などに起因して結像性能が低下するという不都合が
あった。なお、露光装置の投影光学系に本発明の反射屈
折光学系を適用する場合、物体面であるマスク面と像面
であるウエハ面とがほぼ平行になるように構成すること
が、マスクステージやウエハステージの構成上および制
御上有利である。
【0006】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、ビームスプリッターを小型化し、像側におい
て十分大きな開口数および作動距離を有し、物体面と像
面とがほぼ平行で、良好な結像性能を有する反射屈折光
学系を提供することを目的とする。
のであり、ビームスプリッターを小型化し、像側におい
て十分大きな開口数および作動距離を有し、物体面と像
面とがほぼ平行で、良好な結像性能を有する反射屈折光
学系を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明においては、正の屈折力を有する第1レンズ
群G1と、光路を偏向するための平面を有する光路偏向
手段FMと、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、
光路を変換するためのビームスプリッターBSと、拡大
倍率を有する凹面反射鏡CMと、正の屈折力を有する第
3レンズ群G3とを備え、前記第1レンズ群G1、前記
光路偏向手段FM、前記第2レンズ群G2、前記ビーム
スプリッターBS、前記凹面反射鏡CM、前記ビームス
プリッターBS、および前記第3レンズ群G3の順に導
かれた物体面からの光が、前記物体面とほぼ平行な像面
上に前記物体面の縮小像を形成し、前記第3レンズ群G
3の物体側の主点位置は、前記第3レンズ群G3の最も
物体側の面よりも像側に位置し、前記第3レンズ群G3
の物体側の主点位置と前記第3レンズ群G3の最も物体
側の面との間の軸上距離をL1とし、前記第3レンズ群
G3の焦点距離をf3としたとき、 1.5<L1/f3 の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系を提
供する。
に、本発明においては、正の屈折力を有する第1レンズ
群G1と、光路を偏向するための平面を有する光路偏向
手段FMと、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、
光路を変換するためのビームスプリッターBSと、拡大
倍率を有する凹面反射鏡CMと、正の屈折力を有する第
3レンズ群G3とを備え、前記第1レンズ群G1、前記
光路偏向手段FM、前記第2レンズ群G2、前記ビーム
スプリッターBS、前記凹面反射鏡CM、前記ビームス
プリッターBS、および前記第3レンズ群G3の順に導
かれた物体面からの光が、前記物体面とほぼ平行な像面
上に前記物体面の縮小像を形成し、前記第3レンズ群G
3の物体側の主点位置は、前記第3レンズ群G3の最も
物体側の面よりも像側に位置し、前記第3レンズ群G3
の物体側の主点位置と前記第3レンズ群G3の最も物体
側の面との間の軸上距離をL1とし、前記第3レンズ群
G3の焦点距離をf3としたとき、 1.5<L1/f3 の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系を提
供する。
【0008】本発明の好ましい態様によれば、前記凹面
反射鏡CMの結像倍率をβCMとし、前記第1レンズ群G
1と前記第2レンズ群G2との間の軸上間隔をD12と
し、反射屈折光学系全体の像側の開口数をNAi とし、
物体面上の最大物高をY0としたとき、 −1.0<1/βCM<0.5 5.0<D12/(NAi ・Y0 )<50.0 の条件を満足する。また、前記反射屈折光学系全体の結
像倍率をβとし、前記第1レンズ群G1の結像倍率をβ
1としたとき、 −20.0<β1/β<−1.0 の条件を満足することが好ましい。さらに、前記反射屈
折光学系全体の結像倍率をβとし、前記第3レンズ群G
3の結像倍率をβ3としたとき、 −1.0<β3/β<1.0 の条件を満足することが好ましい。
反射鏡CMの結像倍率をβCMとし、前記第1レンズ群G
1と前記第2レンズ群G2との間の軸上間隔をD12と
し、反射屈折光学系全体の像側の開口数をNAi とし、
物体面上の最大物高をY0としたとき、 −1.0<1/βCM<0.5 5.0<D12/(NAi ・Y0 )<50.0 の条件を満足する。また、前記反射屈折光学系全体の結
像倍率をβとし、前記第1レンズ群G1の結像倍率をβ
1としたとき、 −20.0<β1/β<−1.0 の条件を満足することが好ましい。さらに、前記反射屈
折光学系全体の結像倍率をβとし、前記第3レンズ群G
3の結像倍率をβ3としたとき、 −1.0<β3/β<1.0 の条件を満足することが好ましい。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明の反射屈折光学系では、物
体面と凹面反射鏡CMとの間の光路中に、さらに特定す
れば第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との間の光路
中に、光路偏向手段FMを配置している。したがって、
光路偏向手段FMの方向変換面とビームスプリッターB
Sの方向変換面との協働により、物体面と像面とをほぼ
平行に構成することができる。
体面と凹面反射鏡CMとの間の光路中に、さらに特定す
れば第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との間の光路
中に、光路偏向手段FMを配置している。したがって、
光路偏向手段FMの方向変換面とビームスプリッターB
Sの方向変換面との協働により、物体面と像面とをほぼ
平行に構成することができる。
【0010】ところで、たとえば平面折り曲げ鏡のよう
な光路偏向手段FMを介在させるには、第1レンズ群G
1と第2レンズ群G2との間に大きな物理的空間が必要
となる。これは、平面折り曲げ鏡の前後に配置された光
学要素(第1レンズ群G1や第2レンズ群G2)と平面
折り曲げ鏡を保持するための機械系とが互いに物理的に
干渉しないために必要な空間である。一般に、上述のよ
うな構成を採ると、ビームスプリッターや凹面反射鏡が
大きくなってしまう。そこで、本発明では、所定の条件
式を満足するように構成することにより、ビームスプリ
ッターや凹面反射鏡の大型化を回避し、像側の開口数お
よび像側の作動距離を十分に確保するとともに、優れた
光学性能を実現している。
な光路偏向手段FMを介在させるには、第1レンズ群G
1と第2レンズ群G2との間に大きな物理的空間が必要
となる。これは、平面折り曲げ鏡の前後に配置された光
学要素(第1レンズ群G1や第2レンズ群G2)と平面
折り曲げ鏡を保持するための機械系とが互いに物理的に
干渉しないために必要な空間である。一般に、上述のよ
うな構成を採ると、ビームスプリッターや凹面反射鏡が
大きくなってしまう。そこで、本発明では、所定の条件
式を満足するように構成することにより、ビームスプリ
ッターや凹面反射鏡の大型化を回避し、像側の開口数お
よび像側の作動距離を十分に確保するとともに、優れた
光学性能を実現している。
【0011】以下、本発明の条件式について説明する。
本発明においては、以下の条件式(1)を満足する。 1.5<L1/f3 (1) ここで、 L1:第3レンズ群G3の物体側の主点位置と第3レン
ズ群G3の最も物体側の面との間の軸上距離 f3:第3レンズ群G3の焦点距離
本発明においては、以下の条件式(1)を満足する。 1.5<L1/f3 (1) ここで、 L1:第3レンズ群G3の物体側の主点位置と第3レン
ズ群G3の最も物体側の面との間の軸上距離 f3:第3レンズ群G3の焦点距離
【0012】条件式(1)は、第3レンズ群G3の構成
についての条件式である。条件式(1)の下限値を下回
ると、ビームスプリッターBSの大型化を招いてしま
う。また、像側の作動距離を十分に確保することが困難
となってしまう。なお、大きな開口数を確保しつつ、ビ
ームスプリッターBSの小型化をさらに図るには、条件
式(1)の下限値を2.0とすることが好ましい。
についての条件式である。条件式(1)の下限値を下回
ると、ビームスプリッターBSの大型化を招いてしま
う。また、像側の作動距離を十分に確保することが困難
となってしまう。なお、大きな開口数を確保しつつ、ビ
ームスプリッターBSの小型化をさらに図るには、条件
式(1)の下限値を2.0とすることが好ましい。
【0013】また、本発明においては、以下の条件式
(2)および(3)を満足することが望ましい。 −1.0<1/βCM<0.5 (2) 5.0<D12/(NAi ・Y0 )<50.0 (3)
(2)および(3)を満足することが望ましい。 −1.0<1/βCM<0.5 (2) 5.0<D12/(NAi ・Y0 )<50.0 (3)
【0014】ここで、 βCM:凹面反射鏡CMの結像倍率 D12:第1レンズ群G1と第2レンズ群G2との間の軸
上間隔 NAi :反射屈折光学系全体の像側の開口数 Y0:物体面上の最大物高
上間隔 NAi :反射屈折光学系全体の像側の開口数 Y0:物体面上の最大物高
【0015】条件式(2)は、凹面反射鏡CMの結像倍
率について適切な範囲を規定している。条件式(2)の
下限値を下回ると、第3レンズ群G3が担うべき屈折力
が小さくなりすぎて、大きな開口数を達成しようとする
とビームスプリッターBSの大型化を招いてしまう。ま
た、像側の作動距離を十分に確保することが困難となっ
てしまう。さらに、ビームスプリッターBSの方向変換
面に入射する光束の光線の角度が各々違ってくるため、
方向変換面の角度特性などに起因する結像性能の低下を
避けることができなくなってしまう。なお、条件式
(2)の下限値を−0.5とすることがさらに好まし
い。一方、条件式(2)の上限値を上回ると、凹面反射
鏡CMの担う正屈折力が小さくなり、その分の正屈折力
をレンズ系(屈折系)で補うことになる。その結果、ペ
ッツバール和の補正を含めた基準波長の収差の補正のみ
ならず、色収差の補正も困難になってしまう。なお、条
件式(2)の上限値を0.2とすることがさらに好まし
い。
率について適切な範囲を規定している。条件式(2)の
下限値を下回ると、第3レンズ群G3が担うべき屈折力
が小さくなりすぎて、大きな開口数を達成しようとする
とビームスプリッターBSの大型化を招いてしまう。ま
た、像側の作動距離を十分に確保することが困難となっ
てしまう。さらに、ビームスプリッターBSの方向変換
面に入射する光束の光線の角度が各々違ってくるため、
方向変換面の角度特性などに起因する結像性能の低下を
避けることができなくなってしまう。なお、条件式
(2)の下限値を−0.5とすることがさらに好まし
い。一方、条件式(2)の上限値を上回ると、凹面反射
鏡CMの担う正屈折力が小さくなり、その分の正屈折力
をレンズ系(屈折系)で補うことになる。その結果、ペ
ッツバール和の補正を含めた基準波長の収差の補正のみ
ならず、色収差の補正も困難になってしまう。なお、条
件式(2)の上限値を0.2とすることがさらに好まし
い。
【0016】条件式(3)は、物体面と像面とをほぼ平
行に構成するための条件式である。平面折り曲げ鏡FM
の前後に配置された第1レンズ群G1および第2レンズ
群G2と平面折り曲げ鏡FMを保持する機械系とが互い
に物理的に干渉しないために必要な空間は、光学系の仕
様のうちでフィールドサイズ(照明フィールドのサイ
ズ)および開口数に大きく依存する。条件式(3)の下
限値を下回ると、平面折り曲げ鏡FMのまわりに十分な
空間を確保することが困難となり、物体面と像面とをほ
ぼ平行に構成することが困難となってしまう。なお、条
件式(3)の下限値を10.0とすることがさらに好ま
しい。一方、条件式(3)の上限値を上回ると、ビーム
スプリッターBSの大型化を招いてしまう。なお、条件
式(3)の上限値を30.0とすることがさらに好まし
い。
行に構成するための条件式である。平面折り曲げ鏡FM
の前後に配置された第1レンズ群G1および第2レンズ
群G2と平面折り曲げ鏡FMを保持する機械系とが互い
に物理的に干渉しないために必要な空間は、光学系の仕
様のうちでフィールドサイズ(照明フィールドのサイ
ズ)および開口数に大きく依存する。条件式(3)の下
限値を下回ると、平面折り曲げ鏡FMのまわりに十分な
空間を確保することが困難となり、物体面と像面とをほ
ぼ平行に構成することが困難となってしまう。なお、条
件式(3)の下限値を10.0とすることがさらに好ま
しい。一方、条件式(3)の上限値を上回ると、ビーム
スプリッターBSの大型化を招いてしまう。なお、条件
式(3)の上限値を30.0とすることがさらに好まし
い。
【0017】また、本発明におけるビームスプリッター
BSは、光の偏光方向にしたがって光を分離する偏光ビ
ームスプリッターであることが好ましい。この場合、偏
光ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間の光
路中には、1/4波長板が配置される。偏光ビームスプ
リッターBSを用いる構成により、光量損失を回避して
スループットの向上を図るともに、フレアーの低減を図
ることができる。
BSは、光の偏光方向にしたがって光を分離する偏光ビ
ームスプリッターであることが好ましい。この場合、偏
光ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間の光
路中には、1/4波長板が配置される。偏光ビームスプ
リッターBSを用いる構成により、光量損失を回避して
スループットの向上を図るともに、フレアーの低減を図
ることができる。
【0018】また、本発明においては、次の条件式
(4)を満足することが望ましい。 −20.0<β1/β<−1.0 (4) ここで、 β :反射屈折光学系全体の結像倍率 β1:第1レンズ群G1の結像倍率
(4)を満足することが望ましい。 −20.0<β1/β<−1.0 (4) ここで、 β :反射屈折光学系全体の結像倍率 β1:第1レンズ群G1の結像倍率
【0019】条件式(4)は、第1レンズ群G1の結像
倍率について適切な範囲を規定している。条件式(4)
の下限値を下回ると、凹面反射鏡CMの担う正屈折力が
小さくなりすぎて、その分の正屈折力をレンズ系(屈折
系)で補うことになる。その結果、ペッツバール和の補
正を含めた基準波長の収差の補正のみならず、色収差の
補正も困難となるので好ましくない一方、条件式(4)
の上限値を上回ると、ビームスプリッターBSの大型化
を招くので好ましくない。さらに、平面折り曲げ鏡FM
の有効径が大きくなり、物理的な干渉を招き易くなるの
で好ましくない。
倍率について適切な範囲を規定している。条件式(4)
の下限値を下回ると、凹面反射鏡CMの担う正屈折力が
小さくなりすぎて、その分の正屈折力をレンズ系(屈折
系)で補うことになる。その結果、ペッツバール和の補
正を含めた基準波長の収差の補正のみならず、色収差の
補正も困難となるので好ましくない一方、条件式(4)
の上限値を上回ると、ビームスプリッターBSの大型化
を招くので好ましくない。さらに、平面折り曲げ鏡FM
の有効径が大きくなり、物理的な干渉を招き易くなるの
で好ましくない。
【0020】また、本発明においては、次の条件式
(5)を満足することが望ましい。 −1.0<β3/β<1.0 (5) ここで、 β3:第3レンズ群G3の結像倍率
(5)を満足することが望ましい。 −1.0<β3/β<1.0 (5) ここで、 β3:第3レンズ群G3の結像倍率
【0021】条件式(5)は、第3レンズ群G3の結像
倍率について適切な範囲を規定している。条件式(5)
の下限値を下回ると、ビームスプリッターBSの大型化
を招くので好ましくない。一方、条件式(5)の上限値
を上回ると、凹面反射鏡CMの担う正屈折力が小さくな
りすぎて、その分の正屈折力をレンズ系(屈折系)で補
うことになる。その結果、ペッツバール和の補正を含め
た基準波長の収差の補正のみならず、色収差の補正も困
難となるので好ましくない
倍率について適切な範囲を規定している。条件式(5)
の下限値を下回ると、ビームスプリッターBSの大型化
を招くので好ましくない。一方、条件式(5)の上限値
を上回ると、凹面反射鏡CMの担う正屈折力が小さくな
りすぎて、その分の正屈折力をレンズ系(屈折系)で補
うことになる。その結果、ペッツバール和の補正を含め
た基準波長の収差の補正のみならず、色収差の補正も困
難となるので好ましくない
【0022】また、本発明においては、非点収差やコマ
収差の発生を回避するために、ビームスプリッターBS
をプリズム型ビームスプリッターで構成することが好ま
しい。この場合、プリズム型ビームスプリッターBSの
像側の面と像面との間の光路中に開口絞りASを設け、
次の条件式(6)を満足することが望ましい。 0.26<T1/fCM<1.0 (6)
収差の発生を回避するために、ビームスプリッターBS
をプリズム型ビームスプリッターで構成することが好ま
しい。この場合、プリズム型ビームスプリッターBSの
像側の面と像面との間の光路中に開口絞りASを設け、
次の条件式(6)を満足することが望ましい。 0.26<T1/fCM<1.0 (6)
【0023】ここで、 T1:凹面反射鏡CMと開口絞りASとの間の空気換算
距離 fCM:凹面反射鏡CMの焦点距離 ここで、空気換算距離dtは、各媒体の軸上厚をdiと
し、各媒体の屈折率をniとするとき、次式(a)で表
される。 dt=Σ(di/ni) (a)
距離 fCM:凹面反射鏡CMの焦点距離 ここで、空気換算距離dtは、各媒体の軸上厚をdiと
し、各媒体の屈折率をniとするとき、次式(a)で表
される。 dt=Σ(di/ni) (a)
【0024】条件式(6)は、開口絞りASの配置につ
いて規定する条件式である。条件式(6)の下限値を下
回ると、開口絞りASが凹面反射鏡CMに近づきすぎる
か、あるいは凹面反射鏡CMの焦点距離が長くなりすぎ
る。その結果、プリズム型ビームスプリッターBSの小
型化を図ることが困難となるので好ましくない。一方、
条件式(6)の上限値を上回ると、軸外光束の収差、特
にコマ収差の補正が困難となるため好ましくない。
いて規定する条件式である。条件式(6)の下限値を下
回ると、開口絞りASが凹面反射鏡CMに近づきすぎる
か、あるいは凹面反射鏡CMの焦点距離が長くなりすぎ
る。その結果、プリズム型ビームスプリッターBSの小
型化を図ることが困難となるので好ましくない。一方、
条件式(6)の上限値を上回ると、軸外光束の収差、特
にコマ収差の補正が困難となるため好ましくない。
【0025】また、本発明においては、次の条件式
(7)を満足することが望ましい。 0.7<(T2・NAi )/f3 (7) ここで、 T2:プリズム型ビームスプリッターBSの像側の面と
像面との間の空気換算距離
(7)を満足することが望ましい。 0.7<(T2・NAi )/f3 (7) ここで、 T2:プリズム型ビームスプリッターBSの像側の面と
像面との間の空気換算距離
【0026】条件式(7)は、プリズム型ビームスプリ
ッターBSの像側の面と像面との間隔について適切な範
囲を規定している。条件式(7)の下限値を下回ると、
像側の作動距離を実用上十分な大きさに保つことが難し
くなるか、あるいは第3レンズ群G3の構成レンズ枚数
が限られて収差補正が困難となるため、好ましくない。
なお、像側において大きな開口数および作動距離を確保
しつつ、プリズム型ビームスプリッターBSの小型化を
さらに図るには、条件式(7)の上限値を3.5とする
ことが好ましい。
ッターBSの像側の面と像面との間隔について適切な範
囲を規定している。条件式(7)の下限値を下回ると、
像側の作動距離を実用上十分な大きさに保つことが難し
くなるか、あるいは第3レンズ群G3の構成レンズ枚数
が限られて収差補正が困難となるため、好ましくない。
なお、像側において大きな開口数および作動距離を確保
しつつ、プリズム型ビームスプリッターBSの小型化を
さらに図るには、条件式(7)の上限値を3.5とする
ことが好ましい。
【0027】また、本発明においては、次の条件式
(8)を満足することが望ましい。 (φB 1/2 −4・dW ・NAi )/(f3・NAi2)<4.0 (8) ここで、 φB :プリズム型ビームスプリッターBSの像側の面に
対するプリズム型ビームスプリッターBSの方向変換面
の正射影の面積 dW :第3レンズ群G3の最も像側の面と像面との軸上
間隔(像側の作動距離)
(8)を満足することが望ましい。 (φB 1/2 −4・dW ・NAi )/(f3・NAi2)<4.0 (8) ここで、 φB :プリズム型ビームスプリッターBSの像側の面に
対するプリズム型ビームスプリッターBSの方向変換面
の正射影の面積 dW :第3レンズ群G3の最も像側の面と像面との軸上
間隔(像側の作動距離)
【0028】条件式(8)は、像側の開口数、像側の作
動距離およびプリズム型ビームスプリッターBSの口径
に対する第3レンズ群G3の焦点距離の適切な範囲につ
いて規定している。条件式(8)の上限値を上回ると、
第3レンズ群G3の正屈折力が強くなりすぎるため、凹
面反射鏡CMの担う正屈折力が小さくなる。その結果、
ペッツバール和の補正を含めた基準波長の収差の補正の
みならず、色収差の補正も困難となるので好ましくな
い。なお、製造をさらに容易にし、且つ結像性能の向上
をさらに図るには、条件式(8)の上限値を3.5とす
ることが好ましい。
動距離およびプリズム型ビームスプリッターBSの口径
に対する第3レンズ群G3の焦点距離の適切な範囲につ
いて規定している。条件式(8)の上限値を上回ると、
第3レンズ群G3の正屈折力が強くなりすぎるため、凹
面反射鏡CMの担う正屈折力が小さくなる。その結果、
ペッツバール和の補正を含めた基準波長の収差の補正の
みならず、色収差の補正も困難となるので好ましくな
い。なお、製造をさらに容易にし、且つ結像性能の向上
をさらに図るには、条件式(8)の上限値を3.5とす
ることが好ましい。
【0029】なお、露光装置の投影光学系に本発明の反
射屈折光学系を適用する場合、300nm以下の波長に
おいてある程度の半値幅の広がりを有する露光光を用い
ることがある。この場合、少なくとも2種類の異なる光
学材料からなる屈折要素で第1レンズ群G1および第3
レンズ群G3を構成することが望ましい。特に、第1レ
ンズ群G1は蛍石からなる負レンズ成分を有し、第3レ
ンズ群G3は蛍石からなる正レンズ成分を有するように
構成することが望ましい。この構成により、軸上色収差
と軸外の倍率色収差とを同時に補正し、より広帯域の光
源を用いることが可能となる。
射屈折光学系を適用する場合、300nm以下の波長に
おいてある程度の半値幅の広がりを有する露光光を用い
ることがある。この場合、少なくとも2種類の異なる光
学材料からなる屈折要素で第1レンズ群G1および第3
レンズ群G3を構成することが望ましい。特に、第1レ
ンズ群G1は蛍石からなる負レンズ成分を有し、第3レ
ンズ群G3は蛍石からなる正レンズ成分を有するように
構成することが望ましい。この構成により、軸上色収差
と軸外の倍率色収差とを同時に補正し、より広帯域の光
源を用いることが可能となる。
【0030】また、一般に、第1レンズ群G1の正屈折
力を大きくすると、凹面反射鏡CMの正屈折力が小さく
なる傾向がある。その一方で、ペッツバール和が正の方
向に大きくなり、反射系の利点の一つが失われる傾向が
ある。したがって、平面折り曲げ鏡FMの回りに十分な
物理的空間を確保しつつ、反射系の利点を十分に活用し
た上で、優れた結像性能を確保するには、次の条件式
(9)を満足することが望ましい。 −2.0<f2/f1<−0.2 (9) ここで、 f1:第1レンズ群G1の焦点距離 f2:第2レンズ群G2の焦点距離
力を大きくすると、凹面反射鏡CMの正屈折力が小さく
なる傾向がある。その一方で、ペッツバール和が正の方
向に大きくなり、反射系の利点の一つが失われる傾向が
ある。したがって、平面折り曲げ鏡FMの回りに十分な
物理的空間を確保しつつ、反射系の利点を十分に活用し
た上で、優れた結像性能を確保するには、次の条件式
(9)を満足することが望ましい。 −2.0<f2/f1<−0.2 (9) ここで、 f1:第1レンズ群G1の焦点距離 f2:第2レンズ群G2の焦点距離
【0031】条件式(9)の下限値を下回ると、プリズ
ム型ビームスプリッターBSの小型化を図ることが困難
となる。加えて、第2レンズ群G2の負屈折力が強くな
ることに対して、凹面反射鏡CMの正屈折力または第3
レンズ群G3の正屈折力を大きくする必要が生じる。そ
の結果、コマ収差等が過大に発生し、この収差補正が難
しくなるので好ましくない。一方、条件式(9)の上限
値を上回ると、相対的にペッツバール和が正となり、良
好な収差補正が難しくなるので好ましくない。
ム型ビームスプリッターBSの小型化を図ることが困難
となる。加えて、第2レンズ群G2の負屈折力が強くな
ることに対して、凹面反射鏡CMの正屈折力または第3
レンズ群G3の正屈折力を大きくする必要が生じる。そ
の結果、コマ収差等が過大に発生し、この収差補正が難
しくなるので好ましくない。一方、条件式(9)の上限
値を上回ると、相対的にペッツバール和が正となり、良
好な収差補正が難しくなるので好ましくない。
【0032】なお、本発明においては、ビームスプリッ
ターBSの方向変換面における角度特性に起因する結像
特性の低下を抑えるために、ビームスプリッターBSと
第3レンズ群G3との間の光束をほぼアフォーカルにす
ることが望ましい。また、走査型露光装置における投影
光学系として本発明の反射屈折光学系を使用する場合、
マスクの照明フィールドとして走査方向よりも走査直交
方向に長いフィールド形状を選ぶのが一般的である。こ
の場合、ビームスプリッターBSの小型化を図るととも
に、平面折り曲げ鏡FMの回りの所要空間を比較的小さ
くするために、マスクの照明フィールドの長手方向に平
行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡FM
およびビームスプリッターBSを配置することが望まし
い。
ターBSの方向変換面における角度特性に起因する結像
特性の低下を抑えるために、ビームスプリッターBSと
第3レンズ群G3との間の光束をほぼアフォーカルにす
ることが望ましい。また、走査型露光装置における投影
光学系として本発明の反射屈折光学系を使用する場合、
マスクの照明フィールドとして走査方向よりも走査直交
方向に長いフィールド形状を選ぶのが一般的である。こ
の場合、ビームスプリッターBSの小型化を図るととも
に、平面折り曲げ鏡FMの回りの所要空間を比較的小さ
くするために、マスクの照明フィールドの長手方向に平
行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡FM
およびビームスプリッターBSを配置することが望まし
い。
【0033】さらに、本発明では、ビームスプリッター
BSと凹面反射鏡CMとの間は屈折力が零であることが
好ましい。これは、ビームスプリッターBSと凹面反射
鏡CMとの間の空間が、何も存在しない空間か、あるい
は平行平面板のような屈折力が零の光学素子が存在する
空間であることを意味する。従来例では、ビームスプリ
ッターBSと凹面反射鏡CMとの間に負レンズが配置さ
れていた。しかしながら、従来例の構成では、ビームス
プリッターBSが大型化してしまう。そこで、本発明で
は、ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間は
屈折力が零である構成を採ることにより、光束が発散光
になることがなく、ビームスプリッターBSの小型化を
図ることができる。しかしながら、本発明において、ビ
ームスプリッターBSの多少の大型化が許されるなら
ば、ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間の
光路中に、収差補正のためのレンズ群を付設してもよい
ことはいうまでもない。
BSと凹面反射鏡CMとの間は屈折力が零であることが
好ましい。これは、ビームスプリッターBSと凹面反射
鏡CMとの間の空間が、何も存在しない空間か、あるい
は平行平面板のような屈折力が零の光学素子が存在する
空間であることを意味する。従来例では、ビームスプリ
ッターBSと凹面反射鏡CMとの間に負レンズが配置さ
れていた。しかしながら、従来例の構成では、ビームス
プリッターBSが大型化してしまう。そこで、本発明で
は、ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間は
屈折力が零である構成を採ることにより、光束が発散光
になることがなく、ビームスプリッターBSの小型化を
図ることができる。しかしながら、本発明において、ビ
ームスプリッターBSの多少の大型化が許されるなら
ば、ビームスプリッターBSと凹面反射鏡CMとの間の
光路中に、収差補正のためのレンズ群を付設してもよい
ことはいうまでもない。
【0034】
【実施例】以下、本発明の各実施例を、添付図面に基づ
いて説明する。本発明の各実施例にかかる反射屈折光学
系は、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、光路を
偏向するための平面を有する光路偏向手段FMと、負の
屈折力を有する第2レンズ群G2と、ビームスプリッタ
ーBSと、拡大倍率を有する凹面反射鏡CMと、正の屈
折力を有する第3レンズ群G3とを備えている。そし
て、物体面からの光は、第1レンズ群G1、光路偏向手
段としての平面折り曲げ鏡FM、第2レンズ群G2、ビ
ームスプリッターBS、凹面反射鏡CM、ビームスプリ
ッターBS、および第3レンズ群G3の順に導かれた
後、物体面とほぼ平行な像面上に物体面の縮小像を形成
する。なお、第3レンズ群G3の物体側の主点位置は、
第3レンズ群G3の最も物体側の面よりも像側に位置し
ている。
いて説明する。本発明の各実施例にかかる反射屈折光学
系は、正の屈折力を有する第1レンズ群G1と、光路を
偏向するための平面を有する光路偏向手段FMと、負の
屈折力を有する第2レンズ群G2と、ビームスプリッタ
ーBSと、拡大倍率を有する凹面反射鏡CMと、正の屈
折力を有する第3レンズ群G3とを備えている。そし
て、物体面からの光は、第1レンズ群G1、光路偏向手
段としての平面折り曲げ鏡FM、第2レンズ群G2、ビ
ームスプリッターBS、凹面反射鏡CM、ビームスプリ
ッターBS、および第3レンズ群G3の順に導かれた
後、物体面とほぼ平行な像面上に物体面の縮小像を形成
する。なお、第3レンズ群G3の物体側の主点位置は、
第3レンズ群G3の最も物体側の面よりも像側に位置し
ている。
【0035】〔第1実施例〕図1は、本発明の第1実施
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図1において、第1レンズ群G1は、物体側
から順に、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズL
11、両凹レンズL12、両凸レンズL13、両凸レンズL1
4、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL15、お
よび両凸レンズL16から構成されている。また、第2レ
ンズ群G2は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズL21、および物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズL22から構成されている。
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図1において、第1レンズ群G1は、物体側
から順に、物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズL
11、両凹レンズL12、両凸レンズL13、両凸レンズL1
4、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズL15、お
よび両凸レンズL16から構成されている。また、第2レ
ンズ群G2は、物体側から順に、物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズL21、および物体側に凸面を向けた
負メニスカスレンズL22から構成されている。
【0036】さらに、第3レンズ群G3は、物体側から
順に、両凹レンズL31、両凸レンズL32、両凹レンズL
33、両凸レンズL34、両凸レンズL35、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL36、物体側に凸面を向けた
正メニスカスレンズL37、物体側に凸面を向けた負メニ
スカスレンズL38、物体側に凸面を向けた正メニスカス
レンズL39、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズ
L310 、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL31
1 、および物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL
312 から構成されている。
順に、両凹レンズL31、両凸レンズL32、両凹レンズL
33、両凸レンズL34、両凸レンズL35、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL36、物体側に凸面を向けた
正メニスカスレンズL37、物体側に凸面を向けた負メニ
スカスレンズL38、物体側に凸面を向けた正メニスカス
レンズL39、物体側に凸面を向けた負メニスカスレンズ
L310 、物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL31
1 、および物体側に凸面を向けた正メニスカスレンズL
312 から構成されている。
【0037】なお、ビームスプリッターBSと凹面反射
鏡CMとの間の光路中には、平行平面板PP1が設けら
れている。ビームスプリッターBSを偏光ビームスプリ
ッターで構成する場合には、平行平面板PP1を1/4
波長板あるいはその支持基板にすることができる。ま
た、ビームスプリッターBSと第3レンズ群G3との間
の光路中には平行平面板PP2が、第3レンズ群G3と
像面との間の光路中には一対の平行平面板PP3および
PP4がそれぞれ設けられている。これらの平行平面板
PP2〜PP4は、製造工程において光学系の収差調整
に使用される。
鏡CMとの間の光路中には、平行平面板PP1が設けら
れている。ビームスプリッターBSを偏光ビームスプリ
ッターで構成する場合には、平行平面板PP1を1/4
波長板あるいはその支持基板にすることができる。ま
た、ビームスプリッターBSと第3レンズ群G3との間
の光路中には平行平面板PP2が、第3レンズ群G3と
像面との間の光路中には一対の平行平面板PP3および
PP4がそれぞれ設けられている。これらの平行平面板
PP2〜PP4は、製造工程において光学系の収差調整
に使用される。
【0038】さらに、ビームスプリッターBSは、互い
に接合された2つの直角プリズムから構成された、いわ
ゆるプリズム型ビームスプリッターである。図1では、
ビームスプリッターBSの方向変換面が、第2レンズ群
G2からの光を透過させ且つ凹面反射鏡CMからの光を
反射する特性を有する。しかしながら、方向変換面の特
性は、この面に蒸着される薄膜の特性に依存して規定さ
れる。したがって、第2レンズ群G2からの光を反射し
且つ凹面反射鏡CMからの光を透過させるように、ビー
ムスプリッターBSの方向変換面を構成することもでき
る。この場合、凹面反射鏡CMおよび平行平面板PP1
は、ビームスプリッターBSの図中右側に配置される。
に接合された2つの直角プリズムから構成された、いわ
ゆるプリズム型ビームスプリッターである。図1では、
ビームスプリッターBSの方向変換面が、第2レンズ群
G2からの光を透過させ且つ凹面反射鏡CMからの光を
反射する特性を有する。しかしながら、方向変換面の特
性は、この面に蒸着される薄膜の特性に依存して規定さ
れる。したがって、第2レンズ群G2からの光を反射し
且つ凹面反射鏡CMからの光を透過させるように、ビー
ムスプリッターBSの方向変換面を構成することもでき
る。この場合、凹面反射鏡CMおよび平行平面板PP1
は、ビームスプリッターBSの図中右側に配置される。
【0039】第1実施例では、物体面において30×6
の矩形状の照明フィールド(照明領域)からの光に基づ
いて縮小像が形成される。ここで、矩形状の照明フィー
ルドの長手方向は図1の紙面に垂直な方向であり、矩形
状の照明領域の短手方向は図1の紙面内において水平方
向である。この場合、ビームスプリッターBSは、18
0×180×204の直方体状となり、図1の紙面内に
おいて180×180の正方形断面を有する。図1に示
すように、第1実施例では、照明フィールドの長手方向
に平行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡
FMおよびビームスプリッターBSが配置されている。
の矩形状の照明フィールド(照明領域)からの光に基づ
いて縮小像が形成される。ここで、矩形状の照明フィー
ルドの長手方向は図1の紙面に垂直な方向であり、矩形
状の照明領域の短手方向は図1の紙面内において水平方
向である。この場合、ビームスプリッターBSは、18
0×180×204の直方体状となり、図1の紙面内に
おいて180×180の正方形断面を有する。図1に示
すように、第1実施例では、照明フィールドの長手方向
に平行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡
FMおよびビームスプリッターBSが配置されている。
【0040】次の表(1)に、本発明の第1実施例の諸
元の値を掲げる。表(1)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。
元の値を掲げる。表(1)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。
【0041】なお、各面の曲率半径rの符号は、物体面
と平面折り曲げ鏡FMとの間では物体側に凸面を向ける
場合を正とし、平面折り曲げ鏡FMと凹面反射鏡CMと
の間では凹面反射鏡CMに凸面を向ける場合を正とし、
ビームスプリッタBSと像面との間では像側に凸面を向
ける場合を正としている。また、面間隔dの符号は、平
面折り曲げ鏡FMから凹面反射鏡CMまでの光路中では
負とし、ビームスプリッタBSの方向変換面から像面ま
での光路中では負とし、その他の光路中では正としてい
る。第1実施例では、光学材料として、蛍石および石英
を使用している。基準波長λ=193.4nm(ArF
エキシマレーザの波長)に対する蛍石の屈折率nc、基
準波長に対する石英の屈折率ns、蛍石の基準波長に対
する±0.1nmの分散値1/νc 、および石英の基準
波長に対する±0.1nmの分散値1/νs は、表
(1)に示すとおりである。
と平面折り曲げ鏡FMとの間では物体側に凸面を向ける
場合を正とし、平面折り曲げ鏡FMと凹面反射鏡CMと
の間では凹面反射鏡CMに凸面を向ける場合を正とし、
ビームスプリッタBSと像面との間では像側に凸面を向
ける場合を正としている。また、面間隔dの符号は、平
面折り曲げ鏡FMから凹面反射鏡CMまでの光路中では
負とし、ビームスプリッタBSの方向変換面から像面ま
での光路中では負とし、その他の光路中では正としてい
る。第1実施例では、光学材料として、蛍石および石英
を使用している。基準波長λ=193.4nm(ArF
エキシマレーザの波長)に対する蛍石の屈折率nc、基
準波長に対する石英の屈折率ns、蛍石の基準波長に対
する±0.1nmの分散値1/νc 、および石英の基準
波長に対する±0.1nmの分散値1/νs は、表
(1)に示すとおりである。
【0042】
【表1】 β=−0.25 NAi =0.6 d0=69.317 ns=1.56019(石英) nc=1.50138(蛍石) 1/νs =1780(石英) 1/νc =2550(蛍石) 面番号 r d 光学材料 1 -241.215 30.210 石英(L11) 2 -192.915 0.992 3 -203.766 18.190 蛍石(L12) 4 888.211 44.298 5 1065.344 33.409 石英(L13) 6 -432.641 0.500 7 2789.031 25.000 石英(L14) 8 -473.262 0.500 9 475.495 22.000 石英(L15) 10 301.189 8.463 11 412.538 27.926 石英(L16) 12 -861.774 130.000 13 ∞ -50.075 平面折り曲げ鏡(FM) 14 -838.940 -17.871 蛍石(L21) 15 -214.860 -11.842 16 -2242.134 -20.000 石英(L22) 17 -208.410 -25.000 18 ∞ -180.000 ビームスプリッタBS 19 ∞ -2.000 20 ∞ -12.000 石英(平行平面板PP1) 21 ∞ -10.000 22 699.953 10.000 凹面反射鏡CM 23 ∞ 12.000 石英(平行平面板PP1) 24 ∞ 2.000 25 ∞ 90.000 ビームスプリッタBS 26 ∞ -90.000 ビームスプリッタBS(方向変換面) 27 ∞ -2.000 28 ∞ -10.000 石英(平行平面板PP2) 29 ∞ -25.000 30 ∞ -25.000 開口絞り(AS) 31 294.701 -15.000 石英(L31) 32 -617.167 -0.500 33 -610.392 -40.411 蛍石(L32) 34 177.447 -0.850 35 175.279 -17.000 石英(L33) 36 -432.375 -2.395 37 -515.718 -41.031 蛍石(L34) 38 249.959 -0.500 39 -540.929 -25.465 蛍石(L35) 40 1034.968 -0.500 41 -225.345 -30.014 蛍石(L36) 42 -870.019 -0.503 43 -157.845 -44.222 蛍石(L37) 44 -1273.530 -0.500 45 -1267.133 -18.000 石英(L38) 46 -342.866 -0.500 47 -128.815 -36.728 蛍石(L39) 48 -1917.391 -0.728 49 -2288.628 -15.129 石英(L310) 50 -74.280 -6.241 51 -94.414 -35.270 蛍石(L311) 52 -332.716 -5.000 53 -197.634 -27.127 石英(L312) 54 -560.290 -1.000 55 ∞ -3.000 石英(平行平面板PP3) 56 ∞ -1.000 57 ∞ -3.000 石英(平行平面板PP4) 58 ∞ -16.000 (条件対応値) (1)L1/f3=2.263 (2)1/βCM=−0.012 (3)D12/(NAi ・Y0 )=19.620 (4)β1/β=−12.665 (5)β3/β=−0.018 (6)T1/fCM=0.481 (7)(T2・NAi )/f3=1.452 (8)(φB 1/2 −4・dW ・NAi )/(f3・NAi2)=3.202 (9)f2/f1=−0.704
【0043】図2は、第1実施例の横収差図であって、
(a)は最大像高Y=15.3における横収差図であ
り、(b)は光軸上すなわち像高Y=0における横収差
図である。なお、各横収差図において、実線は基準波長
λ=193.4nmに対する収差曲線を、破線は波長λ
=193.5nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長
λ=193.3nmに対する収差曲線をそれぞれ表して
いる。図2の各横収差図を参照すると、第1実施例で
は、像側において大きな開口数(NAi =0.6)およ
び作動距離を確保しているにもかかわらず、収差が良好
に補正されていることがわかる。特に、193.4±
0.1nmにおいて色収差が良好に補正されている。こ
のように、第1実施例の反射屈折光学系は、大きな開口
数、広い照明フィールド、および広い波長域で収差が良
好に補正され、優れた結像性能を有することがわかる。
(a)は最大像高Y=15.3における横収差図であ
り、(b)は光軸上すなわち像高Y=0における横収差
図である。なお、各横収差図において、実線は基準波長
λ=193.4nmに対する収差曲線を、破線は波長λ
=193.5nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長
λ=193.3nmに対する収差曲線をそれぞれ表して
いる。図2の各横収差図を参照すると、第1実施例で
は、像側において大きな開口数(NAi =0.6)およ
び作動距離を確保しているにもかかわらず、収差が良好
に補正されていることがわかる。特に、193.4±
0.1nmにおいて色収差が良好に補正されている。こ
のように、第1実施例の反射屈折光学系は、大きな開口
数、広い照明フィールド、および広い波長域で収差が良
好に補正され、優れた結像性能を有することがわかる。
【0044】〔第2実施例〕図3は、本発明の第2実施
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図3において、第1レンズ群G1は、物体側
から順に、両凹レンズL11、物体側に凹面を向けた正メ
ニスカスレンズL12、物体側に凹面を向けた負メニスカ
スレンズL13、および両凸レンズL14から構成されてい
る。また、第2レンズ群G2は、物体側から順に、物体
側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、物体側に凸
面を向けた負メニスカスレンズL22、および両凹レンズ
L23から構成されている。
例にかかる反射屈折光学系のレンズ構成を概略的に示す
図である。図3において、第1レンズ群G1は、物体側
から順に、両凹レンズL11、物体側に凹面を向けた正メ
ニスカスレンズL12、物体側に凹面を向けた負メニスカ
スレンズL13、および両凸レンズL14から構成されてい
る。また、第2レンズ群G2は、物体側から順に、物体
側に凸面を向けた正メニスカスレンズL21、物体側に凸
面を向けた負メニスカスレンズL22、および両凹レンズ
L23から構成されている。
【0045】さらに、第3レンズ群G3は、物体側から
順に、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズL31、
物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズL32、両凹レ
ンズL33、両凸レンズL34、両凸レンズL35、物体側に
凸面を向けた正メニスカスレンズL36、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL37、両凹レンズL38、物体
側に凸面を向けた正メニスカスレンズL39、物体側に凸
面を向けた負メニスカスレンズL310 、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL311 、および物体側に凸面
を向けた正メニスカスレンズL312 から構成されてい
る。
順に、物体側に凹面を向けた負メニスカスレンズL31、
物体側に凹面を向けた正メニスカスレンズL32、両凹レ
ンズL33、両凸レンズL34、両凸レンズL35、物体側に
凸面を向けた正メニスカスレンズL36、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL37、両凹レンズL38、物体
側に凸面を向けた正メニスカスレンズL39、物体側に凸
面を向けた負メニスカスレンズL310 、物体側に凸面を
向けた正メニスカスレンズL311 、および物体側に凸面
を向けた正メニスカスレンズL312 から構成されてい
る。
【0046】なお、ビームスプリッターBSと凹面反射
鏡CMとの間の光路中には、平行平面板PP1が設けら
れている。ビームスプリッターBSを偏光ビームスプリ
ッターで構成する場合には、平行平面板PP1を1/4
波長板あるいはその支持基板にすることができる。ま
た、ビームスプリッターBSと第3レンズ群G3との間
の光路中には平行平面板PP2が設けられている。この
平行平面板PP2は、製造工程において光学系の収差調
整に使用される。
鏡CMとの間の光路中には、平行平面板PP1が設けら
れている。ビームスプリッターBSを偏光ビームスプリ
ッターで構成する場合には、平行平面板PP1を1/4
波長板あるいはその支持基板にすることができる。ま
た、ビームスプリッターBSと第3レンズ群G3との間
の光路中には平行平面板PP2が設けられている。この
平行平面板PP2は、製造工程において光学系の収差調
整に使用される。
【0047】さらに、ビームスプリッターBSは、互い
に接合された2つの直角プリズムから構成された、いわ
ゆるプリズム型ビームスプリッターである。図3では、
ビームスプリッターBSの方向変換面が、第2レンズ群
G2からの光を反射し且つ凹面反射鏡CMからの光を透
過させる特性を有する。しかしながら、方向変換面の特
性は、この面に蒸着される薄膜の特性に依存して規定さ
れる。したがって、第2レンズ群G2からの光を透過さ
せ且つ凹面反射鏡CMからの光を反射するように、ビー
ムスプリッターBSの方向変換面を構成することもでき
る。この場合、凹面反射鏡CMおよび平行平面板PP1
は、ビームスプリッターBSの図中下側に配置される。
に接合された2つの直角プリズムから構成された、いわ
ゆるプリズム型ビームスプリッターである。図3では、
ビームスプリッターBSの方向変換面が、第2レンズ群
G2からの光を反射し且つ凹面反射鏡CMからの光を透
過させる特性を有する。しかしながら、方向変換面の特
性は、この面に蒸着される薄膜の特性に依存して規定さ
れる。したがって、第2レンズ群G2からの光を透過さ
せ且つ凹面反射鏡CMからの光を反射するように、ビー
ムスプリッターBSの方向変換面を構成することもでき
る。この場合、凹面反射鏡CMおよび平行平面板PP1
は、ビームスプリッターBSの図中下側に配置される。
【0048】第2実施例では、物体面において30×6
の矩形状の照明フィールド(照明領域)からの光に基づ
いて縮小像が形成される。ここで、矩形状の照明フィー
ルドの長手方向は図3の紙面に垂直な方向であり、矩形
状の照明領域の短手方向は図3の紙面内において水平方
向である。この場合、ビームスプリッターBSは、17
0×170×204の直方体状となり、図3の紙面内に
おいて170×170の正方形断面を有する。図3に示
すように、第2実施例では、照明フィールドの長手方向
に平行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡
FMおよびビームスプリッターBSが配置されている。
の矩形状の照明フィールド(照明領域)からの光に基づ
いて縮小像が形成される。ここで、矩形状の照明フィー
ルドの長手方向は図3の紙面に垂直な方向であり、矩形
状の照明領域の短手方向は図3の紙面内において水平方
向である。この場合、ビームスプリッターBSは、17
0×170×204の直方体状となり、図3の紙面内に
おいて170×170の正方形断面を有する。図3に示
すように、第2実施例では、照明フィールドの長手方向
に平行な平面で光束を折り曲げるように平面折り曲げ鏡
FMおよびビームスプリッターBSが配置されている。
【0049】次の表(2)に、本発明の第2実施例の諸
元の値を掲げる。表(2)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。
元の値を掲げる。表(2)において、βは光学系全体の
縮小倍率を、NAi は像側の開口数を、d0は物体面と
光学系の最も物体側の面(第1レンズ群G1の最も物体
側の面)との軸上距離をそれぞれ表している。また、面
番号は物体面から像面へ光線の進行する方向に沿った物
体側からの面の順序を、rは各面の曲率半径を、dは各
面の軸上間隔をそれぞれ示している。
【0050】なお、各面の曲率半径rの符号は、物体面
と平面折り曲げ鏡FMとの間では物体側に凸面を向ける
場合を正とし、平面折り曲げ鏡FMと凹面反射鏡CMと
の間では凹面反射鏡CMに凸面を向ける場合を正とし、
ビームスプリッタBSと像面との間では像側に凸面を向
ける場合を正としている。また、面間隔dの符号は、平
面折り曲げ鏡FMから凹面反射鏡CMまでの光路中では
負とし、ビームスプリッタBSの方向変換面から像面ま
での光路中では負とし、その他の光路中では正としてい
る。第2実施例では、光学材料として、蛍石および石英
を使用している。基準波長λ=193.4nm(ArF
エキシマレーザの波長)に対する蛍石の屈折率nc、基
準波長に対する石英の屈折率ns、蛍石の基準波長に対
する±0.1nmの分散値1/νc 、および石英の基準
波長に対する±0.1nmの分散値1/νs は、表
(2)に示すとおりである。
と平面折り曲げ鏡FMとの間では物体側に凸面を向ける
場合を正とし、平面折り曲げ鏡FMと凹面反射鏡CMと
の間では凹面反射鏡CMに凸面を向ける場合を正とし、
ビームスプリッタBSと像面との間では像側に凸面を向
ける場合を正としている。また、面間隔dの符号は、平
面折り曲げ鏡FMから凹面反射鏡CMまでの光路中では
負とし、ビームスプリッタBSの方向変換面から像面ま
での光路中では負とし、その他の光路中では正としてい
る。第2実施例では、光学材料として、蛍石および石英
を使用している。基準波長λ=193.4nm(ArF
エキシマレーザの波長)に対する蛍石の屈折率nc、基
準波長に対する石英の屈折率ns、蛍石の基準波長に対
する±0.1nmの分散値1/νc 、および石英の基準
波長に対する±0.1nmの分散値1/νs は、表
(2)に示すとおりである。
【0051】
【表2】 β=−0.25 NAi =0.6 d0=90.000 ns=1.56019(石英) nc=1.50138(蛍石) 1/νs =1780(石英) 1/νc =2550(蛍石) 面番号 r d 光学材料 1 -411.733 27.000 石英(L11) 2 656.617 31.742 3 -3741.142 32.000 石英(L12) 4 -354.176 0.503 5 -764.495 25.000 蛍石(L13) 6 -984.019 16.283 7 944.330 35.000 石英(L14) 8 -311.518 130.000 9 ∞ 70.051 平面折り曲げ鏡(FM) 10 -220.080 -30.000 石英(L21) 11 -12028.477 -6.273 12 -792.911 -25.000 蛍石(L22) 13 -182.584 -21.779 14 637.333 -15.000 石英(L23) 15 -192.509 -30.000 16 ∞ -85.000 ビームスプリッタBS(方向変換面) 17 ∞ 85.000 ビームスプリッタBS 18 ∞ 2.000 19 ∞ 12.000 石英(平行平面板PP1) 20 ∞ 10.000 21 -667.900 -10.000 凹面反射鏡CM 22 ∞ -12.000 石英(平行平面板PP1) 23 ∞ -2.000 24 ∞ -170.000 ビームスプリッタBS 25 ∞ -2.000 26 ∞ -12.000 石英(平行平面板PP2) 27 ∞ -20.000 28 ∞ -30.000 開口絞り(AS) 29 212.978 -15.000 石英(L31) 30 1823.089 -0.500 31 1971.531 -31.131 蛍石(L32) 32 154.948 -0.651 33 154.191 -15.000 石英(L33) 34 -570.342 -1.857 35 -683.896 -35.283 蛍石(L34) 36 240.387 -0.500 37 -3549.019 -23.137 蛍石(L35) 38 372.821 -0.500 39 -250.881 -28.475 蛍石(L36) 40 -5813.500 -0.500 41 -143.799 -42.816 蛍石(L37) 42 -18731.560 -1.471 43 5653.732 -15.000 石英(L38) 44 -212.945 -0.500 45 -120.884 -37.292 蛍石(L39) 46 -353.658 -0.500 47 -266.801 -15.140 石英(L310) 48 -72.574 -5.818 49 -90.591 -34.587 蛍石(L311) 50 -278.105 -0.500 51 -186.822 -36.761 石英(L312) 52 -635.651 -15.000 (条件対応値) (1)L1/f3=2.213 (2)1/βCM=−0.114 (3)D12/(NAi ・Y0 )=21.796 (4)β1/β=−8.919 (5)β3/β=−0.166 (6)T1/fCM=0.474 (7)(T2・NAi )/f3=1.417 (8)(φB 1/2 −4・dW ・NAi )/(f3・NAi2)=3.244 (9)f2/f1=−0.789
【0052】図4は、第2実施例の横収差図であって、
(a)は最大像高Y=15.3における横収差図であ
り、(b)は光軸上すなわち像高Y=0における横収差
図である。なお、各横収差図において、実線は基準波長
λ=193.4nmに対する収差曲線を、破線は波長λ
=193.5nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長
λ=193.3nmに対する収差曲線をそれぞれ表して
いる。図4の各横収差図を参照すると、第2実施例で
は、像側において大きな開口数(NAi =0.6)およ
び作動距離を確保しているにもかかわらず、収差が良好
に補正されていることがわかる。特に、193.4±
0.1nmにおいて色収差が良好に補正されている。こ
のように、第2実施例の反射屈折光学系は、大きな開口
数、広い照明フィールド、および広い波長域で収差が良
好に補正され、優れた結像性能を有することがわかる。
(a)は最大像高Y=15.3における横収差図であ
り、(b)は光軸上すなわち像高Y=0における横収差
図である。なお、各横収差図において、実線は基準波長
λ=193.4nmに対する収差曲線を、破線は波長λ
=193.5nmに対する収差曲線を、一点鎖線は波長
λ=193.3nmに対する収差曲線をそれぞれ表して
いる。図4の各横収差図を参照すると、第2実施例で
は、像側において大きな開口数(NAi =0.6)およ
び作動距離を確保しているにもかかわらず、収差が良好
に補正されていることがわかる。特に、193.4±
0.1nmにおいて色収差が良好に補正されている。こ
のように、第2実施例の反射屈折光学系は、大きな開口
数、広い照明フィールド、および広い波長域で収差が良
好に補正され、優れた結像性能を有することがわかる。
【0053】ところで、開口絞りASを配置する代わり
に、様々な特殊フィルターを配置することによって、焦
点深度を深くすることが可能である。特殊フィルターの
一例の図を示した図5を参照しながら説明する。上記の
各実施例は、物体側および像側がテレセントリックな光
学系となっていて、物体側の各点からの主光線はある光
軸の一点で交わるようになっている。この様な状況で主
光線が光軸と交わる一点を含む平面を、フーリエ変換面
と呼び、特殊フィルターは、このフーリエ変換面に配置
する。フーリエ変換面では、光軸から離れた特定の位置
によって回折光の次数が決まる。光軸から離れるほど次
数は高くなる。一般的な投影露光光学系は、0次および
1次の回折光を取り入れている。これにより、図5
(a)および(b)に示すような、0次光の成分が存在
する半径r1 の光軸付近の領域FAと、半径r1 から半
径r2 までの1次光(およびそれ以上の次数の回折光)
が存在する開口部周辺付近の領域FBとに、フィルター
の領域を分割する。
に、様々な特殊フィルターを配置することによって、焦
点深度を深くすることが可能である。特殊フィルターの
一例の図を示した図5を参照しながら説明する。上記の
各実施例は、物体側および像側がテレセントリックな光
学系となっていて、物体側の各点からの主光線はある光
軸の一点で交わるようになっている。この様な状況で主
光線が光軸と交わる一点を含む平面を、フーリエ変換面
と呼び、特殊フィルターは、このフーリエ変換面に配置
する。フーリエ変換面では、光軸から離れた特定の位置
によって回折光の次数が決まる。光軸から離れるほど次
数は高くなる。一般的な投影露光光学系は、0次および
1次の回折光を取り入れている。これにより、図5
(a)および(b)に示すような、0次光の成分が存在
する半径r1 の光軸付近の領域FAと、半径r1 から半
径r2 までの1次光(およびそれ以上の次数の回折光)
が存在する開口部周辺付近の領域FBとに、フィルター
の領域を分割する。
【0054】図5(c)に示す通り、同心円状に分割し
たフィルターは、中心部領域FAがS偏光のみを透過
し、周辺部領域FBがP偏光のみを透過するように偏光
膜を形成する。当然のことながら、中心部領域FAがP
偏光、周辺部領域FBがS偏光のみを透過するようにし
ても構わない。また、このとき、中心部領域FAの屈折
率が、周辺部領域FBの屈折率より低くなるようにす
る。
たフィルターは、中心部領域FAがS偏光のみを透過
し、周辺部領域FBがP偏光のみを透過するように偏光
膜を形成する。当然のことながら、中心部領域FAがP
偏光、周辺部領域FBがS偏光のみを透過するようにし
ても構わない。また、このとき、中心部領域FAの屈折
率が、周辺部領域FBの屈折率より低くなるようにす
る。
【0055】上記に示した構成により、特殊フィルター
の周辺部領域FBを透過した光束は、焦点面で通常の結
像を行う。一方、特殊フィルターの中心部領域FAを透
過した光束は、屈折率が低いために、通常の焦点面より
レンズから遠ざかる位置に焦点を結ぶ。ここで、周辺部
領域FBを透過した光束と中心部領域FAを透過した光
束とは偏光状態が違うため、それぞれの光束が干渉する
ことは無い。これにより、焦点深度を深くすることが可
能となる。また、焦点深度を深くする技術としては、特
開昭61−91662号公報、特開平5−234850
号公報、特開平6−120110号公報、特開平6−1
24870号公報、特開平7−57992号公報および
特開平7−57993号公報等に開示された技術があ
り、それぞれ本発明に適用可能である。特に、この様な
技術は、孤立パターンを形成するときに有効である。
の周辺部領域FBを透過した光束は、焦点面で通常の結
像を行う。一方、特殊フィルターの中心部領域FAを透
過した光束は、屈折率が低いために、通常の焦点面より
レンズから遠ざかる位置に焦点を結ぶ。ここで、周辺部
領域FBを透過した光束と中心部領域FAを透過した光
束とは偏光状態が違うため、それぞれの光束が干渉する
ことは無い。これにより、焦点深度を深くすることが可
能となる。また、焦点深度を深くする技術としては、特
開昭61−91662号公報、特開平5−234850
号公報、特開平6−120110号公報、特開平6−1
24870号公報、特開平7−57992号公報および
特開平7−57993号公報等に開示された技術があ
り、それぞれ本発明に適用可能である。特に、この様な
技術は、孤立パターンを形成するときに有効である。
【0056】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、像側に
おいて十分大きな開口数を有し、像側および物体側にお
いて大きな作動距離を有し、ビームスプリッターが小型
で、物体面と像面とがほぼ平行で、良好な結像性能を有
する反射屈折光学系を実現することができる。
おいて十分大きな開口数を有し、像側および物体側にお
いて大きな作動距離を有し、ビームスプリッターが小型
で、物体面と像面とがほぼ平行で、良好な結像性能を有
する反射屈折光学系を実現することができる。
【図1】本発明の第1実施例にかかる反射屈折光学系の
レンズ構成を概略的に示す図である。
レンズ構成を概略的に示す図である。
【図2】第1実施例の横収差図であって、(a)は最大
像高における横収差図であり、(b)は光軸上における
横収差図である。
像高における横収差図であり、(b)は光軸上における
横収差図である。
【図3】本発明の第2実施例にかかる反射屈折光学系の
レンズ構成を概略的に示す図である。
レンズ構成を概略的に示す図である。
【図4】第2実施例の横収差図であって、(a)は最大
像高における横収差図であり、(b)は光軸上における
横収差図である。
像高における横収差図であり、(b)は光軸上における
横収差図である。
【図5】特殊フィルターの一例を示す図である。
G1 第1レンズ群 G2 第2レンズ群 G3 第3レンズ群 FM 平面折り曲げ鏡(光路偏向手段) CM 凹面反射鏡 BS ビームスプリッター AS 開口絞り PP1〜PP4 平行平面板
Claims (11)
- 【請求項1】 正の屈折力を有する第1レンズ群G1
と、光路を偏向するための平面を有する光路偏向手段F
Mと、負の屈折力を有する第2レンズ群G2と、光路を
変換するためのビームスプリッターBSと、拡大倍率を
有する凹面反射鏡CMと、正の屈折力を有する第3レン
ズ群G3とを備え、 前記第1レンズ群G1、前記光路偏向手段FM、前記第
2レンズ群G2、前記ビームスプリッターBS、前記凹
面反射鏡CM、前記ビームスプリッターBS、および前
記第3レンズ群G3の順に導かれた物体面からの光が、
前記物体面とほぼ平行な像面上に前記物体面の縮小像を
形成し、 前記第3レンズ群G3の物体側の主点位置は、前記第3
レンズ群G3の最も物体側の面よりも像側に位置し、 前記第3レンズ群G3の物体側の主点位置と前記第3レ
ンズ群G3の最も物体側の面との間の軸上距離をL1と
し、前記第3レンズ群G3の焦点距離をf3としたと
き、 1.5<L1/f3 の条件を満足することを特徴とする反射屈折光学系。 - 【請求項2】 前記凹面反射鏡CMの結像倍率をβCMと
し、前記第1レンズ群G1と前記第2レンズ群G2との
間の軸上間隔をD12とし、反射屈折光学系全体の像側の
開口数をNAi とし、物体面上の最大物高をY0とした
とき、 −1.0<1/βCM<0.5 5.0<D12/(NAi ・Y0 )<50.0 の条件を満足することを特徴とする請求項1に記載の反
射屈折光学系。 - 【請求項3】 前記反射屈折光学系全体の結像倍率をβ
とし、前記第1レンズ群G1の結像倍率をβ1としたと
き、 −20.0<β1/β<−1.0 の条件を満足することを特徴とする請求項1または2に
記載の反射屈折光学系。 - 【請求項4】 前記反射屈折光学系全体の結像倍率をβ
とし、前記第3レンズ群G3の結像倍率をβ3としたと
き、 −1.0<β3/β<1.0 の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至3のい
ずれか1項に記載の反射屈折光学系。 - 【請求項5】 前記ビームスプリッターBSは、プリズ
ム型ビームスプリッターであることを特徴とする請求項
1乃至4のいずれか1項に記載の反射屈折光学系。 - 【請求項6】 前記プリズム型ビームスプリッターBS
の像側の面と前記像面との間の光路中には開口絞りAS
が設けられ、 前記凹面反射鏡CMと前記開口絞りASとの間の空気換
算距離をT1とし、前記凹面反射鏡CMの焦点距離をf
CMとしたとき、 0.26<T1/fCM<1.0 の条件を満足することを特徴とする請求項5に記載の反
射屈折光学系。 - 【請求項7】 前記プリズム型ビームスプリッターBS
の像側の面と前記像面との間の空気換算距離をT2と
し、前記反射屈折光学系全体の像側の開口数をNAi と
し、前記第3レンズ群G3の焦点距離をf3としたと
き、 0.7<(T2・NAi )/f3 の条件を満足することを特徴とする請求項5または6に
記載の反射屈折光学系。 - 【請求項8】 前記プリズム型ビームスプリッターBS
の像側の面に対する前記プリズム型ビームスプリッター
BSの方向変換面の正射影の面積をφB とし、前記第3
レンズ群G3の最も像側の面と前記像面との軸上間隔を
dW とし、前記反射屈折光学系全体の像側の開口数をN
Ai とし、前記第3レンズ群G3の焦点距離をf3とし
たとき、 (φB 1/2 −4・dW ・NAi )/(f3・NAi2)<
4.0 の条件を満足することを特徴とする請求項5乃至7のい
ずれか1項に記載の反射屈折光学系。 - 【請求項9】 前記第1レンズ群G1の焦点距離をf1
とし、前記第2レンズ群G2の焦点距離をf2としたと
き、 −2.0<f2/f1<−0.2 の条件を満足することを特徴とする請求項1乃至8のい
ずれか1項に記載の反射屈折光学系。 - 【請求項10】 前記ビームスプリッターBSと前記凹
面反射鏡CMとの間は屈折力が零であることを特徴とす
る請求項1乃至9のいずれか1項に記載の反射屈折光学
系。 - 【請求項11】 フーリエ変換面に特殊フィルターを配
置したことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1
項に記載の反射屈折光学系。
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JP8175922A JPH103040A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 反射屈折光学系 |
KR1019970021292A KR980005326A (ko) | 1996-06-14 | 1997-05-28 | 반사 굴절 광학계 |
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JP8175922A JPH103040A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 反射屈折光学系 |
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Family Applications (1)
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JP8175922A Pending JPH103040A (ja) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | 反射屈折光学系 |
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JP (1) | JPH103040A (ja) |
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WO2004084281A1 (ja) * | 2003-03-17 | 2004-09-30 | Nikon Corporation | 投影光学系、露光装置、および露光方法 |
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-
1997
- 1997-05-28 KR KR1019970021292A patent/KR980005326A/ko not_active Application Discontinuation
- 1997-06-13 US US08/874,920 patent/US5771125A/en not_active Expired - Fee Related
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KR980005326A (ko) | 1998-03-30 |
US5771125A (en) | 1998-06-23 |
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