JPH10302227A - 磁気抵抗効果型ヘッド - Google Patents

磁気抵抗効果型ヘッド

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JPH10302227A
JPH10302227A JP9124909A JP12490997A JPH10302227A JP H10302227 A JPH10302227 A JP H10302227A JP 9124909 A JP9124909 A JP 9124909A JP 12490997 A JP12490997 A JP 12490997A JP H10302227 A JPH10302227 A JP H10302227A
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JP
Japan
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magnetic layer
magnetic
magnetostriction
layer
film
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JP9124909A
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English (en)
Inventor
Junichi Ito
順一 伊藤
Akihiko Nomura
昭彦 野村
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Victor Company of Japan Ltd
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Victor Company of Japan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スピンバルブ型磁気抵抗効果型ヘッドの素子
設計において、無理なく自然で簡便に固定層と自由層を
所望の磁化方向とする。 【解決手段】 自由側の磁性層12の磁歪(磁化方向の
伸縮)は「−1×10-6以下(符号が負で絶対値が1×
10-6以上)」となっている。固定側の磁性層16の磁
歪は「1×10-6以上(符号が正で絶対値が1×10-6
以上)」となっている。更に、スピンバルブ素子10に
圧縮応力がかかるように、リード電極20やシールド膜
などの他の構成要素が設けられている。自由側の磁性層
12では、磁歪が負のため、逆磁歪効果によって矢印F
Aの圧縮方向に磁化し易くなる。固定側の磁性層16で
は、磁歪が正のため、逆磁歪効果によって矢印FBの伸
張方向に磁化し易くなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、HDDなどの磁
気ディスク装置,あるいはVTRやDCCなどの磁気テ
ープ装置における再生専用ヘッドとして用いられる磁気
抵抗効果型ヘッドにかかり、特にスピンバルブ型磁気抵
抗効果ヘッドの改良に関するものである。
【0002】
【背景技術】近年、HDDなどの磁気媒体装置では、再
生用に磁気抵抗効果型ヘッド(MRヘッド)が用いられ
ている。MRヘッドは、従来の巻線型のインダクティブ
ヘッドよりも高感度,高出力であり、装置の小型化,高
密度化の点で好適である。また最近では、従来のものよ
りも更に高いMR効果(抵抗変化)が得られる巨大磁気
抵抗効果型ヘッド(GMRヘッド)が提案されている。
GMRヘッドにも各種のタイプがあるが、スピンバルブ
素子を使用するスピンバルブ型MRヘッドが実用化の点
で注目されている。
【0003】図3(A)には、スピンバルブ素子の基本
構成が示されている。同図において、スピンバルブ素子
主要部は、NiFeなどによる2つの磁性層900,9
02が、Cuなどによる非磁性層904によって分離さ
れた構成となっている。2つの磁性層900,902の
磁化方向は、外部磁界に対しそれぞれ異なった変化をす
るように設定されている。第1の磁性層900は、磁気
媒体(図示せず)からの信号磁界で磁化方向が回転する
自由層であり、第2の磁性層902は、磁化方向が所定
方向に保持されている固定層である。このための方法と
して、自由側の磁性層900として、保磁力の小さい磁
性膜,すなわち軟磁気特性の良い磁性膜が用いられる。
また、固定側の磁性層902には、FeMnなどによる
反強磁性膜906が積層されている。この反強磁性膜9
06による交換結合を利用して、磁性層902の磁化方
向が固着される。あるいは、磁性層902として保磁力
の大きな磁性膜を用いることで磁化方向を固着する方法
もある。
【0004】図4には、このようなスピンバルブ素子の
具体例が示されている。同図において、AlTiCなど
のベース910上には、アルミナなどによる基板912
が形成されている。基板912上には、Taなどによる
10.0nmの下地914が形成されており、これにNi
Feなどによる12.0nmの自由側の磁性層900,C
uなどによる2.4nmの非磁性層904,NiFeなど
による3.0nmの固定側の磁性層902,FeMnなど
による15.0nmの反強磁性膜906が順次積層形成さ
れている。更に、その上には、FeMnの耐蝕性に対す
る保護のため、Taなどによる5.0nmの保護膜916
が形成されている。
【0005】以上のようなスピンバルブ素子の電気抵抗
は、磁性層900,902の磁化方向の角度の余弦とし
て変化する。両層が磁化方向が同一の方向となったとき
に電気抵抗は最小になり、逆に磁化方向が反対方向とな
ったときに電気抵抗は最大となる。記録媒体からの信号
磁界によって自由層である第1の磁性層900の磁化方
向が変化すると磁気抵抗が変化し、スピンバルブ素子に
流れるセンス電流が変化して再生信号が得られる。ちょ
うど、磁性層900における磁化方向のスピンが、抵抗
変化によってセンス電流を制御するバルブとして作用し
ている。
【0006】通常スピンバルブは、外部磁界が「0」の
とき、2層の磁化方向が180°反転している反平行の
高抵抗状態になっている。しかし、特開平4−3583
10号公報には、外部磁界が「0」のときは磁性層90
0,902の磁化の向きが直交するように設定して、磁
気ヘッドとしての感度や信号の線形性を改善する旨が開
示されている。図3(B)にはその様子が示されてお
り、自由側の磁性層900は矢印FA(トラック幅方
向)が磁化方向となっており、固定側の磁性層902は
矢印FB(素子高さ方向)が磁化方向となっている。磁
気媒体による外部磁界は、矢印FC方向に印加される。
【0007】このような直交する磁化方向を得る方法と
しては、スピンバルブ素子の成膜時に所望の方向に磁界
を印加する方法,成膜後に磁場中で加熱・冷却する方
法,ハード膜を用いた強磁性結合による方法がある。図
5には、ハード膜によって磁化方向の直交化を図った例
が示されている。同図において、上述したスピンバルブ
素子920は、両端がCoPt,CoCrPtなどによ
るハード膜922に接合している。ハード膜922上に
は、Auなどによるリード電極924が設けられてお
り、これをセンス電流が矢印FD方向に流れる。ハード
膜922は、矢印FE方向に強磁性結合し、図3(B)
に示した矢印FA方向に自由側の磁性層900を磁化す
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような背景技術には、次のような不都合がある。 (1)磁性層の成膜時に所望の方向に磁界を印加する方
法や、成膜後に磁場中で加熱・冷却する方法で磁化方向
を直交させようとすると、印加する磁界の不均一や磁気
的な相互作用などでうまく磁化方向が直交しない場合が
ある。このため、基板上の複数の素子間でばらつきが生
じ、それが生産歩留まりの低下を招く。 (2)ハード膜を用いた強磁性結合による方法では、ハ
ード膜による影響が固定層にまで及び、必ずしも理想的
な直交状態が実現されない。
【0009】本発明は、このような点を考慮したもの
で、スピンバルブ型磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、無
理なく自然で簡便に固定層と自由層を上記所望の磁化方
向とすることができ、良好な特性を得ることができる磁
気抵抗効果型ヘッドを提供することを、その目的とする
ものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、この発明は、磁化方向が変化する第1の磁性層と、
磁化方向が固定された第2の磁性層が、非磁性層によっ
て分離されており、前記第1の磁性層の磁化方向の変化
に対応して抵抗が変化するスピンバルブ素子を備えた磁
気抵抗効果型ヘッドにおいて、前記第1の磁性層を負磁
歪とするとともに、前記第2の磁性層を正磁歪とし、第
1及び第2の磁性層に圧縮応力が作用する構成としたこ
とを特徴とする。
【0011】他の発明は、磁化方向が変化する第1の磁
性層と、磁化方向が固定された第2の磁性層が、第1の
非磁性層によって分離されており、前記第1の磁性層の
磁化方向の変化に対応して抵抗が変化するスピンバルブ
素子を備えた磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、負磁歪の
軟磁性膜を、第2の非磁性層を介して前記第1の磁性層
に隣接形成するとともに、前記軟磁性膜に圧縮応力が作
用する構成としたことを特徴とする。
【0012】主要な形態によれば、前記第1及び第2の
磁性層,前記軟磁性膜の磁歪の大きさが1×10-6以上
となるように設定される。この発明の前記及び他の目
的,特徴,利点は、以下の詳細な説明及び添付図面から
明瞭になろう。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。最初に、図1を参照しながら、実施
形態1について説明する。図1において、スピンバルブ
素子10は、自由層となる第1の磁性層12,分離層と
なる非磁性層14,固定層となる第2の磁性層16,こ
れを一定方向に磁化する反強磁性層18を積層した構成
となっている。上述したハード膜は設けられていない。
リード電極20は、反強磁性層18の両端に磁気媒体に
おける信号記録トラック幅TWを隔てて、ヘッド高さH
方向に延長形成されている。
【0014】ところで、本形態では、自由側の磁性層1
2の磁歪(磁化方向の伸縮)が、「−1×10-6以下
(符号が負で絶対値が1×10-6以上)」となるように
形成されている。一方、固定側の磁性層16の磁歪は、
「1×10-6以上(符号が正で絶対値が1×10-6
上)」となるように形成されている。このように、磁歪
の大きさを一定以上とすることで、後述する圧縮応力に
よる逆磁歪現象が顕著になるという利点がある。更に、
本形態では、スピンバルブ素子10にかかる応力が圧縮
応力となるように、リード電極20やシールド膜(図示
せず)などの他の構成要素の成膜条件が最適化されてい
る。
【0015】このため、自由側の磁性層12では、磁歪
が負のため、逆磁歪効果によって圧縮方向,すなわち矢
印FA方向(トラック幅TW方向)に磁化し易くなる。
また、固定側の磁性層16では、磁歪が正のため、逆磁
歪効果によって伸張方向,すなわち矢印FB方向(素子
高さH方向)に磁化し易くなる。このような磁化方向
が、いずれの磁性層においてもエネルギ的に安定であ
る。従って、本形態によれば、自由側の磁性層12の磁
化方向をFA方向に向けるために用いていたハード膜
(図5参照)が不要となる。また、固定側の磁性層16
では、反強磁性膜18による矢印FB方向の磁化がより
安定になる。
【0016】次に、本形態の具体例と比較例を説明す
る。まず、具体例から説明すると、自由側磁性層12と
して磁歪「−1.7×10-6」のNiFe膜を用い、固
定側磁性層16として磁歪「1.2×10-6」のNiF
e膜を用いて、スピンバルブ素子10を構成した。固定
側磁性層16には、FeMnによる反強磁性膜18を隣
接して設けた。しかし、自由側磁性層12の両側には、
通常設けられるCoPtなどのハード膜を設けなかっ
た。更に、スピンバルブ素子10にかかる応力が圧縮応
力となるように、素子上下のギャップ(図2参照)をA
23で形成し、素子上下のシールドないしコア(図2
参照)としてCo系アモルファス材料を使用し、他の絶
縁膜としてSiO2をそれぞれ用い、平坦化研磨採用の
構造とした。これによって、素子全体の応力は圧縮応力
となった。
【0017】次に、比較例を説明すると、自由側,固定
側の両磁性層12,16ともにNiFeを用いたが、磁
歪は両者ともほぼ零磁歪付近となるような組成とした。
そして、自由側の磁性層12の両側にCoPtによるハ
ード膜を設け、図5に示した構成とした。これ以外は、
前記具体例と同様とした。
【0018】以上のような本形態の具体例と比較例のM
Rヘッドについて、孤立波再生出力を測定したところ、
本形態では「720μVpp/μm」,比較例では「65
0μVpp/μm」となった。この結果から明らかなよう
に、本形態の方が10%程度出力が高くなっている。こ
れは、本形態の方が、より完全に自由側磁性層と固定側
磁性層の磁化方向が直交した状態となっているためであ
ると考えられる。
【0019】次に、図2を参照しながら、本発明の実施
形態2について説明する。本形態では、自由側の磁性層
に非磁性膜を介して負の磁歪を持つ軟磁性膜が隣接して
設けられており、更に、素子上に圧縮応力を持つ膜が積
層されている。図2(A)には、本形態のスピンバルブ
素子30の構成が示されている。同図において、比較的
保磁力が小さい自由側の磁性層32には、一方で、第1
の非磁性層34を介して固定側の磁性層36が設けられ
ている。固定側の磁性層36には、反強磁性膜38が設
けられている。前記自由側の磁性層32には、更に第2
の非磁性層40を介して軟磁性膜42が設けられてい
る。
【0020】自由側の磁性層32としては、比較的保磁
力の小さいものが用いられる。固定側の磁性層36とし
ては、保磁力の大きなものや小さいものが必要に応じて
用いられる。また、軟磁性膜42は、1×10-6以上の
負磁歪を持つ組成のCoZrMoなどを2〜5nm形成す
ることで得られる。この軟磁性膜42の成膜時の印加磁
界の向きは、矢印FA方向に一致させる。この後の他の
各層の成膜時は、矢印FB方向に一致させる。
【0021】図2(B)には、以上のようなスピンバル
ブ素子30を使用したMRヘッドの一例が示されてい
る。同図に示すように、スピンバルブ素子30の両端に
は、自由側の磁性層32の磁区(磁化方向)を制御する
ための磁気バイアス用のハード膜44が形成されてお
り、このハード膜44上にリード電極46が形成されて
いる。スピンバルブ素子30の下部には、絶縁材料によ
る下ギャップ膜48を介して下シールド膜50が形成さ
れている。また、スピンバルブ素子30の上部には、絶
縁材料による上ギャップ膜52を介して上シールド膜5
4が形成されている。なお、素子上側に積層される上ギ
ャップ膜52,上シールド膜54は、スピンバルブ素子
30に矢印FA方向の圧縮応力が作用するような条件で
成膜される。
【0022】次に、スピンバルブ素子30の具体例を示
すと、下シールド膜50,下ギャップ膜48が形成され
ている基板上に、負磁歪を持つ組成のCoZrMoなど
によって軟磁性膜42を、例えば2〜5nm形成する。軟
磁性膜42の成膜時には、基板と平行な矢印FA方向に
磁界を印加する。以後の各層の成膜時は、上述した矢印
FB方向に磁界を印加して形成される。軟磁性膜42の
上に、Taなどによって第2の非磁性層40を5nm形成
する。この非磁性層40上に、自由側の磁性層32とし
てNiFeを5nm,第1の非磁性層34としてCuを2
nm,固定側の磁性層36としてNiFeを5nm,反強磁
性膜38としてFeMnを8nmを順次成膜する。これら
の成膜は、スパッタなどの薄膜製造方法によって同一装
置内で行われる。そして、これらの各膜42〜38を、
フォトリソグラフィやイオンミリングなどの方法で矩形
のパターンとする。その後、自由側の磁性層32の磁区
制御用のハード膜44,リード電極46,上ギャップ膜
52,上シールド膜54を、上述したように圧縮応力を
持つ条件で順次形成する。
【0023】このような構成とすると、スピンバルブ素
子30に圧縮応力がかかり、外部磁界が「0」のとき、
負磁歪を持つ軟磁性膜42は逆磁歪効果によって矢印F
A方向に磁化する。すると、この軟磁性膜42によって
発生した磁界により、自由側の磁性層32の磁化方向が
矢印FA方向に向くようになる。他方、このとき、第2
の磁性層36の磁化方向は、反強磁性膜38により矢印
FB方向に固定されている。このため、軟磁性膜42か
らの磁界の影響を受けない。従って、第1の自由側の磁
性層32の磁化方向は矢印FA方向となり、第2の固定
側の磁性層36の磁化方向は矢印FB方向となるという
直交状態が実現する。
【0024】このように、本形態によれば、圧縮応力に
より磁化された負磁歪の軟磁性膜が発生する磁界によっ
て、スピンバルブを構成する第1の磁性層の磁化方向を
制御でき、更には、外部磁界がないときの第1及び第2
の磁性層の磁化方向を良好に直交化することができる。
【0025】この発明には数多くの実施の形態があり、
以上の開示に基づいて多様に改変することが可能であ
る。例えば、各部の材料などは各種のものが知られてお
り、必要に応じて適宜選択してよい。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
次のような効果がある。 (1)自由磁性層を負磁歪,固定磁性層を正磁歪とし、
それらに圧縮応力を加えることとしたので、無理なく自
然で簡便に固定磁性層と自由磁性層を所望の磁化方向と
することができ、良好な磁気ヘッド特性を得ることがで
きる。 (2)圧縮応力により磁化された負磁歪の軟磁性膜を自
由磁性層側に設けることとしたので、自由磁性層の磁化
方向を良好に制御することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施形態1の主要部を示す図であ
る。
【図2】この発明の実施形態2の主要部を示す図であ
る。
【図3】スピンバルブ素子の基本構成を示す図である。
【図4】スピンバルブ素子の具体的な構成例を示す図で
ある。
【図5】スピンバルブ素子を使用した磁気抵抗効果型ヘ
ッドの一例を示す図である。
【符号の説明】
10,30…スピンバルブ素子 12,32…自由磁性層 14,34,40…非磁性層 16,36…固定磁性層 18,38…反強磁性膜 20,46…リード電極 42…軟磁性膜 44…ハード膜 48,52…ギャップ膜 50,54…シールド膜 FA,FB…磁化方向を示す矢印

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 磁化方向が変化する第1の磁性層と、磁
    化方向が固定された第2の磁性層が、非磁性層によって
    分離されており、前記第1の磁性層の磁化方向の変化に
    対応して抵抗が変化するスピンバルブ素子を備えた磁気
    抵抗効果型ヘッドにおいて、 前記第1の磁性層を負磁歪とするとともに、前記第2の
    磁性層を正磁歪とし、第1及び第2の磁性層に圧縮応力
    が作用する構成としたことを特徴とする磁気抵抗効果型
    ヘッド。
  2. 【請求項2】 前記第1の磁性層の負磁歪及び前記第2
    の磁性層の正磁歪の大きさが1×10-6以上となるよう
    に設定したことを特徴とする請求項1記載の磁気抵抗効
    果型ヘッド。
  3. 【請求項3】 磁化方向が変化する第1の磁性層と、磁
    化方向が固定された第2の磁性層が、第1の非磁性層に
    よって分離されており、前記第1の磁性層の磁化方向の
    変化に対応して抵抗が変化するスピンバルブ素子を備え
    た磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、 負磁歪の軟磁性膜を、第2の非磁性層を介して前記第1
    の磁性層に隣接形成するとともに、前記軟磁性膜に圧縮
    応力が作用する構成としたことを特徴とする磁気抵抗効
    果型ヘッド。
  4. 【請求項4】 前記軟磁性膜の負磁歪の大きさが1×1
    -6以上となるように設定したことを特徴とする請求項
    3記載の磁気抵抗効果型ヘッド。
JP9124909A 1997-04-28 1997-04-28 磁気抵抗効果型ヘッド Pending JPH10302227A (ja)

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