JPH10293029A - 機械高測定機能付測量機 - Google Patents

機械高測定機能付測量機

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JPH10293029A
JPH10293029A JP36766997A JP36766997A JPH10293029A JP H10293029 A JPH10293029 A JP H10293029A JP 36766997 A JP36766997 A JP 36766997A JP 36766997 A JP36766997 A JP 36766997A JP H10293029 A JPH10293029 A JP H10293029A
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telescope
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Masami Shirai
雅実 白井
Atsumi Kaneko
敦美 金子
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Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 測量機の基点からの高精度の機械高さを容易
に得る。 【解決手段】 測量機20にS軸周りに回動可能な望遠
鏡22を設ける。測量機20に、望遠鏡22の下方に向
って延びる、測距用光波が通過するための光路穴42を
形成する。基点Pにコーナーキューブプリズム60を備
えたプリズムユニット50を載置する。望遠鏡22を鉛
直下方に向けて求心作業を行なう。求心作業の後、測量
機20を三脚12の頸部16に対して固定ネジ18によ
り固定する。そして、望遠鏡22からコーナーキューブ
プリズム60に対して測距を行い、L1を測定する。プ
リズム高さL2と、測定値L1を加算して機械高Hを求
める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はトータルステーショ
ン等の測量機に関し、より詳しくは機械高を測定する機
能を備えた測量機に関する。
【0002】
【従来の技術】近年電子技術の発展に伴い、光波を光軸
方向に発し、対象物によって反射され戻ってきた光波を
受光して対象物までの距離を測定する、光波測距を行な
うことができる装置が開発されている。光波測距は、測
量機内の既知点を原点とし、この原点を地上測点の鉛直
線上に設置して行なわれる。測距データから地上測点の
地点高度を算出するには、原点と地上測点との鉛直距
離、すなわち機械高が必要である。従来機械高の測定
は、測量機本体の側面に係止金具を取り付け、巻尺の一
端を係止金具に引掛け、他端を地面まで延ばして巻尺の
目盛りを読み取ることにより行なわれている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように測
量機本体の側面に巻尺を引掛けて測定する場合、巻尺が
取り付けられた位置と地上測点とが水平方向に離れてい
るので、機械高の測定結果に誤差が生じやすい。また巻
尺による測定の精度は低いため、機械高を高精度に検出
することは困難であり、したがって光波測距装置を用い
て高精度の測距を行なったとしても、測距結果の精度は
粗くなる。
【0004】本発明は、機械高を高精度に、しかも容易
に得ることができる機械高測定機能付測量機を提供する
ことを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による機械高測定
機能付測量機は、測量機本体と、この測量機本体に支持
され、水平軸の周りに回動自在な望遠鏡と、望遠鏡を介
して測距用光波を出射する光波出射手段と、測距用光波
を測量機本体の鉛直軸方向に位置する目標点へ向って導
く光路手段と、目標点に導かれた測距用光波を利用し
て、所定の点から目標点までの距離を測定する測距手段
とを備えたことを特徴としている。
【0006】好ましくは測量機本体は、測量機中心を通
り、かつ水平軸を通る鉛直軸の周りに回転自在であり、
測距手段は、測量機中心から目標点までの距離を測定す
る。光路手段は例えば、鉛直軸方向に延び、測距用光波
が通るための光路穴を有する。光路穴の上下に形成され
た開口部にそれぞれ透明部材が設けられてもよい。測距
手段は例えば、目標点からの反射光を検出することによ
り距離を測定する。
【0007】目標点に、光波出射手段からの出射光を反
射し、測距手段に導く反射部材が設けられてもよい。反
射部材は例えばコーナーキューブプリズムである。反射
部材が設けられた場合、反射部材が設けられた位置に関
する情報と、測距手段により測定された距離とに基い
て、測量機の機械高が求められることが好ましい。この
構成では例えば、反射部材が設けられた高さ位置と測定
手段により測定された距離とが加算されて、機械高が求
められる。またこの場合、機械高を計算するマイクロコ
ンピュータと、機械高の数値を表示する表示部とが設け
られてもよい。機械高は、例えば測量のデータとして用
いられる。
【0008】好ましくは測量機本体に設けられた取手に
反射部材が設けられ、望遠鏡が鉛直下方に向けられてい
る状態において、反射部材を介して望遠鏡が視準でき
る。
【0009】機械高測定機能付測量機には、望遠鏡の水
平軸周りの角度を測定するための高度分度が設けられる
ことが好ましい。また、測距用光波の光波径を変更する
光学部材が設けられてもよい。測量機本体の表面による
測距用光波の反射を防止する反射防止アダプタが設けら
れてもよい。測量機本体に反射防止処理が施されてもよ
い。倍率を変える光学部材が反射ミラーの望遠鏡と反対
側の光路上に設けられてもよい。
【0010】機械高測定機能付測量機には、可視光を反
射させ、測距用光波を透過させる光学部材を有する求心
望遠鏡が設けられてもよい。また、望遠鏡が鉛直軸に略
一致したか否かを判定するための位置合わせ機構が設け
られてもよい。この位置合わせ機構は例えば、望遠鏡に
設けられた第1のマークと、測量機本体に設けられた第
2のマークとを有する。あるいは位置合わせ機構は、望
遠鏡に設けられた回転軸に形成された窪みと、測量機本
体に設けられ、窪みに係合可能なボールとを有する。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明による機械高測定機
能付測量機の実施形態について添付図面を参照して説明
する。なお、各実施形態において同一部材もしくは対応
する部材には同一符号を付す。
【0012】図1〜図4は第1実施形態の構成を示し、
測量機としてのトータルステーションを示している。図
1と図2はトータルステーションのそれぞれ側面図と正
面図である。図3は、望遠鏡を図1、図2の状態から水
平軸周りに90度回転させるとともに、望遠鏡の内部の
構造を模式的に示したトータルステーションの正面図で
ある。図4は図3と同じ状態を示し、取手と支持部を図
2のIV−IV線に沿って破断して示す図である。
【0013】トータルステーション20には三脚(図示
せず)に連結される台座21が設けられる。台座21に
は、トータルステーション20と三脚とを固定するため
の固定板21bと、この固定板21bに支持された3つ
の水平調整部材21aとが設けられる。固定板21bの
中央には、三脚への連結に用いられる固定ネジを螺合す
るためのネジ穴40が形成される。水平調整部材21a
をそれぞれ軸周りに回転させることにより、トータルス
テーション20の三脚に対する上下移動が可能であり、
トータルステーション20を水平に調整することができ
る。
【0014】台座21の上方には、トータルステーショ
ン20の中心を通る鉛直軸Jの周りに回動可能な測量機
本体23が設けられる。測量機本体23は調整ネジ25
を操作することによって鉛直軸Jの周りに回動する。測
量機本体23の下部には、トータルステーション20に
関する種々の情報、あるいは測量結果を表示するための
表示部24が設けられる。測量機本体23の内部には、
トータルステーション20に設けられた各装置を制御
し、また種々の演算を行なうマイクロコンピュータ11
が設けられる。また測量機本体23には、中央上面23
aから鉛直下方向に向って貫通する光路穴42が形成さ
れ、光路穴42はネジ穴40に臨んでいる。
【0015】測量機本体23には望遠鏡収容空間28が
形成され、望遠鏡収容空間28には望遠鏡ユニット26
が設けられる。望遠鏡ユニット26は、測量機本体23
によって水平軸Sの周り(矢印A方向)に回動自在に支
持される。望遠鏡ユニット26の略中央には望遠鏡22
が設けられ、望遠鏡22は望遠鏡ユニット26と一体的
に水平軸Sの周りに回動する。測量機本体23の上方に
は、望遠鏡収容空間28を跨ぐようにして取手27が設
けられる。
【0016】トータルステーション20を求心すると
き、あるいは機械高を測定するとき、図3、4に示すよ
うに、望遠鏡22は図1の状態から水平軸Sの周りに9
0度回転させられる。すなわちトータルステーション2
0は求心作業等において、望遠鏡22の光軸が鉛直Jに
一致した状態で使用される。
【0017】望遠鏡22には、接眼レンズ30、焦点板
32、ポロプリズム34、中間レンズ36および対物レ
ンズ38が設けられる。中間レンズ36と対物レンズ3
8の間には赤外線のみを反射させるダイクロイックミラ
ー31が配設され、ダイクロイックミラー31の側方に
はプリズム35、発光素子37および受光素子39が設
けられる。
【0018】発光素子37は赤外線(測距用光波)を出
射し、赤外線はダイクロイックミラー31において反射
され、対物レンズ38から出射される。この赤外線は例
えば測量鋲において反射し、対物レンズ38を介してダ
イクロイックミラー31に導かれる。そして赤外線はダ
イクロイックミラー31において反射され、プリズム3
5を介して受光素子39に導かれる。
【0019】焦点板32には、望遠鏡22が対向する物
体の像が中間レンズ36と対物レンズ38によって結像
される。焦点板32には、図5に示されるように、その
中心を識別するための十字マーク33が形成される。一
方、取手27の中央には反射部材すなわち反射ミラー2
9が設けられ、反射ミラー29は、望遠鏡22が鉛直軸
Jに一致するように下向きに回動された状態において接
眼レンズ30に対向する。
【0020】したがって、例えば望遠鏡22を鉛直軸J
に一致するように下向きに回動した状態において、焦点
板32には、測量機本体23の直下に位置する測量鋲等
の像がネジ穴40および光路穴42を介して結像され
る。この焦点板32上の像は、反射ミラー29および接
眼レンズ30を介して視認され、望遠鏡22の視準をと
ることができる。なお図3、図4において視準方向は鉛
直軸Jに一致する。
【0021】接眼レンズ30は望遠鏡22に対して着脱
可能であり、接眼レンズ30を交換することにより望遠
鏡22の倍率を変更することができる。
【0022】図6はトータルステーション20を三脚1
2に取り付けて求心作業を行なうときの状態を示し、ト
ータルステーション20および三脚12の一部を破断し
て示す正面図である。求心作業において、三脚12は例
えば測量鋲のほぼ真上に配置され、その上にトータルス
テーション20が載置される。固定ネジ18が三脚12
の頸部16の下方から挿入され、固定板21bに形成さ
れたネジ穴40に螺着されて軽く締められる。固定ネジ
18の中央には、軸方向に貫通する光路穴44が形成さ
れ、光路穴44は測量機本体23の光路穴42に対向す
る。
【0023】この状態において、望遠鏡22が水平軸S
の周りに回動され、その光軸が鉛直軸Jに一致せしめら
れる。この作業は高度分度(図示せず)の目盛を見なが
ら行なわれる。高度分度は通常、トータルステーショ
ン、測距儀等の測量機において、望遠鏡の水平、高度方
向の回転角度を検出するために設けられ、例えば光学式
のロータリーエンコーダーによって構成される。
【0024】次に取手27内の反射ミラー29を介し
て、矢印B方向(図4参照)から望遠鏡22内を視認し
ながら、接眼レンズ30と中間レンズ36の光軸上の位
置が調節され、測量鋲の上面に形成されたマークによっ
て定義される基点P(目標物)にピントが合わせられ
る。この合焦動作の後、固定ネジ18が緩められる。そ
してトータルステーション20が頸部16の表面に沿っ
て平行移動せしめられ、図7に示されるように、焦点板
32の十字マーク33と基点Pとが合致する状態で固定
ネジ18が締められてトータルステーション20の求心
が行なわれる。
【0025】図8は、機械高を測定する状態におけるト
ータルステーション20を、三脚12およびプリズムユ
ニット50とともに示す図であり、この図においてプリ
ズムユニット50は基点P上に載置されている。図9は
プリズムユニット50の平面図である。図10は、プリ
ズムユニット50の一部を破断して示す正面図である。
【0026】プリズムユニット50は円板形の整準台5
2を有する。整準台52は底面から突出して設けられた
3つのピン、すなわち整準台52に垂直に固定された基
点ピン54と、整準台52を貫通して螺合する2つの整
準ピン55、56とを有し、これらのピン54、55、
56は整準台52の周縁部に、略等間隔に設けられる。
整準台52は、ピン54、55、56を介して地表面等
に載置される。
【0027】基点ピン54の上端にはプリズムカバー6
2が設けられ、プリズムカバー62の中には、コーナー
キューブプリズム(反射部材)60が固定される。基点
ピン54の尖端部54aは地表面の基点Pに合わせて設
置される。この尖端部54aとコーナーキューブプリズ
ム60のプリズム面60b内の任意設定位置Qまでの長
さをプリズム高さL2とし、また基点ピン54の中心軸
を基点軸Tとする。なお、任意設定位置Qはプリズム定
数によって定まる位置である。2つの整準ピン55、5
6は、整準台52と螺合するネジ部55b、56bを備
える。したがって整準ピン55、56を軸周りに回転さ
せることにより、基点軸Tが鉛直方向となるように整準
台52の水平状態を調整することができる。
【0028】整準台52の上面の略中央には、整準台5
2の水平状態を判断するための気泡管53が設けられ
る。気泡管53は、目視のために上面に気泡53aと目
盛り53bが設けられ、また気泡管53の基準面が基点
軸Tと直交するように設けられる。
【0029】コーナーキューブプリズム60は3面直交
型の反射鏡であり、ガラスの立方体の角の部分を切り落
とし、その切り落とし面に垂直で立方体の角を通る軸を
中心軸とする円筒状に側面を削り落として成形される。
すなわちコーナーキューブプリズム60は、互いに直交
し、プリズムカバー62の内周面に当接する3つの反射
面60aと、プリズムカバー62の開口面に一致する1
つのプリズム面60bとを有する。図9に示されるよう
に正面から見ると、プリズム面60bにおいて、隣り合
う2つの反射面の稜線3本(図中、太線64で示す)
と、この稜線の像3本(図中、細線66で示す)とが、
交差しているように映って見える。基点軸Tは、6本の
稜線の交点を通る。
【0030】次に機械高の測定について説明する。機械
高の測定は、上述した求心作業の後、プリズムユニット
50をトータルステーション20の下方に配置して行な
われる。
【0031】まず望遠鏡22からコーナーキューブプリ
ズム60の視準を行ない、焦点板32の十字線33とコ
ーナーキューブプリズム60の任意設定位置Qとを合わ
せる(図7参照)。この状態で測距が行なわれる。すな
わち、発光素子37から赤外線が出射され、コーナーキ
ューブプリズム60において反射し、受光素子39に導
かれる。受光素子39では、受光した赤外線に基いて、
発光素子37からコーナーキューブプリズム60までの
距離に対応した信号が出力される。この信号はマイクロ
コンピュータ11において所定の処理を施され、これに
より、トータルステーション20の中心Oからコーナー
キューブプリズム60の任意設定位置Qまでの距離L1
が算出される。
【0032】地表面から任意設定位置Qまでの高さL2
は、プリズム定数を変更することにより、別の位置に定
めることもできる。この高さL2のデータは、マイクロ
コンピュータ11内のメモリに、プリズム高さとして記
憶される。
【0033】以上のようにしてトータルステーション2
0の中心Oからコーナーキューブプリズム60の任意設
定位置Qまでの距離L1が得られると、マイクロコンピ
ュータ11において、(1)式により機械高Hが求めら
れる。もし測量鋲が地表面に対して凹陥し、あるいは突
出していたときは、ノギス等を用いてその凹凸量ΔHを
測定し、(1)式により求められた機械高Hに対して凹
凸量ΔHを加減算することにより機械高を補正すること
が必要である。この補正後の機械高は必要に応じて表示
部24により表示される。なお、機械高をマイクロコン
ピュータ11内のメモリに格納し、測量のデータとして
使用することも可能である。
【0034】 H=L1+L2 ・・・(1)
【0035】以上のように第1実施形態によれば、測量
用の望遠鏡22を用いて機械高を高精度に測定すること
ができる。また第1実施形態によれば、求心を行なうと
き、取手27に設けられた反射ミラー29と測量用の望
遠鏡22を使用するので、求心望遠鏡を設ける必要がな
く、したがってトータルステーション20の小型軽量化
やコストダウンが可能である。
【0036】さらに第1実施形態では、コーナーキュー
ブプリズム60を基点P上に載置しているので、機械高
Hをより高精度に求めることができる。すなわち、基点
Pにプリズムユニット50を載置せず、直接基点Pまで
の距離を測定してもよいが、より正確な機械高を求め、
精度の高い測量を行なうためには、プリズムユニット5
0等の反射部材を載置することが好ましい。なお反射部
材としては、反射シート等であってもよい。
【0037】図11、図12は第2実施形態のプリズム
ユニット70を示す。トータルステーションの構成は第
1実施形態と同じ構成であるので、その説明を省略す
る。
【0038】プリズムユニット70はケーシング72と
基点ピン54を有し、ケーシング72は基点ピン54の
上端に設けられる。ケーシング72には、コーナーキュ
ーブプリズム60と気泡管53が設けられる。コーナー
キューブプリズム60は、基点ピン54の中心軸である
基点軸Tに対して、プリズム面60bが垂直になるよう
に設けられる。気泡管53は、その表面が基点軸Tに対
して垂直になるように設けられる。
【0039】第2実施形態のトータルステーションを用
いて測距を行なうとき、プリズムユニット70は、作業
者の手によって、気泡管53の気泡53aが目盛り53
bの中心にあるように保持される。
【0040】以上のように第2実施形態では、プリズム
ユニット70は整準台52等の支持部材によって支持さ
れる構成を有しておらず、作業者が手で保持する必要が
あるが、その構成は非常に単純であり、製造コストを抑
えることができる。また第2実施形態によれば、第1実
施形態と同様の効果、すなわち測量用の望遠鏡とコーナ
ーキューブプリズム60を用いることにより、高精度の
機械高が容易に得られるという効果がある。
【0041】また測定点に専用の反射部材を使用せず、
測定点からの測距用光波を測定するノンプリズムタイプ
の光波測距機を使用する場合においては、基点上に反射
部材を置く必要はなく、基点で反射した測距用光波を測
定することにより機械高を求めることが可能である。
【0042】図13は本発明の第3実施形態を示す。第
3実施形態では、トータルステーション20に反射防止
アダプタ80が設けられており、その他の構成は第1実
施形態と同様であるので、その説明は省略する。
【0043】測距用光波の径は望遠鏡22の対物レンズ
の径とほぼ等しく、また光路穴42の径はスペースの都
合上大きくし難い。すなわち通常、測距用光波の径は光
路穴42の径より大きく、光波はトータルステーション
20の外装で反射され、その外装での反射光の成分がノ
イズとなり測距精度に影響を与える。反射防止アダプタ
80はこのような測距用光波の反射を防止する装置であ
り、望遠鏡22と測量機本体23との間に設けられる。
【0044】反射防止アダプタ80は、測量機本体23
に形成された光路穴42と略同径のアダプタ光路穴82
を備えており、その外表面の全体に黒色塗装などの反射
防止処理が施されている。反射防止アダプタ80は位置
決め環84を有し、位置決め環84は、測量機本体23
に形成された位置決め穴86に嵌合される。これにより
アダプタ光路穴82は、その軸が鉛直軸Jに一致するよ
うに位置決めされ、望遠鏡22から出射されて反射防止
アダプタ80を透過した測距用光波は、ノイズを発生さ
せずに光路穴42に入射する。
【0045】したがって第3実施形態によれば、測量用
の望遠鏡22を用いて高精度の機械高が得られるだけで
なく、反射防止アダプタ80を設けることにより、トー
タルステーションの外装による光波の反射を防止して、
精度の高い測距値が得られる。
【0046】なお第3実施形態において、外装による測
距用光波の反射を防止するために反射防止アダプタ80
を設けたが、代わりに例えばビームエキスパンダなどの
光学ユニットを設け、光波径を変更する構成にしてもよ
い。また、装置外装の測距用光波が当たる部分に反射防
止処理を行なってもよい。
【0047】図14、図15は本発明の第4実施形態を
示す。第4実施形態では、トータルステーション20の
取手27において、反射ミラー29の近傍に倍率変更光
学系90が設けられており、その他の構成は第1実施形
態と同様であるので、その説明は省略する。
【0048】倍率変更光学系90は、求心作業時に基点
Pを視準しやすいように倍率を変更するために設けられ
る。倍率変更光学系90は取手27に収容され、その接
眼レンズが取手90の端部に臨むようにして配置され
る。したがって、C方向に沿って、倍率変更光学系9
0、反射ミラー29、望遠鏡22、支持部光路穴42を
介して、鉛直下方の目標物(基点)が視準できる。この
視準に関する光軸は、図中1点鎖線で示され、鉛直軸J
に一致する。
【0049】したがって第4実施形態によれば、測量用
の望遠鏡22を用いて高精度の機械高が得られるだけで
なく、倍率変更光学系90を用いることにより、求心の
精度を高めることができる。
【0050】図16は本発明の第5実施形態を示し、本
実施形態では求心望遠鏡100が設けられている。すな
わち、第1から第4実施形態では測距用の望遠鏡22を
使用して求心作業を行なっているが、本実施形態では求
心望遠鏡100を使用して求心作業が行なわれる。
【0051】求心望遠鏡100は、測量機本体23の望
遠鏡22よりも下方に設けられる。求心望遠鏡100の
内部には接眼レンズ102、求心用焦点板104、光学
部材106、対物レンズ107が設けられる。光学部材
106の先端に形成されたビームスプリッタ106aは
光路穴42内に臨んでおり、これにより望遠鏡光軸K
は、その一部が鉛直軸Jと一致するように折曲する。ビ
ームスプリッタ106aには、測距用光波を透過させ、
可視光を反射させる特性を有するコーティングが施され
ている。
【0052】光路穴42の上端と下端の開口部はそれぞ
れ、透明部材の1つであるカバーガラス108、109
によって閉塞され、光路穴42の防水、防塵が施されて
いる。その他の構成は第1実施形態と同様であり、その
説明は省略する。
【0053】以上のように本実施形態は、求心望遠鏡1
00を備えたトータルステーション20において、測距
用光波のみを通すコーティングを施した光学部材106
が設けられるとともに、光波穴42が形成されている。
したがって求心望遠鏡100を介して鉛直下方の目標物
(基点)を観察することができ、求心作業を行なうこと
ができる。求心作業の後、上記各実施形態と同様に、望
遠鏡22を下方に向け、光学部材106を透過する光を
利用して測距作業が行なわれ、機械高が検出される。す
なわち、望遠鏡22から出射された測距用光波は鉛直軸
Jに沿って光学部材106を通り、中心Oから下方の目
標物(基点)までの距離が測定される。なお、この測距
において、カバーガラス108、109とビームスプリ
ッター106の厚み分の距離を補正することが必要であ
る。
【0054】図17、図18は本発明の第6実施形態を
示す。第6実施形態は上記各実施形態と異なり、測距儀
200を用いて機械高を測定するように構成されてい
る。
【0055】測距儀200には、第1実施形態のトータ
ルステーションと同様に、固定板201bと水平調整部
材201aを有する台座201が設けられ、固定板20
1bは三脚(図示せず)に固定するために設けられる。
すなわち、水平調整部材201aを軸周りに回転させる
ことにより、測距儀200が水平に調整可能である。固
定板201bの中央には、三脚への連結に用いられる固
定ネジを螺合するためのネジ穴202が形成される。
【0056】台座201の上方に設けられた測距儀本体
203は、調整ネジ205を操作することにより、測距
儀200の中心を通る鉛直軸Jの周りに回動可能であ
る。測距儀200の下部には、測距儀200に関する種
々の情報を表示するための表示部204が設けられる。
測距儀本体203の内部には、測距儀200に設けられ
た各装置を制御し、また種々の演算を行なうマイクロコ
ンピュータ(図示せず)が設けられる。また測距儀本体
203には、中央上面203aから鉛直下方向に向って
貫通し、ネジ穴202に対向する光路穴206が形成さ
れる。
【0057】測距儀本体203に形成された収容空間2
07には、測距儀ユニット208が設けられ、測距儀ユ
ニット208は、測距儀本体203によって水平軸Sの
周りに回動自在に支持される。測距儀ユニット208は
調整ネジ209を回転させることにより回動し、所定位
置に固定される。測距儀ユニット208には測距用光学
系(望遠鏡)210が設けられる。
【0058】測距儀200には、測距用光学系210の
光軸が鉛直軸Jに一致したか否かを判定するための位置
合わせ機構が設けられる。位置合わせ機構は、測距儀ユ
ニット208の側面に設けられた第1の指標部材211
と、測距儀本体203の上面に設けられた第2の指標部
材212とを有する。第1の指標部材211の下面21
1aは水平軸Sを中心とする凹状円筒面であり、第2の
指標部材212の上面212aは水平軸Sを中心とする
凸状円筒面である。これらの面211a、212aは相
互に摺接する。
【0059】第1の指標部材211の表面には、第2の
指標部材212側を向く矢印の第1のマークM1が形成
され、第2の指標部材212の表面には、第1の指標部
材211側を向く矢印の第2のマークM2が形成され
る。これらのマークM1、M2は、測距用光学系210
が鉛直軸Jに平行になった状態において、相互に合致す
るように形成される。すなわちマークM1、M2が設け
られるのは、測距儀200には通常、高度・水平分度が
設けられないからである。
【0060】測距儀ユニット208には気泡管(図示せ
ず)が設けられる。気泡管は、測距儀200が水平状態
に定められた状態において、気泡が気泡管の中心に位置
するように構成される。
【0061】また測距儀ユニット208には、求心望遠
鏡213が設けられる。求心望遠鏡213は、第5実施
形態の求心望遠鏡100(図16参照)と同様な構成を
有し、接眼レンズ214と、求心用焦点板215と、光
学部材216と、対物レンズ217とを備える。
【0062】したがって第6実施形態では、まず求心望
遠鏡213を介して鉛直下方の目標物(基点)が観察さ
れ、求心作業が行なわれる。そしてマークM1、M2が
合うようにして測距儀ユニット208が下方に向けら
れ、測距が行なわれて機械高が検出される。すなわち第
6実施形態によれば、第5実施形態と同様な効果が得ら
れる。
【0063】図19は本発明の第7実施形態を示す。第
7実施形態は第6実施形態と比較し、測距儀ユニット2
08の測距用光学系(図示せず)の光軸を鉛直軸Jに合
わせる位置合わせ機構の構成が異なり、その他の構成は
同じである。
【0064】すなわち第7実施形態では、測距儀ユニッ
ト208に一体的に設けられ、測距儀本体203に回転
自在に支持された回転軸220に、円錐状の窪み221
が形成され、測距儀本体203には、窪み221に係合
可能なボール222が設けられる。ボール222は、測
距儀本体203に形成された収容穴223内に収容さ
れ、また収容穴223には、ボール222を窪み221
側へ付勢するバネ224が収容される。
【0065】窪み221は、測距用光学系の光軸が鉛直
軸Jに合う状態において、ボール222が係合するよう
な位置に形成される。したがって第7実施形態の構成に
よれば、測距儀ユニット208を鉛直下方に向けるため
の作業が容易になる。
【0066】
【発明の効果】本発明によると、測量機の機械高を高精
度に、しかも容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態であるトータルステーシ
ョンの側面図である。
【図2】図1に示すトータルステーションの正面図であ
る。
【図3】望遠鏡を図1、図2の状態から水平軸周りに9
0度回転させるとともに、望遠鏡の内部の構造を模式的
に示したトータルステーションの正面図である。
【図4】図3と同じ状態を示し、取手と支持部を図2の
I−I線に沿って破断して示す図である。
【図5】焦点板を示す正面図である。
【図6】トータルステーションを三脚に取り付けて求心
作業を行なうときの状態を示し、トータルステーション
の一部を破断して示す正面図である。
【図7】求心作業時における焦点板に結像される像を示
す図である。
【図8】機械高を測定する状態におけるトータルステー
ションを三脚およびプリズムユニットとともに示す図で
ある。
【図9】図8に示すプリズムユニットの平面図である。
【図10】図8に示すプリズムユニットを一部を破断し
て示す側面図である。
【図11】本発明の第2実施形態である機械高測定機能
付測量機のプリズムユニットを示す平面図である。
【図12】図11に示すプリズムユニットの側面図であ
る。
【図13】本発明の第3実施形態であるトータルステー
ションを、一部を破断して三脚と共に示す正面図であ
る。
【図14】本発明の第4実施形態であるトータルステー
ションの断面図である。
【図15】図14に示すトータルステーションの正面図
である。
【図16】本発明の第5実施形態であるトータルステー
ションを、一部を破断して示す正面図である。
【図17】本発明の第6実施形態であるトータルステー
ションを、一部を破断して示す正面図である。
【図18】図17に示すトータルステーションの側面図
である。
【図19】本発明の第7実施形態であるトータルステー
ションを、一部を破断して示す側面図である。
【符号の説明】
20 トータルステーション 22 望遠鏡 23 測量機本体 27 取手 42、44 光路穴 50 プリズムユニット 60 コーナーキューブプリズム J 鉛直軸 S 水平軸

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測量機本体と、この測量機本体に支持さ
    れ、水平軸の周りに回動自在な望遠鏡と、前記望遠鏡を
    介して測距用光波を出射する光波出射手段と、前記測距
    用光波を前記測量機本体の鉛直軸方向に位置する目標点
    へ向って導く光路手段と、前記目標点に導かれた測距用
    光波を利用して、所定の点から目標点までの距離を測定
    する測距手段とを備えたことを特徴とする機械高測定機
    能付測量機。
  2. 【請求項2】 前記測量機本体が、測量機中心を通り、
    かつ前記水平軸を通る鉛直軸の周りに回転自在であり、
    前記測距手段が前記測量機中心から目標点までの距離を
    測定することを特徴とする請求項1に記載の機械高測定
    機能付測量機。
  3. 【請求項3】 前記光路手段が、鉛直軸方向に延び、前
    記測距用光波が通るための光路穴を有することを特徴と
    する請求項1に記載の機械高測定機能付測量機。
  4. 【請求項4】 前記光路穴の上下に形成された開口部に
    それぞれ透明部材が設けられることを特徴とする請求項
    3に記載の機械高測定機能付測量機。
  5. 【請求項5】 前記測距手段が、前記目標点からの反射
    光を検出することにより前記距離を測定することを特徴
    とする請求項1に記載の機械高測定機能付測量機。
  6. 【請求項6】 前記目標点に、前記光波出射手段からの
    出射光を反射し、前記測距手段に導く反射部材が設けら
    れることを特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能
    付測量機。
  7. 【請求項7】 前記反射部材がコーナーキューブプリズ
    ムであることを特徴とする請求項6に記載の機械高測定
    機能付測量機。
  8. 【請求項8】 前記反射部材が設けられた位置に関する
    情報と、前記測距手段により測定された距離とに基い
    て、測量機の機械高が求められることを特徴とする請求
    項6に記載の機械高測定機能付測量機。
  9. 【請求項9】 前記反射部材が設けられた高さ位置と前
    記測定手段により測定された距離とが加算されて、前記
    機械高が求められることを特徴とする請求項8に記載の
    機械高測定機能付測量機。
  10. 【請求項10】 前記機械高を計算するマイクロコンピ
    ュータと、前記機械高の数値を表示する表示部とを備え
    たことを特徴とする請求項8に記載の機械高測定機能付
    測量機。
  11. 【請求項11】 前記機械高が測量のデータとして用い
    られることを特徴とする請求項8に記載の機械高測定機
    能付測量機。
  12. 【請求項12】 前記測量機本体に設けられた取手に反
    射部材が設けられ、前記望遠鏡が鉛直下方に向けられて
    いる状態において、前記反射部材を介して前記望遠鏡が
    視準できることを特徴とする請求項1に記載の機械高測
    定機能付測量機。
  13. 【請求項13】 前記望遠鏡の水平軸周りの角度を測定
    するための高度分度を備えたことを特徴とする請求項1
    に記載の機械高測定機能付測量機。
  14. 【請求項14】 前記測距用光波の光波径を変更する光
    学部材を備えたことを特徴とする請求項1に記載の機械
    高測定機能付測量機。
  15. 【請求項15】 前記測量機本体の表面による前記測距
    用光波の反射を防止する反射防止アダプタを備えたこと
    を特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能付測量
    機。
  16. 【請求項16】 前記測量機本体に反射防止処理が施さ
    れることを特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能
    付測量機。
  17. 【請求項17】 倍率を変える光学部材が、前記反射ミ
    ラーの前記望遠鏡と反対側の光路上に設けられることを
    特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能付測量機。
  18. 【請求項18】 可視光を反射させ、測距用光波を透過
    させる光学部材を有する求心望遠鏡が設けられることを
    特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能付測量機。
  19. 【請求項19】 前記望遠鏡が前記鉛直軸に略一致した
    か否かを判定するための位置合わせ機構を備えることを
    特徴とする請求項1に記載の機械高測定機能付測量機。
  20. 【請求項20】 前記位置合わせ機構が、前記望遠鏡に
    設けられた第1のマークと、前記測量機本体に設けられ
    た第2のマークとを有することを特徴とする請求項19
    に記載の機械高測定機能付測量機。
  21. 【請求項21】 前記位置合わせ機構が、前記望遠鏡に
    設けられた回転軸に形成された窪みと、前記測量機本体
    に設けられ、前記窪みに係合可能なボールとを有するこ
    とを特徴とする請求項19に記載の機械高測定機能付測
    量機。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008765A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The 下向計測装置及び管部材の推進位置計測方法
JP2013019798A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Denso Corp レーザレーダシステム,及び取付方法
JP2017181427A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社トプコン 測量装置及び測量装置の機械高取得方法
EP3385666A4 (en) * 2015-11-30 2019-07-24 Topcon Corporation MEASURING DEVICE
CN110440118A (zh) * 2019-08-28 2019-11-12 成都建工集团有限公司 盾构机工程精准定位脚架
JP2021067612A (ja) * 2019-10-25 2021-04-30 株式会社トプコン スキャナ装置
CN117799878A (zh) * 2024-02-29 2024-04-02 武汉永业赛博能规划勘测有限公司 一种国土空间规划用地理信息勘测采集设备

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008008765A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The 下向計測装置及び管部材の推進位置計測方法
JP2013019798A (ja) * 2011-07-12 2013-01-31 Denso Corp レーザレーダシステム,及び取付方法
EP3385666A4 (en) * 2015-11-30 2019-07-24 Topcon Corporation MEASURING DEVICE
US10816338B2 (en) 2015-11-30 2020-10-27 Topcon Corporation Surveying device
JP2017181427A (ja) * 2016-03-31 2017-10-05 株式会社トプコン 測量装置及び測量装置の機械高取得方法
CN110440118A (zh) * 2019-08-28 2019-11-12 成都建工集团有限公司 盾构机工程精准定位脚架
CN110440118B (zh) * 2019-08-28 2024-05-31 成都建工集团有限公司 盾构机工程精准定位脚架
JP2021067612A (ja) * 2019-10-25 2021-04-30 株式会社トプコン スキャナ装置
CN117799878A (zh) * 2024-02-29 2024-04-02 武汉永业赛博能规划勘测有限公司 一种国土空间规划用地理信息勘测采集设备
CN117799878B (zh) * 2024-02-29 2024-04-30 武汉永业赛博能规划勘测有限公司 一种国土空间规划用地理信息勘测采集设备

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