JPH10303282A - XYθテーブル - Google Patents
XYθテーブルInfo
- Publication number
- JPH10303282A JPH10303282A JP9112554A JP11255497A JPH10303282A JP H10303282 A JPH10303282 A JP H10303282A JP 9112554 A JP9112554 A JP 9112554A JP 11255497 A JP11255497 A JP 11255497A JP H10303282 A JPH10303282 A JP H10303282A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable plate
- fixed plate
- movable
- units
- current position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ステージ盤の位置を直接検出してステージ盤
を所望の位置に精度よく移動できるようなXYθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ステージ盤2をスラスト軸受によってベ
ース盤1で軸受けし、電動リニアアクチュエータ3,
4,5および継手6,7,8によってステージ盤2をX
方向,Y方向および回転方向に移動可能に構成し、ステ
ージ盤2上の異なる位置に2個のエリアセンサ9,10
を配置し、ステージ盤2の位置を直接エリアセンサ9,
10で検出する。
を所望の位置に精度よく移動できるようなXYθテーブ
ルを提供する。 【解決手段】 ステージ盤2をスラスト軸受によってベ
ース盤1で軸受けし、電動リニアアクチュエータ3,
4,5および継手6,7,8によってステージ盤2をX
方向,Y方向および回転方向に移動可能に構成し、ステ
ージ盤2上の異なる位置に2個のエリアセンサ9,10
を配置し、ステージ盤2の位置を直接エリアセンサ9,
10で検出する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明はXYθテーブルに
関し、特に、液晶,半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、XYθ方向に移動可能な
XYθテーブルに関する。
関し、特に、液晶,半導体関連分野などのアライメント
を必要とする分野に用いられ、XYθ方向に移動可能な
XYθテーブルに関する。
【0002】
【従来の技術】図5は従来のXYθテーブルの一例を示
す図である。図5においてベース盤(固定盤)1の上に
ステージ盤(可動盤)2が図示しないスラスト軸受によ
って軸支されており、ステージ盤2はX方向,Y方向お
よびθ方向(回転方向)の3軸に移動可能に構成されて
いる。この移動は3台の電動リニアアクチュエータ3〜
5とリニアガイドのような継手6〜9とによって行なわ
れる。すなわち、ベース盤1の側辺には3台の電動リニ
アアクチュエータ3〜5が取付けられ、これらの電動リ
ニアアクチュエータ3〜5は継手6〜8によって可動盤
2の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
3〜5としては、ステッピングモータまたはサーボモー
タが使用され、それぞれの動きはこれらのモータを制御
することにより行なわれる。
す図である。図5においてベース盤(固定盤)1の上に
ステージ盤(可動盤)2が図示しないスラスト軸受によ
って軸支されており、ステージ盤2はX方向,Y方向お
よびθ方向(回転方向)の3軸に移動可能に構成されて
いる。この移動は3台の電動リニアアクチュエータ3〜
5とリニアガイドのような継手6〜9とによって行なわ
れる。すなわち、ベース盤1の側辺には3台の電動リニ
アアクチュエータ3〜5が取付けられ、これらの電動リ
ニアアクチュエータ3〜5は継手6〜8によって可動盤
2の側辺に連結されている。電動リニアアクチュエータ
3〜5としては、ステッピングモータまたはサーボモー
タが使用され、それぞれの動きはこれらのモータを制御
することにより行なわれる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】図5に示したXYθテ
ーブルは、電動リニアアクチュエータ3〜5に使用され
ているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不足およ
びバックラッシュのため、電動リニアアクチュエータ3
〜5のモータの回転だけを制御してもステージ盤2を精
度よく動かすことができないという欠点があった。
ーブルは、電動リニアアクチュエータ3〜5に使用され
ているボールねじのリード誤差や連結部の剛性不足およ
びバックラッシュのため、電動リニアアクチュエータ3
〜5のモータの回転だけを制御してもステージ盤2を精
度よく動かすことができないという欠点があった。
【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、ス
テージ盤の位置を直接検出し、ステージ盤を所望の位置
に精度よく移動できるようなXYθテーブルを提供する
ことである。
テージ盤の位置を直接検出し、ステージ盤を所望の位置
に精度よく移動できるようなXYθテーブルを提供する
ことである。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をX方向,Y
方向および回転方向に移動可能なXYθテーブルであっ
て、固定盤上で可動盤を含む平面内で互いに伸縮する少
なくとも2個の第1の駆動手段と、2個の第1の駆動手
段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも1個の第
2の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面
内で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段と、
それぞれが固定盤の上の異なる2ヶ所の位置に設けら
れ、可動盤の移動を検出するための少なくとも2個のエ
リアセンサと、2個のエリアセンサの各検出出力から可
動盤の現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置
との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制
御する演算制御手段を備えて構成される。
固定盤の上にスラスト軸受を介して可動盤をX方向,Y
方向および回転方向に移動可能なXYθテーブルであっ
て、固定盤上で可動盤を含む平面内で互いに伸縮する少
なくとも2個の第1の駆動手段と、2個の第1の駆動手
段に対して直交する方向に伸縮する少なくとも1個の第
2の駆動手段と、各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面
内で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段と、
それぞれが固定盤の上の異なる2ヶ所の位置に設けら
れ、可動盤の移動を検出するための少なくとも2個のエ
リアセンサと、2個のエリアセンサの各検出出力から可
動盤の現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置
との結果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制
御する演算制御手段を備えて構成される。
【0006】請求項2に係る発明は、固定盤の上にスラ
スト軸受を介して可動盤をX方向,Y方向および回転方
向に移動可能なXYθテーブルであって、固定盤上で可
動盤を含む平面内で互いに伸縮する少なくとも2個の第
1の駆動手段と、2個の第1の駆動手段に対して直交す
る方向に伸縮する少なくとも1個の第2の駆動手段と、
記各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面内で回動可能か
つスライド可能に連結する連結手段と、固定盤上の異な
る2ヶ所を撮像する少なくとも2台の撮像手段と、少な
くとも2台の撮像手段の撮像出力に基づいて、可動盤の
現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結
果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制御する
演算制御手段を備え、可動盤上には位置合わせ用のマー
クが識別符号とともに撮像手段の視野内で1個以上検出
され得る位置関係で多数個配置される。
スト軸受を介して可動盤をX方向,Y方向および回転方
向に移動可能なXYθテーブルであって、固定盤上で可
動盤を含む平面内で互いに伸縮する少なくとも2個の第
1の駆動手段と、2個の第1の駆動手段に対して直交す
る方向に伸縮する少なくとも1個の第2の駆動手段と、
記各駆動手段のそれぞれと可動盤を平面内で回動可能か
つスライド可能に連結する連結手段と、固定盤上の異な
る2ヶ所を撮像する少なくとも2台の撮像手段と、少な
くとも2台の撮像手段の撮像出力に基づいて、可動盤の
現在位置を演算し、演算した現在位置と目標位置との結
果に基づいて、各駆動手段の作動量を個別的に制御する
演算制御手段を備え、可動盤上には位置合わせ用のマー
クが識別符号とともに撮像手段の視野内で1個以上検出
され得る位置関係で多数個配置される。
【0007】
【発明の実施の形態】図1はこの発明の一実施形態を示
す図である。図1において、前述の図5と同様にして、
ベース盤1とステージ盤2と電動リニアアクチュエータ
3〜5と継手6〜8が設けられる。さらに、ステージ盤
2の上には、異なる位置に2個のエリアセンサ9,10
が配置される。これらのエリアセンサ9,10はステー
ジ盤2の測定点のXY座標を検出する。エリアセンサ
9,10としてはフォトダイオードの表面抵抗を利用し
た光スポットの非分割型位置センサなどが用いられる。
このエリアセンサ9,10に光スポットが入射すると、
入射位置には光エネルギに比例した電荷が発生する。発
生した電荷は光電流として抵抗層を通り、電極より出力
される。抵抗層は前面に均一な抵抗値を持つように作ら
れているので、光電流は電極までの距離に逆比例して分
割され、取出される。
す図である。図1において、前述の図5と同様にして、
ベース盤1とステージ盤2と電動リニアアクチュエータ
3〜5と継手6〜8が設けられる。さらに、ステージ盤
2の上には、異なる位置に2個のエリアセンサ9,10
が配置される。これらのエリアセンサ9,10はステー
ジ盤2の測定点のXY座標を検出する。エリアセンサ
9,10としてはフォトダイオードの表面抵抗を利用し
た光スポットの非分割型位置センサなどが用いられる。
このエリアセンサ9,10に光スポットが入射すると、
入射位置には光エネルギに比例した電荷が発生する。発
生した電荷は光電流として抵抗層を通り、電極より出力
される。抵抗層は前面に均一な抵抗値を持つように作ら
れているので、光電流は電極までの距離に逆比例して分
割され、取出される。
【0008】図2はこの発明の一実施形態の制御回路を
示すブロック図である。図1に示したエリアセンサ9,
10の検出出力はCPU21に入力される。CPU21
はエリアセンサ9,10の検出出力を演算してステージ
盤2の現在位置を算出する。CPU21には目標への移
動指令信号が与えられている。CPU21は移動指令信
号が与えられていても何らかの原因でステージ盤2が目
標位置へ移動していなければ、ステージ盤2の現在位置
と目標位置との差を演算し、その差がなくなるように駆
動装置22によって電動リニアアクチュエータ3〜5を
駆動し、目標位置へステージ盤2の位置決めを行なう。
示すブロック図である。図1に示したエリアセンサ9,
10の検出出力はCPU21に入力される。CPU21
はエリアセンサ9,10の検出出力を演算してステージ
盤2の現在位置を算出する。CPU21には目標への移
動指令信号が与えられている。CPU21は移動指令信
号が与えられていても何らかの原因でステージ盤2が目
標位置へ移動していなければ、ステージ盤2の現在位置
と目標位置との差を演算し、その差がなくなるように駆
動装置22によって電動リニアアクチュエータ3〜5を
駆動し、目標位置へステージ盤2の位置決めを行なう。
【0009】図3はこの発明の他の実施形態を示すブロ
ック図である。この実施形態は、図1に示したエリアセ
ンサ9,10に代えてCCDカメラ23,24によって
ステージ盤2の移動を検出するものである。すなわち、
CCDカメラ23,24によってステージ盤2の2ヶ所
の位置が撮像され、それぞれの出力の画像信号が画像処
理装置25に与えられる。画像処理装置25はそれぞれ
の画像信号を処理してCPU21に与える。CPU21
は画像処理装置25で画像処理された信号に基づいて、
ステージ盤2の移動量を検出する。
ック図である。この実施形態は、図1に示したエリアセ
ンサ9,10に代えてCCDカメラ23,24によって
ステージ盤2の移動を検出するものである。すなわち、
CCDカメラ23,24によってステージ盤2の2ヶ所
の位置が撮像され、それぞれの出力の画像信号が画像処
理装置25に与えられる。画像処理装置25はそれぞれ
の画像信号を処理してCPU21に与える。CPU21
は画像処理装置25で画像処理された信号に基づいて、
ステージ盤2の移動量を検出する。
【0010】図4はステージ盤に設けられる位置合わせ
のマークを示す図である。図4において、ステージ盤2
には位置合わせを容易にするために、+の位置検出用マ
ーク31が多数設けられている。このように、マーク3
1を多数配置することにより、CCDカメラ23,24
の視野32よりステージ盤2の移動範囲が大きくても、
いずれかのマーク31が視野32内で1個以上検出する
ことができる。なお、マーク31の近くにはペアとなる
各位置を示す数字33が付されていて、この数字33を
識別することによって各マーク31を識別できる。な
お、数字33に代えてバーコードや文字を設けるように
してもよい。また、この数字33やバーコードそのもの
を位置検出マーク31の例に使用することができる。
のマークを示す図である。図4において、ステージ盤2
には位置合わせを容易にするために、+の位置検出用マ
ーク31が多数設けられている。このように、マーク3
1を多数配置することにより、CCDカメラ23,24
の視野32よりステージ盤2の移動範囲が大きくても、
いずれかのマーク31が視野32内で1個以上検出する
ことができる。なお、マーク31の近くにはペアとなる
各位置を示す数字33が付されていて、この数字33を
識別することによって各マーク31を識別できる。な
お、数字33に代えてバーコードや文字を設けるように
してもよい。また、この数字33やバーコードそのもの
を位置検出マーク31の例に使用することができる。
【0011】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、固定
盤に対する可動盤の動きをエリアセンサで直接検出し、
可動盤が所望の位置に移動できるように制御することが
でき、位置の算定が高速かつ容易になる。
盤に対する可動盤の動きをエリアセンサで直接検出し、
可動盤が所望の位置に移動できるように制御することが
でき、位置の算定が高速かつ容易になる。
【0012】また、画像処理で可動盤の位置を検出する
場合に、それぞれを識別可能な位置合わせマークを検出
することにより、容易に位置を算定できる。
場合に、それぞれを識別可能な位置合わせマークを検出
することにより、容易に位置を算定できる。
【図1】この発明の一実施形態の平面図である。
【図2】この発明の一実施形態の制御回路を示すブロッ
ク図である。
ク図である。
【図3】この発明の他の実施形態を示すブロック図であ
る。
る。
【図4】この発明の他の実施形態でステージ盤に設けら
れる位置合わせのマークを示す図である。
れる位置合わせのマークを示す図である。
【図5】従来のXYθテーブルを示す図である。
1 ベース盤 2 ステージ盤 3,4,5 電動リニアアクチュエータ 6,7,8 継手 9,10 エリアセンサ 21 CPU 22 駆動装置 23,24 CCDカメラ 25 画像処理装置
Claims (2)
- 【請求項1】 固定盤の上にスラスト軸受を介して可動
盤をX方向,Y方向および回転方向に移動可能なXYθ
テーブルであって、 前記固定盤上で前記可動盤を含む平面内で互いに伸縮す
る少なくとも2個の第1の駆動手段、 前記2個の第1の駆動手段に対して直交する方向に伸縮
する少なくとも1個の第2の駆動手段、 前記各駆動手段のそれぞれと前記可動盤とを前記平面内
で回動可能かつスライド可能に連結する連結手段、 それぞれが前記固定盤の上の異なる2ヶ所の位置に設け
られ、前記可動盤の移動を検出するための少なくとも2
個のエリアセンサ、および前記少なくとも2個のエリア
センサの各検出出力から前記可動盤の現在位置を演算
し、演算した現在位置と目標位置との結果に基づいて、
前記各駆動手段の作動量を個別的に制御する演算制御手
段を備えた、XYθテーブル。 - 【請求項2】 固定盤の上にスラスト軸受を介して可動
盤をX方向,Y方向および回転方向に移動可能なXYθ
テーブルであって、 前記固定盤上で前記可動盤を含む平面内で互いに伸縮す
る少なくとも2個の第1の駆動手段、 前記2個の第1の駆動手段に対して直交する方向に伸縮
する少なくとも1個の第2の駆動手段、 前記各駆動手段のそれぞれと前記可動盤を前記平面内で
回動可能かつスライド可能に連結する連結手段、 前記固定盤上の異なる2ヶ所を撮像する少なくとも2台
の撮像手段、および前記少なくとも2台の撮像手段の撮
像出力に基づいて、前記可動盤の現在位置を演算し、演
算した現在位置と目標位置との結果に基づいて、前記各
駆動手段の作動量を個別的に制御する演算制御手段を備
え、 前記可動盤上には、位置合わせ用のマークが識別符号と
ともに前記撮像手段の視野内で1個以上検出され得る位
置関係で多数個配置されることを特徴とする、XYθテ
ーブル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9112554A JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | XYθテーブル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9112554A JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | XYθテーブル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10303282A true JPH10303282A (ja) | 1998-11-13 |
Family
ID=14589577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9112554A Pending JPH10303282A (ja) | 1997-04-30 | 1997-04-30 | XYθテーブル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10303282A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018155269A1 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | ソニー株式会社 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
JP2019062378A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東芝情報システム株式会社 | プロジェクタシステム及びプロジェクタシステム用プログラム |
CN111435068A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-21 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
WO2022138800A1 (ja) * | 2020-12-23 | 2022-06-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | モータ制御装置、モータ制御方法、および、プログラム |
-
1997
- 1997-04-30 JP JP9112554A patent/JPH10303282A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018155269A1 (ja) * | 2017-02-27 | 2018-08-30 | ソニー株式会社 | 画像処理装置および方法、並びにプログラム |
CN110313176A (zh) * | 2017-02-27 | 2019-10-08 | 索尼公司 | 图像处理装置、方法及程序 |
JP2019062378A (ja) * | 2017-09-26 | 2019-04-18 | 東芝情報システム株式会社 | プロジェクタシステム及びプロジェクタシステム用プログラム |
CN111435068A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-21 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
CN111435068B (zh) * | 2018-12-26 | 2022-08-02 | 深圳麦逊电子有限公司 | Ic载板测试机整机分步定位精度校验方法及*** |
WO2022138800A1 (ja) * | 2020-12-23 | 2022-06-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | モータ制御装置、モータ制御方法、および、プログラム |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060117 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060310 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060509 |