JPH10303282A - ＸＹθテーブル - Google Patents
ＸＹθテーブルInfo
- Publication number
- JPH10303282A JPH10303282A JP9112554A JP11255497A JPH10303282A JP H10303282 A JPH10303282 A JP H10303282A JP 9112554 A JP9112554 A JP 9112554A JP 11255497 A JP11255497 A JP 11255497A JP H10303282 A JPH10303282 A JP H10303282A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable plate
- fixed plate
- movable
- units
- current position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージ盤の位置を直接検出してステージ盤
を所望の位置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ステージ盤２をスラスト軸受によってベ
ース盤１で軸受けし、電動リニアアクチュエータ３，
４，５および継手６，７，８によってステージ盤２をＸ
方向，Ｙ方向および回転方向に移動可能に構成し、ステ
ージ盤２上の異なる位置に２個のエリアセンサ９，１０
を配置し、ステージ盤２の位置を直接エリアセンサ９，
１０で検出する。
を所望の位置に精度よく移動できるようなＸＹθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ステージ盤２をスラスト軸受によってベ
ース盤１で軸受けし、電動リニアアクチュエータ３，
４，５および継手６，７，８によってステージ盤２をＸ
方向，Ｙ方向および回転方向に移動可能に構成し、ステ
ージ盤２上の異なる位置に２個のエリアセンサ９，１０
を配置し、ステージ盤２の位置を直接エリアセンサ９，
１０で検出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明はＸＹθテーブルに
関し、特に、液晶，半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、ＸＹθ方向に移動可能な
ＸＹθテーブルに関する。
関し、特に、液晶，半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、ＸＹθ方向に移動可能な
ＸＹθテーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は従来のＸＹθテーブルの一例を示
す図である。図５においてベース盤（固定盤）１の上に
ステージ盤（可動盤）２が図示しないスラスト軸受によ
って軸支されており、ステージ盤２はＸ方向，Ｙ方向お
よびθ方向（回転方向）の３軸に移動可能に構成されて
いる。この移動は３台の電動リニアアクチュエータ３〜
５とリニアガイドのような継手６〜９とによって行なわ
れる。すなわち、ベース盤１の側辺には３台の電動リニ
アアクチュエータ３〜５が取付けられ、これらの電動リ
ニアアクチュエータ３〜５は継手６〜８によって可動盤
２の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
３〜５としては、ステッピングモータまたはサーボモー
タが使用され、それぞれの動きはこれらのモータを制御
することにより行なわれる。
す図である。図５においてベース盤（固定盤）１の上に
ステージ盤（可動盤）２が図示しないスラスト軸受によ
って軸支されており、ステージ盤２はＸ方向，Ｙ方向お
よびθ方向（回転方向）の３軸に移動可能に構成されて
いる。この移動は３台の電動リニアアクチュエータ３〜
５とリニアガイドのような継手６〜９とによって行なわ
れる。すなわち、ベース盤１の側辺には３台の電動リニ
アアクチュエータ３〜５が取付けられ、これらの電動リ
ニアアクチュエータ３〜５は継手６〜８によって可動盤
２の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
３〜５としては、ステッピングモータまたはサーボモー
タが使用され、それぞれの動きはこれらのモータを制御
することにより行なわれる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】図５に示したＸＹθテ
ーブルは、電動リニアアクチュエータ３〜５に使用され
ているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不足およ
びバックラッシュのため、電動リニアアクチュエータ３
〜５のモータの回転だけを制御してもステージ盤２を精
度よく動かすことができないという欠点があった。
ーブルは、電動リニアアクチュエータ３〜５に使用され
ているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不足およ
びバックラッシュのため、電動リニアアクチュエータ３
〜５のモータの回転だけを制御してもステージ盤２を精
度よく動かすことができないという欠点があった。
【０００４】それゆえに、この発明の主たる目的は、ス
テージ盤の位置を直接検出し、ステージ盤を所望の位置
に精度よく移動できるようなＸＹθテーブルを提供する
ことである。
テージ盤の位置を直接検出し、ステージ盤を所望の位置
に精度よく移動できるようなＸＹθテーブルを提供する
ことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ
方向および回転方向に移動可能なＸＹθテーブルであっ
て、固定盤上で可動盤を含む平面内で互いに伸縮する少
なくとも２個の第１の駆動手段と、２個の第１の駆動手
段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも１個の第
２の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面
内で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段と、
それぞれが固定盤の上の異なる２ヶ所の位置に設けら
れ、可動盤の移動を検出するための少なくとも２個のエ
リアセンサと、２個のエリアセンサの各検出出力から可
動盤の現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置
との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制
御する演算制御手段を備えて構成される。
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ
方向および回転方向に移動可能なＸＹθテーブルであっ
て、固定盤上で可動盤を含む平面内で互いに伸縮する少
なくとも２個の第１の駆動手段と、２個の第１の駆動手
段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも１個の第
２の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面
内で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段と、
それぞれが固定盤の上の異なる２ヶ所の位置に設けら
れ、可動盤の移動を検出するための少なくとも２個のエ
リアセンサと、２個のエリアセンサの各検出出力から可
動盤の現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置
との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制
御する演算制御手段を備えて構成される。
【０００６】請求項２に係る発明は、固定盤の上にスラ
スト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ方向および回転方
向に移動可能なＸＹθテーブルであって、固定盤上で可
動盤を含む平面内で互いに伸縮する少なくとも２個の第
１の駆動手段と、２個の第１の駆動手段に対して直交す
る方向に伸縮する少なくとも１個の第２の駆動手段と、
記各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面内で回動可能か
つスライド可能に連結する連結手段と、固定盤上の異な
る２ヶ所を撮像する少なくとも２台の撮像手段と、少な
くとも２台の撮像手段の撮像出力に基づいて、可動盤の
現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結
果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制御する
演算制御手段を備え、可動盤上には位置合わせ用のマー
クが識別符号とともに撮像手段の視野内で１個以上検出
され得る位置関係で多数個配置される。
スト軸受を介して可動盤をＸ方向，Ｙ方向および回転方
向に移動可能なＸＹθテーブルであって、固定盤上で可
動盤を含む平面内で互いに伸縮する少なくとも２個の第
１の駆動手段と、２個の第１の駆動手段に対して直交す
る方向に伸縮する少なくとも１個の第２の駆動手段と、
記各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面内で回動可能か
つスライド可能に連結する連結手段と、固定盤上の異な
る２ヶ所を撮像する少なくとも２台の撮像手段と、少な
くとも２台の撮像手段の撮像出力に基づいて、可動盤の
現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結
果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制御する
演算制御手段を備え、可動盤上には位置合わせ用のマー
クが識別符号とともに撮像手段の視野内で１個以上検出
され得る位置関係で多数個配置される。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１はこの発明の一実施形態を示
す図である。図１において、前述の図５と同様にして、
ベース盤１とステージ盤２と電動リニアアクチュエータ
３〜５と継手６〜８が設けられる。さらに、ステージ盤
２の上には、異なる位置に２個のエリアセンサ９，１０
が配置される。これらのエリアセンサ９，１０はステー
ジ盤２の測定点のＸＹ座標を検出する。エリアセンサ
９，１０としてはフォトダイオードの表面抵抗を利用し
た光スポットの非分割型位置センサなどが用いられる。
このエリアセンサ９，１０に光スポットが入射すると、
入射位置には光エネルギに比例した電荷が発生する。発
生した電荷は光電流として抵抗層を通り、電極より出力
される。抵抗層は前面に均一な抵抗値を持つように作ら
れているので、光電流は電極までの距離に逆比例して分
割され、取出される。
す図である。図１において、前述の図５と同様にして、
ベース盤１とステージ盤２と電動リニアアクチュエータ
３〜５と継手６〜８が設けられる。さらに、ステージ盤
２の上には、異なる位置に２個のエリアセンサ９，１０
が配置される。これらのエリアセンサ９，１０はステー
ジ盤２の測定点のＸＹ座標を検出する。エリアセンサ
９，１０としてはフォトダイオードの表面抵抗を利用し
た光スポットの非分割型位置センサなどが用いられる。
このエリアセンサ９，１０に光スポットが入射すると、
入射位置には光エネルギに比例した電荷が発生する。発
生した電荷は光電流として抵抗層を通り、電極より出力
される。抵抗層は前面に均一な抵抗値を持つように作ら
れているので、光電流は電極までの距離に逆比例して分
割され、取出される。
【０００８】図２はこの発明の一実施形態の制御回路を
示すブロック図である。図１に示したエリアセンサ９，
１０の検出出力はＣＰＵ２１に入力される。ＣＰＵ２１
はエリアセンサ９，１０の検出出力を演算してステージ
盤２の現在位置を算出する。ＣＰＵ２１には目標への移
動指令信号が与えられている。ＣＰＵ２１は移動指令信
号が与えられていても何らかの原因でステージ盤２が目
標位置へ移動していなければ、ステージ盤２の現在位置
と目標位置との差を演算し、その差がなくなるように駆
動装置２２によって電動リニアアクチュエータ３〜５を
駆動し、目標位置へステージ盤２の位置決めを行なう。
示すブロック図である。図１に示したエリアセンサ９，
１０の検出出力はＣＰＵ２１に入力される。ＣＰＵ２１
はエリアセンサ９，１０の検出出力を演算してステージ
盤２の現在位置を算出する。ＣＰＵ２１には目標への移
動指令信号が与えられている。ＣＰＵ２１は移動指令信
号が与えられていても何らかの原因でステージ盤２が目
標位置へ移動していなければ、ステージ盤２の現在位置
と目標位置との差を演算し、その差がなくなるように駆
動装置２２によって電動リニアアクチュエータ３〜５を
駆動し、目標位置へステージ盤２の位置決めを行なう。
【０００９】図３はこの発明の他の実施形態を示すブロ
ック図である。この実施形態は、図１に示したエリアセ
ンサ９，１０に代えてＣＣＤカメラ２３，２４によって
ステージ盤２の移動を検出するものである。すなわち、
ＣＣＤカメラ２３，２４によってステージ盤２の２ヶ所
の位置が撮像され、それぞれの出力の画像信号が画像処
理装置２５に与えられる。画像処理装置２５はそれぞれ
の画像信号を処理してＣＰＵ２１に与える。ＣＰＵ２１
は画像処理装置２５で画像処理された信号に基づいて、
ステージ盤２の移動量を検出する。
ック図である。この実施形態は、図１に示したエリアセ
ンサ９，１０に代えてＣＣＤカメラ２３，２４によって
ステージ盤２の移動を検出するものである。すなわち、
ＣＣＤカメラ２３，２４によってステージ盤２の２ヶ所
の位置が撮像され、それぞれの出力の画像信号が画像処
理装置２５に与えられる。画像処理装置２５はそれぞれ
の画像信号を処理してＣＰＵ２１に与える。ＣＰＵ２１
は画像処理装置２５で画像処理された信号に基づいて、
ステージ盤２の移動量を検出する。
【００１０】図４はステージ盤に設けられる位置合わせ
のマークを示す図である。図４において、ステージ盤２
には位置合わせを容易にするために、＋の位置検出用マ
ーク３１が多数設けられている。このように、マーク３
１を多数配置することにより、ＣＣＤカメラ２３，２４
の視野３２よりステージ盤２の移動範囲が大きくても、
いずれかのマーク３１が視野３２内で１個以上検出する
ことができる。なお、マーク３１の近くにはペアとなる
各位置を示す数字３３が付されていて、この数字３３を
識別することによって各マーク３１を識別できる。な
お、数字３３に代えてバーコードや文字を設けるように
してもよい。また、この数字３３やバーコードそのもの
を位置検出マーク３１の例に使用することができる。
のマークを示す図である。図４において、ステージ盤２
には位置合わせを容易にするために、＋の位置検出用マ
ーク３１が多数設けられている。このように、マーク３
１を多数配置することにより、ＣＣＤカメラ２３，２４
の視野３２よりステージ盤２の移動範囲が大きくても、
いずれかのマーク３１が視野３２内で１個以上検出する
ことができる。なお、マーク３１の近くにはペアとなる
各位置を示す数字３３が付されていて、この数字３３を
識別することによって各マーク３１を識別できる。な
お、数字３３に代えてバーコードや文字を設けるように
してもよい。また、この数字３３やバーコードそのもの
を位置検出マーク３１の例に使用することができる。
【００１１】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、固定
盤に対する可動盤の動きをエリアセンサで直接検出し、
可動盤が所望の位置に移動できるように制御することが
でき、位置の算定が高速かつ容易になる。
盤に対する可動盤の動きをエリアセンサで直接検出し、
可動盤が所望の位置に移動できるように制御することが
でき、位置の算定が高速かつ容易になる。
【００１２】また、画像処理で可動盤の位置を検出する
場合に、それぞれを識別可能な位置合わせマークを検出
することにより、容易に位置を算定できる。
場合に、それぞれを識別可能な位置合わせマークを検出
することにより、容易に位置を算定できる。
【図１】この発明の一実施形態の平面図である。
【図２】この発明の一実施形態の制御回路を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図３】この発明の他の実施形態を示すブロック図であ
る。
る。
【図４】この発明の他の実施形態でステージ盤に設けら
れる位置合わせのマークを示す図である。
れる位置合わせのマークを示す図である。
【図５】従来のＸＹθテーブルを示す図である。
１ ベース盤 ２ ステージ盤 ３，４，５ 電動リニアアクチュエータ ６，７，８ 継手 ９，１０ エリアセンサ ２１ ＣＰＵ ２２ 駆動装置 ２３，２４ ＣＣＤカメラ ２５ 画像処理装置
Claims (2)
- 【請求項１】 固定盤の上にスラスト軸受を介して可動
盤をＸ方向，Ｙ方向および回転方向に移動可能なＸＹθ
テーブルであって、 前記固定盤上で前記可動盤を含む平面内で互いに伸縮す
る少なくとも２個の第１の駆動手段、 前記２個の第１の駆動手段に対して直交する方向に伸縮
する少なくとも１個の第２の駆動手段、 前記各駆動手段のそれぞれと前記可動盤とを前記平面内
で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段、 それぞれが前記固定盤の上の異なる２ヶ所の位置に設け
られ、前記可動盤の移動を検出するための少なくとも２
個のエリアセンサ、および前記少なくとも２個のエリア
センサの各検出出力から前記可動盤の現在位置を演算
し、演算した現在位置と目標位置との結果に基づいて、
前記各駆動手段の作動量を個別的に制御する演算制御手
段を備えた、ＸＹθテーブル。 - 【請求項２】 固定盤の上にスラスト軸受を介して可動
盤をＸ方向，Ｙ方向および回転方向に移動可能なＸＹθ
テーブルであって、 前記固定盤上で前記可動盤を含む平面内で互いに伸縮す
る少なくとも２個の第１の駆動手段、 前記２個の第１の駆動手段に対して直交する方向に伸縮
する少なくとも１個の第２の駆動手段、 前記各駆動手段のそれぞれと前記可動盤を前記平面内で
回動可能かつスライド可能に連結する連結手段、 前記固定盤上の異なる２ヶ所を撮像する少なくとも２台
の撮像手段、および前記少なくとも２台の撮像手段の撮
像出力に基づいて、前記可動盤の現在位置を演算し、演
算した現在位置と目標位置との結果に基づいて、前記各
駆動手段の作動量を個別的に制御する演算制御手段を備
え、 前記可動盤上には、位置合わせ用のマークが識別符号と
ともに前記撮像手段の視野内で１個以上検出され得る位
置関係で多数個配置されることを特徴とする、ＸＹθテ
ーブル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9112554A JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | ＸＹθテーブル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9112554A JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | ＸＹθテーブル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10303282A true JPH10303282A (ja) | 1998-11-13 |
Family
ID=14589577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9112554A Pending JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | ＸＹθテーブル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10303282A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018155269A1 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | ソニー株式会社 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
| JP2019062378A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東芝情報システム株式会社 | プロジェクタシステム及びプロジェクタシステム用プログラム |
| CN111435068A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-21 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
| WO2022138800A1 (ja) * | 2020-12-23 | 2022-06-30 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | モータ制御装置、モータ制御方法、および、プログラム |
-
1997
- 1997-04-30 JP JP9112554A patent/JPH10303282A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018155269A1 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | ソニー株式会社 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
| CN110313176A (zh) * | 2017-02-27 | 2019-10-08 | 索尼公司 | 图像处理装置、方法及程序 |
| JP2019062378A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東芝情報システム株式会社 | プロジェクタシステム及びプロジェクタシステム用プログラム |
| CN111435068A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-21 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
| CN111435068B (zh) * | 2018-12-26 | 2022-08-02 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
| WO2022138800A1 (ja) * | 2020-12-23 | 2022-06-30 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | モータ制御装置、モータ制御方法、および、プログラム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060117 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060310 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060509 |