JPH10291969A - 新規α−アミノアセトフェノン光開始剤 - Google Patents

新規α−アミノアセトフェノン光開始剤

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JPH10291969A
JPH10291969A JP9354199A JP35419997A JPH10291969A JP H10291969 A JPH10291969 A JP H10291969A JP 9354199 A JP9354199 A JP 9354199A JP 35419997 A JP35419997 A JP 35419997A JP H10291969 A JPH10291969 A JP H10291969A
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carbon atoms
alkyl
phenyl
substituted
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Masaki Ohwa
真樹 大和
Hitoshi Yamoto
斉 山戸
Jean-Luc Birbaum
ジャン・ルック ビルバウム
Hiroko Nakashima
容子 中島
Akira Matsumoto
啓 松本
Hidetaka Oka
英隆 岡
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Novartis AG
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Geigy AG
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 新規α−アミノアセトフェノン光開始剤を提
供する。 【解決手段】 次式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶ 具体的には、例えば１−［４−（３−メルカプトプロピ
ルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリン−４
−イル−プロバノ−１−オンで表される化合物は、エチ
レン性不飽和化合物の光重合のための光開始剤である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は新規α−アミノアセ
トフェノン化合物、該化合物を含有する組成物および光
開始剤としての該化合物の使用に関する。
【０００２】
【従来の技術】α−アミノアセトフェノン化合物は、ラ
ジカル光重合反応のための光開始剤として知られてい
る。そのような化合物は、例えば、ＵＳ ４５８２８６
２、４９９２５４７および５０７７４０２において開示
されている。ＵＳ ５５４１０３８においてα−アミノ
アセトフェノン化合物は、ジアルコキシアセトフェノン
化合物との組み合わせにおいて印刷版の製造のために有
用であることが記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光重合技術において、
良く反応し、製造が簡単でまた取扱が簡単である光開始
剤化合物についての必要がいまだに存在する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】次式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩお
よびＩＶ
【化３５】 ［式中、ａは整数１、２または４を表し、Ａｒはフェニ
ル基、ビフェニル基またはベンゾイルフェニル基を表
し、該フェニル基、ビフェニル基またはベンゾイルフェ
ニル基は未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数１な
いし１２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアル
ケニル基、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＯ
ＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基、−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ
2 Ｒ8 、−ＣＮ、−ＳＯ2ＮＨ2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原
子数１ないし４のアルキル）2 基、−Ｎ（Ｒ9 ）
（Ｒ10）および−ＮＨＣＯＲ9 の中の１ないし５個によ
って、もしくは次式Ｖ
【化３６】 で表される基によって置換されているか、またはＡｒは
次式ＶＩまたはＶＩＩ
【化３７】 で表される基を表し、
【０００５】Ａｒ1 はａが１を表す場合、Ａｒと同じ意
味を有し、ａが２を表す場合、Ａｒ1 は次式ＶＩＩＩま
たはＶＩＩＩａ
【化３８】 で表される二価芳香族基を表し、ａが４を表す場合、Ａ
ｒ1 は次式ＶＩＩＩｂ
【化３９】 で表される四価芳香族基を表し、Ａｒ2 は次式
【化４０】 で表される基を表し、これらの基は未置換もしくはハロ
ゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素
原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ない
し６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１ない
し３のアルキル基、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）基、−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ
8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ
2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2
基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）および−ＮＨＣＯＲ9 の中の
１ないし５個によって、もしくは上記で定義された式Ｖ
で表される基によって置換されているか、またはＡｒ2
は次式ＶＩａまたはＶＩＩａ
【化４１】 で表される基を表し、Ｘは直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−ま
たは−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、
【０００６】Ｙは水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基であって、未置換もしくは−ＯＨ、−ＯＲ
6 、−ＣＯＯＲ6 、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ6 ）2 もしくはハ
ロゲン原子の中の１ないし５個によって置換されている
か、もしくは次式Ｉａ
【化４２】 で表される基によって１ないし５回置換された基を表す
か、またはＹは炭素原子数２ないし２０のアルキル基で
あって１ないし９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ6 ）−、−Ｓ
−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）
−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−
Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、次式
【化４３】 で表される基によって中断された基を表し、ここで該中
断された炭素原子数２ないし２０のアルキル基はさらに
１ないし５個の−ＳＨによって置換されることができる
か、またはＹはベンジル基であって未置換もしくは−Ｃ
Ｈ2 ＳＨによって１回または２回置換された基を表し、
そして該ベンジル基はさらに炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によって置換され得るか、またはＹは上記で定
義されたＡｒ、または次式
【化４４】 で表される基を表すか、またはＹは５ないし７員の脂肪
族または芳香族ヘテロ環であって、１ないし４個のＮ、
Ｏもしくは／およびＳ原子を含む環を表すか、またはＹ
は８ないし１２員の脂肪族または芳香族二環系であっ
て、１ないし６個のＮ、Ｏもしくは／およびＳ原子を含
む環系を表し、ここで該単環式または二環式環はさらに
−ＳＨによって置換されるか、もしくは式Ｉａで表され
る基によって１ないし５回置換されることができるか、
またはＹは次式
【化４５】 で表される基を表し、
【０００７】ｑは１または２を表し、ｒは１、２または
３を表し、ｐは０または１を表し、ｔは１ないし６を表
し、ｕは２または３を表し、Ｒ1 およびＲ2 は互いに独
立して炭素原子数１ないし８のアルキル基であって、未
置換もしくは−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
８のアルキル）基、（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）ＣＯＯ−基もしくは−Ｎ（Ｒ3 ）（Ｒ4 ）によって
置換された基を表すか、またはＲ1 およびＲ2 は互いに
独立して炭素原子数３ないし６のアルケニル基、フェニ
ル基、クロロフェニル基、Ｒ7 −Ｏ−フェニル基、Ｒ8
−Ｓ−フェニル基またはフェニル−炭素原子数１ないし
３のアルキル基を表し、ここで該炭素原子数３ないし６
のアルケニル基、該フェニル基、該クロロフェニル基、
該Ｒ7 Ｏ−フェニル基、該Ｒ8 Ｓ−フェニル基または該
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基は未置換
もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換されている
か、またはＲ1 およびＲ2 は一緒になって直鎖もしくは
枝分れ鎖の炭素原子数２ないし９のアルキレン基、炭素
原子数３ないし９のオキサアルキレン基または炭素原子
数３ないし９のアザアルキレン基を表し、ここで該炭素
原子数２ないし９のアルキレン基、該炭素原子数３ない
し９のオキサアルキレン基または該炭素原子数３ないし
９のアザアルキレン基は未置換もしくは１ないし５個の
−ＳＨによって置換されているか、またはＲ1 およびＲ
2 は互いに独立して次式ＩＸまたはＸ
【化４６】 で表される基を表し、
【０００８】Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、炭素原子数２ないし４のアルキル基であ
って−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）基によって置換された基を表すか、または
Ｒ3 は炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基またはフェニル−炭
素原子数１ないし３のアルキル基を表し、Ｒ4 は炭素原
子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４
のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１な
いし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基によって置換された基
を表すか、またはＲ4 は炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、未置換
のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）基によって置換された基を表
すか、またはＲ4 はＲ2 と一緒になって炭素原子数１な
いし７のアルキレン基、フェニル−炭素原子数１ないし
４のアルキレン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン
基または炭素原子数２ないし３のオキサアルキレン基ま
たは炭素原子数２ないし３のアザアルキレン基を表す
か、またはＲ3 およびＲ4 は一緒になって炭素原子数３
ないし７のアルキレン基であって、−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯ−もしくは−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断されること
ができる基を表し、そして該炭素原子数３ないし７のア
ルキレン基は−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）基によって置換されることができ、
【０００９】Ｒ5 は炭素原子数１ないし６のアルキレン
基、キシリレン基、シクロヘキシレン基を表し、ここで
該炭素原子数１ないし６のアルキレン基、該キシリレン
基、該シクロヘキシレン基は未置換もしくは１ないし５
個の−ＳＨによって置換されているか、またはＲ5 は直
接結合を表し、Ｒ6 は水素原子、未置換もしくは−Ｏ
Ｈ、−ＳＨもしくはＨＳ−（ＣＨ2 ）q −ＣＯＯ−置換
された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数２ないし１２のアルキル基であって、−Ｏ−、−ＮＨ
−もしくは−Ｓ−によって中断された基を表すか、また
はＲ6 は炭素原子数３ないし５のアルケニル基、フェニ
ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ
2 ＣＮ、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−置換され
た炭素原子数１ないし４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −基、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−置換され
た炭素原子数２ないし８のアルカノイル基を表すか、ま
たはＲ6 はベンゾイル基を表し、
【００１０】Ｚは次式
【化４７】 、−Ｎ（Ｒ17）−または−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−Ｎ
（Ｒ17）−で表される二価基を表し、Ｕは直鎖または枝
分れ鎖の炭素原子数１ないし７のアルキレン基を表し、
ＶおよびＷは互いに独立して直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−
または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＶおよびＷは同時に
両方とも直接結合を表さず、ＭはＯ、ＳまたはＮ（Ｒ
6 ）を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を
表すか、またはＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル
基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣ
Ｒ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８の
アルキル）基、−ＣＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のア
ルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）2 基、次式
【化４８】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基もしくは次式
【化４９】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
すか、またはＲ7 は２，３−エポキシプロピル基、−
（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）m Ｈ、未置換のフェニル基、または
フェニル基であってハロゲン原子、炭素原子数１ないし
４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基によって置換された基を表すか、またはＲ7 はフェニ
ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ19、
−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、−Ｃ
ＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＣＯ
Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 基、−Ｓｉ
（Ｒ20）（Ｒ21）2 または−ＳＯ2 Ｒ22を表し、
【００１１】Ｒ8 は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を表すか、また
はＲ8 は炭素原子数１ないし４のアルキル基であって、
Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素原子数１ない
し４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モルホリノ基、
−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣ
Ｈ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣＲ19、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、
−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2 基、次
式
【化５０】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基もしくは次式
【化５１】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
すか、またはＲ8 は２，３−エポキシプロピル基、フェ
ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニル−
炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基、未置換
のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
子、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）基によってモノ−また
はポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は２−ベンゾ
チアジル基、２−ベンズイミダゾリル基、−ＣＨ2 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨまたは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ
−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨを表し、
【００１２】Ｒ9 およびＲ10は互いに独立して水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
２ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置
換された基を表すか、またはＲ9 およびＲ10は互いに独
立して炭素原子数３ないし５のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル
基、未置換のフェニル基、またはフェニル基であって炭
素原子数１ないし１２のアルキル基もしくはハロゲン原
子によってモノ−またはポリ置換された基を表すか、ま
たはＲ9 およびＲ10は一緒になって炭素原子数２ないし
７のアルキレン基であって−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ
（Ｒ18）−によって中断されることができる基を表し、
Ｒ11およびＲ12は互いに独立して直接結合、−ＣＨ2
−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−また
は−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＲ11およびＲ12は同時に
直接結合を表さず、Ｒ13は水素原子、炭素原子数１ない
し８のアルキル基またはフェニル基を表し、ここで該炭
素原子数１ないし８のアルキル基または該フェニル基は
未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換され
ており、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は互いに独立して水素原
子または未置換もしくはＳＨ−置換された炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表し、
【００１３】Ｒ17は水素原子、未置換もしくはＳＨ−置
換された炭素原子数１ないし８のアルキル基または未置
換もしくはＳＨ−置換されたフェニル基を表し、Ｒ18は
直鎖または枝分れ鎖の炭素原子数２ないし１６のアルキ
レン基であって、１ないし６個の−Ｏ−、−Ｓ−または
−Ｎ（Ｒ17）−によって中断されることができるか、も
しくは１ないし５個の−ＳＨ基によって置換されること
ができる基を表し、Ｒ19は炭素原子数１ないし４のアル
キル基、炭素原子数２ないし４のアルケニル基またはフ
ェニル基を表し、Ｒ20およびＲ21は互いに独立して炭素
原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表
し、Ｒ22は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェ
ニル基または炭素原子数１ないし１４のアルキル基によ
って置換されたフェニル基を表し、
【００１４】Ａｒ3 はフェニル基、ナフチル基、フリル
基、チエニル基またはピリジル基を表し、ここで前記基
は未置換もしくはハロゲン原子、−ＳＨ、−ＯＨ、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルキル基であって−ＯＨ、ハロゲン原子、−Ｓ
Ｈ、−Ｎ（Ｒ17）2 、炭素原子数１ないし１２のアルコ
キシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 もしくは
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された基によって置換されているか、もしくは前
記基は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基であって−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし１８のアルキル）基もしくは−ＣＯ（Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって置換された基によっ
て置換されているか、もしくは前記基は−（ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素
原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェノキシ基、−
ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）基、−Ｃ
Ｏ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、フェニル基もしくは
ベンゾイル基によって置換されており、
【００１５】ｎは１ないし２０を表し、ｍは２ないし２
０を表し、但し基Ａｒ、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 またはＹのうちの少なく
とも一つは１ないし５個の−ＳＨ基によって置換されて
いるか、またはＹは少なくとも一つの−ＳＳ−基を含
み、またＲ3 およびＲ4 がモルホリノ基を表しかつＲ1
およびＲ2 が同時にメチル基を表す場合、Ａｒ1 はＳＲ
8 （式中、Ｒ8 はＨまたは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＨ2 ＳＨを表す。）によって置換されたフェニル基を
表さず、またＲ3 およびＲ4 がモルホリノ基を表しかつ
Ｒ1 およびＲ2 が同時にメチル基を表しかつＡｒ2 はフ
ェニレン基を表しかつＸは−Ｓ−を表す場合、Ｙは水素
原子を表さないか、または−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＨ2 ＳＨを表す。］で表される化合物、または式Ｉ、
ＩＩ、ＩＩＩもしくはＩＶで表される化合物の酸添加塩
は、エチレン性不飽和化合物の光重合のための効果的な
開始剤であることが、今や見いだされた。
【００１６】炭素原子数１ないし２０のアルキル基は直
鎖または枝分れ鎖であって、そして例えば炭素原子数１
ないし１８−、炭素原子数１ないし１４−、炭素原子数
１ないし１２−、炭素原子数１ないし８−、炭素原子数
１ないし６−または炭素原子数１ないし４のアルキル基
である。例はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプ
ロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、イソブチル
基、第三ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、２，４，４−トリメチルペンチル基、２−エチルヘ
キシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基およびイコシル基である。炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１４
のアルキル基、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ない
し６のアルキル基および炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基は、Ｃ原子の対応する数までに炭素原子数１ないし
２０のアルキル基について上述で与えられたものと同様
な意味を有する。
【００１７】モノ−またはポリ置換された炭素原子数１
ないし４のアルキル基は１ないし６回、例えば１ないし
４回、特に１回または２回置換される。炭素原子数２な
いし４のヒドロキシアルキル基は直鎖または枝分れ鎖の
炭素原子数２ないし４のアルキル基であって、−ＯＨに
よって置換された基である。炭素原子数２ないし４のア
ルキル基は、Ｃ原子の対応する数までに炭素原子数１な
いし２０のアルキル基について上述で与えられたものと
同様な意味を有する。例はヒドロキシメチル基、２−ヒ
ドロキシエチル基、１−ヒドロキシエチル基、３−ヒド
ロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、４−ヒ
ドロキシブチル基である。
【００１８】炭素原子数２ないし１０のアルコキシアル
キル基は炭素原子数２ないし１０のアルキル基であっ
て、１個のＯ原子によって中断された基である。炭素原
子数２ないし１０のアルキル基は、Ｃ原子の対応する数
までに炭素原子数１ないし２０のアルキル基について上
述で与えられたものと同様な意味を有する。例はメトキ
シメチル基、メトキシエチル基、メトキシプロピル基、
エトキシメチル基、エトキシエチル基、エトキシプロピ
ル基、プロポキシメチル基、プロポキシエチル基および
プロポキシプロピル基である。
【００１９】炭素原子数２ないし２０個のアルキル基で
あって、１ないし９個、１ないし５個、１ないし３個ま
たは１もしくは２個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ6 ）−、−Ｓ
−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）
−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−
Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、次式
【化５２】 で表される基によって中断された基は、例えば−ＣＨ2
−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＨ 2 −Ｓ−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −
Ｎ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2
ＣＨ2 −、−［ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ］y −、−［ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｏ］y −ＣＨ2−［各式中、ｙは１ないし５を表
す。］、−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）5 ＣＨ2 ＣＨ2−、−Ｃ
Ｈ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−
または−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2
ＣＨ2 −を形成する。炭素原子数２ないし２０のアルキ
ル基が−Ｏ−によって中断される場合、１個以上の−Ｏ
−、例えば２ないし９個、２ないし５個、２ないし３個
または２個の−Ｏ−によって好ましく中断される。
【００２０】炭素原子数２ないし１６のアルキレン基は
直鎖または枝分れ鎖のアルキレン基であって、例えば炭
素原子数１ないし７のアルキレン基、炭素原子数１ない
し６のアルキレン基、炭素原子数１ないし４のアルキレ
ン基、すなわちメチレン基、エチレン基、プロピレン
基、１−メチルエチレン基、１，１−ジメチルエチレン
基、２，２−ジメチルプロピレン基、ブチレン基、１−
メチルブチレン基、１−メチルプロピレン基、２−メチ
ルプロピレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチ
レン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ドデ
シレン基、テトラデシレン基またはヘキサデシレン基で
ある。炭素原子数１ないし７のアルキレン基および炭素
原子数１ないし６のアルキレン基は、Ｃ原子数の対応す
る数までに炭素原子数２ないし１６のアルキレン基につ
いて上述で与えられたものと同様な意味を有しかつ同様
に直鎖または枝分れ鎖である。
【００２１】Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって炭素原子数
２ないし９のアルキレン基を表す場合、それらが結合さ
れるＣ原子と一緒になって、例えばプロピル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチルまたはドデシル環を形成する。
Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって炭素原子数３ないし９の
オキサアルキレン基または炭素原子数３ないし９のアザ
アルキレン基を表す場合、前記環はＯまたはＮ原子によ
って中断される。従って、それらは例えばピペリジン、
ピペラジン、アゾリジン、オキソランまたはオキサン環
である。
【００２２】Ｒ3 およびＲ4 が一緒になって炭素原子数
３ないし７のアルキレン基であって、所望に−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断され
る基を表す場合、それらが結合されるＮ原子と一緒にな
って、例えばモルホリノ基またはピペリジノ基が形成さ
れる。Ｒ9 およびＲ10が一緒になって炭素原子数２ない
し７のアルキレン基であって、所望に−Ｏ−、−Ｓ−、
−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ18）−によって中断される基を
表す場合、それらが結合されるＮ原子と一緒になって、
例えばモルホリノ基またはピペリジノ基が形成される。
Ｒ27およびＲ28が一緒になって炭素原子数２ないし８の
アルキレン基であって、所望に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ
−または−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断される基を表す場
合、それらが結合されるＮ原子と一緒になって、例えば
モルホリノ基またはピペリジノ基が形成される。
【００２３】炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、
例えば炭素原子数３ないし６のアルケニル基または炭素
原子数３ないし５のアルケニル基はモノ−またはポリ置
換され得、そして例えばアリル基、メタアリル基、１，
１−ジメチルアリル基、１−ブテニル基、３−ブテニル
基、２−ブテニル基、１，３−ペンタジエニル基、５−
ヘキセニル基または７−オクテニル基、特にアリル基で
ある。炭素原子数３ないし６のアルケニル基、炭素原子
数３ないし５のアルケニル基および炭素原子数２ないし
４のアルケニル基は、Ｃ原子の対応する数までに炭素原
子数３ないし１２のアルケニル基について上述で与えら
れたものと同様な意味を有し、炭素原子数２のアルケニ
ル基はビニル基である。
【００２４】炭素原子数２ないし８のアルカノイル基は
例えば炭素原子数２ないし６−、炭素原子数２ないし４
−または炭素原子数２ないし３のアルカノイル基であ
る。これらの基は直鎖または枝分れ鎖であり、そして例
えばエタノイル基、プロパノイル基、２−メチルプロパ
ノイル基、ヘキサノイル基またはオクタノイル基であ
る。炭素原子数２ないし３のアルカノイル基は、Ｃ原子
の対応する数までに炭素原子数２ないし８のアルカノイ
ル基について与えられたものと同様な意味を有する。
【００２５】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基は例えば炭素原子数５ないし８−または炭素原子数５
ないし６のシクロアルキル基、すなわちシクロペンチル
基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロドデ
シル基、特にシクロペンチル基およびシクロヘキシル
基、好ましくはシクロヘキシル基である。炭素原子数５
ないし６のシクロアルキル基はシクロペンチル基または
シクロヘキシル基である。
【００２６】炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基は
例えば炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、特に炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基であり、また直鎖また
は枝分れ鎖の基であり、例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブチルオキ
シ基、第二ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、第三
ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ
基、ヘプチルオキシ基、２，４，４−トリメチルペンチ
ルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオ
キシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基またはドデシ
ルオキシ基、特にメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、第二ブチ
ルオキシ基、イソブチルオキシ基または第三ブチルオキ
シ基、好ましくはメトキシ基である。炭素原子数１ない
し８のアルコキシ基および炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基は、Ｃ原子の対応する数までに炭素原子数１な
いし１２のアルコキシ基について与えられたものと同じ
意味を有する。
【００２７】炭素原子数１ないし８のアルキルチオ基、
例えば炭素原子数１ないし６−または炭素原子数１ない
し４のアルキルチオ基は直鎖または枝分れ鎖であり、そ
して例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピル
チオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−
ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、
ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基またはオクチルチオ
基、好ましくはメチルチオ基またはブチルチオ基であ
る。
【００２８】炭素原子数３ないし５のアルケノキシ基は
１回または２回不飽和であり得、そして例えばアリルオ
キシ基、メタアリルオキシ基、１，１−ジメチルアリル
オキシ基、１−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ
基、３−ブテニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基また
は１，３−ペンタジエニルオキシ基、特にアリルオキシ
基である。
【００２９】フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキ
ル基は例えばベンジル基、フェニルエチル基、α−メチ
ルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル基、特に
ベンジル基である。置換されたフェニル−炭素原子数１
ないし３のアルキル基は１ないし４回、例えば１回、２
回または３回、特に２回または３回フェニル環について
置換される。
【００３０】５ないし７員の脂肪族または芳香族ヘテロ
環式環であって、１ないし４個のＮ、Ｏもしくは／およ
びＳ原子を含む環は例えばフリル基、チエニル基、ピロ
リル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピラニル基、ベン
ズオキサゾリル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル
基、チアゾリル基、オキサゾリル基、１，３，４−チア
ジアゾリル基、アゾリル基またはジアゾリル基である。
８ないし１２員の脂肪族または芳香族ヘテロ環式環であ
って、１ないし６個のＮ、Ｏもしくは／およびＳ原子を
含む環は例えばベンゾフラニル基、イソベンゾフラニル
基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノ
リニル基、キノキサリニル基、プリニル基またはイソキ
ノリニル基である。
【００３１】クロロフェニル基は塩素原子によって置換
されたフェニル基である。置換されたフェニル基は１な
いし４回、例えば１回、２回または３回、特に１回また
は２回置換される。置換基は、例えば、フェニル環の
２、３、４、５または６位において、特に２、６または
３位において存在する。モノ−またはポリ置換されたフ
ェニル基は１ないし４回、例えば１回、２回または３
回、特に１回または２回置換される。ハロゲン原子はフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子、特に
フッ素原子、塩素原子および臭素原子、好ましくは臭素
原子および塩素原子である。
【００３２】式ＶＩで表される基であるＡｒについての
例は次式
【化５３】 ［式中、ＶはＯを表し、Ｕは炭素原子数２または炭素原
子数３のアルキレン基を表し、またＷは直接結合を表
す。］で表される基である。
【００３３】用語”式ＩないしＩＶの酸添加塩”は、式
ＩないしＩＶで表されるα−アミノケトン化合物であっ
てカルボン酸誘導体または有機スルホン酸誘導体と反応
した化合物を包含する。それは、化合物が窒素原子でプ
ロトン化され、また対イオンは酸誘導体のそれぞれのア
ニオンであることを意味する。適した酸誘導体について
の例はトリフルオロメチルカルボン酸、次式
【化５４】 で表される酸、トルエンスルホン酸、好ましくはトルエ
ンスルホン酸である。
【００３４】Ａｒ2 がフェニレン基を表し、ＸがＳを表
しかつＹが１ないし９個のＯ原子によって中断された炭
素原子数２ないし２０のアルキル基を表す場合、アルキ
レン基は好ましくは１個以上のＯ原子、例えば２ないし
９個、２ないし８個、３ないし５個または４個、特に２
個のＯ原子によって好ましく中断される。
【００３５】Ｒ8 は好ましくは炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を
表すか、またはＲ8 は炭素原子数１ないし４のアルキル
基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣ
Ｒ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８の
アルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）2 基、次式
【化５５】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基もしくは次式
【化５６】 で表される基を用いてモノ−またはポリ置換された基を
表すか、またはＲ8 は２，３−エポキシプロピル基、フ
ェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニル
−炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基、未置
換のフェニル基またはフェニル基であってハロゲン原
子、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）基によってモノ−また
はポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は２−ベンゾ
チアジル基、２−ベンズイミダゾリル基または−ＣＨ2
ＣＨ2 −Ｓ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨを表す。
【００３６】Ｙは好ましくは炭素原子数１ないし２０の
アルキル基であって、−ＳＨによって置換された基を表
す。さらに好ましくは、Ｙは炭素原子数２ないし２０の
アルキル基であって１ないし９個の−Ｓ−、−Ｏ−、−
Ｎ（Ｒ6 ）−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ
（＝Ｏ）−Ｘ−、好ましくは−Ｓ−によって中断された
基を表し、ここで該アルキル基は上述で示された直鎖ま
たは枝分れ鎖であり、また所望に１ないし５個のＳＨに
よって置換される。
【００３７】式Ｉで表されるチオール化合物は、例え
ば、ハロフェニル脂肪族ケトンから対応するジチオール
またはポリチオールの過剰量を用いて処理することによ
って製造されることができる。式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよ
びＩＶで表されるチオール化合物はまた対応するビニ
ル、ヒドロキシル、ハロゲンまたはアミノ前駆体から既
知の方法によって得られることもできる。例えば”Ｔｈ
ｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｔｈｉｏｌ
Ｇｒｏｕｐ”、Ｓ． Ｐａｔａｉ編集、Ｊｏｈｎ Ｗｉ
ｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ、頁１６３、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、
１９７４を見よ。ビニル基は直接に硫化水素添加によっ
て、またはチオ酢酸添加および引き続く加水分解によっ
てチオール基に変換されることができる。
【００３８】ハロゲン基は金属硫化水素との反応によっ
て、チオール基に直接に転換されることができる。チオ
ール基への他の方法はブンテ塩、キサンテート、イソチ
ウロニウム（ｉｓｏｔｈｉｕｒｏｎｉｕｍ）塩、ホスフ
ァチオレート（ｐｈｏｓｐｈｏｒｔｈｉｏｒａｔｅ）お
よびチオエステルの変換を含む。さらに、ヒドロキシ基
は直接に硫化水素または五硫化リンとの反応によって、
または対応するハロゲンを介して上記の方法の一つを使
用してチオール基に変換されることができる。アルコー
ルのメルカプトカルボン酸、例えばメルカプト酢酸また
はメルカプトプロピオン酸とのエステル化は、チオール
への他の都合の良い方法を提供する。アミンは、例え
ば、メルカプトカルボン酸、例えばメルカプト酢酸また
はメルカプトプロピオン酸とのアミド化によってチオー
ルに変換されることができる。
【００３９】本発明に従う式Ｉで表されるジスルフィド
は、既知の方法によっても得られることができる、例え
ば”Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ Ｇｒｏｕ
ｐＰｒｅｐａｒａｔｉｏｎｓ”、Ｓ．Ｒ． Ｓａｎｄｌ
ｅｒ、ＡｃａｄｅｍｉｃＰｒｅｓｓ、頁５８６、Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ、１９８３を見よ。例えば、望ましいジスル
フィド化合物は、対応するハライドとナトリウムジスル
フィドとの反応によって製造される。チオールの酸化は
またジスルフィドを製造する都合の良い方法である。例
えば、過酸化水素、エタノール中のヨウ素およびヨウ素
のアルカリ溶液は酸化剤として使用されることができ
る。非対称ジスルフィドはナトリウムチオレートとアル
キルチオサルフェート、例えばｎ−ブチルチオサルフェ
ートとの、またはアリールチオサルフェートとの反応に
よって製造されることができる。
【００４０】そのような反応の実行およびそのような反
応の反応条件は当業者に一般に知られている。反応は極
性溶媒、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、Ｎ−メチルピロリジンまたはジメチルスルホ
キシド中で好ましく行われる。反応はまた混合溶液系、
例えば、上述された極性溶媒の一つおよび不活性非プロ
トン性、例えばベンゼン、トルエン、クロロホルムまた
は塩化メチレンの溶液系中で行われることができる。ジ
チオールの大過剰は二量体の形成を最小にする反応のた
めに有効である。反応のために使用されるジチオールの
量は、例えば、基質に対して１ないし１０等量、好まし
くは２ないし６等量である。反応は、例えば、室温（約
２０℃）から１５０℃まで、好ましくは１００℃までで
行われる。反応は攪拌を用いてまたは用いずに進行され
ることができるが、しかしながら攪拌を用いた反応が反
応の進行を促進するに好ましい。
【００４１】脂肪族芳香族α−アミノケトン化合物であ
って、上述で示された方法によって本発明に従うＳＨ−
置換されたまたは−ＳＳ−を含む化合物に変換されるこ
とができる化合物の製造のための方法は、例えばＵＳ
４３１５８０７、カラム９、４２行ないしカラム１１、
２３行およびカラム１３、５３行ないしカラム１６、５
４行において開示されている。チオール基の付加のため
のα−アミノケトン前駆体であって、ここでＲ1 または
Ｒ2 がＣ−アリル化またはＣ−ベンジル化によるアルケ
ニル基、特にアリル基、またはベンジル基を表す前駆体
の製造は、例えばＵＳ特許５０７７４０２、カラム１
６、１７行ないしカラム１８、３１行において開示され
ている。さらに脂肪族芳香族α−アミノケトン化合物の
製造の記載はＵＳ ４５８２８６２、４９９２５４７お
よび５０７７４０２において与えられている。
【００４２】好ましいものは式ＩＩ［式中、ａは１を表
す。］で表される化合物である。興味深い化合物は、Ａ
ｒ2 は次式
【化５７】 で表される基を表し、Ｒ23およびＲ24は互いに独立して
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェ
ニル基、ベンジル基、ベンゾイル基、−ＯＲ25、−Ｓ
Ｈ、−ＳＲ26、−ＳＯＲ26、−ＳＯ2 Ｒ26、−Ｎ
（Ｒ27）（Ｒ28）、−ＮＨＳＯ2 Ｒ29を表し、Ｒ25は水
素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、−Ｃ
Ｎ、−ＯＨまたは−ＳＨによって置換された炭素原子数
１ないし６のアルキル基を表すか、またはＲ25は炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基、炭素原子数３ないし５
のアルケノキシ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2
ＣＨ2 ＣＯＯＲ30、−ＣＯＯＨまたは−ＣＯＯＲ30、−
（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）s Ｈ、炭素原子数２ないし８のアル
カノイル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、
シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基、フェ
ニル基、ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアル
キル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によ
って置換されたフェニル基を表すか、またはＲ25はフェ
ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基または−Ｓｉ
（炭素原子数１ないし８のアルキル）r （フェニル）
3-r 基を表し、
【００４３】ｓは２ないし２０を表し、ｒは１、２また
は３を表し、Ｒ26は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数１ないし６のアルキル基であって−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＣＯＯＲ30、炭素原子数１ない
し４のアルコキシ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮまたは−Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯＲ30を表すか、またはＲ26は炭素原
子数３ないし１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニ
ル基、ハロゲン原子によって置換されたフェニル基、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基または炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基を表し、Ｒ27およびＲ28は互い
に独立して水素原子、未置換もしくはＳＨ−置換された
炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２な
いし４のヒドロキシアルキル基、炭素原子数２ないし１
０のアルコキシアルキル基、炭素原子数３ないし５のア
ルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フ
ェニル基、ハロゲン原子によって置換されたフェニル
基、−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル基または炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表す
か、またはＲ27およびＲ28は炭素原子数２ないし３のア
ルカノイル基またはベンゾイル基を表すか、またはＲ27
およびＲ28は一緒になって炭素原子数２ないし８のアル
キレン基であって−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−ＮＲ6 によ
って中断されることができる基、または一緒になって炭
素原子数２ないし８のアルキレン基であって−ＯＨ、炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯＲ
30によって置換されることができる基を表し、
【００４４】Ｒ6 は水素原子、未置換もしくは−ＯＨ、
−ＳＨもしくはＨＳ−（ＣＨ2 ）q −ＣＯＯ−置換され
た炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２
ないし１２のアルキル基であって、−Ｏ−、−ＮＨ−も
しくは−Ｓ−によって中断された基を表すか、またはＲ
6 は炭素原子数３ないし５のアルケニル基、フェニル−
炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
Ｎ、未置換もしくは−ＯＨもしくはＳＨ−置換された炭
素原子数１ないし４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −
基、未置換もしくは−ＯＨもしくはＳＨ−置換された炭
素原子数２ないし８のアルカノイル基を表すか、または
Ｒ6 はベンゾイル基を表し、ｑは１または２を表し、Ｒ
29は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、未置換のフ
ェニル基もしくはナフチル基、フェニル基またはナフチ
ル基であってハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基もしくは炭素原子数１ないし８のアルコキシ
基によって置換された基を表し、またＲ30は未置換の炭
素原子数１ないし４のアルキル基または炭素原子数１な
いし４のアルキル基であって、−ＯＨもしくは−ＳＨに
よって置換された基を表すところの化合物である。
【００４５】他の好ましい化合物は、Ａｒ2 は次式
【化５８】 を表し、ＸはＳを表し、またＹは−ＳＲ8 または−ＯＲ
7 によって置換されたＡｒを表すところの化合物であ
る。好ましいものは、さらにＹはＳＨ−置換された炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし
２０のアルキル基であって、−Ｓ−もしくは−ＳＳ−に
よって中断された基を表すか、またはＹはＳＨ−置換さ
れたフェニル−、ビフェニル−もしくはベンゾイルフェ
ニル基を表すか、または次式
【化５９】 で表される基を表すところの化合物である。
【００４６】特に興味深いものは、式ＩまたはＩＩ［式
中、ａは１を表し、Ａｒ1 はフェニル基またはビフェニ
ル基を表し、ここで該フェニル基または該ビフェニル基
は１ないし５個の−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 もしくは
−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）によって置換されており、Ａｒ2
は次式
【化６０】 で表される基を表し、これらの基は未置換もしくは１な
いし５個の−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 もしくは−Ｎ
（Ｒ9 ）（Ｒ10）によって置換されており、Ｘは−Ｏ
−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、Ｙは水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基であって、未
置換もしくは１ないし５個の−ＯＨ、−ＳＨによって置
換されているか、またはＹは炭素原子数２ないし２０の
アルキル基であって、１ないし９個の−Ｏ−、−Ｓ−、
−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−によって中断
された基を表し、ここで該中断された炭素原子数２ない
し２０のアルキル基はさらに１ないし５個の−ＳＨによ
って置換されることができるか、またはＹはベンジル基
であって−ＣＨ2 ＳＨによって１回または２回置換され
た基を表し、そして該ベンジル基はさらに１ないし４個
の炭素原子数１ないし４のアルキル基によって置換され
得、
【００４７】Ｒ1 およびＲ2 は互いに独立して炭素原子
数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を表すか、
またはＲ1 およびＲ2 互いに独立して次式ＩＸまたはＸ
【化６１】 で表される基を表し、Ｒ3 およびＲ4 は炭素原子数１な
いし１２のアルキル基を表すか、またはＲ3 およびＲ4
は一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキレン基で
あって、−Ｏ−によって中断されることができる基を表
し、そして該炭素原子数３ないし７のアルキレン基は−
ＳＨによって置換されることができ、Ｒ7 は炭素原子数
１ないし１２のアルキル基を表し、Ｒ8 は炭素原子数１
ないし１２のアルキル基を表すか、またはＲ8 は炭素原
子数１ないし４のアルキル基であって、−ＳＨを用いて
モノ−またはポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は
−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2 ＳＨもしくは−ＣＨ2
ＣＨ2 −Ｓ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＳＨを表し、Ｒ9 およびＲ
10は互いに独立して水素原子または炭素原子数２ないし
４のアルキル基であって、−ＳＨによって置換された基
を表し、またＲ13、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は水素原子を
表す。］で表される化合物である。
【００４８】他の興味深い化合物は、Ｒ1 およびＲ2 は
互いに独立して炭素原子数１ないし４のアルキル基、ベ
ンジル基または炭素原子数３ないし６のアルケニル基を
表し、Ｒ3 およびＲ4 は互いに独立して炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表すか、または炭素原子数Ｒ3 お
よびＲ4 は一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキ
レン基であって、−Ｏ−によって中断された基を表し、
Ａｒ1 は−ＳＲ8 によって置換されたフェニル基を表
し、Ｒ8 はＳＨ−置換された炭素原子数１ないし４のア
ルキル基またはＳＨ−置換されたフェニル基を表し、Ａ
ｒ2 はフェニレン基を表し、ＸはＳまたはＮＨを表し、
またＹは−ＳＨおよび／または１ないし２個の−ＯＨに
よって置換された炭素原子数１ないし１０のアルキル基
を表すところの化合物である。
【００４９】本発明に従って、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよ
びＩＶで表される化合物は、エチレン性不飽和化合物ま
たはそのような化合物からなる混合物の光重合のための
光開始剤として使用されることができる。この使用はま
た他の光開始剤および／または他の添加剤と組み合わせ
において行われ得る。
【００５０】従って本発明はまた、（ａ）少なくとも１
種のエチレン性不飽和光重合可能な化合物と、および
（ｂ）光開始剤として、少なくとも１種の式Ｉ、ＩＩ、
ＩＩＩまたはＩＶで表される化合物とからなる光重合可
能な組成物にも関する。これに関して、前記組成物は成
分（ｂ）に加えて他の添加物を含有し得、また成分
（ｂ）は式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶで表される光開
始剤の混合物であり得る。
【００５１】重合されるエチレン性不飽和化合物はモノ
マー性、オリゴマー性またはポリマー性非揮発性化合物
であり得る。不飽和化合物は一つまたはそれ以上のオレ
フィン性二重結合を含み得る。それらは低分子量（モノ
マー性）または比較的に高分子量（オリゴマー性）であ
り得る。二重結合を含むモノマーの例はアルキルもしく
はヒドロキシアルキルアクリレートまたはメタクリレー
ト、例えばメチル、エチル、ブチル、２−エチルヘキシ
ルまたは２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボル
ニルアクリレート、メチルメタクリレートまたはエチル
メタクリレートである。シリコンアクリレートはまた興
味深い。さらなる例はアクリロニトリル、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、Ｎ−置換された（メタ）アクリ
ルアミド、酢酸ビニルのようなビニルエステル、イソブ
チルビニルエーテルのようなビニルエーテル、スチレ
ン、アルキルスチレンおよびハロスチレン、Ｎ−ビニル
ピロリドン、塩化ビニルまたは塩化ビニリデンである。
【００５２】二つまたはそれ以上の二重結合を含むモノ
マーの例はエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、ヘキサメチレングリコー
ルまたはビスフェノールＡのジアクリレート、およびま
た４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）
ジフェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまた
はペンタエリトリトールテトラアクリレート、ビニルア
クリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネー
ト、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、ト
リアリルイソシアヌレートまたはトリス（２−アクリロ
イルエチル）イソシアヌレートである。
【００５３】比較的に高分子量（オリゴマー性）ポリ不
飽和化合物の例はアクリル化エポキシ樹脂、およびポリ
エステル、ポリウレタン並びにポリエーテルであってア
クリル化されたまたはビニルエーテルまたはエポキシ基
を含むものである。不飽和オリゴマーのさらなる例は不
飽和ポリエステル樹脂であって大部分はマレイン酸、フ
タル酸および１種またはそれ以上のジオールから製造さ
れかつ約５００ないし３０００の分子量を有するもので
ある。さらにビニルエーテルモノマーおよびビニルエー
テルオリゴマー、およびまたポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリエーテル、ポリビニルエーテルおよびエポキシ
主鎖を有するマレート末端基を有するオリゴマーを用い
ることも可能である。ＷＯ ９０／０１５１２において
記載されているビニルエーテル基を含むオリゴマーおよ
びポリマーの組み合わせは特に大変適している。しか
し、ビニルエーテルおよびマレイン酸官能化されたモノ
マーのコポリマーもまた適している。そのような不飽和
オリゴマーはまたプレポリマーとして参照されることが
できる。
【００５４】特に適した化合物の例はエチレン性不飽和
カルボン酸およびポリオールのエステルまたはポリエポ
キシド、および主鎖または側基においてエチレン性不飽
和基を含むポリマー、例えば不飽和ポリエステル、ポリ
アミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポリマー、
ポリブタジエンおよびブタジエンコポリマー、ポリイソ
プレンおよびイソプレンコポリマー、側鎖において（メ
タ）アクリル基を含むポリマーおよびコポリマー、およ
び１種またはそれ以上のそのようなポリマーの混合物で
ある。
【００５５】不飽和カルボン酸の例はアクリル酸、メタ
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、ケイ皮酸、および
不飽和脂肪酸、例えばリノレン酸またはオレイン酸であ
る。アクリル酸およびメタクリル酸が好まれる。
【００５６】適したポリオールは芳香族および、特に、
脂肪族および環式脂肪族ポリオールである。芳香族ポリ
オールの例はヒドロキノン、４，４’−ジヒドロキシビ
フェニル、２，２−ジ（４−ヒドロキシフェニル）プロ
パン、およびノボラックおよびレゾールである。ポリエ
ポキシドの例は前記ポリオール、特に芳香族ポリオール
およびエピクロヒドリンをベースとするものである。他
の適したポリオールはポリマーおよびコポリマーであっ
てポリマー鎖または側基においてヒドロキシル基を含む
もの、例えばポリビニルアルコールおよびそれらのコポ
リマーまたはヒドロキシアルキルポリメタクリレートま
たはそれらのコポリマーを含む。他の適したポリオール
はヒドロキシル末端基を含むオリゴエステルである。
【００５７】脂肪族および環式脂肪族ポリオールの例は
アルキレンジオールであって、好ましくは２ないし１２
個の炭素原子を有するジオールである、例えばエチレン
グリコール、１，２−または１，３−プロパンジオー
ル、１，２−、１，３−または１，４−ブタンジオー
ル、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、オクタンジ
オール、ドデカンジオール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、好ましくは２００ないし１５０
０の分子量を有するポリエチレングリコール、１，３−
シクロペンタンジオール、１，２−、１，３−または
１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジヒドロキ
シメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリス（β−
ヒドロキシエチル）アミン、トリメチロールエタン、ト
リメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、ジペン
タエリトリトールおよびソルビトールである。
【００５８】ポリオールは１種またはそれ以上の不飽和
カルボン酸によって部分的にまたは完全にエステル化さ
れ得、ここで部分的なエステルにおける自由ヒドロキシ
ル基は変性され得、例えば他のカルボン酸を用いてエー
テル化またはエステル化され得る。
【００５９】エステルの例はトリメロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、テトラメチレン
グリコールジメタクリレート、トリエチレングリコール
ジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ペンタエリトリトールジアクリレート、ペンタ
エリトリトールトリアクリレート、ペンタエリトリトー
ルテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールジアク
リレート、ジペンタエリトリトールトリアクリレート、
ジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタ
エリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリ
トールヘキサアクリレート、トリペンタエリトリトール
オクタアクリレート、ペンタエリトリトールジメタクリ
レート、ペンタエリトリトールトリメタクリレート、ジ
ペンタエリトリトールジメタクリレート、ジペンタエリ
トリトールテトラメタクリレート、トリペンタエリトリ
トールオクタメタクリレート、ペンタエリトリトールジ
イタコネート、ジペンタエリトリトールトリスイタコネ
ート、ジペンタエリトリトールペンタイタコネート、ジ
ペンタエリトリトールヘキサイタコネート、エチレング
リコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジア
クリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジイタコネート、ソルビト
ールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレー
ト、ペンタエリトリトール変性されたトリアクリレー
ト、ソルビトールテトラメタクリレート、ソルビトール
ペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレー
ト、オリゴエステルアクリレートおよびメタクリレー
ト、グリセロールジ−およびトリアクリレート、１，４
−シクロヘキサンジアクリレート、２００ないし１５０
０の分子量を有するポリエチレングリコールのビスアク
リレートおよびビスメタクリレートまたはそれらの混合
物である。
【００６０】さらに適した成分（ａ）は芳香族、環式脂
肪族および脂肪族ポリアミンの同一または異なる不飽和
カルボン酸のアミドであって、好ましくは２ないし６
個、特に２ないし４個のアミノ基を有するものである。
この種のポリアミンの例はエチレンジアミン、１，２−
または１，３−プロピレンジアミン、１，２−、１，３
−または１，４−ブチレンジアミン、１，５−ペンチレ
ンジアミン、１，６−ヘキシレンジアミン、オクチレン
ジアミン、ドデシレンジアミン、１，４−ジアミノシク
ロヘキサン、イソホロンジアミン、フェニレンジアミ
ン、ビスフェニレンジアミン、ジ−β−アミノエチルエ
ーテル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラア
ミン、ジ（β−アミノエトキシ）またはジ（β−アミノ
プロポキシ）エタンである。他の適したポリアミンは側
鎖においてさらなるアミノ基を含み得るポリマーおよび
コポリマー、およびアミノ末端基を含むオリゴアミドで
ある。この種の不飽和アミドの例はメチレンビスアクリ
ルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミ
ド、ジエチレントリアミントリスメタクリルアミド、ビ
ス（メタクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メタク
リルアミドエチルメタクリレート、およびＮ−［（β−
ヒドロキシエトキシ）エチル］アクリルアミドである。
【００６１】適した不飽和ポリエステルおよびポリアミ
ドは、例えば、マレイン酸およびジオールまたはジアミ
ンから誘導される。マレイン酸のいくつかは他のジカル
ボン酸によって置き換えられ得る。それらはエチレン性
不飽和コモノマー、例えばスチレンと共に用いられるこ
とができる。ポリエステルおよびポリアミドはまたジカ
ルボン酸およびエチレン性不飽和ジオールまたはジアミ
ン、特に比較的に長い鎖の化合物であって、例えば６な
いし２０個の炭素原子を含む化合物からも誘導され得
る。ポリウレタンの例は飽和または不飽和ジイソシアナ
ートおよび不飽和または飽和ジオールから製造されたも
のである。他の適した成分（ａ）はアミノ変性されたポ
リエーテルアクリレートであって、それぞれのアクリレ
ートをアミンと部分的に反応させることによって得られ
るものである。
【００６２】ポリブタジエンおよびポリイソプレンおよ
びそれらのコポリマーは知られている。適したコモノマ
ーの例はオレフィン、例えばエチレン、プロペン、ブテ
ン、ヘキセン、（メタ）アクリレート、アクリロニトリ
ル、スチレンおよび塩化ビニルである。側鎖に（メタ）
アクリレート基を含むポリマーもまた知られている。こ
れらは、例えば、ノボラックをベースとしたエポキシ樹
脂と（メタ）アクリル酸との反応の生成物、ビニルアル
コールのホモポリマーまたはコポリマーまたはそれらの
ヒドロキシアルキル誘導体であって（メタ）アクリル酸
を使用してエステル化されたもの、または（メタ）アク
リレートのホモポリマーおよびコポリマーであってヒド
ロキシアルキル（メタ）アクリレートを使用してエステ
ル化されたものである。光重合可能な化合物は単独でま
たはあらゆる所望の混合物において使用され得る。好ま
しいものはポリオール（メタ）アクリレートの混合物で
ある。
【００６３】本発明は特に成分として、（ａ）分子構造
中に少なくとも二つのエチレン性不飽和基および少なく
とも一つのカルボキシル官能基を有するポリマーまたは
オリゴマーと、および（ｂ）光開始剤として次式Ｉ、Ｉ
Ｉ、ＩＩＩおよびＩＶ
【化６２】 ［式中、ａは整数１、２または４を表し、Ａｒはフェニ
ル基、ビフェニル基またはベンゾイルフェニル基であっ
て、未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数１ないし
１２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニ
ル基、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェ
ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、
−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ
8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）2 基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）お
よび−ＮＨＣＯＲ9 の中の１ないし５個によって、もし
くは次式Ｖ
【化６３】 で表される基によって置換された基を表すか、またはＡ
ｒは次式ＶＩまたはＶＩＩ
【化６４】 で表される基を表し、
【００６４】Ａｒ1 はａが１を表す場合、Ａｒと同じ意
味を有し、ａが２を表す場合、Ａｒ1 は次式ＶＩＩＩま
たはＶＩＩＩａ
【化６５】 で表される二価芳香族基を表し、ａが４を表す場合、Ａ
ｒ1 は次式ＶＩＩＩｂ
【化６６】 で表される四価芳香族基を表し、Ａｒ2 は次式
【化６７】 で表される基を表し、これらの基は未置換もしくはハロ
ゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素
原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ない
し６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１ない
し３のアルキル基、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）基、−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ
8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ
2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2
基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）および−ＮＨＣＯＲ9 の中の
１ないし５個によって、もしくは上記で定義された式Ｖ
で表される基によって置換されているか、またはＡｒ2
は次式ＶＩａまたはＶＩＩａ
【化６８】 で表される基を表し、Ｘは直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−ま
たは−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、
【００６５】Ｙは水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基であって、未置換もしくは−ＯＨ、−ＯＲ
6 、−ＣＯＯＲ6 、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ6 ）2 もしくはハ
ロゲン原子の中の１ないし５個によって置換されている
か、もしくは次式Ｉａ
【化６９】 で表される基によって１ないし５回置換された基を表す
か、またはＹは炭素原子数２ないし２０のアルキル基で
あって、１ないし９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ6 ）−、−Ｓ
−、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）
−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−
Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、次式
【化７０】 で表される基によって中断された基を表し、ここで該中
断された炭素原子数２ないし２０のアルキル基はさらに
１ないし５個の−ＳＨによって置換されることができる
か、またはＹはベンジル基であって未置換もしくは−Ｃ
Ｈ2 ＳＨによって１回または２回置換された基を表し、
そして該ベンジル基はさらに炭素原子数１ないし４のア
ルキル基によって置換され得るか、またはＹは上記で定
義されたＡｒ、または次式
【化７１】 で表される基を表すか、またはＹは５ないし７員の脂肪
族または芳香族ヘテロ環であって、１ないし４個のＮ、
Ｏもしくは／およびＳ原子を含む環を表すか、またはＹ
は８ないし１２員の脂肪族または芳香族二環系であっ
て、１ないし６個のＮ、Ｏもしくは／およびＳ原子を含
む環系を表し、ここで該単環式または二環式環はさらに
−ＳＨによって置換されるか、もしくは式Ｉａで表され
る基によって１ないし５回置換されることができるか、
またはＹは次式
【化７２】 で表される基を表し、
【００６６】ｑは１または２を表し、ｒは１、２または
３を表し、ｐは０または１を表し、ｔは１ないし６を表
し、ｕは２または３を表し、Ｒ1 およびＲ2 は互いに独
立して炭素原子数１ないし８のアルキル基であって、未
置換もしくは−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
８のアルキル）基、（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）ＣＯＯ−基もしくは−Ｎ（Ｒ3 ）（Ｒ4 ）によって
置換された基を表すか、またはＲ1 およびＲ2 は互いに
独立して炭素原子数３ないし６のアルケニル基、フェニ
ル基、クロロフェニル基、Ｒ7 −Ｏ−フェニル基、Ｒ8
−Ｓ−フェニル基またはフェニル−炭素原子数１ないし
３のアルキル基を表し、ここで該炭素原子数３ないし６
のアルケニル基、該フェニル基、該クロロフェニル基、
該Ｒ7 Ｏ−フェニル基、該Ｒ8 Ｓ−フェニル基または該
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基は未置換
もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換されている
か、またはＲ1 およびＲ2 は一緒になって直鎖もしくは
枝分れ鎖の炭素原子数２ないし９のアルキレン基、炭素
原子数３ないし９のオキサアルキレン基または炭素原子
数３ないし９のアザアルキレン基を表し、ここで該炭素
原子数２ないし９のアルキレン基、該炭素原子数３ない
し９のオキサアルキレン基または該炭素原子数３ないし
９のアザアルキレン基は未置換もしくは１ないし５個の
−ＳＨによって置換されているか、またはＲ1 およびＲ
2 は互いに独立して次式ＩＸまたはＸ
【化７３】 で表される基を表し、
【００６７】Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、炭素原子数２ないし４のアルキル基であ
って−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４
のアルキル）基によって置換された基を表すか、または
Ｒ3 は炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子
数５ないし１２のシクロアルキル基またはフェニル−炭
素原子数１ないし３のアルキル基を表し、Ｒ4 は炭素原
子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４
のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１な
いし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基によって置換された基
を表すか、またはＲ4 は炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基、
フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、未置換
のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子
数１ないし４のアルキル）基によって置換された基を表
すか、またはＲ4 はＲ2 と一緒になって炭素原子数１な
いし７のアルキレン基、フェニル−炭素原子数１ないし
４のアルキレン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン
基または炭素原子数２ないし３のオキサアルキレン基ま
たは炭素原子数２ないし３のアザアルキレン基を表す
か、またはＲ3 およびＲ4 は一緒になって炭素原子数３
ないし７のアルキレン基であって、−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＣＯ−もしくは−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断されること
ができる基を表し、そして該炭素原子数３ないし７のア
ルキレン基は−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基によって置換されることができ、
【００６８】Ｒ5 は炭素原子数１ないし６のアルキレン
基、キシリレン基、シクロヘキシレン基を表し、ここで
該炭素原子数１ないし６のアルキレン基、該キシリレン
基、該シクロヘキシレン基は未置換もしくは１ないし５
個の−ＳＨによって置換されているか、またはＲ5 は直
接結合を表し、Ｒ6 は水素原子、未置換もしくは−Ｏ
Ｈ、−ＳＨもしくはＨＳ−（ＣＨ2 ）q −ＣＯＯ−置換
された炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
数２ないし１２のアルキル基であって、−Ｏ−、−ＮＨ
−もしくは−Ｓ−によって中断された基を表すか、また
はＲ6 は炭素原子数３ないし５のアルケニル基、フェニ
ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ
2 ＣＮ、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−置換され
た炭素原子数１ないし４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2 ＣＨ
2 −基、未置換もしくはＯＨ−もしくはＳＨ−置換され
た炭素原子数２ないし８のアルカノイル基を表すか、ま
たはＲ6 はベンゾイル基を表し、
【００６９】Ｚは次式
【化７４】 、−Ｎ（Ｒ17）−または−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−Ｎ
（Ｒ17）−で表される二価基を表し、Ｕは直鎖または枝
分れ鎖の炭素原子数１ないし７のアルキレン基を表し、
ＶおよびＷは互いに独立して直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−
または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＶおよびＷは同時に
両方とも直接結合を表さず、ＭはＯ、ＳまたはＮ（Ｒ
6 ）を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を
表すか、またはＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル
基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モ
ルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣ
Ｒ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８の
アルキル）基、−ＣＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のア
ルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）2 基、次式
【化７５】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基もしくは次式
【化７６】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
すか、またはＲ7 は２，３−エポキシプロピル基、−
（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）m Ｈ、未置換のフェニル基、または
フェニル基であってハロゲン原子、炭素原子数１ないし
４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基によって置換された基を表すか、またはＲ7 はフェニ
ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ19、
−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、−Ｃ
ＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＣＯ
Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 基、−Ｓｉ
（Ｒ20）（Ｒ21）2 または−ＳＯ2 Ｒ22を表し、
【００７０】Ｒ8 は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を表すか、また
はＲ8 は炭素原子数１ないし４のアルキル基であって、
Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素原子数１ない
し４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モルホリノ基、
−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣ
Ｈ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣＲ19、−ＣＯＯ
Ｈ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、
−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2 基、次
式
【化７７】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
ル）基もしくは次式
【化７８】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
すか、またはＲ8 は２，３−エポキシプロピル基、フェ
ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニル−
炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基、未置換
のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
子、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）基によってモノ−また
はポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は２−ベンゾ
チアジル基、２−ベンズイミダゾリル基、−ＣＨ2 ＣＨ
2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨまたは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ
−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨを表し、
【００７１】Ｒ9 およびＲ10は互いに独立して水素原
子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
２ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置
換された基を表すか、またはＲ9 およびＲ10は互いに独
立して炭素原子数３ないし５のアルケニル基、シクロヘ
キシル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル
基、未置換のフェニル基、またはフェニル基であって炭
素原子数１ないし１２のアルキル基もしくはハロゲン原
子によってモノ−またはポリ置換された基を表すか、ま
たはＲ9 およびＲ10は一緒になって炭素原子数２ないし
７のアルキレン基であって−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ
（Ｒ18）−によって中断されることができる基を表し、
Ｒ11およびＲ12は互いに独立して直接結合、−ＣＨ2
−、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−また
は−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＲ11およびＲ12は同時に
直接結合を表さず、Ｒ13は水素原子、炭素原子数１ない
し８のアルキル基またはフェニル基を表し、ここで該炭
素原子数１ないし８のアルキル基または該フェニル基は
未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換され
ており、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は互いに独立して水素原
子または未置換もしくはＳＨ−置換された炭素原子数１
ないし４のアルキル基を表し、
【００７２】Ｒ17は水素原子、未置換もしくはＳＨ−置
換された炭素原子数１ないし８のアルキル基または未置
換もしくはＳＨ−置換されたフェニル基を表し、Ｒ18は
直鎖または枝分れ鎖の炭素原子数２ないし１６のアルキ
レン基であって、１ないし６個の−Ｏ−、−Ｓ−もしく
は−Ｎ（Ｒ17）−によって中断されることができるか、
もしくは１ないし５個の−ＳＨ基によって置換されるこ
とができる基を表し、Ｒ19は炭素原子数１ないし４のア
ルキル基、炭素原子数２ないし４のアルケニル基または
フェニル基を表し、Ｒ20およびＲ21は互いに独立して炭
素原子数１ないし４のアルキル基またはフェニル基を表
し、Ｒ22は炭素原子数１ないし１８のアルキル基、フェ
ニル基または炭素原子数１ないし１４のアルキル基によ
って置換されたフェニル基を表し、
【００７３】Ａｒ3 はフェニル基、ナフチル基、フリル
基、チエニル基またはピリジル基を表し、ここで前記基
は未置換もしくはハロゲン原子、−ＳＨ、−ＯＨ、炭素
原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし
４のアルキル基であって−ＯＨ、ハロゲン原子、−Ｓ
Ｈ、−Ｎ（Ｒ17）2 、炭素原子数１ないし１２のアルコ
キシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキ
ル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 もしくは
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された基によって置換されているか、もしくは前
記基は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基であって−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし１８のアルキル）基もしくは−ＣＯ（Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって置換された基によっ
て置換されているか、もしくは前記基は−（ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素
原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェノキシ基、−
ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）基、−Ｃ
Ｏ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、フェニル基もしくは
ベンゾイル基によって置換されており、
【００７４】ｎは１ないし２０を表し、ｍは２ないし２
０を表し、但し基Ａｒ、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、
Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5 またはＹのうちの少なく
とも一つは１ないし５個の−ＳＨ基によって置換されて
いるか、またはＹは少なくとも一つの−ＳＳ−基を含
む。］で表される化合物、または式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩも
しくはＩＶで表される化合物の酸添加塩の少なくとも１
種からなる光重合可能な組成物に関する。
【００７５】分子構造中に少なくとも二つのエチレン性
不飽和基および少なくとも一つのカルボキシル官能基を
有するポリマーまたはオリゴマーとしての成分（ａ）の
例は、酸変性されたエポキシアクリレート（例えば、Ｅ
Ｂ９６９６、ＵＣＢ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ、ＫＡＹＡＲ
ＡＤ ＴＣＲ１０２５、ＮＩＰＰＯＮ ＫＡＹＡＫＵＣ
Ｏ． ＬＴＤ．）およびアクリル化アクリルコポリマー
（例えば、ＡＣＡ２００Ｍ、Ｄａｉｃｅｌ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｌｔｄ．）である。式
Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶで表される好ましい化合物
は上述で示される。
【００７６】希釈剤として、モノ−またはポリ官能エチ
レン性不飽和化合物、またはいくつかの該化合物の混合
物はまた、上述の組成物中に組成物の固形分に基づいて
７０重量％まで含まれることもできる。（ｂ）の含有量
は組成物の固形分に基づいて０．５ないし２０重量％で
ある。本発明に従う組成物にバインダを添加することも
また可能であり、これは光重合可能な化合物が液体また
は粘性物質である場合特に都合が良い。バインダの量は
全体の固体含有量に基づいて例えば５ないし９５重量
％、好ましくは１０ないし９０重量％、また特に４０な
いし９０重量％であり得る。バインダは応用の分野およ
びそのために必要とされる性質、例えば水性および有機
溶媒系における展開の容易さ、物質への接着および酸素
への感度に依存して選択される。
【００７７】適したバインダの例は約５０００ないし２
００００００、好ましくは１００００ないし１００００
００の分子量を有するポリマーである。例はホモ−およ
びコポリマー性アクリレートおよびメタクリレート、例
えばメチルメタクリレート／エチルアクリレート／メタ
クリル酸のコポリマー、ポリ（アルキルメタクリレー
ト）、ポリ（アルキルアクリレート）、セルロースエス
テルおよびセルロースエーテル、例えばセルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、メチルセル
ロースおよびエチルセルロース、ポリビニルブチラル、
ポリビニルホルマル、環化ゴム、ポリエーテル、例えば
ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドおよび
ポリテトラヒドロフラン、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化
ビニル、塩化ビニル／塩化ビニリデンのコポリマー、塩
化ビニリデンとアクリロニトリルとのコポリマー、メチ
ルメタクリレートおよび酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、
コポリ（エチレン／酢酸ビニル）、ポリマー、例えばポ
リカプロラクタムおよびポリ（ヘキサメチレンアジパミ
ド）、およびポリエステル、例えばポリ（エチレングリ
コールテレフタレート）およびポリ（ヘキサメチレング
リコールスクシネート）である。
【００７８】不飽和化合物はまた光重合可能でないフィ
ルム形成成分との混合物において使用され得る。これら
は、例えば、物理的に乾燥するポリマーまたはそれらの
有機溶媒中での溶液、例えばニトロセルロースまたはセ
ルロースアセトブチレートであり得る。しかしながら、
それらはまた化学硬化可能または熱硬化可能な樹脂、例
えば、ポリイソシアナート、ポリエポキシドまたはメラ
ミン樹脂でもあり得る。熱硬化可能な樹脂のさらなる使
用は、いわゆるハイブリッド系であって、第一工程にお
いて光重合されそして第二工程において熱後処理によっ
て架橋される系における使用のために重要である。
【００７９】光重合可能な混合物は光開始剤に加えて様
々な添加剤を含有し得る。それらの例は、熱阻害剤であ
って早期重合を予防するためのもの、例えばヒドロキノ
ン、ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシフェノール、β
−ナフトールまたは２，６−ジ（第三ブチル）−ｐ−ク
レゾールのような立体障害フェノールである。暗所にお
ける保存寿命は、例えば、銅化合物、例えば銅ナフテネ
ート、銅ステアレートまたは銅オクタノエート、リン化
合物、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホス
フィン、トリエチルホスフィット、トリフェニルホスフ
ィットまたはトリベンジルホスフィット、四級アンモニ
ウム化合物、例えばテトラメチルアンモニウムクロライ
ドまたはトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、
またはヒドロキシルアミン誘導体、例えばＮ−ジエチル
ヒドロキシルアミンを使用することによって増大される
ことができる。重合の間の大気酸素を除外するために、
パラフィンまたは同様なワックスのような物質が添加さ
れることができ、これらはポリマー中での低い溶解度の
ために重合の開始に関する表面に移動し、そして空気の
侵入を予防する透明な表面層を形成する。少量において
添加されることができる光安定剤は、ＵＶ吸収剤、例え
ばベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、オキサラニリ
ドまたはヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジン種であ
る。これらの化合物は個々にまたは混合物として、立体
障害アミン（ＨＡＬＳ）を伴ってまたは伴わずに用いら
れることができる。
【００８０】そのようなＵＶ吸収剤および光安定剤の例
は以下のものである。 １．２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ
−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール、２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキ
シ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フ
ェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−
第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ
ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−
ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベン
ゾトリアゾール、２−（３’−第二ブチル−５’−第三
ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三
アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジ
ル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’
−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブ
チル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カル
ボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエ
チル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２
−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリア
ゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−
５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニ
ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニル
エチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’
−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベン
ゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾ
トリアゾリ−２−イルフェノール］、２−［３’−第三
ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−
２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールのポリ
エチレングリコール３００とのエステル交換生成物、式
［Ｒ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＣＯＯ（ＣＨ2 ）3 ］2 −［式
中、Ｒは３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−
２Ｈ−ベンゾトリアゾリ−２−イルフェニル基を表
す。］で表される化合物。
【００８１】２．２−ヒドロキシベンゾフェノン、例え
ば、４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクトキシ、
４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベンジル
オキシ、４，２’，４’−トリヒドロキシおよび２’−
ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導体。
【００８２】３．未置換および置換安息香酸のエステ
ル、例えば、４−第三ブチル−フェニルサリチレート、
フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレー
ト、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチ
ルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノ
ール、２，４−ジ−第三ブチルフェニル−３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシ
ル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ
ート、オクタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−第三
ブチルフェニル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾエート。
【００８３】４．アクリレート、例えば、エチルおよび
イソオクチル−α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリ
レート、メチル−α−カルボメトキシシンナメート、メ
チルおよびブチル−α−シアノ−β−メチル−ｐ−メト
キシシンナメート、メチル−α−カルボエトキシ−ｐ−
メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ
−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００８４】５．立体障害アミン、例えば、ビス（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシ
ネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ
リジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペン
タメチルピペリジル）−ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−ヒド
ロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒ
ドロキシピペリジンおよびコハク酸の縮合生成物、Ｎ，
Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−第三オクチ
ルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリア
ジンの縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テト
ラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−１，２，３，４−ブタンテトラオエート、１，
１’−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５
−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリル
オキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビ
ス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−
２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−
第三ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−
７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ
−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１
−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−
ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンおよび４−モルホ
リノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮
合生成物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチル
アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−
１，３，５−トリアジンおよび１，２−ビス（３−アミ
ノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−
４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，
６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリ
アジンおよび１，２−ビス（３−アミノプロピルアミ
ノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル
−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリア
ザ−スピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ド
デシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピ
ペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル
−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）ピロリジン−２，５−ジオン。
【００８５】６．オキサミド、例えば、４，４’−ジオ
クチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキ
サニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ
−第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジドデシルオキ
シ−５，５’−ジ−第三ブチルオキサニリド、２−エト
キシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３
−ジメチルアミノプロピル）オキルアミド、２−エトキ
シ−５−第三ブチル−２’−エチルオキサニリド、およ
びその２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−第
三ブチルオキサニリドとの混合物、およびｏ−並びにｐ
−メトキシおよびｏ−並びにｐ−エトキシ−二置換オキ
サニリドの混合物。
【００８６】７．２−（２−ヒドロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス
（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキ
シフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−
オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチル
フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒド
ロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス
（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジ
ン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３
−ブチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシ−プロピルオキシ）フェニル］
−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，
３，５−トリアジンおよび２−［４−ドデシル／トリデ
シルオキシ（２−ヒドロキシプロピル）オキシ−２−ヒ
ドロキシ−フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチ
ルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００８７】８．ホスフィットおよびホスホナイト、例
えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキル
ホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリ
ス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリ
ルペンタエリトリチルジホスフィット、トリス（２，４
−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシ
ルペンタエリトリチルジホスフィット、ビス（２，４−
ジ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホスフ
ィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフ
ェニル）ペンタエリトリチルジホスフィット、ビスイソ
デシルオキシ−ペンタエリトリチルジホスフィット、ビ
ス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）ペ
ンタエリトリチルジホスフィット、ビス（２，４，６−
トリ−第三ブチルフェニル）ペンタエリトリチルジホス
フィット、トリステアリルソルビチルトリホスフィッ
ト、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）−
４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオク
チルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−
１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホ
スホシン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−
第三ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，
３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第三
ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィットおよ
びビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニ
ル）エチルホスフィット。
【００８８】光重合を促進するために、アミン、例えば
トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミ
ン、エチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエートまたはミ
ヒラーケトンを添加することが可能である。アミンの作
用はベンゾフェノン種の芳香族ケトンの添加によって強
められることができる。酸素捕捉剤として使用されるこ
とができるアミンの例は、ＥＰ−Ａ−３３９８４１にお
いて記載されたような置換されたＮ，Ｎ−ジアルキルア
ニリンである。光重合はまた、スペクトル感度をシフト
またはブロード化する光増感剤または補助開始剤の添加
によって促進されることもできる。特にこれらは芳香族
カルボニル化合物、例えばベンゾフェノン誘導体、チオ
キサントン誘導体、アントラキノン誘導体およびケトク
マリン誘導体、特に３−ケトクマリン誘導体および３−
（アロイルメチレン）チアゾリン、およびエオシン、ロ
ーダニンおよびエリトロシン染料である。
【００８９】従って発明はまた成分（ａ）および（ｂ）
に加えて少なくとも１種の補助開始剤（ｃ）からなる光
重合可能な組成物に関する。補助開始剤は好ましくはチ
オキサントンまたはケトクマリン、特に３−ケトクマリ
ン化合物である。本発明に従う組成物中の成分（ｃ）の
量は、組成物の固形分に基づいて０．０１ないし１０重
量％、好ましくは０．０５ないし５．０重量％である。
硬化過程は特に、例えばＴｉＯ2 を用いて着色された組
成物によって、また熱条件下で遊離ラジカルを形成する
成分、例えば２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，
４−ジメチルバレロニトリル）のようなアゾ化合物また
はヒドロペルオキシドまたはペルオキシカーボネートの
ようなペルオキシ化合物、例えばＥＰ−Ａ−２４５６３
９において記載されるようなｔ−ブチルヒドロペルオキ
シドの添加によっても補助される得る。
【００９０】本発明に従う組成物はまた光還元可能な染
料、例えばキサンテン、ベンゾキサンテン、ベンゾチオ
キサンテン、チアジン、ピロニン、ポルフィリンまたは
アクリジン染料、および／または照射によって開裂され
ることができるチオハロメチル化合物を含有し得る。同
様な組成物は、例えば、ＥＰ−Ａ−４４５６２４におい
て記載される。他の慣用の添加剤は、用途に依存して、
光沢剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤または均染助剤で
ある。厚くかつ着色された被覆は、例えばＵＳ−Ａ−５
０１３７６８において記載されたようなガラスマイクロ
ビーズまたは粉末化されたガラス繊維の添加によって、
適当に硬化されることができる。
【００９１】本発明はまた成分（ａ）として少なくとも
１種のエチレン性不飽和光重合可能な化合物であって水
中に乳化または溶解された化合物からなる組成物にも関
する。この種の放射線硬化可能な水性プレポリマー分散
液は様々に市販で入手可能である。この用語は、水およ
びその中に分散された少なくとも１種のプレポリマーの
分散液を意味するとみなされる。これらの系における水
の濃度は、例えば、５ないし８０重量％、特に３０ない
し６０重量％である。放射線硬化可能なプレポリマーま
たはプレポリマー混合物は、例えば、９５ないし２０重
量％、特に７０ないし４０重量％の濃度で存在する。こ
れらの組成物において水およびプレポリマーについて示
された百分率の合計は、それぞれの場合において１００
であり、該組成物は助剤および添加剤が様々な量で用途
に依存して添加される。
【００９２】放射線硬化可能な水−分散されたフィルム
形成プレポリマーであって、しばしば溶解されもするも
のは、プレポリマー水性分散液について、モノ官能また
はポリ官能エチレン性不飽和プレポリマーであって、そ
れ自体は遊離ラジカルによって開始されることができか
つ、例えば、プレポリマー１００ｇあたり重合可能な二
重結合０．０１ないし１．０ｍｏｌを含み、かつ例えば
少なくとも４００、特に５００ないし１００００の平均
分子量を有するものである。しかしながら、意図される
用途に依存して、より高い分子量を有するプレポリマー
が適し得る。例えば、重合可能なＣ−Ｃ二重結合を含み
かつ１０の最大酸数（ａｃｉｄ ｎｕｍｂｅｒ）を有す
るポリエステル、重合可能なＣ−Ｃ二重結合を含むポリ
エーテル、分子あたり少なくとも二つのエポキシド基を
含むポリエポキシドと少なくとも１種のα，β−エチレ
ン性不飽和カルボン酸とのヒドキシル基を含む反応生成
物、ポリウレタン（メタ）アクリレートおよびアクリル
基を含むα，β−エチレン性不飽和アクリルコポリマー
であって、ＥＰ−Ａ−１２３３９において記載されたも
のが使用される。これらのプレポリマーの混合物もまた
使用され得る。また適しているのはＥＰ−Ａ−３３８９
６において記載された重合可能なプレポリマーであっ
て、少なくとも６００の平均分子量、０．２ないし１５
％のカルボキシル基含有量およびプレポリマー１００ｇ
あたり重合可能なＣ−Ｃ二重結合０．０１ないし０．８
ｍｏｌの含有量を有する重合可能なプレポリマーのチオ
エーテルアダクトである。特定のアルキル（メタ）アク
リレートポリマーをベースとする他の適した水性分散液
は、ＥＰ−Ａ−４１１２５において記載されており、ま
たウレタンアクリレートから製造された水分散可能な放
射線硬化可能なプレポリマーはＤＥ−Ａ−２９３６０３
９において開示されている。
【００９３】これらの放射線硬化可能な水性プレポリマ
ー分散液は、さらなる添加剤として、分散助剤、乳化
剤、酸化防止剤、光安定剤、染料、顔料、充填剤、例え
ばタルク、セッコウ、シリカ、ルチル、カーボンブラッ
ク、酸化亜鉛および酸化鉄、反応促進剤、均染剤、潤滑
剤、湿潤剤、増粘剤、艶消剤、消泡剤および表面塗布技
術において慣用である他の補助剤を含有し得る。適した
分散助剤は極性基を含む水溶性高分子有機化合物、例え
ばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンおよび
セルロースエーテルである。使用されることができる乳
化剤は非イオン性乳化剤およびもしかするとイオン性乳
化剤である。本発明の目的物質はまた成分（ａ）および
（ｂ）に加えて少なくとも１種のさらなる光開始剤
（ｄ）および／または他の添加剤からなる組成物であ
る。
【００９４】ある場合において、本発明に従う２種また
はそれ以上の光開始剤の混合物を使用することが有利で
あり得る。既知の光開始剤との混合物、例えばベンゾフ
ェノン、アセトフェノン誘導体、例えばα−ヒドロキシ
シクロアルキルフェニルケトン、ジアルコキシアセトフ
ェノン、α−ヒドロキシ−または他のα−アミノアセト
フェノン、４−アロイル−１，３−ジオキソラン、ベン
ゾインアルキルエーテルおよびベンジルケタール、モノ
アシルホスホシンオキシド、ビスアシルホスフィンオキ
シド、キサントン、チオキサントン、アントラキノンま
たはチタノセンとの混合物を使用することももちろん可
能である。本発明に記載の光開始剤がハイブリッド系に
おいて用いられるとき、カチオン性光開始剤、例えば芳
香族スルホニウムまたはイドニウム塩またはシクロペン
タジエニルアレーン鉄（ＩＩ）錯体塩は、本発明に従う
遊離ラジカル硬化剤に加えて使用される。
【００９５】本発明は、さらに成分（ａ）および（ｂ）
に加えて、少なくとも１種の染料−ボレート化合物およ
び／またはホウ酸塩および所望によりオニウム化合物か
らなる組成物に関する。適した染料−ボレート化合物
は、例えばＵＳ ４７５１１０２、ＵＳ ５０５７３９
３、ＵＳ ５１５１５２０において開示される。ホウ酸
塩と染料−ボレートの組み合わせは、例えばＵＳ ５１
７６９８４において記載されている。これらの混合物に
おいて適したオニウム塩は、例えば、ジフェニルヨード
ニウンムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−オクチル
オキシフェニル）（フェニル）ヨードニウムヘキサフル
オロホスフェート、またはこれらの化合物の対応する他
のアニオン、例えばハライド、およびスルホニウム塩、
例えばトリアリ−ルスルホニウム塩（Ｕｎｉｏｎ Ｃａ
ｒｂｉｄｅからのＣｙｒａｃｕｒｅR ＵＶＩ６９９
０、ＣｙｒａｃｕｒｅR ＵＶＩ６９７４、Ｄｅｇｕｓｓ
ａからのＤｅｇａｃｕｒｅR ＫＩ８５またはＡｓａｈ
ｉ ＤｅｎｋａからのＳＰ−１５０およびＳＰ−１７
０）である。
【００９６】光重合可能な組成物は、光開始剤または光
開始剤混合物（ｂ）を組成物に基づいて０．０５ないし
１５重量％、好ましくは０．１ないし５重量％の量で有
利に含有する。または、さらなる成分（ｄ）が存在する
場合、成分（ｂ）および（ｄ）の量の和は、組成物に基
づいて有利に０．０５ないし１５重量％、好ましくは
０．１ないし５重量％である。
【００９７】光重合可能な組成物は様々な目的、例えば
印刷インクとして、ワニスまたは透明被覆として、例え
ば木材はまたは金属のための白色塗料として、なかんず
く紙、木材、金属またはプラスチックのための被覆物質
として、建築物および道路マーキングのための日光硬化
可能な被覆として、写真再生方法のために、ホログラフ
記録材料のために、画像記録方法のためにまたは印刷版
であって有機溶媒または水性アルカリ媒体を使用して現
像されることができる版の製造のために、スクリーン印
刷のためのマスクの製造のために、歯科用充填材料とし
て、接着剤として、感圧接着剤として、積層用樹脂とし
て、エッチレジストまたはパーマネントレジストとして
および電子回路のためのハンダマスクとして、バルク硬
化（透明金型におけるＵＶ硬化）による、または例えば
ＵＳ ４５７５３３０において記載されたような立体リ
ソグラフ方法による三次元物体の製造のために、複合材
料（例えばスチレン性ポリエステルであって、ガラス繊
維および他の助剤を含み得るもの）および他の厚肉層組
成物の製造のために、電子部品の被覆またはカプセル封
入のためにまたは光ファイバーの被覆として使用される
ことができる。本発明に記載の化合物はまた乳化重合の
ための開始剤として、液晶モノ−およびオリゴマーの定
序状態（ｏｒｄｅｒｅｄ ｓｔａｔｅ）の固定のための
重合の開始剤として、有機材料への染料の固定のため
の、および粉体塗料硬化のための開始剤としても使用さ
れ得る。
【００９８】被覆材料において、しばしば使用されるプ
レポリマーとポリ不飽和モノマーとの混合物はモノ不飽
和モノマーをも含む。ここでプレポリマーは被覆フィル
ムの性質の第一の原因となり、そしてそれらの変更は当
業者に硬化されたフィルムの性質に影響を与えることを
可能にする。ポリ不飽和モノマーは、被覆フィルムを不
溶にする架橋剤として作用する。モノ不飽和モノマー
は、溶媒を使用する必要なしに粘度を減ずる反応希釈剤
として作用する。不飽和ポリエステル樹脂は、ほとんど
２成分系においてモノ不飽和モノマー、好ましくはスチ
レンと同時に使用される。フォトレジストのための、特
定の１成分系、例えばＤＥ−Ａ−２３０８８３０におい
て記載されるようなポリマレイミド、ポリカルコンまた
はポリイミドがしばしば用いられる。
【００９９】本発明に従う化合物およびその混合物はま
た、放射線硬化可能な粉体塗料のための遊離ラジカル光
開始剤または光開始系としても使用され得る。粉体塗料
はソリッド樹脂および反応二重結合を含むモノマー、例
えばマレエート、ビニルエーテル、アクリレート、アク
リルアミドおよびそれらの混合物をベースとし得る。遊
離ラジカル性ＵＶ硬化可能な粉体塗料は、例えば文献”
ＲａｄｉａｔｉｏｎＣｕｒｉｎｇ ｏｆ Ｐｏｗｄｅｒ
Ｃｏａｔｉｎｇ”、ＣｏｎｆｅｒｅｎｃｅＰｒｏｃｅ
ｅｄｉｎｇｓ、Ｒａｄｔｅｃｈ Ｅｕｒｏｐｅ １９９
３、Ｍ．ＷｉｔｔｉｇおよびＴｈ． Ｇｏｈｍａｎｎに
おいて記載されたような、不飽和ポリエステル樹脂を固
形アクリルアミド（例えばメチルメタクリルアミドグリ
コレート）と、および本発明に従う遊離ラジカル光開始
剤と混合することによって配合されることができる。同
様に、遊離ラジカル性ＵＶ硬化可能な粉体塗料は、不飽
和ポリエステル樹脂を固体アクリレート、メタクリレー
トまたはビニルエーテルと、および本発明に従う光開始
剤（または光開始剤の混合物）と混合することによって
配合されることができる。粉体塗料はまた例えばＤＥ−
Ａ−４２２８５１４またはＥＰ−Ａ−６３６６６９にお
いて記載されるようなバインダをも含有し得る。ＵＶ硬
化可能な粉体塗料はまた白色または着色顔料をも含み得
る。従って、例えば、好ましくルチル型二酸化チタン
は、良い被覆力を有する硬化された粉体塗料を与えるた
めに５０重量％までの濃度で用いられることができる。
方法は通常、支持体、例えば金属または木材への粉末の
静電または摩擦電気噴霧と、滑らかなフィルムを形成し
た後の加熱による粉末の融解と、紫外線および／または
可視光、例えば中圧水銀灯、金属ハライドランプまたは
キセノンランプを使用する被覆の放射線硬化からなる。
熱硬化可能なものを超える放射線硬化可能な粉体塗料の
特別な利点は、粉体粒子の融解後の流れ時間が、滑らか
で高光沢な被覆の形成を確実にするために選択的に延長
されることができることである。熱硬化可能な系に比較
して、放射線硬化可能な粉体塗料は、それらが比較的に
低い温度で融解するために、それらの寿命における減少
の望ましくない効果無しで配合されることができる。こ
の理由のために、それらはまた木材またはプラスチック
のような感熱性支持体のためのコーティングとしても適
している。
【０１００】本発明に従う光開始剤に加えて、粉体塗料
配合物はまたＵＶ吸収剤をも含有し得る。適した例は上
述の項目１ないし８以下に列挙された。本発明に従う光
硬化可能な組成物は、例えば、全ての種類の支持体、例
えば木材、織物、紙、セラミック、ガラス、ポリエステ
ル、ポリエチレンテレフタレート、ポリオレフィンまた
はセルロースアセテートのようなプラスチックであって
特にフィルムの形態のもの、およびＡｌ、Ｃｕ、Ｎｉ、
Ｆｅ、Ｚｎ、ＭｇまたはＣｏおよびＧａＡｓ、Ｓｉまた
はＳｉＯ2 のような金属であって、その上に保護被覆た
は画像形成暴露による画像を適用することが望まれるも
のが適している。
【０１０１】支持体は、支持体に液体組成物、溶液また
は懸濁液を適用することによって被覆されることができ
る。溶媒および濃度の選択は組成物および塗布方法の種
類に主に依存する。溶媒は不活性であるべきであり、言
い換えると成分とあらゆる反応を行わないべきであり、
また塗布操作後に、乾燥過程において再び除去されるこ
とが可能であるべきである。適した溶媒の例はケトン、
エーテルおよびエステル、例えばメチルエチルケトン、
イソブチルメチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘ
キサノン、Ｎ−メチルピロリドン、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、２−メトキシエタノール、２−エトキシ
エタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、１，２
−ジメトキシエタン、酢酸エチル、ｎ−ブチルアセテー
トおよびエチル−３−エトキシプロピオネートである。
既知の塗布方法を使用して、溶液は支持体に、例えばス
ピンコーティング、浸漬コーティング、ナイフコーティ
ング、カーテンコーティング、はけ塗り、噴霧、特に静
電噴霧、およびリバースロール塗布によって均一に適用
される。一時的に柔軟な支持体に感光層を適用し、そし
てその後最終支持体に塗布することも可能であり、例え
ば積層を経由する層転写の手段による、銅−積層回路板
である。
【０１０２】適用される量（層厚）および支持体の性質
（層支持体）は望ましい適用の作用である。コート厚の
範囲は一般に約０．１μｍないし１００μｍ以上の値か
らなる。本発明に従う感放射線性組成物は、とても高い
感光性を有しかつ水性アルカリ媒体中で膨潤無しで現像
されることができるネガレジストとしての適用を見出
す。それらはエレクトロニクス（ガルバノレジスト、エ
ッチレジストおよびハンダレジスト）、オフセット印刷
版またはスクリーン印刷フォームのような印刷版の製造
のためのフォトレジストとして適しており、そして蝕刻
のために、または集積回路の製造におけるマイクロレジ
ストとして使用されることができる。可能な層支持体お
よび塗布された支持体のための加工条件において対応す
る広い範囲の多様性が存在する。
【０１０３】本発明に従う化合物はまた、画像記録また
は画像複写（コピー、リソグラフ）のための一−または
多層材料であって、単色または多色で有り得るものの製
造のための適用を見出す。さらに材料は着色防止系のた
めに適している。この技術において、マイクロカプセル
を含有する配合物が適用されることができ、そして画像
製造のために放射線硬化に続いて熱処理を行うことがで
きる。そのような系および技術およびそれらの適用は、
例えばＵＳ ５３７６４５９において開示される。
【０１０４】写真情報記録のための層支持体の例は、ポ
リエステル、セルロースアセテートまたはプラスチック
被覆された紙、オフセット印刷版のためには、特に処理
されたアルミニウム、印刷回路の製造のためには、銅表
面積層板、および集積回路の製造のためには、シリコン
ウエハから製造されたフィルムである。写真材料および
オフセット印刷版のための層厚は、一般に約０．５μｍ
ないし１０μｍであり、一方印刷回路のためには１．０
μｍないし約１００μｍである。
【０１０５】支持体の塗布に続いて、溶媒は一般に支持
体上のフォトレジストの層をそのままにする乾燥によっ
て除去される。用語”画像形成暴露”は、所定の模様を
含むフォトマスク、例えばスライドを通した暴露、例え
ば塗布された表面上に画像を生成する、コンピュータか
らの制御下で移動されるレーザービームによる暴露、お
よびコンピュータ−制御された電子線を用いた照射の全
てに関する。材料の画像形成暴露に続いてかつ現像の前
に、暴露された部分のみが熱硬化される場合、わずかな
熱処理を行うことは有利であり得る。用いられる温度は
一般に５０ないし１５０℃、また好ましくは８０ないし
１３０℃であり、熱処理の期間は一般に０．２５ないし
１０分の間である。
【０１０６】光硬化可能な組成物はまた、例えば、ＤＥ
−Ａ−４０１３３５８において記載されるような印刷版
またはフォトレジストの製造のための方法において使用
されることもできる。この方法において組成物は、画像
形成照射の前、間および後に暴露され、該暴露は短時間
可視光を用いて少なくとも４００ｎｍの波長でマスクを
用いずに行われる。暴露および所望による熱処理に引き
続いて、フォトレジストの暴露されていない区域は、現
像液を使用してそれ自体は既知の方法において除去され
る。
【０１０７】既に述べられたように、本発明に従う組成
物は水性アルカリ媒体によって現像されることができ
る。適した水性アルカリ現像溶液は、特に、テトラアル
キルアンモニウムヒドロキシドまたはアルカリ金属シリ
ケートの水溶液、ホスフェート、ヒドロキシドおよびカ
ーボネートである。湿潤剤および／または有機溶媒の比
較的に少量は、所望に、これらの溶液に添加されること
ができる。少量で現像液に添加され得る代表的な有機溶
媒の例はシクロヘキサノン、２−エトキシエタノール、
トルエン、アセトンおよびそのような溶媒の混合物であ
る。
【０１０８】光硬化には印刷インクのための相当な重要
性が存在する、なぜならばバインダの乾燥時間はグラフ
ィック生成物の製造速度についての決定的な因子であ
り、そして秒の単位であるべきであるからである。ＵＶ
−硬化可能なインクは、特に、スクリーン印刷のために
重要である。従って本発明の目的はまた、上述されたよ
うな組成物および顔料または染料および所望により安定
剤、好ましくはチオキサントンまたはその誘導体からな
る印刷インクである。
【０１０９】本発明に従う印刷インクは顔料または染料
を含有する。適した顔料または染料は当業者に知られて
いる。顔料は、例えば、無機顔料、例えば二酸化チタン
（ルチルまたはアナターゼ）、鉄黄、鉄赤、クローム
黄、クローム緑、ニッケル−チタニウム黄、ウルトラマ
リン青、コバルト青、カドミウム黄、カドミウム赤また
は亜鉛白である。または顔料は、例えば、有機顔料、例
えばモノアゾまたはビスアゾ顔料またはそれらの金属錯
体、フタロシアニン顔料または多環式顔料、例えばペリ
レン、チオインジゴ、フラバントロン、キナクリドン、
テトラクロロイソインドリンまたはトリフェニルメンタ
ン顔料である。または顔料はカーボンブラックまたは金
属粉末、例えばアルミニウムまたは銅粉末、または印刷
技術において有用であると知られている、あらゆる他の
顔料である。用いられる顔料は１種またはそれ以上の顔
料の混合物、例えば特別な色合いを達成するために慣用
である化合物であり得る。顔料または顔料混合物は印刷
インク技術において慣用な量、例えば全組成物に基づい
て、５ないし６０重量％の量で存在し、好ましくは１０
ないし３０重量％の顔料が印刷インク中に存在する。適
した染料は、例えば、とても広い種類の多様性、例えば
アゾ染料、メチン染料、アントラキノン染料または金属
錯体染料に属する。使用される濃度において、これらの
染料は特別なバインダ中に溶解する。慣用の濃度は、例
えば、全組成物に基づいて０．１ないし２０重量％、好
ましくは１ないし５重量％である。
【０１１０】既に述べられたように、本発明に記載の混
合物はまた、印刷版の製造のために非常に適しており、
ここで例えば混合物、溶解性直鎖ポリアミドまたはスチ
レン／ブタジエンまたはスチレン／イソプレンゴム、カ
ルボキシル基を含むポリアクリレートまたはポリメチル
メタクリレート、ポリビニルアルコールまたはウレタン
アクリレートは、光重合可能なモノマー、例えばアクリ
ルアミド、メタクリルアミド、アクリレートまたはメタ
クリレート、および光開始剤と共に使用される。これら
の系（湿式または乾式）から製造されたフィルムおよび
版は、印刷原型のネガ（またはポジ）を通して暴露さ
れ、そして硬化されていない部分は引き続いて適した溶
媒を使用して洗浄される。
【０１１１】光硬化についての用途のさらなる分野は金
属の被覆、例えば金属シートおよび管、カンまたはボト
ルキャップの被覆において、およびプラスチック被覆の
光硬化、例えばＰＶＣ−ベースの壁または床被覆であ
る。紙被覆の光硬化の例はラベル、記録シートまたはブ
ックカバーの無色被覆である。
【０１１２】本発明に従う化合物の複合組成物から製造
された成形品を硬化するための使用は同様に興味深い。
複合組成物は自己−支持マトリックス材料、例えばガラ
ス繊維織物、または、例えば植物繊維［Ｋｕｎｓｔｓｔ
ｏｆｆｅ ８５（１９９５）、３６６ないし３７０にお
けるＫ． Ｐ． ＭｉｅｃｋおよびＴ．Ｒｅｕｓｓｍａ
ｎｎ参照］であって、光硬化配合物を含んだものから製
造される。複合組成物から本発明に従う化合物を使用し
て製造される成形品は、高い機械的安定性および耐性を
有する。本発明に従う化合物はまた光硬化剤として、例
えば、ＥＰ−Ａ−７０８６において記載されるような成
形、含浸および塗布組成物において用いられることもで
きる。そのような組成物の例はファインコーティング樹
脂であってそれらの硬化作用および黄変耐性に関して切
迫した必要が存在するもの、または平面のまたは長軸方
向にまたは横切る方向に波形に成形された光拡散パネル
のような繊維強化成形品である。そのような成形品の製
造のための方法、例えばハンドレイアップ、スプレイレ
イアップ、遠心またはフィラメントワインド法は、例え
ばＰ． Ｈ． Ｓｅｌｄｅｎによって”Ｇｌａｓｆａｓ
ｅｒｖｅｒｓｔａｒｋｔｅ Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆｅ”
［ガラス繊維−強化プラスチック］、頁６１０、Ｓｐｒ
ｉｎｇｅｒ Ｖｅｒｌａｇ Ｂｅｒｌｉｎ−Ｈｅｉｄｅ
ｌｂｅｒｇ−Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ １９６７において記載
される。この方法によって製造されることができるもの
使用のための成形品の例はボート、両面がガラス繊維−
強化プラスチックを用いて被覆されたチップボードまた
は合板パネル、パイプ、容器等である。成形、浸漬およ
び塗布組成物の他の例はガラス繊維を含む成形品のため
のＵＰ樹脂ファインコーティング（ＧＲＰ）、例えば波
形に成形されたシートおよび紙積層板である。紙積層板
はまた尿素またはメラミン樹脂をもベースとされ得る。
ファインコーティングは支持体（例えばフィルム）上に
ラミネートの製造の前に製造される。本発明に従う光硬
化可能な組成物はまた、樹脂を注型するためにまたは電
子部品等のような物体をカプセル封入するためにも使用
されることができる。硬化はＵＶ硬化において慣用的で
ある中圧水銀ランプを用いる。しかしながら、例えばＴ
Ｌ４０Ｗ／０３またはＴＬ４０Ｗ／０５型のような、よ
り強度の小さいランプもまた特に興味深い。これらのラ
ンプの強度はほぼ日光の強度に相当する。直射日光もま
た硬化のために使用されることができる。さらなる利点
は、複合組成物は部分硬化されたプラスチック状態にお
いて光源から取り除かれることができ、そして変形され
ることができることである。硬化は引き続いて完全に行
われる。
【０１１３】本発明に従う組成物および化合物は、導波
管および光スイッチであって、照射されたおよび照射さ
れていない範囲の間の屈折率における差異の発生が利点
であるもののために使用されることができる。また重要
なものは光硬化可能な組成物のイメージング方法のため
のおよび情報キャリヤーの光学製造のための使用であ
る。これらの応用において、支持体に適用された被覆
（湿式または乾式）は、既に上述されたように、ＵＶま
たは可視光を用いてフォトマスクを通して照射され、そ
して被覆の照射されない範囲は溶媒（＝現像液）を用い
た処理によって除去される。光硬化可能な層はまた電着
によって金属に適用されることもできる。暴露された区
域は架橋され／ポリマー性であり、そして従って不溶化
し、そして支持体上に残る。適した着色が行われる場
合、目に見える像が形成される。支持体が金属化された
層の場合、その後金属は暴露されていない区域からエッ
チングによって暴露および現像後除去されることができ
るか、または電気メッキによって厚さを増すことができ
る。この方法において、印刷電子回路およびフォトレジ
ストは製造されることができる。
【０１１４】本発明に従う組成物の感光性は、一般にＵ
Ｖ領域（約２００ｎｍ）から約６００ｎｍにまで広がっ
ており、そして従ってとても広い範囲にわたっている。
適した放射は、例えば、日光または人工源からの光から
なる。従って、多くの非常に異なる種類の光源が使用さ
れることができる。点光源および平面放射（ランプカー
ペット）の双方が適している。例は、カーボンアークラ
ンプ、キセノンアークランプ、中圧、高圧および低圧水
銀ランプであって、所望に金属ハライドを用いてドープ
されたもの（金属ハロゲンランプ）、マイクロ波誘導金
属蒸気ランプ、エキシマーランプ、超活性蛍光管、蛍光
ランプ、白熱アルゴンランプ、電子フラッシュライトま
たは写真投光ランプである。また放射の他の種類は、例
えば電子線およびＸ線であって、シンクロトロンによっ
て生成されるもの、またはレーザープラズマが適してい
る。本発明にしたがうランプと暴露される支持体との間
の距離は、用途およびランプの種類および／または出力
に基づいて変化することができ、例えば２ｃｍないし１
５０ｃｍである。特に適しているものはレーザー光であ
って、例えばエキシマーレーザー、例えば２４８ｎｍで
の照射のためのクリプトンＦレーザーである。可視範囲
におけるレーザーもまた用いられ得る。この場合におい
て、本発明に従う材料の高い感受性は非常に有利であ
る。この方法によって電子産業における印刷回路、リソ
グラフオフセット印刷版またはレリーフ印刷版、および
写真画像記録材料を製造することが可能である。
【０１１５】本発明は同様に、式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよ
びＩＶで表される化合物の複合組成物から製造される成
形品の硬化のための使用、および式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩお
よびＩＶで表される上述で定義された化合物を使用する
複合組成物から製造された成形品の硬化の方法に関す
る。
【０１１６】本発明はまた、本発明に従う組成物の着色
および非着色塗料およびワニスの製造のための、透明お
よび着色水性分散液、粉体塗料、印刷インク、印刷版、
接着剤、歯科用充填組成物、導波管、光スイッチ、着色
防止系、ガラス繊維ケーブル被覆物、スクリーン印刷ス
テンシル、レジスト材料、複合組成物のための、写真再
生のための、スクリーン印刷のためのマスクを製造する
ための、印刷電子回路のためのフォトレジストのため
の、電気および電子部品をカプセル封入するための、磁
気記録材料を製造するための、立体リソグラフまたはバ
ルク硬化によって三次元物体を製造するための、および
画像記録材料として、とくにホログラフ記録のための使
用にも関する。
【０１１７】本発明はさらに少なくとも一つのエチレン
性不飽和二重結合を含むモノマー性、オリゴマー性およ
びポリマー性非揮発性化合物の光重合のための方法であ
って、該化合物に式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたはＩＶで表さ
れる化合物を添加することと、および２００ないし６０
０ｎｍの波長範囲を有する光線により生じた組成物を照
射することとからなる方法に関する。
【０１１８】本発明に従って、この方法はまた被覆物
質、特に木材被覆および金属被覆のための白色塗料、ま
たは透明被覆材料の製造のために、日光硬化可能な建築
被覆および道路マーキングのための被覆材料の製造のた
めに、複合材料の製造のために、印刷版の製造のため
に、スクリーン印刷のためのマスクの製造のために、印
刷電子回路のためのフォトレジストの製造のために、接
着剤の製造のために、光ファイバーのための被覆の製造
のために、電子部品のコーティングまたはカプセル封入
の製造のために、およびバルク硬化または立体リソグラ
フの方法においても使用される。
【０１１９】発明は同様に、被覆支持体であって少なく
とも一つの表面が上述された硬化された組成物で被覆さ
れたもの、およびレリーフ像の写真製造のための方法で
あって、被覆支持体に画像形成暴露を受けさせ、そして
その後暴露されていない区域を溶媒を用いて除去する
か、または被覆支持体を移動可能なレーザービームによ
って（マスク無しで）暴露し、そしてその後暴露されて
いない区域を溶媒を用いて除去する方法に関する。
【０１２０】本発明に従う化合物は重合される混合物中
にとても容易に溶解されることができ、またとても低い
揮発性のみを示す。それらは、特にハンダマスクにおけ
る開始剤として良い感受性を示し、また本発明に従う化
合物を使用して硬化された組成物の十分な黄変値が達成
される。
【０１２１】
【発明の実施の形態】以下の実施例はさらに本発明を説
明する。残余の記載および特許請求項において、他に示
されない限り、部および百分率は重量部および重量百分
率である。３個以上の炭素原子を有するアルキル基の名
称において、特定の異性体は示されておらず、これらの
基はそれぞれｎ−異性体である。
【０１２２】実施例１ １−［４−（３−メルカプトプ
ロピルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリン
−４−イル−プロパノ−１−オン １ａ （４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチル−
２−メトキシオキシラン （ＥＰ−Ａ−３００２において記載されるように）１−
（４−フルオロフェニル）−２−メチルプロパノ−１−
オンを臭素化することによって製造された、２−ブロモ
−１−（４−フルオロフェニル）−２−メチルプロパノ
−１−オン１００．３２ｇ（０．４１ｍｏｌ）を、無水
エタノール８０ｍｌ中に溶解し、そして無水メタノール
６０ｍｌおよびクロロベンゼン１２０ｍｌの溶媒混合物
中のナトリウムメトキシド２４．３ｇ（０．４５ｍｏ
ｌ）を２０℃で滴下添加する。メタノールをその後蒸留
除去し、そしてクロロベンゼン溶液を濃縮する。液体粗
生成物（９０．８ｇ）を６０℃および０．２ｍｍＨｇで
の蒸留によってさらに生成する。 １ｂ １−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２
−モルホリン−４−イル−プロパノ−１−オン （４−フルオロフェニル）−３，３−ジメチル−２−メ
トキシオキシラン６９．３ｇ（０．３５ｍｏｌ）および
無水モルホリン２００ｍｌを混合し、そして還流温度
（約１３０℃）に加熱する。２６時間後、未反応過剰モ
ルホリンを蒸留除去する。残渣をトルエン中に取り入
れ、そして水および飽和塩化ナトリウム溶液を用いて引
き続いて洗浄する。トルエン溶液をＭｇＳＯ4 を用いて
乾燥し、そして濃縮する。残渣８８．１ｇをエタノール
から結晶化し、融点は６３ないし６６℃である。 １ｃ １−［４−（３−メルカプトプロピルチオ）フェ
ニル］−２−メチル−２−モルホリン−４−イル−プロ
パノ−１−オン １，３−プロパンジチオール５２．８ｇ（０．４８８ｍ
ｏｌ）を無水ジメチルアセトアミド１００ｍｌ中に溶解
し、炭酸カリウム２２．０ｇを添加し、そして溶液を約
４０℃に加熱する。無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ
中の１−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−
モルホリン−４−イル−プロパノ−１−オン２０．０ｇ
（０．０８ｍｏｌ）を、１４時間にわたり滴下添加す
る。生じた懸濁液をさらに５時間攪拌し、その後固形分
をろ過除去し、そしてトルエンを用いて洗浄する。ろ液
から過剰１，３−プロパンジチオールおよびトルエンを
蒸留除去する。残渣を酢酸エチル中に溶解し、そして生
じた溶液を飽和塩化アンモニウム溶液を用いて洗浄し、
ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮する。残渣をエタノ
ールから再結晶する。得られた生成物は６７ないし６８
℃の融点を有する。構造をＣＤＣｌ3 中で測定する 1Ｈ
−ＮＭＲ分光法によって確認する。信号（ｐｐｍにおけ
るδ）は１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．３９（ｔ、１
Ｈ）、２．００（ｍ、２Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、
２．７０（ｑ、２Ｈ）、３．１３（ｔ、２Ｈ）、３．６
９（ｔ、４Ｈ）、７．２８（ｄ、２Ｈ）、８．５０
（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２３】実施例２ １−［４−（メルカプトエチル
チオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリン−４−
イル−プロパン−１−オン １，２−エタンジチオール２２．５ｇ（０．２４ｍｏ
ｌ）を無水ジメチルアセトアミド７０ｍｌ中に溶解し、
炭酸カリウム１０．０ｇを添加し、そして溶液を約４０
℃に加熱する。無水ジメチルアセトアミド３０ｍｌ中の
１−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モル
ホリン−４−イル−プロパン−１−オン１０．１ｇ
（０．０４ｍｏｌ）を滴下添加する。懸濁液を５時間攪
拌し、その後固体をろ過除去し、そしてトルエンを用い
て洗浄する。ろ液から過剰１，２−エタンジチオールお
よびトルエンを蒸留除去する。残渣をシリカゲルおよび
溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（２０：８０）を用
いたカラムクロマトグラフィーによって精製する。生じ
た生成物は９２ないし９３℃の融点を有する。構造をＣ
ＤＣｌ3 中で測定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認
する。信号（ｐｐｍにおけるδ）は１．３１（ｓ、６
Ｈ）、１．７５（ｔ、１Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、
２．８０（ｑ、２Ｈ）、３．２１（ｔ、２Ｈ）、３．７
０（ｔ、４Ｈ）、７．２９（ｄ、２Ｈ）、８．５１
（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２４】実施例３ １−［４−（４−メルカプトフ
ェニルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリン
−４−イル−プロパン−１−オン １，３−ベンゼンジチオール２０．０ｇ（０．１４ｍｏ
ｌ）を乾燥ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、
炭酸カリウム１４．０ｇを添加し、そして生じた溶液を
約４５℃に加熱する。無水ジメチルアセトアミド４０ｍ
ｌ中の（実施例１ｂにおいて記載されたように製造され
た）１−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−
モルホリン−４−イル−プロパン−１−オン７．２ｇ
（０．０２９ｍｏｌ）を滴下添加する。懸濁液を１７時
間攪拌し、その後固形分をろ過除去し、そして塩化メチ
レンを用いて洗浄する。ろ液から溶媒および過剰１，３
−ベンゼンジチオールを蒸留除去する。残渣油をシリカ
ゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（２０：
８０）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
する。構造をＣＤＣｌ3 中で測定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光
法によって確認する。信号（ｐｐｍにおけるδ）は１．
３０（ｓ、６Ｈ）、２．５６（ｔ、４Ｈ）、３．５２
（ｓ、１Ｈ）、３．６８（ｔ、４Ｈ）、７．１９（ｄ、
２Ｈ）、７．２６（ｓ、３Ｈ）、７．４０（ｓ、１
Ｈ）、８．４７（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２５】実施例４ １−［４−（２，３−ジヒドロ
キシ−４−メルカプトブチルチオ）フェニル］−２−メ
チル−２−モルホリン−４−イル−プロパン−１−オン １−［４−（４−メルカプトフェニルチオ）フェニル］
−２−メチル−２−モルホリン−４−イル−プロパン−
１−オン１．０ｇ（４．０ｍｍｏｌ）および１，４−ジ
メルカプト−２，３−ブタンジオール１．３７ｇ（８．
９ｍｍｏｌ）を無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に
溶解し、炭酸カリウム１．１０ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を
添加し、そして混合物を１７時間攪拌する。生じた懸濁
液を水中に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて抽出
し、結合された有機相を水を用いて洗浄する。溶媒を蒸
留除去し、そして残渣油をシリカゲルおよび溶出液とし
てエタノール−塩化メチレン（５：９５）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーによって精製する。構造をＣＤＣ
ｌ3 中で測定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認す
る。信号（ｐｐｍにおけるδ）は１．３１（ｓ、６
Ｈ）、１．５５（ｔ、１Ｈ）、２．５７（ｍ、４Ｈ）、
２．７５（ｍ、１Ｈ）、３．２４（ｍ、５Ｈ）、３．７
０（ｍ、５Ｈ）、４．１８（ｓ、１Ｈ）、７．５３
（ｄ、２Ｈ）、８．４９（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２６】実施例５ １−［３−（メルカプトプロピ
ルチオ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジ
ル−プロパノ−１−オン ５ａ １−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルア
ミノ−２−ベンジル−プロパノ−１−オン 水酸化ナトリウム（６６％）１１．２ｇをヘキサンを用
いて油を除去するために洗浄し、そして無水ジメチルア
セトアミド２００ｍｌに添加する。（ＵＳ ５５３４６
２９において記載された方法によって製造された）１−
（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−プロ
パノ−１−オン５０．０ｇ（０．２５６ｍｏｌ）を、無
水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、そして上
記された溶液に滴下添加する。引き続いて、臭化ベンジ
ル４８．２ｇ（０．２８２ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々
に滴下添加し、そして１０５℃に加熱する。混合物をこ
の温度で１２時間攪拌した後、反応混合物を氷／水５０
０ｍｌ中に注ぎ入れ、そしてトルエンを用いて抽出す
る。有機相を水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥
し、そして蒸発させる。残渣をシリカゲルおよび溶出液
として酢酸エチル−ヘキサン（１：２０）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーによって精製する。構造をＣＤＣ
ｌ3 中で測定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認す
る。信号（ｐｐｍにおけるδ）は１．１７（ｓ、３
Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、２．９６（ｄ、１Ｈ）、
３．３９（ｄ、１Ｈ）、６．８７（ｍ、２Ｈ）、７．０
３ないし７．１３（ｍ、５Ｈ）、８．５５（ｍ、２Ｈ）
である。
【０１２７】５ｂ １−［３−（メルカプトプロピルチ
オ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−
プロパノ−１−オン １，３−プロパンジチオール２２．８ｇ（０．２１ｍｏ
ｌ）を乾燥ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、
炭酸カリウム４．８ｇを添加し、そして混合物を約５０
℃に加熱する。無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中の
１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−
２−ベンジル−プロパノ−１−オン１０．０ｇを滴下添
加する。懸濁液を５０℃で１２時間攪拌し、固形分をろ
過除去する。過剰１，３−プロパンジチオールおよびジ
メチルアセトアミドを蒸留除去する。残渣にトルエンを
添加し、そして生じた沈殿をろ過除去する。トルエンを
蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出液として
酢酸エチル−ヘキサン（１：９）を用いたカラムクロマ
トグラフィーによって精製する。構造をＣＤＣｌ3中で
測定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認する。信号
（ｐｐｍにおけるδ）は１．１６（ｓ、３Ｈ）、１．４
０（ｔ、１Ｈ）、２．０２（ｍ、２Ｈ）、２．３４
（ｓ、６Ｈ）、２．７１（ｑ、２Ｈ）、２．９６（ｄ、
１Ｈ）、３．１４（ｔ、２Ｈ）、３．６８（ｄ、１
Ｈ）、６．８８（ｍ、２Ｈ）、７．１２（ｍ、３Ｈ）、
７．２９（ｄ、２Ｈ）、８．４４（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２８】実施例６ １−［４−（３−メルカプトプ
ロピルチオ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−メ
チルペンテ−４−エノ−１−オン ６ａ １−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルア
ミノ−２−メチルペンテ−４−エノ−１−オン 水酸化ナトリウム（６６％）１１．２ｇをヘキサンを用
いて油を除去するために洗浄し、そして無水ジメチルア
セトアミド２００ｍｌに添加する。（ＵＳ ５５３４６
２９において記載された方法によって製造された）１−
（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−プロ
パノ−１−オン５０．０ｇ（０．２５６ｍｏｌ）を、無
水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、そして上
記された溶液に滴下添加する。引き続いて、臭化アリル
３４．１ｇ（０．２８２ｍｏｌ）を攪拌しながら徐々に
滴下添加し、そして１０５℃に加熱する。混合物をこの
温度で１２時間攪拌した後、反応混合物を氷／水５００
ｍｌに注ぎ入れ、そしてトルエンを用いて抽出する。有
機相を水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そし
て蒸発させる。残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢
酸エチル−ヘキサン（１：９）を用いたカラムクロマト
グラフィーによって精製する。構造をＣＤＣｌ3 中で測
定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認する。信号（ｐ
ｐｍにおけるδ）は１．１９（ｓ、３Ｈ）、２．２８
（ｓｗ、６Ｈ）、２．４２（ｍ、１Ｈ）、２．７０
（ｍ、１Ｈ）、４．７９ないし４．９３（ｍ、２Ｈ）、
５．５１（ｍ、１Ｈ）、７．０５（ｍ、２Ｈ）、８．５
３（ｄ、２Ｈ）である。
【０１２９】６ｂ １−［４−（３−メルカプトプロピ
ルチオ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−メチル
ペンテ−４−エノ−１−オン １，３−プロパンジチオール２５．０ｇ（０．２３ｍｏ
ｌ）を無水ジメチルアセトアミド８０ｍｌ中に溶解し、
そして炭酸カリウム６．０ｇを添加する。無水ジメチル
アセトアミド２０ｍｌ中の１−（４−フルオロフェニ
ル）−２−ジメチルアミノ−２−メチルペンテ−４−エ
ノ−１−オン１０．０ｇを滴下添加する。懸濁液を５０
℃で１２時間攪拌し、固形分をろ過除去する。過剰１，
３−プロパンジチオールおよびジメチルアセトアミドを
蒸留除去する。残渣にトルエンを添加し、そして沈殿を
ろ過除去する。トルエンを蒸留除去した後、残渣をシリ
カゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（１：
１０）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
し、そして油性生成物を得る。構造をＣＤＣｌ3 中で測
定する 1Ｈ−ＮＭＲ分光法によって確認する。信号（ｐ
ｐｍにおけるδ）は１．１８（ｓ、３Ｈ）、１．３９
（ｔ、１Ｈ）、２．００（ｍ、２Ｈ）、２．２７（ｓ、
５Ｈ）、２．４２（ｍ、１Ｈ）、２．６６ないし２．７
２（ｍ、３Ｈ）、３．１２（ｔ、２Ｈ）、４．８３ない
し４．９３（ｍ、２Ｈ）、５．５２（ｍ、１Ｈ）、７．
２６（ｄ、２Ｈ）、８．３８（ｄ、２Ｈ）である。
【０１３０】実施例７ １−［４−（３−メルカプトプ
ロピルチオ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベ
ンジル−ブタノ−１−オン １，３−プロパンジチオール３２．５ｇ（０．３ｍｏ
ｌ）を無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、
そして溶液を炭酸カリウム１３．８ｇ（０．１ｍｏｌ）
と共に約５０℃に加熱する。無水ジメチルアセトアミド
３０ｍｌ中の１−（４−フルオロフェニル）−２−ジメ
チルアミノ−２−ベンジル−ブタノ−１−オン１５．０
ｇ（０．０５ｍｏｌ）を滴下添加する。懸濁液を５０℃
で一晩（約１２時間）攪拌し、その後固形分をろ過除去
する。過剰１，３−プロパンジチオールおよびジメチル
アセトアミドを蒸留除去する。残渣にトルエンを添加
し、その後沈殿をろ過除去する。トルエンを蒸留除去し
た後、残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル
−ヘキサン（１：７）を用いたカラムクロマトグラフィ
ーによって精製し、そして油性生成物を得る。構造を 1
Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６８（ｔ、３Ｈ）、１．３９（ｔ、
１Ｈ）、１．７９ないし１．８８（ｍ、１Ｈ）、１．９
７ないし２．１１（ｍ、３Ｈ）、２．３６（ｓ、６
Ｈ）、２．６９（ｑ、２Ｈ）、３．１２（ｔ、２Ｈ）、
３．１９（ｓ、２Ｈ）、７．１５ないし７．２７（ｍ、
７Ｈ）、８．２８（ｄ、２Ｈ）。
【０１３１】実施例８ １−［４−（３−メルカプトプ
ロピルアミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−
ベンジル−プロパノ−１−オン ８ａ １−［４−（３−ヒドロキシプロピルアミノ）フ
ェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパ
ノ−１−オン １−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−
２−ベンジル−プロパノ−１−オン１０．０ｇ（０．０
３５ｍｏｌ）および３−アミノ−１−プロパノール１
８．４ｇ（０．２５ｍｏｌ）を、無水ジメチルアセトア
ミド２０ｍｌ中に溶解し、そして溶液を炭酸カリウム
９．７ｇ（０．０７ｍｏｌ）と共に１５０℃に加熱し、
そして一晩（約１２時間）攪拌する。溶液を冷却した
後、水３００ｍｌ中に注ぎ入れ、そしてトルエンを用い
て抽出する。有機相を水および飽和塩化ナトリウム溶液
を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。トル
エンを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出液
として酢酸エチル−ヘキサン（１：１）を用いたカラム
クロマトグラフィーによって精製し、そして油性生成物
を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によ
って確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１４（ｓ、３Ｈ）、１．５０（ｂ
ｒ、１Ｈ）、１．９３（ｍ、２Ｈ）、２．３３（ｓ、６
Ｈ）、２．９６（ｄ、１Ｈ）、３．３７（ｍ、２Ｈ）、
３．４２（ｄ、１Ｈ）、３．８５（ｍ、２Ｈ）、４．４
５（ｂｒ、１Ｈ）、６．５６（ｄ、２Ｈ）、６．８９な
いし６．９１（ｍ、２Ｈ）、７．１０ないし７．１２
（ｍ、３Ｈ）、８．４５（ｄ、２Ｈ）。
【０１３２】８ｂ １−［４−（３−ヨードプロピルア
ミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル
−プロパノ−１−オン １−［４−（３−ヒドロキシプロピルアミノ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパノ−
１−オン６．７ｇ（０．０２ｍｏｌ）、イミダゾール
３．３５ｇ（０．０５ｍｏｌ）およびトリフェニルホス
フィン１２．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）を、塩化メチレン
５０ｍｌ中に溶解する。溶液にヨウ素１０ｇ（０．０３
９ｍｏｌ）を添加し、そして室温（約２０℃）で１時間
攪拌する。塩化メチレン１００ｍｌを反応混合物に添加
し、そしてナトリウムスルフィットの水溶液および水を
用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。塩化メ
チレンを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出
液として酢酸エチル−ヘキサン（１：３）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性生成
物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）に
よって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１４（ｓ、３Ｈ）、２．１４（ｍ、
２Ｈ）、２．３３（ｓ、６Ｈ）、２．９６（ｄ、１
Ｈ）、３．２９（ｔ、２Ｈ）、３．３５ないし３．４０
（ｍ、２Ｈ）、３．４２（ｄ、１Ｈ）、４．２１（ｂ
ｒ、１Ｈ）、６．５６（ｄ、２Ｈ）、６．８９ないし
６．９１（ｍ、２Ｈ）、７．１０ないし７．１２（ｍ、
３Ｈ）、８．４６（ｄ、２Ｈ）。
【０１３３】８ｃ １−［４−（３−メルカプトプロピ
ルアミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベン
ジル−プロパノ−１−オン １−［４−（３−ヨードプロピルアミノ）フェニル］−
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−プロパノ−１−オ
ン６．６ｇ（０．０１５ｍｏｌ）を、ジメチルアセトア
ミド５０ｍｌ中に溶解する。溶液にカリウムチオアセテ
ート２．４２ｇを添加し、そして５０℃に加熱する。反
応混合物を５０℃で２時間攪拌した後、水１００ｍｌ中
に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて抽出する。有機
相を水および飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、
そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸エチルを蒸留除去
した後、残渣をエタノール７０ｍｌ中に溶解し、そして
溶液を窒素によって３０分間泡立たせ、酸素を除去す
る。溶液に２Ｎ 水酸化ナトリウム溶液７ｍｌを添加
し、そして０℃で３０分間攪拌する。反応混合物を２Ｎ
塩酸溶液を添加することによって中和した後、生じた溶
液を水１００ｍｌ中に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用
いて抽出する。有機相を水および飽和塩化ナトリウム溶
液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢
酸エチルを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶
出液として酢酸エチル−ヘキサン（１：２）を用いたカ
ラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性生
成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）
によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１４（ｓ、３Ｈ）、１．４３（ｔ、
１Ｈ）、１．９７（ｍ、２Ｈ）、２．３３（ｓ、６
Ｈ）、２．６８（ｑ、２Ｈ）、２．９６（ｄ、１Ｈ）、
３．３４ないし３．３９（ｍ、２Ｈ）、３．４２（ｄ、
１Ｈ）、４．１８（ｂｒ、１Ｈ）、６．５７（ｄ、２
Ｈ）、６．８９ないし６．９２（ｍ、２Ｈ）、７．１０
ないし７．１２（ｍ、３Ｈ）、８．４６（ｄ、２Ｈ）。
【０１３４】実施例９ １−［４−（３−メルカプトプ
ロピルアミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−
ベンジル−ブタノ−１−オン ９ａ １−［４−（３−ヒドロキシプロピルアミノ）フ
ェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノ
−１−オン １−（４−フルオロフェニル）−２−ジメチルアミノ−
２−ベンジル−ブタノ−１−オン１５．０ｇ（０．０５
０ｍｏｌ）および３−アミノ−１−プロパノール２６．
３ｇ（０．３５ｍｏｌ）を、無水ジメチルアセトアミド
３０ｍｌ中に溶解し、そして溶液を炭酸カリウム１３．
８ｇ（０．１ｍｏｌ）と共に１５０℃に加熱し、そして
一晩（約１２時間）攪拌する。溶液を冷却した後、水３
００ｍｌ中に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて抽出
する。有機相を水および飽和塩化ナトリウム溶液を用い
て洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸エチル
を蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出液とし
て酢酸エチル−ヘキサン（１：１）を用いたカラムクロ
マトグラフィーによって精製し、そして油性生成物を得
る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって
確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６８（ｔ、３Ｈ）、１．５２（ｂ
ｒ、１Ｈ）、１．８２ないし１．９４（ｍ、３Ｈ）、
２．００−２．０７（ｍ、１Ｈ）、２．３５（ｓ、６
Ｈ）、３．１７（ｄ、１Ｈ）、３．２０（ｄ、１Ｈ）、
３．３２ないし３．３７（ｍ、２Ｈ）、３．８１ないし
３．８５（ｍ、２Ｈ）、４．４２（ｂｒ、１Ｈ）、６．
５２（ｄ、２Ｈ）、７．１４ないし７．２８（ｍ、５
Ｈ）、８．３２（ｄ、２Ｈ）。
【０１３５】９ｂ １−［４−（３−ヨードプロピルア
ミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル
−ブタノ−１−オン １−［４−（３−ヒドロキシプロピルアミノ）フェニ
ル］−２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノ−１
−オン１４．５ｇ（０．０４１ｍｏｌ）、イミダゾール
６．９６ｇ（０．１ｍｏｌ）およびトリフェニルホスフ
ィン２６．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を、塩化メチレン１０
０ｍｌ中に溶解する。溶液にヨウ素２０．８ｇ（０．０
８２ｍｏｌ）を添加し、そして室温（約２０℃）で２０
分間攪拌する。塩化メチレン２００ｍｌを反応混合物に
添加し、そしてナトリウムスルフィットの水溶液および
水を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。塩
化メチレンを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび
溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（１：４）を用いた
カラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性
生成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ
3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６８（ｔ、３Ｈ）、１．８２ないし
１．８８（ｍ、１Ｈ）、２．０２−２．３５（ｍ、３
Ｈ）、２．３５（ｓ、６Ｈ）、３．１７（ｄ、１Ｈ）、
３．２０（ｄ、１Ｈ）、３．２７（ｔ、２Ｈ）、３．３
４ないし３．３７（ｍ、２Ｈ）、４．１７（ｂｒ、１
Ｈ）、６．５３（ｄ、２Ｈ）、７．１５ないし７．２８
（ｍ、５Ｈ）、８．３２（ｄ、２Ｈ）。
【０１３６】９ｃ １−［４−（３−メルカプトプロピ
ルアミノ）フェニル］−２−ジメチルアミノ−２−ベン
ジル−ブタノ−１−オン １−［４−（３−ヨードプロピルアミノ）フェニル］−
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−ブタノ−１−オン
６．４ｇ（０．０１４ｍｏｌ）を、ジメチルアセトアミ
ド５０ｍｌ中に溶解する。溶液にカリウムチオアセテー
ト２．２８ｇを添加し、そして５０℃に加熱する。反応
混合物を５０℃で１５分間攪拌した後、水１５０ｍｌ中
に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて抽出する。有機
相を水および飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、
そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸エチルを蒸留除去
した後、残渣をエタノール５０ｍｌ中に溶解し、そして
溶液を窒素によって３０分間泡立たせ、酸素を除去す
る。溶液に２Ｎ 水酸化ナトリウム溶液７ｍｌを添加
し、そして０℃で１５分間攪拌する。反応混合物を２％
塩酸溶液を添加することによって中和した後、生じた溶
液を水１００ｍｌ中に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用
いて抽出する。有機相を水および飽和塩化ナトリウム溶
液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢
酸エチルを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶
出液として酢酸エチル−ヘキサン（１：３）を用いたカ
ラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性生
成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）
によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６８（ｔ、３Ｈ）、１．４１（ｔ、
１Ｈ）、１．８３ないし２．０８（ｍ、４Ｈ）、２．３
５（ｓ、６Ｈ）、２．６６（ｑ、２Ｈ）、３．１７
（ｄ、１Ｈ）、３．３０（ｄ、１Ｈ）、３．３４（ｂ
ｒ、２Ｈ）、４．１５（ｂｒ、１Ｈ）、６．５２（ｄ、
２Ｈ）、７．１４ないし７．２８（ｍ、５Ｈ）、８．３
２（ｄ、２Ｈ）。
【０１３７】実施例１０ １−［４−（６−メルカプト
ヘキシルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリ
ン−４−イル−プロパン−１−オン １，６−ヘキサンジチオール１０．０ｇ（０．０６６ｍ
ｏｌ）をジメチルアセトアミド１５ｍｌ中の炭酸カリウ
ム３．６ｇ（０．０２６ｍｏｌ）の懸濁液に添加する。
懸濁液を８５℃に加熱し、そしてジメチルアセトアミド
２０ｍｌ中の１−（４−クロロフェニル）−２−メチル
−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン３．
６ｇ（０．０１３ｍｏｌ）を２０分間にわたり滴下添加
する。１８時間攪拌した後、反応混合物を冷却し、酢酸
エチル（６０ｍｌ）を用いて希釈し、そしてろ過する。
ろ液を水（３×５０ｍｌ）を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4
上で乾燥し、そして濃縮する（８５℃／５ｍｍＨｇ）。
生じた油をシリカゲル（ヘキサン／酢酸エチル ８５：
１５）によるフラッシュクロマトグラフィーによって淡
黄色油に精製し、それは融点６１ないし６４℃での放置
によって無色固体に結晶化する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分
光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．３５（ｔ、
ＳＨ）、１．４ないし１．８（ｍ、８Ｈ）、２．５３
（ｑ、２Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、３．００（ｔ、
２Ｈ）、３．６９（ｔ、４Ｈ）、７．２４（ｄ、２
Ｈ）、８．５０（ｄ、２Ｈ）。
【０１３８】実施例１１ １−（４−｛２−［２−（２
−メルカプト−エトキシ）エトキシ］エチルチオ｝フェ
ニル）−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロ
パノ−１−オン ジメルカプトエチルエチレングリコール１０．０ｍｌ
（０．０６ｍｏｌ）をジメチルアセトアミド２０ｍｌ中
の炭酸カリウム３．３ｇ（０．０２４ｍｏｌ）の懸濁液
に添加する。懸濁液を８５℃に加熱し、そしてジメチル
アセトアミド１０ｍｌ中の１−（４−クロロフェニル）
−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−
１−オン３．２ｇ（０．０１２ｍｏｌ）を３０分間にわ
たり滴下添加する。１８時間攪拌した後、反応混合物を
冷却し、酢酸エチル（１００ｍｌ）を用いて希釈し、水
（３×５０ｍｌ）を用いて抽出し、カーボネートおよび
ジメチルアセトアミドを除去し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥
し、そして真空下で濃縮する。生じた黄色油をシリカゲ
ル（ヘキサン／酢酸エチル ８５：１５）によるフラッ
シュクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色油を得
る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって
確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．６０（ｔ、
ＳＨ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、２．６９（ｑ、２
Ｈ）、３．２２（ｔ、２Ｈ）、３．６１ないし３．６５
（ｍ、６Ｈ）、３．６９（ｔ、４Ｈ）、３．７５（ｔ、
２Ｈ）、７．２９（ｄ、２Ｈ）、８．４９（ｄ、２
Ｈ）。
【０１３９】実施例１２ １−｛４−［２−（２−メル
カプト−エチルチオ）エチルチオ］フェニル｝−２−メ
チル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン ２−メルカプトエチルエチルスルフィド２５．７ｇ
（０．１５ｍｏｌ）をジメチルアセトアミド５０ｍｌ中
の炭酸カリウム８．３ｇ（０．０６ｍｏｌ）の懸濁液に
添加する。ジメチルアセトアミド２５ｍｌ中の１−（４
−クロロフェニル）−２−メチル−２−モルホリニ−４
−イル−プロパノ−１−オン８．０ｇ（０．０３ｍｏ
ｌ）を８５℃で６０分間にわたり滴下添加する。５時間
攪拌した後、反応混合物を冷却し、酢酸エチル（１００
ｍｌ）を用いて希釈し、水（３×１００ｍｌ）を用いて
抽出し、カーボネートおよびジメチルアセトアミドを除
去し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして真空下で濃縮す
る。生じた黄色液体（ステンチ（ｓｔｅｎｃｈ））をシ
リカゲル（ヘキサン／酢酸エチル ８５：１５）による
フラッシュクロマトグラフィーによって精製し、淡黄色
油を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）に
よって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．７５０
（ｔ、ＳＨ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、２．７１ないし
２．８５（ｍ、６Ｈ）、３．２０（ｔ、２Ｈ）、３．７
０（ｔ、４Ｈ）、７．３１（ｄ、２Ｈ）、８．５１
（ｄ、２Ｈ）。
【０１４０】実施例１３ １−［４−（１０−メルカプ
トデカニルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホ
リン−４−イル−プロパン−１−オン １，１０−デカンジチオール５１．７ｇ（０．２５ｍｏ
ｌ）を、ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中の炭酸カリウ
ム１３．９ｇ（０．１０ｍｏｌ）の懸濁液に添加する。
懸濁液を８５℃に加熱し、そしてジメチルアセトアミド
２５ｍｌ中の１−（４−クロロフェニル）−２−メチル
−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン１
３．４ｇ（０．０５ｍｏｌ）を５時間にわたり滴下添加
する。１８時間攪拌した後、固形分をろ過除去し、ろ液
を２Ｎ ＨＣｌ溶液３０ｍｌ中に注ぎ入れる。生成した
白色沈殿をろ過によって収集し、そしてその後塩化メチ
レン中に溶解し、そして２Ｎ ＮａＯＨ溶液３０ｍｌを
用いて中和する。塩化メチレンを蒸留除去した後、残渣
結晶をさらにクロロホルム−エタノール（２０：８０）
からの再結晶化よって精製する。得られた生成物は８７
ないし９０℃の融点を有する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光
法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．２８ないし１．３９（ｍ、９Ｈ）、
１．４５（ｍ、２Ｈ）、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．６
４（ｑ、４Ｈ）、１．６９（ｍ、２Ｈ）、２．５２
（ｑ、２Ｈ）、２．５６（ｍ、４Ｈ）、２．９９（ｍ、
２Ｈ）、３．７１（ｍ、４Ｈ）、７．２６（ｄ、２
Ｈ）、８．４９（ｄ、２Ｈ）。
【０１４１】実施例１４ １−［４−（４−メルカプト
ブチルチオ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリニ
−４−イル−プロパノ−１−オン １−（４−クロロフェニル）−２−メチル−２−モルホ
リニ−４−イル−プロパノ−１−オン４０ｇ（０．１５
ｍｏｌ）および１，４−ブタンジチオール１０９ｇ
（０．８９ｍｏｌ）を、ジメチルアセトアミド３００ｍ
ｌ中に溶解し、そして溶液を１００℃付近で炭酸カリウ
ム４１ｇと共に５時間攪拌する。その後溶液を室温に冷
却し、そして水中に注ぎ入れる。粗生成物を酢酸エチル
を用いて抽出し、飽和塩化ナトリウム水溶液を用いて洗
浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮する。残渣を
シリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン
（２０：８０）を用いたカラムクロマトグラフィーによ
って精製する。融点は９８℃である。構造を 1Ｈ−ＮＭ
Ｒ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．３６（ｔ、
１Ｈ）、１．７６ないし１．９０（ｍ、４Ｈ）、２．５
３ないし２．６２（ｍ、６Ｈ）、２．９８ないし３．０
４（ｍ、２Ｈ）、３．６９（ｔ、４Ｈ）、７．２５
（ｄ、２Ｈ）、８．５０（ｄ、２Ｈ）。
【０１４２】実施例１５ １−［４−（４−メルカプト
メチル−ベンジルチオ）フェニル］−２−メチル−２−
モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン １−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モル
ホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン１．５１ｇ
（６．０ｍｍｏｌ）および１，４−ビス（メルカプトベ
ンゼン）１．０ｇ（６．０ｍｍｏｌ）を、無水ジメチル
ホルムアミド１２ｍｌ中に溶解し、そして水酸化ナトリ
ウム１２ｍｍｏｌを添加する。溶液を室温で２時間攪拌
する。その後溶液を水中に注ぎ入れる。粗生成物を塩化
メチレンを用いて抽出し、水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ
4 上で乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよ
び溶出液として塩化メチレンを用いたカラムクロマトグ
ラフィーによって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法
（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３０（ｓ、６Ｈ）、１．７６（ｔ、
１Ｈ）、２．５６（ｔ、４Ｈ）、３．６８（ｔ、４
Ｈ）、３．７３（ｄ、２Ｈ）、４．２０（ｓ、２Ｈ）、
７．２０ないし７．３８（ｍ、６Ｈ）、８．４６（ｄ、
２Ｈ）。
【０１４３】実施例１６ １−［４−（ビス−メルカプ
トメチル−トリメチル−ベンジルチオ）フェニル］−２
−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−
オン １−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モル
ホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン０．６７ｇ
（２．７ｍｍｏｌ）および１，３，５−トリス（メルカ
プトメチル）−２，４，６−トリメチルベンゼン３．４
４ｇ（１３．３ｍｍｏｌ）を、無水ジメチルホルムアミ
ド７０ｍｌ中に溶解し、そして水酸化ナトリウム５．４
ｍｍｏｌを添加する。溶液を室温で２時間攪拌する。そ
の後溶液を水中に注ぎ入れる。粗生成物を塩化メチレン
を用いて抽出し、水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾
燥し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶出液
として塩化メチレンを用いたカラムクロマトグラフィー
によって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣ
ｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３３（ｓ、６Ｈ）、１．６０（ｔ、
２Ｈ）、２．４９（ｓ、９Ｈ）、２．５９（ｔ、４
Ｈ）、３．７１（ｔ、４Ｈ）、３．８０（ｄ、４Ｈ）、
４．２７（ｓ、２Ｈ）、７．３４（ｄ、２Ｈ）、８．５
４（ｄ、２Ｈ）。
【０１４４】実施例１７ １−［４−（３−メルカプト
−２−メルカプトメチル−２−メチル−プロピルチオ）
フェニル］−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−
プロパノ−１−オン １−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モル
ホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン３．６ｇ（１
４．３ｍｍｏｌ）および１，１，１−トリスメルカプト
メチルエタン１２ｇ（７１．３ｍｍｏｌ）を、無水ジメ
チルホルムアミド７０ｍｌ中に溶解し、そして水酸化ナ
トリウム２８．６ｍｍｏｌを添加する。溶液を室温で２
時間攪拌する。その後溶液を水中に注ぎ入れる。粗生成
物を塩化メチレンを用いて抽出し、水を用いて洗浄し、
ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカ
ゲルおよび溶出液として塩化メチレンを用いたカラムク
ロマトグラフィーによって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭ
Ｒ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１２（ｓ、３Ｈ）、１．３０（ｔ、
２Ｈ）、１．３１（ｓ、６Ｈ）、２．５７（ｔ、４
Ｈ）、２．６２ないし２．７２（ｍ、４Ｈ）、３．１４
（ｓ、２Ｈ）、３．６９（ｔ、４Ｈ）、７．３３（ｄ、
２Ｈ）、８．４９（ｄ、２Ｈ）。
【０１４５】実施例１８ ［４−（２−メチル−２−モ
ルホリニ−４−イル−プロピオニル）フェニルチオ］酢
酸 ２，２−ビスメルカプトアセトキシメチル−ブチル
エステル １−（４−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モル
ホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン１．２６ｇ
（５．０ｍｍｏｌ）およびトリメチルプロパントリス
（２−メルカプトアセテート）７．０ｍｌ（２５．０ｍ
ｍｏｌ）を、無水ジメチルホルムアミド２５ｍｌ中に溶
解し、そして水酸化ナトリウム１０．０ｍｍｏｌを添加
する。溶液を室温で２時間攪拌する。その後溶液を水中
に注ぎ入れる。粗生成物を塩化メチレンを用いて抽出
し、水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして
濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶出液として塩化メ
チレン−メタノール（１００：１）を用いたカラムクロ
マトグラフィーによって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ
分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．９３（ｔ、３Ｈ）、１．３１（ｓ、
６Ｈ）、１．４４（ｑ、２Ｈ）、１．９５ないし２．１
３（ｍ、２Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、３．２５ない
し３．３２（ｍ、６Ｈ）、３．７０（ｔ、４Ｈ）、４．
１０ないし４．１５（ｍ、６Ｈ）、７．３３（ｄ、２
Ｈ）、８．５１（ｄ、２Ｈ）。
【０１４６】実施例１９ ３−メルカプト−プロピオン
酸 ２−［４−（２−メチル−２−モルホリニ−４−イ
ル−プロピオニル）フェニルチオ］エチルエステル １−［４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル］−
２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１
−オン５．９ｇ（１９．１ｍｍｏｌ）、エチルチオグリ
コレート４．２ｍｌ（３８．２ｍｍｏｌ）およびｐ−ト
ルエンスルホン酸一水和物４．４ｇ（２２．９ｍｍｏ
ｌ）を混合し、そして１００℃で２４時間攪拌する。そ
の後溶液を室温に冷却し、そして１Ｎ ＮａＯＨを用い
て中和する。粗生成物を酢酸エチルを用いて抽出し、飽
和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で
乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶出
液として酢酸エチル−ヘキサン（３０：７０）を用いた
カラムクロマトグラフィーによって精製する。構造を 1
Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．９９（ｔ、
１Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、３．２２ないし３．３
０（ｍ、４Ｈ）、３．７０（ｔ、４Ｈ）、４．３６
（ｔ、２Ｈ）、７．３４（ｄ、２Ｈ）、８．５１（ｄ、
２Ｈ）。
【０１４７】実施例２０ メルカプト−酢酸 ２−［４
−（２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロピオ
ニル）フェニルチオ］エチルエステル １−［４−（２−ヒドロキシエチルチオ）フェニル）−
２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１
−オン７０ｇ（０．２６６ｍｏｌ）、３−メルカプトプ
ロピオン酸３９ｍｌ（０．４５２ｍｏｌ）およびｐ−ト
ルエンスルホン酸一水和物４７ｇ（０．２４９ｍｏｌ）
を混合し、そして１４０℃で４時間攪拌する。その後溶
液を室温に冷却し、そして１Ｎ ＮａＯＨを用いて中和
する。粗生成物を酢酸エチルを用いて抽出し、飽和塩化
ナトリウム溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥
し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶出液と
して酢酸エチル−ヘキサン（３０：７０）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーによって精製する。構造を 1Ｈ−
ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．６５（ｔ、
１Ｈ）、２．５７（ｔ、４Ｈ）、２．６５（ｔ、２
Ｈ）、２．７６（ｄｔ、２Ｈ）、３．２６（ｔ、２
Ｈ）、３．７０（ｔ、４Ｈ）、４．３３（ｔ、２Ｈ）、
７．３３（ｄ、２Ｈ）、８．５１（ｄ、２Ｈ）。
【０１４８】実施例２１ ２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−［４−（３−メルカプト−プロポキシ）−
３−メトキシ−フェニル］ブタノ−１−オン ２１ａ ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−［４
−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３−メトキシ−フェ
ニル］ブタノ−１−オン 水酸化ナトリウム０．４０ｍｌを無水ジメチルアセトア
ミド５００ｍｌ中に懸濁し、そして１，３−プロパンジ
オール７２．３ｍｌ（１．０ｍｏｌ）を０℃で滴下添加
する。その後ジメチルアセトアミド中の２−ベンジル−
１−（３，４−ジメトキシ−フェニル）−２−ジメチル
アミノ−ブタノ−１−オン６８．３ｇ（０．２０ｍｏ
ｌ）を０℃で滴下添加する。溶液を１２０℃で１８時間
攪拌した後、溶液を水中に注ぎ入れる。粗生成物を酢酸
エチルを用いて抽出し、水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4
上で乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよび
溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（４０：６０）を用
いたカラムクロマトグラフィーによって精製する。構造
を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認す
る。 δ［ｐｐｍ］、０．６９（ｔ、３Ｈ）、１．８３ないし
１．９２（ｍ、１Ｈ）、２．０４ないし２．１６（ｍ、
３Ｈ）、２．３８（ｓ、６Ｈ）、２．４０ないし２．５
５（ｂｓ、１Ｈ）、３．１８ないし３．２３（ｍ、２
Ｈ）、３．８８（ｓ、３Ｈ）、３．８９（ｔ、２Ｈ）、
４．２７（ｔ、２Ｈ）、６．８４（ｄ、１Ｈ）、７．１
５ないし７．２８（ｍ、５Ｈ）、７．９３（ｄ、１
Ｈ）、８．２０（ｄｄ、１Ｈ）。
【０１４９】２１ｂ ２−ベンジル−１−［４−（３−
ブロモ−プロポキシ）−３−メトキシ−フェニル］−２
−ジメチルアミノ−ブタノ−１−オン ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−［４−（３−
ヒドロキシ−プロポキシ）−３−メトキシ−フェニル］
ブタノ−１−オンを塩化メチレン２００ｍｌ中に溶解
し、そしてトリフェニルホスフィン１０．７ｇ（４０．
８ｍｍｏｌ）および四臭化炭素１３．５ｇ（４０．８ｍ
ｍｏｌ）を０℃で引き続いて添加する。溶液を０℃で
０．５時間攪拌する。その後溶液を濃縮し、粗生成物を
得、シリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサ
ン（２０：８０）を用いたカラムクロマトグラフィーに
よって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ
3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６９（ｔ、３Ｈ）、１．８３ないし
１．９２（ｍ、１Ｈ）、２．０３ないし２．１３（ｍ、
１Ｈ）、２．３８（ｓ、６Ｈ）、２．３８ないし２．４
５（ｍ、２Ｈ）、３．１７ないし３．２５（ｍ、２
Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、３．８８（ｓ、３Ｈ）、
４．２２（ｔ、２Ｈ）、６．８６（ｄ、１Ｈ）、７．１
５ないし７．２８（ｍ、５Ｈ）、７．９３（ｄ、１
Ｈ）、８．２０（ｄｄ、１Ｈ）。
【０１５０】２１ｃ ２−ベンジル−２−ジメチルアミ
ノ−１−［４−（３−メルカプト−プロポキシ）−３−
メトキシ−フェニル］−ブタノ−１−オン ２−ベンジル−１−［４−（３−ブロモ−プロポキシ）
−３−メトキシ−フェニル］−２−ジメチルアミノ−ブ
タノ−１−オン９．２６ｇ（２０．７ｍｍｏｌ）をジメ
チルアセトアミド１００ｍｌ中に溶解し、そしてカリウ
ムチオアセテート２．６０ｇ（２２．８ｍｍｏｌ）を添
加する。溶液を５０℃で１時間攪拌する。その後溶液を
室温に冷却し、そして水中に注ぎ入れる。組成生物を酢
酸エチルを用いて抽出し、飽和塩化ナトリウム溶液を用
いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮し、チ
オアセテートを得る。この精製物をエタノール１００ｍ
ｌ中に溶解し、そして２Ｎ ＮａＯＨ１１．４ｍｌを滴
下添加する。反応溶液を室温で２０分間攪拌する。その
後溶液を水中に注ぎ入れる。粗生成物を酢酸エチルを用
いて抽出し、飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、
ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカ
ゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（２０：
８０）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によっ
て確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．６９（ｔ、３Ｈ）、１．４５（ｔ、
１Ｈ）、１．８２ないし１．９２（ｍ、１Ｈ）、２．０
１ないし２．１０（ｍ、１Ｈ）、２．１０ないし２．１
９（ｍ、２Ｈ）、２．３８（ｓ、６Ｈ）、２．７６（ｄ
ｔ、２Ｈ）、３．１６ないし３．２３（ｍ、２Ｈ）、
３．８８（ｓ、３Ｈ）、４．２０（ｔ、３Ｈ）、６．８
４（ｄ、１Ｈ）、７．１６ないし７．２８（ｍ、５
Ｈ）、７．９３（ｄ、１Ｈ）、８．２０（ｄｄ、１
Ｈ）。
【０１５１】実施例２２ ２−（３−メルカプトメチル
−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル−１−（４−メ
チルチオ−フェニル）プロパノ−１−オン ２２ａ ２−ブロモ−１−（４−メチルチオフェニル）
−２−メチルプロパノ−１−オン （ＥＰ−Ａ−３００２において記載されるように）チオ
アニソールをアクリル化することによって製造された２
−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］プロパ
ノ−１−オン１４９．２ｇ（０．７７ｍｏｌ）を、塩化
メチレン７７０ｍｌ中に溶解する。クロロスルホン酸
０．２ｍｌおよび臭素１２３．０ｇ（０．７７ｍｏｌ）
を、この溶液に冷却しながら室温で徐々に滴下添加す
る。一晩攪拌した後、溶液を濃縮し、そしてその後下記
のようにさらに反応させる。 ２２ｂ ３−ジメチル−２−メトキシ−２−（４−メチ
ルチオフェニル）オキシラン ナトリウムメトキシド４７．６ｇ（０．８８ｍｏｌ）を
無水メタノール１８０ｍｌ中に溶解し、そして無水メタ
ノール１８０ｍｌおよびクロロベンゼン１８０ｍｌの混
合物中に溶解された２−ブロモ−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−メチルプロパノ−１−オン２０
１．４ｇ（０．７４ｍｏｌ）を、この溶液に２０℃で滴
下添加する。メタノールをその後蒸留除去し、そしてク
ロロベンゼン溶液を濃縮する。液体粗生成物をさらに９
０℃および０．１５ｍｍＨｇでの蒸留により精製する。
【０１５２】２２ｃ ２−（３−ヒドロキシメチル−ピ
ペリジニ−１−イル）−２−メチル−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］プロパノ−１−オン ３−ヒドロキシメチルピペリジン２５．０ｇ（０．２２
ｍｏｌ）、３−ジメチル−２−メトキシ−２−［４−
（メチルチオ）フェニル］オキシラン２５．５ｇ（０．
１１ｍｏｌ）およびｐ−キシレン５０ｍｌを混合し、そ
して還流温度に加熱する。２０時間後、溶媒を蒸留除去
する。残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル
−ヘキサン（２０：８０）を用いたカラムクロマトグラ
フィーによって精製し、そして油性生成物を得る。構造
を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認す
る。 δ［ｐｐｍ］、１．０１ないし１．２０（ｍ、２Ｈ）、
１．２９（ｓ、３Ｈ）、１．３１（ｓ、３Ｈ）、１．５
２ないし１．７９（ｍ、４Ｈ）、２．１０（ｍ、１
Ｈ）、２．２５（ｍ、１Ｈ）、２．５２（ｓ、３Ｈ）、
２．６９（ｍ、１Ｈ）、２．９０（ｍ、１Ｈ）、３．４
８（ｍ、２Ｈ）、７．２０（ｄ、２Ｈ）、８．５１
（ｄ、２Ｈ）。
【０１５３】２２ｄ ２−（３−メルカプトメチル−ピ
ペリジニ−１−イル）−２−メチル−１−［４−（メチ
ルチオ）フェニル］プロパノ−１−オン ２−（３−ヒドロキシメチル−ピペリジニ−１−イル）
−２−メチル−１−［４−（メチルチオ）−フェニル］
プロパノ−１−オン１０．２ｇ（０．３３ｍｏｌ）およ
びトリフェニルホスフィン１０．５ｇを、塩化メチレン
６０ｍｌ中に溶解する。四臭化炭素１３．３ｇを塩化メ
チレン１５ｍｌ中に溶解し、そして上述の溶液に５℃で
滴下添加する。２時間攪拌した後、生じた溶液を濃縮
し、スラリーを得る。この材料をシリカゲルおよび溶出
液として酢酸エチル−ヘキサン（５０：５０）を用いた
カラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性
生成物を得る。生じた材料を次の反応のために使用す
る。上述の油性生成物１３．０ｇを無水ジメチルアセト
アミド８０ｍｌ中に溶解し、そしてカリウムチオアセテ
ート４．９５ｇを添加する。２．５時間５０℃で攪拌し
た後、反応混合物を氷水中に注ぎ入れ、そして酢酸エチ
ルを用いて抽出する。結合された有機層を飽和塩化ナト
リウム溶液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥
する。溶媒を蒸発器によって除去し、そして粗油をさら
にシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン
（１０：９０）を用いたカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、そして油生成物を得る。生成物をエタノー
ル４０ｍｌ中に溶解し、そして窒素によって１０分間泡
立て、酸素を除去する。溶液に２Ｎ 水酸化ナトリウム
溶液１０ｍｌを添加し、そして０℃で１時間攪拌する。
反応混合物を２Ｎ 塩酸溶液を添加することによって中
和した後、生じた溶液を水１０ｍｌ中に注ぎ入れ、そし
て酢酸エチルを用いて抽出する。有機層を水および飽和
塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4
上で乾燥する。酢酸エチルを蒸留除去した後、残渣をシ
リカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（５
−９５）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精
製し、そして油生成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光
法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．０２（ｍ、１Ｈ）、１．２６（ｔ、
１Ｈ）、１．２９（ｓ、３Ｈ）、１．３０（ｓ、３
Ｈ）、１．４３ないし１．５５（ｍ、１Ｈ）、１．６１
ないし１．６６（ｍ、２Ｈ）、１．８７（ｍ、１Ｈ）、
２．０６（ｍ、１Ｈ）、２．２３（ｍ、１Ｈ）、２．４
０（ｔ、２Ｈ）、２．５２（ｓ、３Ｈ）、２．６９
（ｍ、１Ｈ）、２．８８（ｄ、１Ｈ）、７．２２（ｄ、
２Ｈ）、８．４９（ｄ、２Ｈ）。
【０１５４】実施例２３ ２−［４−（２−メルカプト
−エチル）ピペリジニ−１−イル］−２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］プロパノ−１−オン ２３ａ ２−［４−（２−ヒドロキシ−エチル）ピペリ
ジニ−１−イル］−２−メチル−１−［４−（メチルチ
オ）フェニル］プロパノ−１−オン ４−ヒドロキシエチルピペリジン９．２１ｇ（７１．３
ｍｍｏｌ）、３−ジメチル−２−メトキシ−２−［４−
（メチルチオ）フェニル］オキシラン１１．２ｇ（５
０．１ｍｍｏｌ）およびｐ−キシレン５０ｍｌを混合
し、そして還流温度に加熱する。２０時間後、溶媒を蒸
留除去する。残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸
エチル−ヘキサン（３０：７０）を用いたカラムクロマ
トグラフィーによって精製し、そして油性生成物を得
る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって
確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１６ないし１．２６（ｍ、３Ｈ）、
１．２８（ｓ、６Ｈ）、１．４３（ｍ、１Ｈ）、１．５
２（ｑ、２Ｈ）、１．６６（ｄ、２Ｈ）、２．２５
（ｔ、２Ｈ）、２．５２（ｓ、３Ｈ）、２．７８（ｄ、
２Ｈ）、３．６８（ｔ、２Ｈ）．
【０１５５】２３ｂ ２−［４−（２−メルカプト−エ
チル）ピペリジニ−１−イル］−２−メチル−１−［４
−（メチルチオ）フェニル］プロパノ−１−オン ２−［４−（２−ヒドロキシ−エチル）ピペリジニ−１
−イル］−２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］プロパノ−１−オン９．８１ｇ（３０．５ｍｍｏ
ｌ）およびトリフェニルホスフィン８．０ｇを塩化メチ
レン１００ｍｌ中に溶解する。四臭化炭素１０．１ｇを
塩化メチレン５０ｍｌ中に溶解し、そして上述の溶液に
５℃で滴下添加する。１時間攪拌した後、生じた溶液を
濃縮し、スラリーを得、この材料をシリカゲルおよび溶
出液として酢酸エチル−ヘキサン（１０：９０）を用い
たカラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油
性生成物を得る。生じた材料を次の反応のために使用す
る。上述の油性生成物１３．０ｇを無水ジメチルアセト
アミド１００ｍｌに溶解し、そしてカリウムチオアセテ
ート４．５６ｇを添加する。２．５時間５０℃で攪拌し
た後、反応混合物を氷水中に注ぎ入れ、そして酢酸エチ
ルを用いて抽出する。結合された有機層を飽和塩化ナト
リウム溶液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥
する。溶媒を蒸発器によって除去し、そして粗油をさら
にシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン
（１０：９０）を用いたカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、そして油生成物を得る。生成物をエタノー
ル４０ｍｌ中に溶解し、そして溶液を窒素によって１０
分間泡立て、酸素を除去する。溶液に２Ｎ 水酸化ナト
リウム溶液１０ｍｌを添加し、そして０℃で１時間攪拌
する。反応混合物を２Ｎ 塩酸溶液を添加することによ
って中和した後、生じた溶液を水１０ｍｌ中に注ぎ入
れ、そして酢酸エチルを用いて抽出する。有機層を水お
よび飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、そしてＭ
ｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸エチルを蒸留除去した後、
残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキ
サン（５−９５）を用いたカラムクロマトグラフィーに
よって精製し、そして油生成物を得る。構造を 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．１６（ｍ、２Ｈ）、１．２８（ｓ、
６Ｈ）、１．３１（ｔ、１Ｈ）、１．４２（ｍ、１
Ｈ）、１．５６（ｑ、２Ｈ）、１．６３（ｄ、２Ｈ）、
２．２４（ｔ、２Ｈ）、２．５２（ｓ、３Ｈ）、２．５
３（ｍ、２Ｈ）、２．７９（ｄ、２Ｈ）、７．２１
（ｄ、２Ｈ）、８．５３（ｄ、２Ｈ）。
【０１５６】実施例２４ １−［４−（３−メルカプト
−プロポキシ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリ
ニ−４−イル−プロパノ−１−オン ２４ａ １−［４−（３−ヒドロキシ−プロポキシ）フ
ェニル］−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プ
ロパノ−１−オン １，３−プロパノール２４．９ｇ（０．３３ｍｏｌ）を
無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、そして
（油中に６０％で分散された）水酸化ナトリウム６．４
ｇを、５℃の温度を保つような割合の部分によって添加
する。無水ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中の１−（４
−フルオロフェニル）−２−メチル−２−モルホリニ−
４−イル−プロパノ−１−オン２０．０ｇ（０．０８ｍ
ｏｌ）を８時間にわたって添加する。懸濁液をさらに１
７時間攪拌し、その後生じた反応混合物を氷水中に注ぎ
入れる。粗生成物を酢酸エチルを用いて抽出し、飽和Ｎ
ａＯＨ溶液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥
する。酢酸エチルを蒸留除去した後、残渣をシリカゲル
および溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（４０：６
０）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
し、そして油性生成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光
法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．８５（ｓ、
１Ｈ）、１．８７（ｍ、２Ｈ）、２．５７（ｍ、４
Ｈ）、３．６９（ｍ、４Ｈ）、３．８７（ｔ、２Ｈ）、
４．１９（ｍ、２Ｈ）、６．９０（ｄ、２Ｈ）、８．５
９（ｄ、２Ｈ）。
【０１５７】２４ｂ １−［４−（３−ヨード−プロポ
キシ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリニ−４−
イル−プロパノ−１−オン １−［４−（３−ヒドロキシ−プロポキシ）フェニル］
−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−
１−オン１６．２ｇ（５３ｍｍｏｌ）、イミダゾール
８．９７ｇ（１３２ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホス
フィン３４．５ｇ（１３２ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン
１５０ｍｌ中に溶解する。溶液にヨウ素２７．０ｇ（１
０６ｍｍｏｌ）を添加し、そして室温で１時間攪拌す
る。塩化メチレン１００ｍｌを反応混合物に添加し、そ
してナトリウムスルフィット水溶液および水を用いて洗
浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。塩化メチルを蒸
留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢
酸エチル−ヘキサン（１：３）を用いたカラムクロマト
グラフィーによって精製し、そして油性生成物を得る。
構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認
する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、２．３０（ｍ、
２Ｈ）、２．５７（ｍ、４Ｈ）、３．３８（ｔ、２
Ｈ）、３．６９（ｍ、４Ｈ）、４．１１（ｔ、２Ｈ）、
６．９１（ｄ、２Ｈ）、８．６０（ｄ、２Ｈ）。
【０１５８】２４ｃ １−［４−（３−メルカプト−プ
ロポキシ）フェニル］−２−メチル−２−モルホリニ−
４−イル−プロパノ−１−オン １−［４−（４−ヨード−プロポキシ）フェニル］−２
−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−
オン１２．５ｇ（２９．９ｍｍｏｌ）を、ジメチルアセ
トアミド８０ｍｌ中に溶解する。溶液にカリウムチオア
セテート４．４７ｇを添加し、そして混合物を５０℃に
加熱する。反応混合物を５０℃で４時間攪拌した後、水
１００ｍｌに注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて抽出
する。有機相を水および飽和塩化ナトリウム溶液を用い
て洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そして濃縮し、油性
生成物を得る。生じた中間体３．７１ｇをエタノール１
００ｍｌ中に溶解し、そして溶液を窒素によって３０分
間泡立て、酸素を除去する。溶液に２Ｎ 水酸化ナトリ
ウム溶液１０ｍｌを添加し、そして０℃で３０分間攪拌
する。反応混合物を２Ｎ 塩酸溶液を添加することによ
って中和した後、溶液を濃縮し、そして酢酸エチルを用
いて抽出する。有機層を水および飽和塩化ナトリウム溶
液を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢
酸エチルを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶
出液として酢酸エチル−ヘキサン（２０：８０）を用い
たカラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油
性生成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ
3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３１（ｓ、６Ｈ）、１．３９（ｔ、
１Ｈ）、２．１１（ｍ、２Ｈ）、２．５７（ｍ、４
Ｈ）、２．５７（ｍ、４Ｈ）、２．７５（ｑ、２Ｈ）、
３．６９（ｍ、４Ｈ）、４．１５（ｍ、２Ｈ）、６．９
１（ｄ、２Ｈ）、８．５８（ｄ、２Ｈ）。
【０１５９】実施例２５ １−［４−（３−メルカプト
−プロピルチオ）フェニル］−２−（３−メルカプトメ
チル−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル−プロパノ
−１−オン ２５ａ １−（４−クロロ−フェニル）−２−（３−ヒ
ドロキシメチル−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル
−プロパノ−１−オン ３−ヒドロキシメチルピペリジン２４．３ｇ（０．２２
ｍｏｌ）、３−ジメチル−２−メトキシ−２−［４−ク
ロロ−フェニル］オキシラン２３．２ｇ（０．１１ｍｏ
ｌ）およびｐ−キシレン５０ｍｌを混合し、そして還流
温度に加熱する。２０時間後、混合物を水および飽和塩
化ナトリウム溶液を用いて引き続いて洗浄し、その後Ｍ
ｇＳＯ4 上で乾燥する。溶媒を蒸留除去した後、粗油を
シリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン
（３０：８０）を用いたカラムクロマトグラフィーによ
って精製し、そして油性生成物を得る。構造を 1Ｈ−Ｎ
ＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．０３（ｍ、１Ｈ）、１．２８（ｍ、
４Ｈ）、１．３０（ｓ、３Ｈ）、１．５０（ｍ、１
Ｈ）、１．６３（ｍ、１Ｈ）、１．７４（ｍ、２Ｈ）、
２．０４（ｔ、１Ｈ）、２．２４（ｍ、１Ｈ）、２．６
８（ｄ、１Ｈ）、２．８８（ｄ、１Ｈ）、３．４６
（ｍ、２Ｈ）、７．３４（ｄ、２Ｈ）、８．５１（ｄ、
２Ｈ）。
【０１６０】２５ｂ １−［４−（３−ヒドロキシ−プ
ロピルチオ）フェニル］−２−（３−ヒドロキシメチル
−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル−プロパノ−１
−オン１−（４−クロロ−フェニル）−２−（３−ヒド
ロキシメチル−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル−
プロパノ−１−オン２２．４ｇ、３−メルカプトプロパ
ノール８．３９ｇおよび炭酸カリウム２１．０ｇを、無
水ジメチルアセトアミド７５ｍｌ中で混合する。１８時
間８０℃で攪拌した後、混合物をろ過し固形分を除去
し、そして氷水中に注ぎ入れる。粗生成物を酢酸エチル
を用いて抽出し、飽和ＮａＣｌ溶液を用いて洗浄し、そ
してＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸エチルを蒸留除去し
た後、残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸エチル
−ヘキサン（４０：６０）を用いたカラムクロマトグラ
フィーによって精製し、そして油性生成物を得る。構造
を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認す
る。 δ［ｐｐｍ］、１．０２（ｍ、１Ｈ）、１．２９（ｓ、
３Ｈ）、１．３０（ｓ、３Ｈ）、１．５２ないし１．７
７（ｍ、６Ｈ）、１．９５（ｍ、２Ｈ）、２．０５
（ｔ、１Ｈ）、２．２７（ｔ、１Ｈ）、２．６７（ｄ、
１Ｈ）、２．８６（ｄ、１Ｈ）、３．１２（ｔ、２
Ｈ）、３．４４（ｍ、２Ｈ）、３．７８（ｍ、２Ｈ）、
７．２８（ｄ、２Ｈ）、８．４８（ｄ、２Ｈ）。
【０１６１】２５ｃ チオ酢酸 Ｓ−（１−｛２−［４
−（３−アセチルチオ−プロピルチオ）フェニル］−
１，１−ジメチル−２−オキソ−エチル｝−ピペリジニ
−３−イルメチル）エステル １−［４−（３−ヒドロキシ−プロピルチオ）フェニ
ル］−２−（３−ヒドロキシメチル−ピペリジニ−１−
イル）−２−メチル−プロパノ−１−オン１０．２ｇ
（３２．０ｍｍｏｌ）およびトリフェニルホスフィン２
０．１ｇ（７６．８ｍｍｏｌ）を、塩化メチレン１００
ｍｌ中に溶解する。四臭化炭素２５．５ｇを塩化メチレ
ン３０ｍｌ中に溶解し、そして上述の溶液に５℃で滴下
添加する。１．５時間攪拌した後、生じた溶液を濃縮
し、そしてスラリーを得、シリカゲルおよび溶出液とし
て酢酸エチル−ヘキサン（５：９５）を用いたカラムク
ロマトグラフィーによって精製し、そして油性生成物を
得る。生じた材料を次の反応のために使用する。前記油
性生成物１１．１ｇを無水ジメチルアセトアミド９０ｍ
ｌ中に溶解し、そしてカリウムチオアセテート６．９２
ｇを一度に添加する。１時間５０℃で攪拌した後、反応
混合物を氷水中に注ぎ入れ、そして酢酸エチルを用いて
抽出する。結合された有機層を飽和塩化ナトリウム溶液
を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。溶媒
を乾燥器によって除去し、そして粗油をさらにシリカゲ
ルおよび溶出液として酢酸エチル−ヘキサン（１０：９
０）を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
し、そして油性生成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光
法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．０６（ｍ、１Ｈ）、１．２７（ｓ、
３Ｈ）、１．２９（ｓ、３Ｈ）、１．４７（ｍ、１
Ｈ）、１．５９（ｍ、１Ｈ）、１．７５（ｍ、２Ｈ）、
１．９８（ｍ、３Ｈ）、２．２３（ｍ、１Ｈ）、２．３
０（ｓ、３Ｈ）、２．３５（ｓ、３Ｈ）、２．６２
（ｄ、１Ｈ）、２．７９（ｍ、３Ｈ）、３．０４（ｍ、
４Ｈ）、７．２５（ｄ、２Ｈ）、８．４４（ｄ、２
Ｈ）。
【０１６２】２５ｄ １−［４−（３−メルカプト−プ
ロピルチオ）フェニル］−２−（３−メルカプトメチル
−ピペリジニ−１−イル）−２−メチル−プロパノ−１
−オン 実施例２５ｃの生成物６．９７ｇ（１４．９ｍｍｏｌ）
を、エタノール６０ｍｌおよびジメチルアセトアミド１
０ｍｌの混合物中に溶解し、そして生じた溶液を窒素に
よって１０分間泡立て、酸素を除去する。溶液に２Ｎ
水酸化ナトリウム溶液１５ｍｌを添加し、そして０℃で
１５分間攪拌する。反応混合物を２Ｎ塩酸溶液を添加す
ることによって中和した後、エタノールを蒸留によって
除去する。粗生成物を酢酸エチルを用いて抽出し、そし
て結合された有機層を水および飽和塩化ナトリウム溶液
を用いて洗浄し、そしてＭｇＳＯ4 上で乾燥する。酢酸
エチルを蒸留除去した後、残渣をシリカゲルおよび溶出
液として酢酸エチル−ヘキサン（５：９５）を用いたカ
ラムクロマトグラフィーによって精製し、そして油性生
成物を得る。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）
によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．０２（ｍ、１Ｈ）、１．２１（ｍ、
１Ｈ）、１．２８（ｓ、３Ｈ）、１．３０（ｓ、３
Ｈ）、１．３９（ｔ、１Ｈ）、１．４８（ｍ、１Ｈ）、
１．６４（ｍ、２Ｈ）、１．８８（ｍ、１Ｈ）、２．０
２（ｍ、３Ｈ）、２．２３（ｍ、１Ｈ）、２．４０
（ｔ、２Ｈ）、２．６８（ｍ、３Ｈ）、２．９０（ｄ、
１Ｈ）、３．１１（ｔ、２Ｈ）、７．２６（ｄ、２
Ｈ）、８．４８（ｄ、２Ｈ）。
【０１６３】実施例２６ １−［４’−（３−メルカプ
ト−プロピルチオ）ビフェニリ−４−イル］−２−メチ
ル−２−モルホリニ−４−イル−プロパノ−１−オン （ＥＰ−Ａ−３００２において記載された方法によって
製造された）１−（４’−ブロモ−ビフェニリ−４−イ
ル）−２−メチル−２−モルホリニ−４−イル−プロパ
ノ−１−オン３．５ｇ（９．０ｍｍｏｌ）および１，３
−プロパンジチオール５．４ｍｌ（５４ｍｍｏｌ）を、
ジメチルアセトアミド５０ｍｌ中に溶解し、そして溶液
を１４０℃付近で炭酸カリウム２．５ｇと共に２．５時
間攪拌する。その後溶液を室温に冷却し、そして水中に
注ぎ入れる。粗生成物を塩化メチレンを用いて抽出し、
飽和塩化ナトリウム溶液を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上
で乾燥し、そして濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶
出液として酢酸エチル−ヘキサン（１０：９０）を用い
たカラムクロマトグラフィーによって精製する。構造を
1Ｈ−ＮＭＲ分光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、１．３５（ｓ、６Ｈ）、１．３８（ｔ、
１Ｈ）、１．９８（ｔｔ、２Ｈ）、２．６１（ｔ、４
Ｈ）、２．６９（ｄｔ、２Ｈ）、３．１１（ｔ、２
Ｈ）、３．７２（ｔ、４Ｈ）、７．４２（ｄ、２Ｈ）、
７．５１（ｄ、２Ｈ）、７．６２（ｄ、２Ｈ）、８．６
３（ｄ、２Ｈ）。
【０１６４】実施例２７ ２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−［４’−（３−メルカプト−プロピルチ
オ）ビフェニリ−４−イル］−ブタノ−１−オン 水酸化ナトリウム９．２ｍｍｏｌを無水ジメチルホルム
アミド４０ｍｌに懸濁し、そして１，３−プロパンジチ
オール２．３ｍｌ（２３ｍｍｏｌ）を滴下添加する。そ
の後ジメチルホルムアミド６０ｍｌ中の（ＵＳ ５５３
４６２９において記載された方法によって製造された）
２−ベンジル−１−（４’−ブロモ−ビフェニリ−４−
イル）−２−ジメチルアミノ−ブタノ−１−オンを滴下
添加する。溶液を１００℃で２時間攪拌した後、溶液を
水中に注ぎ入れる。粗生成物を塩化メチレンを用いて抽
出し、水を用いて洗浄し、ＭｇＳＯ4 上で乾燥し、そし
て濃縮する。残渣をシリカゲルおよび溶出液として酢酸
エチル−ヘキサン（１０：９０）を用いたカラムクロマ
トグラフィーによって精製する。構造を 1Ｈ−ＮＭＲ分
光法（ＣＤＣｌ3 ）によって確認する。 δ［ｐｐｍ］、０．７２（ｔ、３Ｈ）、１．３７（ｔ、
１Ｈ）、１．８４ないし２．０１（ｍ、３Ｈ）、２．０
９（ｄｐ、１Ｈ）、２．４０（ｓ、６Ｈ）、２．６８
（ｄｔ、２Ｈ）、３．１０（ｔ、２Ｈ）、３．２３
（ｓ、２Ｈ）、７．１５ないし７．２９（ｍ、５Ｈ）、
７．４１（ｄ、２Ｈ）、７．５５ないし７．６２（ｍ、
４Ｈ）、８．４１（ｄ、２Ｈ）。
【０１６５】実施例２８ 光硬化可能な配合物を以下の成分を混合することによっ
て製造する。 ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレ
ート RＳＲ ３９９、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏ．、Ｂ
ｅｒｋｓｈｉｒｅ、ＧＢ、１０．０ｇ トリプロピレングリコールジアクリレート、Ｓａｒｔｏ
ｍｅｒ Ｃｏ．、Ｂｅｒｋｓｈｉｒｅ、ＧＢ、１５．０
ｇ Ｎ−ビニルピロリドン、Ｆｌｕｋａ、１５．０ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート、Ｄｅｇｕｓ
ｓａ、１０．０ｇ ウレタンアクリレート RＡｃｔｙｌａｎ ＡＪ２０、
Ｓｏｃｉｅｔｅ Ｎａｔｉｏｎａｌｅ ｄｅｓ Ｐｏｕ
ｄｒｅｓ ｅｔ Ｅｘｐｌｏｓｉｆｓ、５０．０ｇ 均染助剤 RＢｙｋ ３００、Ｂｙｋ−Ｍａｌｌｉｎｃ
ｋｒｏｄｔ、０．３ｇ
【０１６６】この組成物の一部を、配合物の全量に基づ
いて、２％の実施例１の光開始剤と共に混合する。全て
の操作を赤色光下で行う。光開始剤を添加した試料を３
００μｍアルミニウム箔に塗布する。乾燥フィルムの厚
さは６０μｍである。このフィルムに７６μｍ厚ポリエ
ステルフィルムを被覆し、その上に２１段階の異なる光
学濃度（ストッファーくさび（Ｓｔｏｕｆｆｅｒ ｗｅ
ｄｇｅ））を有する標準化された試験ネガを置く。試料
を第二のＵＶ透過フィルムを用いて覆い、そして真空に
よって金属板上に圧縮する。暴露を第一の一連の試験に
おいて５秒間、第二の試験において１０秒間、また第三
の試験において２０秒間、４ｋＷキセノンランプを使用
して３０ｃｍの距離で行う。暴露に続いて、カバーフィ
ルムおよびマスクを除去し、そして暴露されたフィルム
をエタノール中で１０秒間２３℃で超音波槽において現
像する。乾燥を４０℃で熱対流炉において５分間行う。
使用された開始剤系の感度を、粘着無しに現像（即ち重
合）された最終くさび段階を示すことによって特徴づけ
る。番号がより大きくなるにつれて、試験された系はよ
り敏感になる。
【０１６７】さらなる試験を、同様な配合物を用いて、
さらに２−イソプロピルチオキサントンおよび４−イソ
プロピルチオキサントン（ RＱｕａｎｔａｃｕｒｅ Ｉ
ＴＸ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｉｏｓｙｎｔｈ
ｅｔｉｃｓ）０．２％を添加して行う。結果を表１に要
約する。
【０１６８】実施例２９ 光硬化可能な配合物を以下の成分を混合することによっ
て製造する。 RＳｃｒｉｐｓｅｔ ５４０（アセトン中のポリスチロール−マレイン酸無水 物−コポリマーの３０％溶液）、Ｍｏｎｓａｎｔｏ、１５０．３０ｇ ４５．１ｇ トリメチロールプロパントリアクリレート、４８．３０ｇ ４８．３ｇ ポリエチレングリコールジアクリレート、６．６０ｇ ６．６ｇ ──────────────────────────────────── 固形分含有量１００．０ｇ
【０１６９】この組成物の一部を、配合物の全量に基づ
いて、２％の実施例１の光開始剤と共に混合する。全て
の操作を赤色光下で行う。光開始剤を添加した試料を２
００μｍアルミニウム箔（１０×１５ｃｍ）に塗布す
る。溶媒を６０℃に１５分間熱対流炉において加熱する
ことを通して蒸発させる。そのように製造されたフィル
ム上に７６μｍ厚ポリエステルフィルムを被覆し、その
上に２１段階の異なる光学濃度（ストッファーくさび）
を有する標準化された試験ネガを置く。試料を第二のＵ
Ｖ透過フィルムを用いて覆い、そして真空によって金属
板上に圧縮する。暴露を４０秒間ＭＯ６１／５ｋＷラン
プを使用して３０ｃｍの距離で行う。暴露に続いて、カ
バーフィルムおよびマスクを除去し、そして暴露された
フィルムを０．８５％Ｎａ2 ＣＯ3 水溶液中で１２０秒
間超音波槽において現像する。
【０１７０】乾燥を４０℃で熱対流炉において５分間行
う。使用された開始剤系の感度を、粘着無しに現像（即
ち重合）された最終くさび段階を示すことによって特徴
づける。番号がより大きくなるにつれて、試験された系
はより敏感になる。実施例１の光開始剤を用いて、１１
の段階番号が上記の試験において達成される。
【０１７１】実施例３０ 光硬化可能な組成物を以下の成分を混合することによっ
て製造する。R Ｓａｒｔｏｍｅｒ ＳＲ ４４４、ペンタエリトリト
ールトリアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａ
ｎｙ、Ｗｅｓｔｃｈｅｓｔｅｒ）、３７．６４ｇR Ｃｙｍｅｌ ３０１、ヘキサメトキシメチルメラミン
（ＡｍｅｒｉｃａｎＣｙａｎａｍｉｄ、ＵＳＡ）、１
０．７６ｇR Ｃａｒｂｏｓｅｔ ５２５、カルボキシル基を含む熱
可塑性ポリアクリレート（Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃ
ｈ）、４７．３０ｇ ポリビニルピロリドン ＰＶＰ（ＧＡＦ、ＵＳＡ）、
４．３０ｇ 以上の成分からなる組成物１００ｇを 塩化メチレン、３１９．００ｇ、および メタノール、３０ｇと混合する。
【０１７２】この組成物の試料を、固体含有量に基づい
て、２％の実施例１の光開始剤と共に、室温で１時間攪
拌することによって混合する。全ての操作を赤色光下で
行う。開始剤を添加した試料を３００μｍアルミニウム
箔（１０×１５ｃｍ）に塗布する。溶媒を最初に室温で
５時間乾燥し、そしてその後６０℃で１５分間熱対流炉
において加熱することによって除去し、乾燥フィルム厚
３５μｍを得る。７６μｍ厚ポリエステルフィルムを液
体フィルム上に置き、そして２１段階の異なる光学濃度
（ストッファーくさび）を有する標準化された試験ネガ
をこの上に置く。試料を第二のＵＶ透過フィルムを用い
て覆い、そして真空によって金属板上に圧縮する。試料
をその後第一の一連の試験において１０秒間、第二の試
験において２０秒間、また第三の試験において４０秒
間、４ｋＷキセノンランプを使用して３０ｃｍの距離で
暴露する。暴露後、カバーフィルムおよびマスクを除去
し、そして暴露されたフィルムを２４０秒間１％強度炭
酸ナトリウム水溶液を用いて超音波槽において現像し、
そしてその後６０℃で熱対流炉において１５分間乾燥す
る。使用された開始剤系の感度を、粘着無しに複写され
た最終くさび段階を示すことによって特徴づける。段階
の番号がより大きくなるにつれて、系はより敏感にな
る。
【０１７３】さらなる一連の試験を、同様な配合物を用
いて、さらに２−イソプロピルチオキサントンおよび４
−イソプロピルチオキサントン（ RＱｕａｎｔａｃｕｒ
ｅＩＴＸ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｉｏｓｙｎ
ｔｈｅｔｉｃｓ）０．２％を添加して行う。結果を表２
に要約する。
【０１７４】実施例３１ 感度試験のための光硬化可能な配合物を以下の成分を混
合することによって製造する。 アクリル化アクリルコポリマー ＡＣＡ２００Ｍ、Ｄａ
ｉｃｅｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ、Ｌｔｄによって供
給、２００重量部 ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨ
Ａ）、ＵＣＢ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓによって供給、１５
重量部 試験された光開始剤、１５重量部
【０１７５】全ての操作を黄色光下で行う。配合物をア
ルミニウム板に塗布する。溶媒を８０℃で１５分間熱対
流炉において加熱することによって除去する。乾燥フィ
ルムの厚さは２５μｍである。この被覆にアセテートフ
ィルムを被覆し、その上に２１段階の異なる光学濃度
（ストッファーくさび）を有する標準化された試験ネガ
を置く。試料を第二のＵＶ透過フィルムを用いて覆い、
そして真空によって金属板上に圧縮する。暴露を第一の
一連の試験において１０秒間、第二の試験において２０
秒間、また第三の試験において４０秒間、３ｋＷ金属ハ
ライドランプを使用して６０ｃｍの距離で行う。暴露に
続いて、カバーフィルムおよびマスクを除去し、そして
暴露されたフィルムを１％炭酸ナトリウム水溶液中で２
４０秒間３０℃で超音波槽において現像する。使用され
た開始剤系の感度を、粘着無しに複写（即ち、重合）さ
れた最終くさび段階を示すことによって特徴づける。段
階の番号がより大きくなるにつれて、試験された系はよ
り敏感になる。
【０１７６】さらなる一連の試験を、上記された配合物
に２−イソプロピルチオキサントンおよび４−イソプロ
ピルチオキサントン（ RＱｕａｎｔａｃｕｒｅ ＩＴ
Ｘ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｂｉｏｓｙｎｔｈｅ
ｔｉｃｓ）を添加して行う。 アクリル化アクリルコポリマー ＡＣＡ２００Ｍ、Ｄａ
ｉｃｅｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ、Ｌｔｄによって供
給、２００重量部 ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨ
Ａ）、ＵＣＢ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓによって供給、１５
重量部 試験された光開始剤、１５重量部R Ｑｕａｎｔａｃｕｒｅ ＩＴＸ、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉ
ｏｎａｌ Ｂｉｏｓｙｎｔｈｅｔｉｃｓによって供給、
１重量部 試験結果を表３に要約する。 表中、化合物Ａは、次式
【化７９】 で表される化合物を表し。また化合物Ｂは、次式
【化８０】 で表される化合物を表す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｄ 207/08 Ｃ０７Ｄ 207/08 211/20 211/20 295/10 295/10 Ｚ Ｃ０８Ｆ 2/50 Ｃ０８Ｆ 2/50 Ｇ０３Ｃ 1/73 Ｇ０３Ｃ 1/73 Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０２ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０２ 7/027 7/027 7/031 7/031 (72)発明者 ビルバウム ジャン・ルック 兵庫県神戸市東灘区御影山手４−19−１− 103 (72)発明者 中島 容子 大阪府豊中市待兼山町１−12石橋２宿舎４ −３ (72)発明者 松本 啓 兵庫県宝塚市旭町１−15−15−201 (72)発明者 岡 英隆 兵庫県宝塚市末成町18−27

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 次式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩおよびＩＶ 【化１】 ［式中、ａは整数１、２または４を表し、Ａｒはフェニ
    ル基、ビフェニル基またはベンゾイルフェニル基であっ
    て、未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数１ないし
    １２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニ
    ル基、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェ
    ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＯＯ
    Ｈ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、
    −ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ
    8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子
    数１ないし４のアルキル）基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）2 基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）お
    よび−ＮＨＣＯＲ9 の中の１ないし５個によって、もし
    くは次式Ｖ 【化２】 で表される基によって置換された基を表すか、またはＡ
    ｒは次式ＶＩまたはＶＩＩ 【化３】 で表される基を表し、Ａｒ1 はａが１を表す場合、Ａｒ
    と同じ意味を有し、ａが２を表す場合、Ａｒ1 は次式Ｖ
    ＩＩＩまたはＶＩＩＩａ 【化４】 で表される二価芳香族基を表し、ａが４を表す場合、Ａ
    ｒ1 は次式ＶＩＩＩｂ 【化５】 で表される四価芳香族基を表し、Ａｒ2 は次式 【化６】 で表される基を表し、これらの基は未置換もしくはハロ
    ゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素
    原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ない
    し６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１ない
    し３のアルキル基、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）基、−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ
    8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ
    2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2
    基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）および−ＮＨＣＯＲ9 の中の
    １ないし５個によって、もしくは上記で定義された式Ｖ
    で表される基によって置換されているか、またはＡｒ2
    は次式ＶＩａまたはＶＩＩａ 【化７】 で表される基を表し、Ｘは直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−ま
    たは−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、Ｙは水素原子、炭素原子数
    １ないし１２のアルキル基であって、未置換もしくは−
    ＯＨ、−ＯＲ6 、−ＣＯＯＲ6 、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ6 ）
    2 もしくはハロゲン原子の中の１ないし５個によって置
    換されているか、もしくは次式Ｉａ 【化８】 で表される基によって１ないし５回置換された基を表す
    か、またはＹは炭素原子数２ないし２０のアルキル基で
    あって、１ないし９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ6 ）−、−Ｓ
    −、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）
    −、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−
    Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、次式 【化９】 で表される基によって中断された基を表し、ここで該中
    断された炭素原子数２ないし２０のアルキル基はさらに
    １ないし５個の−ＳＨによって置換されることができる
    か、またはＹはベンジル基であって未置換もしくは−Ｃ
    Ｈ2 ＳＨによって１回または２回置換された基を表し、
    そして該ベンジル基はさらに炭素原子数１ないし４のア
    ルキル基によって置換され得るか、またはＹは上記で定
    義されたＡｒ、または次式 【化１０】 で表される基を表すか、またはＹは５ないし７員の脂肪
    族または芳香族ヘテロ環であって、１ないし４個のＮ、
    Ｏもしくは／およびＳ原子を含む環を表すか、またはＹ
    は８ないし１２員の脂肪族または芳香族二環系であっ
    て、１ないし６個のＮ、Ｏもしくは／およびＳ原子を含
    む環系を表し、ここで該単環式または二環式環はさらに
    −ＳＨによって置換されるか、もしくは式Ｉａで表され
    る基によって１ないし５回置換されることができるか、
    またはＹは次式 【化１１】 で表される基を表し、ｑは１または２を表し、ｒは１、
    ２または３を表し、ｐは０または１を表し、ｔは１ない
    し６を表し、ｕは２または３を表し、Ｒ1 およびＲ2 は
    互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基であ
    って、未置換もしくは−ＯＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数
    １ないし８のアルキル）基、（炭素原子数１ないし４の
    アルキル）ＣＯＯ−基もしくは−Ｎ（Ｒ3 ）（Ｒ4 ）に
    よって置換された基を表すか、またはＲ1 およびＲ2 は
    互いに独立して炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
    フェニル基、クロロフェニル基、Ｒ7 −Ｏ−フェニル
    基、Ｒ8 −Ｓ−フェニル基またはフェニル−炭素原子数
    １ないし３のアルキル基を表し、ここで該炭素原子数３
    ないし６のアルケニル基、該フェニル基、該クロロフェ
    ニル基、該Ｒ7 Ｏ−フェニル基、該Ｒ8 Ｓ−フェニル基
    または該フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基
    は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換さ
    れているか、またはＲ1 およびＲ2 は一緒になって直鎖
    もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２ないし９のアルキレン
    基、炭素原子数３ないし９のオキサアルキレン基または
    炭素原子数３ないし９のアザアルキレン基を表し、ここ
    で該炭素原子数２ないし９のアルキレン基、該炭素原子
    数３ないし９のオキサアルキレン基または該炭素原子数
    ３ないし９のアザアルキレン基は未置換もしくは１ない
    し５個の−ＳＨによって置換されているか、またはＲ1
    およびＲ2 は互いに独立して次式ＩＸまたはＸ 【化１２】 で表される基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４のアルキ
    ル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１
    ないし４のアルキル）基によって置換された基を表す
    か、またはＲ3 は炭素原子数３ないし５のアルケニル
    基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または
    フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基を表し、
    Ｒ4 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
    数２ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭
    素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−
    ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって
    置換された基を表すか、またはＲ4 は炭素原子数３ない
    し５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロ
    アルキル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル基、未置換のフェニル基、またはフェニル基であって
    ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
    炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置換さ
    れた基を表すか、またはＲ4 はＲ2 と一緒になって炭素
    原子数１ないし７のアルキレン基、フェニル−炭素原子
    数１ないし４のアルキレン基、ｏ−キシリレン基、２−
    ブテニレン基または炭素原子数２ないし３のオキサアル
    キレン基または炭素原子数２ないし３のアザアルキレン
    基を表すか、またはＲ3 およびＲ4 は一緒になって炭素
    原子数３ないし７のアルキレン基であって、−Ｏ−、−
    Ｓ−、−ＣＯ−もしくは−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断さ
    れることができる基を表し、そして該炭素原子数３ない
    し７のアルキレン基は−ＯＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４
    のアルキル）基によって置換されることができ、Ｒ5 は
    炭素原子数１ないし６のアルキレン基、キシリレン基、
    シクロヘキシレン基を表し、ここで該炭素原子数１ない
    し６のアルキレン基、該キシリレン基、該シクロヘキシ
    レン基は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって
    置換されているか、またはＲ5 は直接結合を表し、Ｒ6
    は水素原子、未置換もしくは−ＯＨ、−ＳＨもしくはＨ
    Ｓ−（ＣＨ2 ）q −ＣＯＯ−置換された炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし１２のアル
    キル基であって、−Ｏ−、−ＮＨ−もしくは−Ｓ−によ
    って中断された基を表すか、またはＲ6 は炭素原子数３
    ないし５のアルケニル基、フェニル−炭素原子数１ない
    し３のアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、未置換もしく
    はＯＨ−もしくはＳＨ−置換された炭素原子数１ないし
    ４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −基、未置換もしく
    はＯＨ−もしくはＳＨ−置換された炭素原子数２ないし
    ８のアルカノイル基を表すか、またはＲ6 はベンゾイル
    基を表し、Ｚは次式 【化１３】 、−Ｎ（Ｒ17）−または−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−Ｎ
    （Ｒ17）−で表される二価基を表し、Ｕは直鎖または枝
    分れ鎖の炭素原子数１ないし７のアルキレン基を表し、
    ＶおよびＷは互いに独立して直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−
    または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＶおよびＷは同時に
    両方とも直接結合を表さず、ＭはＯ、ＳまたはＮ（Ｒ
    6 ）を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
    のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
    基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を
    表すか、またはＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル
    基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素
    原子数１ないし４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モ
    ルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
    シ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣ
    Ｒ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）基、−ＣＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のア
    ルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）2 基、次式 【化１４】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基もしくは次式 【化１５】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
    すか、またはＲ7 は２，３−エポキシプロピル基、−
    （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）m Ｈ、未置換のフェニル基、または
    フェニル基であってハロゲン原子、炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
    もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    基によって置換された基を表すか、またはＲ7 はフェニ
    ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、テトラヒドロ
    ピラニル基、テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ19、
    −ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、−Ｃ
    ＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＣＯ
    Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 基、−Ｓｉ
    （Ｒ20）（Ｒ21）2 または−ＳＯ2 Ｒ22を表し、Ｒ8 は
    炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３な
    いし１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキ
    シシクロヘキシル基を表すか、またはＲ8 は炭素原子数
    １ないし４のアルキル基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−Ｃ
    Ｎ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    2 基、ピペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子
    数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、
    −ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアル
    キル）基、−ＯＯＣＲ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素
    原子数１ないし８のアルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子
    数１ないし４のアルキル）2 基、次式 【化１６】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基もしくは次式 【化１７】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
    すか、またはＲ8 は２，３−エポキシプロピル基、フェ
    ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニル−
    炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基、未置換
    のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
    子、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭
    素原子数１ないし４のアルキル）基によってモノ−また
    はポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は２−ベンゾ
    チアジル基、２−ベンズイミダゾリル基、−ＣＨ2 ＣＨ
    2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨまたは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ
    −ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨを表し、Ｒ9 およびＲ10は互いに
    独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル
    基、炭素原子数２ないし４のアルキル基であって−Ｏ
    Ｈ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−
    ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基によって置換された基を表すか、またはＲ9 およ
    びＲ10は互いに独立して炭素原子数３ないし５のアルケ
    ニル基、シクロヘキシル基、フェニル−炭素原子数１な
    いし３のアルキル基、未置換のフェニル基、またはフェ
    ニル基であって炭素原子数１ないし１２のアルキル基も
    しくはハロゲン原子によってモノ−またはポリ置換され
    た基を表すか、またはＲ9 およびＲ10は一緒になって炭
    素原子数２ないし７のアルキレン基であって−Ｏ−、−
    Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒ18）−によって中断されることが
    できる基を表し、Ｒ11およびＲ12は互いに独立して直接
    結合、−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｓ
    −、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＲ11お
    よびＲ12は同時に直接結合を表さず、Ｒ13は水素原子、
    炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を
    表し、ここで該炭素原子数１ないし８のアルキル基また
    は該フェニル基は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨ
    によって置換されており、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は互い
    に独立して水素原子または未置換もしくはＳＨ−置換さ
    れた炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ17は
    水素原子、未置換もしくはＳＨ−置換された炭素原子数
    １ないし８のアルキル基または未置換もしくはＳＨ−置
    換されたフェニル基を表し、Ｒ18は直鎖または枝分れ鎖
    の炭素原子数２ないし１６のアルキレン基であって、１
    ないし６個の−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒ17）−に
    よって中断されることができるか、もしくは１ないし５
    個の−ＳＨ基によって置換されることができる基を表
    し、Ｒ19は炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原
    子数２ないし４のアルケニル基またはフェニル基を表
    し、Ｒ20およびＲ21は互いに独立して炭素原子数１ない
    し４のアルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ22は炭素
    原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基または炭
    素原子数１ないし１４のアルキル基によって置換された
    フェニル基を表し、Ａｒ3 はフェニル基、ナフチル基、
    フリル基、チエニル基またはピリジル基を表し、ここで
    前記基は未置換もしくはハロゲン原子、−ＳＨ、−Ｏ
    Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、ハロゲン原
    子、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ17）2 、炭素原子数１ないし１２
    のアルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８の
    アルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 も
    しくは−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基
    によって置換された基によって置換されているか、もし
    くは前記基は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、
    炭素原子数１ないし４のアルコキシ基であって−ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし１８のアルキル）基もしくは−Ｃ
    Ｏ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって置換された基
    によって置換されているか、もしくは前記基は−（ＯＣ
    Ｈ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ
    3 、炭素原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェノキ
    シ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
    基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、フェニル基
    もしくはベンゾイル基によって置換されており、ｎは１
    ないし２０を表し、ｍは２ないし２０を表し、但し基Ａ
    ｒ、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
    4 、Ｒ5 またはＹのうちの少なくとも一つは１ないし５
    個の−ＳＨ基によって置換されているか、またはＹは少
    なくとも一つの−ＳＳ−基を含み、またＲ3 およびＲ4
    がモルホリノ基を表しかつＲ1 およびＲ2 が同時にメチ
    ル基を表す場合、Ａｒ1 は−ＳＲ8 （式中、Ｒ8 はＨま
    たは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 ＳＨを表す。）
    によって置換されたフェニル基を表さない。］で表され
    る化合物、または式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩもしくはＩＶで表
    される化合物の酸添加塩。
  2. 【請求項２】 （ａ）少なくとも１種の光重合可能なエ
    チレン性不飽和化合物と、および（ｂ）少なくとも１種
    の請求項１において定義された式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまた
    はＩＶで表される化合物とからなる組成物。
  3. 【請求項３】 （ａ）分子構造中に少なくとも二つのエ
    チレン性不飽和基および少なくとも一つのカルボキシル
    官能基を有するポリマーまたはオリゴマーと、および
    （ｂ） 光開始剤として、少なくとも１種の次式Ｉ、Ｉ
    Ｉ、ＩＩＩまたはＩＶ 【化１８】 ［式中、ａは整数１、２または４を表し、Ａｒはフェニ
    ル基、ビフェニル基またはベンゾイルフェニル基であっ
    て、未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数１ないし
    １２のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニ
    ル基、炭素原子数５ないし６のシクロアルキル基、フェ
    ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、−ＣＯＯ
    Ｈ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、
    −ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ
    8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子
    数１ないし４のアルキル）基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）2 基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）お
    よび−ＮＨＣＯＲ9 の中の１ないし５個によって、もし
    くは次式Ｖ 【化１９】 で表される基によって置換された基を表すか、またはＡ
    ｒは次式ＶＩまたはＶＩＩ 【化２０】 で表される基を表し、Ａｒ1 はａが１を表す場合、Ａｒ
    と同じ意味を有し、ａが２を表す場合、Ａｒ1 は次式Ｖ
    ＩＩＩまたはＶＩＩＩａ 【化２１】 で表される二価芳香族基を表し、ａが４を表す場合、Ａ
    ｒ1 は次式ＶＩＩＩｂ 【化２２】 で表される四価芳香族基を表し、Ａｒ2 は次式 【化２３】 で表される基を表し、これらの基は未置換もしくはハロ
    ゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素
    原子数３ないし１２のアルケニル基、炭素原子数５ない
    し６のシクロアルキル基、フェニル−炭素原子数１ない
    し３のアルキル基、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数
    １ないし４のアルキル）基、−ＯＲ7 、−ＳＨ、−ＳＲ
    8 、−ＳＯＲ8 、−ＳＯ2 Ｒ8 、−ＣＮ、−ＳＯ2 ＮＨ
    2 、−ＳＯ2 ＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    基、−ＳＯ2 Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）2
    基、−Ｎ（Ｒ9 ）（Ｒ10）および−ＮＨＣＯＲ9 の１な
    いし５個によって、もしくは上記で定義された式Ｖで表
    される基によって置換されているか、またはＡｒ2 は次
    式ＶＩａまたはＶＩＩａ 【化２４】 で表される基を表し、Ｘは直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−ま
    たは−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、Ｙは水素原子、炭素原子数
    １ないし１２のアルキル基であって、未置換もしくは−
    ＯＨ、−ＯＲ6 、−ＣＯＯＲ6 、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ6 ）
    2 もしくはハロゲン原子の中の１ないし５個によって置
    換されているか、もしくは次式Ｉａ 【化２５】 で表される基によって１ないし５回置換された基を表す
    か、またはＹは炭素原子数２ないし２０のアルキル基で
    あって、１ないし９個の−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ6 ）−、−Ｓ
    −、−ＳＳ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｓ）
    −、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−Ｘ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ−、−
    Ｃ（＝Ｓ）−Ｘ−、次式 【化２６】 で表される基によって中断された基を表し、ここで該中
    断された炭素原子数２ないし２０のアルキル基はさらに
    １ないし５個の−ＳＨによって置換されることができる
    か、またはＹはベンジル基であって未置換もしくは−Ｃ
    Ｈ2 ＳＨによって１回または２回置換された基を表し、
    そして該ベンジル基はさらに炭素原子数１ないし４のア
    ルキル基によって置換され得るか、またはＹは上記で定
    義されたＡｒ、または次式 【化２７】 で表される基を表すか、またはＹは５ないし７員の脂肪
    族または芳香族ヘテロ環であって、１ないし４個のＮ、
    Ｏもしくは／およびＳ原子を含む環を表すか、またはＹ
    は８ないし１２員の脂肪族または芳香族二環系であっ
    て、１ないし６個のＮ、Ｏもしくは／およびＳ原子を含
    む環系を表し、ここで該単環式または二環式環はさらに
    −ＳＨによって置換されるか、もしくは式Ｉａで表され
    る基によって１ないし５回置換されることができるか、
    またはＹは次式 【化２８】 で表される基を表し、ｑは１または２を表し、ｒは１、
    ２または３を表し、ｐは０または１を表し、ｔは１ない
    し６を表し、ｕは２または３を表し、Ｒ1 およびＲ2 は
    互いに独立して炭素原子数１ないし８のアルキル基であ
    って、未置換もしくは−ＯＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、−ＣＯＯ（炭素原子数
    １ないし８のアルキル）基、（炭素原子数１ないし４の
    アルキル）ＣＯＯ−基もしくは−Ｎ（Ｒ3 ）（Ｒ4 ）に
    よって置換された基を表すか、またはＲ1 およびＲ2 は
    互いに独立して炭素原子数３ないし６のアルケニル基、
    フェニル基、クロロフェニル基、Ｒ7 −Ｏ−フェニル
    基、Ｒ8 −Ｓ−フェニル基またはフェニル−炭素原子数
    １ないし３のアルキル基を表し、ここで該炭素原子数３
    ないし６のアルケニル基、該フェニル基、該クロロフェ
    ニル基、該Ｒ7 Ｏ−フェニル基、該Ｒ8 Ｓ−フェニル基
    または該フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基
    は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって置換さ
    れているか、またはＲ1 およびＲ2 は一緒になって直鎖
    もしくは枝分れ鎖の炭素原子数２ないし９のアルキレン
    基、炭素原子数３ないし９のオキサアルキレン基または
    炭素原子数３ないし９のアザアルキレン基を表し、ここ
    で該炭素原子数２ないし９のアルキレン基、該炭素原子
    数３ないし９のオキサアルキレン基または該炭素原子数
    ３ないし９のアザアルキレン基は未置換もしくは１ない
    し５個の−ＳＨによって置換されているか、またはＲ1
    およびＲ2 は互いに独立して次式ＩＸまたはＸ 【化２９】 で表される基を表し、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし４のアルキ
    ル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基、−ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１
    ないし４のアルキル）基によって置換された基を表す
    か、またはＲ3 は炭素原子数３ないし５のアルケニル
    基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または
    フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基を表し、
    Ｒ4 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子
    数２ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、−ＳＨ、炭
    素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮもしくは−
    ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって
    置換された基を表すか、またはＲ4 は炭素原子数３ない
    し５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシクロ
    アルキル基、フェニル−炭素原子数１ないし３のアルキ
    ル基、未置換のフェニル基、またはフェニル基であって
    ハロゲン原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、
    炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置換さ
    れた基を表すか、またはＲ4 はＲ2 と一緒になって炭素
    原子数１ないし７のアルキレン基、フェニル−炭素原子
    数１ないし４のアルキレン基、ｏ−キシリレン基、２−
    ブテニレン基または炭素原子数２ないし３のオキサアル
    キレン基または炭素原子数２ないし３のアザアルキレン
    基を表すか、またはＲ3 およびＲ4 は一緒になって炭素
    原子数３ないし７のアルキレン基であって、−Ｏ−、−
    Ｓ−、−ＣＯ−もしくは−Ｎ（Ｒ6 ）−によって中断さ
    れることができる基を表し、そして該炭素原子数３ない
    し７のアルキレン基は−ＯＨ、炭素原子数１ないし４の
    アルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４
    のアルキル）基によって置換されることができ、Ｒ5 は
    炭素原子数１ないし６のアルキレン基、キシリレン基、
    シクロヘキシレン基を表し、ここで該炭素原子数１ない
    し６のアルキレン基、該キシリレン基、該シクロヘキシ
    レン基は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨによって
    置換されているか、またはＲ5 は直接結合を表し、Ｒ6
    は水素原子、未置換もしくは−ＯＨ、−ＳＨもしくはＨ
    Ｓ−（ＣＨ2 ）q −ＣＯＯ−置換された炭素原子数１な
    いし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし１２のアル
    キル基であって、−Ｏ−、−ＮＨ−もしくは−Ｓ−によ
    って中断された基を表すか、またはＲ6 は炭素原子数３
    ないし５のアルケニル基、フェニル−炭素原子数１ない
    し３のアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、未置換もしく
    はＯＨ−もしくはＳＨ−置換された炭素原子数１ないし
    ４のアルキル−ＣＯ−ＣＨ2 ＣＨ2 −基、未置換もしく
    はＯＨ−もしくはＳＨ−置換された炭素原子数２ないし
    ８のアルカノイル基を表すか、またはＲ6 はベンゾイル
    基を表し、Ｚは次式 【化３０】 、−Ｎ（Ｒ17）−または−Ｎ（Ｒ17）−Ｒ18−Ｎ
    （Ｒ17）−で表される二価基を表し、Ｕは直鎖または枝
    分れ鎖の炭素原子数１ないし７のアルキレン基を表し、
    ＶおよびＷは互いに独立して直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−
    または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＶおよびＷは同時に
    両方とも直接結合を表さず、ＭはＯ、ＳまたはＮ（Ｒ
    6 ）を表し、Ｒ7 は水素原子、炭素原子数１ないし１２
    のアルキル基、炭素原子数３ないし１２のアルケニル
    基、シクロヘキシル基、ヒドロキシシクロヘキシル基を
    表すか、またはＲ7 は炭素原子数１ないし４のアルキル
    基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−ＣＮ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素
    原子数１ないし４のアルキル）2 基、ピペリジノ基、モ
    ルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキ
    シ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＯＯＣ
    Ｒ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８の
    アルキル）基、−ＣＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のア
    ルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）2 基、次式 【化３１】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基もしくは次式 【化３２】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
    すか、またはＲ7 は２，３−エポキシプロピル基、−
    （ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ）m Ｈ、未置換のフェニル基、または
    フェニル基であってハロゲン原子、炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基
    もしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    基によって置換された基を表すか、またはＲ7 はフェニ
    ル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、テトラヒドロ
    ピラニル基、テトラヒドロフラニル基、−ＣＯＯＲ19、
    −ＣＯＯ（炭素原子数１ないし８のアルキル）基、−Ｃ
    ＯＮＨ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、−ＣＯ
    Ｎ（炭素原子数１ないし８のアルキル）2 基、−Ｓｉ
    （Ｒ20）（Ｒ21）2 または−ＳＯ2 Ｒ22を表し、Ｒ8 は
    炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数３な
    いし１２のアルケニル基、シクロヘキシル基、ヒドロキ
    シシクロヘキシル基を表すか、またはＲ8 は炭素原子数
    １ないし４のアルキル基であって、Ｃｌ、Ｂｒ、−Ｃ
    Ｎ、−ＳＨ、−Ｎ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
    2 基、ピペリジノ基、モルホリノ基、−ＯＨ、炭素原子
    数１ないし４のアルコキシ基、−ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、
    −ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアル
    キル）基、−ＯＯＣＲ19、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＯ（炭素
    原子数１ないし８のアルキル）基、−ＣＯＮ（炭素原子
    数１ないし４のアルキル）2 基、次式 【化３３】 で表される基、−ＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基もしくは次式 【化３４】 で表される基によりモノ−またはポリ置換された基を表
    すか、またはＲ8 は２，３−エポキシプロピル基、フェ
    ニル−炭素原子数１ないし３のアルキル基、フェニル−
    炭素原子数１ないし３のヒドロキシアルキル基、未置換
    のフェニル基、またはフェニル基であってハロゲン原
    子、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは−ＣＯＯ（炭
    素原子数１ないし４のアルキル）基によってモノ−また
    はポリ置換された基を表すか、またはＲ8 は２−ベンゾ
    チアジル基、２−ベンズイミダゾリル基、−ＣＨ2 ＣＨ
    2 −Ｏ−ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨまたは−ＣＨ2 ＣＨ2 −Ｓ
    −ＣＨ2 ＣＨ2 −ＳＨを表し、Ｒ9 およびＲ10は互いに
    独立して水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル
    基、炭素原子数２ないし４のアルキル基であって−Ｏ
    Ｈ、−ＳＨ、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、−
    ＣＮもしくは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキ
    ル）基によって置換された基を表すか、またはＲ9 およ
    びＲ10は互いに独立して炭素原子数３ないし５のアルケ
    ニル基、シクロヘキシル基、フェニル−炭素原子数１な
    いし３のアルキル基、未置換のフェニル基、またはフェ
    ニル基であって炭素原子数１ないし１２のアルキル基も
    しくはハロゲン原子によってモノ−またはポリ置換され
    た基を表すか、またはＲ9 およびＲ10は一緒になって炭
    素原子数２ないし７のアルキレン基であって−Ｏ−、−
    Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒ18）−によって中断されることが
    できる基を表し、Ｒ11およびＲ12は互いに独立して直接
    結合、−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｓ
    −、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ6 ）−を表し、但しＲ11お
    よびＲ12は同時に直接結合を表さず、Ｒ13は水素原子、
    炭素原子数１ないし８のアルキル基またはフェニル基を
    表し、ここで該炭素原子数１ないし８のアルキル基また
    は該フェニル基は未置換もしくは１ないし５個の−ＳＨ
    によって置換されており、Ｒ14、Ｒ15およびＲ16は互い
    に独立して水素原子または未置換もしくはＳＨ−置換さ
    れた炭素原子数１ないし４のアルキル基を表し、Ｒ17は
    水素原子、未置換もしくはＳＨ−置換された炭素原子数
    １ないし８のアルキル基または未置換もしくはＳＨ−置
    換されたフェニル基を表し、Ｒ18は直鎖または枝分れ鎖
    の炭素原子数２ないし１６のアルキレン基であって、１
    ないし６個の−Ｏ−、−Ｓ−もしくは−Ｎ（Ｒ17）−に
    よって中断されることができるか、もしくは１ないし５
    個の−ＳＨ基によって置換されることができる基を表
    し、Ｒ19は炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原
    子数２ないし４のアルケニル基またはフェニル基を表
    し、Ｒ20およびＲ21は互いに独立して炭素原子数１ない
    し４のアルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ22は炭素
    原子数１ないし１８のアルキル基、フェニル基または炭
    素原子数１ないし１４のアルキル基によって置換された
    フェニル基を表し、Ａｒ3 はフェニル基、ナフチル基、
    フリル基、チエニル基またはピリジル基を表し、ここで
    前記基は未置換もしくはハロゲン原子、−ＳＨ、−Ｏ
    Ｈ、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数
    １ないし４のアルキル基であって−ＯＨ、ハロゲン原
    子、−ＳＨ、−Ｎ（Ｒ17）2 、炭素原子数１ないし１２
    のアルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８の
    アルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 も
    しくは−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基
    によって置換された基によって置換されているか、もし
    くは前記基は炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基、
    炭素原子数１ないし４のアルコキシ基であって−ＣＯＯ
    （炭素原子数１ないし１８のアルキル）基もしくは−Ｃ
    Ｏ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって置換された基
    によって置換されているか、もしくは前記基は−（ＯＣ
    Ｈ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ
    3 、炭素原子数１ないし８のアルキルチオ基、フェノキ
    シ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
    基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、フェニル基
    もしくはベンゾイル基によって置換されており、ｎは１
    ないし２０を表し、ｍは２ないし２０を表し、但し基Ａ
    ｒ、Ａｒ1 、Ａｒ2 、Ａｒ3 、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ
    4 、Ｒ5 またはＹのうちの少なくとも一つは１ないし５
    個の−ＳＨ基によって置換されているか、またはＹは少
    なくとも一つの−ＳＳ−基を含む。］で表される化合
    物、または式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩもしくはＩＶで表される
    化合物の酸添加塩とからなる組成物。
  4. 【請求項４】 成分（ａ）および（ｂ）に加えて、少な
    くとも１種のさらなる光開始剤（ｄ）および／または他
    の添加剤、および所望により補助開始剤（ｃ）を含有す
    る、請求項３に記載の組成物。
  5. 【請求項５】 成分（ａ）および（ｂ）に加えて、少な
    くとも１種の染料−ボレート（ｄｙｅ−ｂｏｒａｔｅ）
    化合物および／またはホウ酸塩および所望によりのオニ
    ウム化合物を含有する、請求項３に記載の組成物。
  6. 【請求項６】 請求項３に記載の組成物および顔料もし
    くは染料および所望により増感剤からなる印刷インク。
  7. 【請求項７】 エチレン性不飽和化合物の光重合のため
    の光開始剤としての請求項１に定義された式Ｉ、ＩＩ、
    ＩＩＩまたはＩＶで表される化合物。
  8. 【請求項８】 少なくとも一つのエチレン性不飽和二重
    結合を含むモノマー性、オリゴマー性またはポリマー性
    非揮発性化合物の光重合のための方法であって、少なく
    とも１種の請求項１に記載の式Ｉ、ＩＩ、ＩＩＩまたは
    ＩＶで表される化合物を前記化合物に添加することと、
    および生じた組成物を２００ｎｍないし６００ｎｍの波
    長範囲を有する光線により照射することからなる方法。
  9. 【請求項９】 着色および非着色塗料およびワニスを製
    造するための、透明および着色水性分散液、粉体塗料、
    印刷インク、印刷版、接着剤、歯科用充填組成物、導波
    管、光スイッチ、着色防止系、ガラス繊維ケーブル被覆
    物、スクリーン印刷ステンシル、レジスト材料、複合組
    成物を製造するための、写真複写のための、スクリーン
    印刷のためのマスクを製造するための、印刷電子回路の
    ためのフォトレジストのための、電気および電子部品を
    カプセル封入するための、磁気記録材料を製造するため
    の、立体リソグラフまたはバルク硬化により三次元物体
    を製造するための、および特にホログラフ記録のための
    画像記録材料としての、、請求項３に記載の組成物。
  10. 【請求項１０】 少なくとも一つの表面が請求項３に記
    載の組成物で被覆された被覆支持体。
  11. 【請求項１１】 レリーフ画像の写真製造のための方法
    であって、請求項１０に記載の被覆支持体に画像形成暴
    露を受けさせることと、およびその後暴露されていない
    区域を溶媒を用いて除去すること、または請求項１０に
    記載の被覆支持体を移動可能なレーザービームによって
    （マスク無しで）暴露することと、およびその後暴露さ
    れていない区域を溶媒を用いて除去することとからなる
    方法。
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