JPH10291320A - インクジェット・プリンタの改善された流動構成を有するノズル・プレート - Google Patents
インクジェット・プリンタの改善された流動構成を有するノズル・プレートInfo
- Publication number
- JPH10291320A JPH10291320A JP10123832A JP12383298A JPH10291320A JP H10291320 A JPH10291320 A JP H10291320A JP 10123832 A JP10123832 A JP 10123832A JP 12383298 A JP12383298 A JP 12383298A JP H10291320 A JPH10291320 A JP H10291320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle plate
- ink supply
- ink
- microns
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 31
- 238000002679 ablation Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 34
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 27
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 18
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 11
- 239000013047 polymeric layer Substances 0.000 claims description 5
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012634 fragment Substances 0.000 abstract 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 5
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 5
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 2
- QLZJUIZVJLSNDD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylidenebutanoyloxy)ethyl 2-methylidenebutanoate Chemical compound CCC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(=C)CC QLZJUIZVJLSNDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 238000005713 Midland reduction reaction Methods 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 238000009954 braiding Methods 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000006735 deficit Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920006244 ethylene-ethyl acrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000005042 ethylene-ethyl acrylate Substances 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;furan-2-ylmethanol Chemical compound O=C.OCC1=CC=CO1 HDNHWROHHSBKJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
- B41J2/14032—Structure of the pressure chamber
- B41J2/1404—Geometrical characteristics
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1623—Manufacturing processes bonding and adhesion
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14403—Structure thereof only for on-demand ink jet heads including a filter
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 インクジェット・プリンタのノズル・プレー
トを製作する改善された方法と該方法によって製作され
たノズル・プレートを提供する。 【解決手段】 方法としては、高分子材層、接着層、並
びに、該接着層上の保護層を有する高分子材フィルムを
融蝕して、インク流チャネル、発射チャンバー、ノズル
孔、並びに、インク供給領域を含むフロー・フィーチャ
ーを製作する。ひとたびフロー・フィーチャーが形成さ
れたならば、保護層が高分子材フィルムから除去され
て、そのノズル・プレートが半導体基板に取付けられ
る。この方法において、インク供給領域内の高分子材の
一部は実質的に未融蝕のまま残されて、融蝕段階中に発
生する破片等を低減する。破片量を低減することによっ
て、融蝕後に保護層の除去が効果的である。
トを製作する改善された方法と該方法によって製作され
たノズル・プレートを提供する。 【解決手段】 方法としては、高分子材層、接着層、並
びに、該接着層上の保護層を有する高分子材フィルムを
融蝕して、インク流チャネル、発射チャンバー、ノズル
孔、並びに、インク供給領域を含むフロー・フィーチャ
ーを製作する。ひとたびフロー・フィーチャーが形成さ
れたならば、保護層が高分子材フィルムから除去され
て、そのノズル・プレートが半導体基板に取付けられ
る。この方法において、インク供給領域内の高分子材の
一部は実質的に未融蝕のまま残されて、融蝕段階中に発
生する破片等を低減する。破片量を低減することによっ
て、融蝕後に保護層の除去が効果的である。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、改善されたフロー
特性を有するインクジェット・ノズル・プレートに関す
ると共に、インクジェット・プリンタ用のノズル・プレ
ートを製作する方法に関する。
特性を有するインクジェット・ノズル・プレートに関す
ると共に、インクジェット・プリンタ用のノズル・プレ
ートを製作する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】インクジェット・プリンタ用の印刷ヘッ
ドは精密に製造されて、各種構成要素が一体的なインク
・リザーバと協働して印刷ヘッド内のインク噴出装置へ
インクを搬送して所望の印刷品質を達成する。インクジ
ェット・プリンタの印刷ヘッドにおける主要構成要素
は、ノズル・プレートであり、これがインク供給チャネ
ル、発射チャンバー、並びに、印刷ヘッドからインクを
放出するポートを含む。
ドは精密に製造されて、各種構成要素が一体的なインク
・リザーバと協働して印刷ヘッド内のインク噴出装置へ
インクを搬送して所望の印刷品質を達成する。インクジ
ェット・プリンタの印刷ヘッドにおける主要構成要素
は、ノズル・プレートであり、これがインク供給チャネ
ル、発射チャンバー、並びに、印刷ヘッドからインクを
放出するポートを含む。
【０００３】インクジェット・プリンタの導入以降、ノ
ズル・プレートは、インク噴出の効率増大及びそれら製
造コスト低減のために相当な設計変更が行われてきた。
ノズル・プレート設計における変更は、印刷画像のより
高速の印刷及びより高度の解像度を達成するための試み
が為され続けられている。
ズル・プレートは、インク噴出の効率増大及びそれら製
造コスト低減のために相当な設計変更が行われてきた。
ノズル・プレート設計における変更は、印刷画像のより
高速の印刷及びより高度の解像度を達成するための試み
が為され続けられている。
【０００４】印刷ヘッド設計における進展としては、よ
り高速印刷で漸進的により細密な解像度で印刷できる印
刷ヘッドを提供しているが、様々な改善は種々の設計の
複雑性における増大のためにノズル・プレート製造に関
する新しい課題を作り出した。従って、より複雑なフロ
ー・フィーチャー設計に伴って以前においては重要では
なかった問題が、印刷ヘッド信頼性に関して深刻な減損
となって生産品質に影響している。
り高速印刷で漸進的により細密な解像度で印刷できる印
刷ヘッドを提供しているが、様々な改善は種々の設計の
複雑性における増大のためにノズル・プレート製造に関
する新しい課題を作り出した。従って、より複雑なフロ
ー・フィーチャー設計に伴って以前においては重要では
なかった問題が、印刷ヘッド信頼性に関して深刻な減損
となって生産品質に影響している。
【０００５】例えば、印刷ヘッドがより大きなインク流
チャネル及びノズル孔を有すると、インク内の破片等が
インクジェット印刷ヘッドの各種部分をより容易に通過
できるようになって、問題を生ずることなしに、最終的
にノズルを介して印刷ヘッドから排出する。しかしなが
ら、現在、印刷ヘッド内の幾つかの部分は相当により狭
く、よって破片等の屑を妨げずに通過させるのではな
く、インク流区域内にそれら破片等を捕らえてしまう傾
向がある。こうした捕らえられた破片はノズル内に生じ
て、インクを受容することができなくなって、印刷ヘッ
ドの印刷品質を損なう。
チャネル及びノズル孔を有すると、インク内の破片等が
インクジェット印刷ヘッドの各種部分をより容易に通過
できるようになって、問題を生ずることなしに、最終的
にノズルを介して印刷ヘッドから排出する。しかしなが
ら、現在、印刷ヘッド内の幾つかの部分は相当により狭
く、よって破片等の屑を妨げずに通過させるのではな
く、インク流区域内にそれら破片等を捕らえてしまう傾
向がある。こうした捕らえられた破片はノズル内に生じ
て、インクを受容することができなくなって、印刷ヘッ
ドの印刷品質を損なう。
【０００６】種々の構成のフィルタが用いられて、破片
が通過するにはあまりにも狭い印刷ヘッド内の部分に遭
遇する前にそれら破片を受け留める試みが為されてき
た。残念ながら、そうしたフィルタは、典型的には、費
用のかかる追加的な処理段階を印刷ヘッドの製造に追加
するか、或は、フィルタ機能を実行するに必要と言うよ
りもより大きな抵抗をインクの流れにもたらすかの何れ
かであって、フィルタ使用にかかわる他の問題を作り出
している。
が通過するにはあまりにも狭い印刷ヘッド内の部分に遭
遇する前にそれら破片を受け留める試みが為されてき
た。残念ながら、そうしたフィルタは、典型的には、費
用のかかる追加的な処理段階を印刷ヘッドの製造に追加
するか、或は、フィルタ機能を実行するに必要と言うよ
りもより大きな抵抗をインクの流れにもたらすかの何れ
かであって、フィルタ使用にかかわる他の問題を作り出
している。
【０００７】１つのフィルタ設計は、Ｈｏ等に対する米
国特許第５，４６３，４１３号に提供されており、半導
体基板に取付けられたバリヤー層から形成されている複
数のピラーを含むバリヤー礁設計を記載している。ピラ
ー間の間隔は別体のノズル・プレートを支持すべく且つ
各種粒子がバリヤー入口チャネルに到達する前にそれら
粒子をインクから濾過すべく設計されている。この設計
において、別個のノズル・プレートとバリヤー層は形成
されて、製造コストを増大すると共に改善された印刷に
要求される正確性及び精密性を低減している。
国特許第５，４６３，４１３号に提供されており、半導
体基板に取付けられたバリヤー層から形成されている複
数のピラーを含むバリヤー礁設計を記載している。ピラ
ー間の間隔は別体のノズル・プレートを支持すべく且つ
各種粒子がバリヤー入口チャネルに到達する前にそれら
粒子をインクから濾過すべく設計されている。この設計
において、別個のノズル・プレートとバリヤー層は形成
されて、製造コストを増大すると共に改善された印刷に
要求される正確性及び精密性を低減している。
【０００８】よって、本発明の目的は改善されたインク
ジェット・ヘッド用のノズル・プレートを提供すること
である。
ジェット・ヘッド用のノズル・プレートを提供すること
である。
【０００９】本発明の他の目的は、ノズル・プレート設
計に関連された製造問題を低減する方法を提供すること
である。
計に関連された製造問題を低減する方法を提供すること
である。
【００１０】本発明の更なる目的は、破片等を捕らえる
ために、改善されたインク濾過特性を有する、インクジ
ェット・プリンタ用のノズル・プレートを提供すること
である。
ために、改善されたインク濾過特性を有する、インクジ
ェット・プリンタ用のノズル・プレートを提供すること
である。
【００１１】本発明の他の更なる目的は、改善されたフ
ロー特性を有するインクジェット・プリンタ用のノズル
・プレートを製造するための方法を提供することであ
る。
ロー特性を有するインクジェット・プリンタ用のノズル
・プレートを製造するための方法を提供することであ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上述の目的及び長所や他
の目的及び長所に対して、本発明は改善された設計を有
するインクジェット・プリンタ用のノズル・プレートを
提供する。ノズル・プレートは、高分子材層、ノズル・
プレート厚みを画成すべく該高分子材層に取付けられた
接着層、並びに、ノズル・プレートのフロー・フィーチ
ャーを画成する前記高分子材層及び接着層の融蝕部分を
備え、該フロー・フィーチャーが、インク流チャネル、
発射チャンバー、ノズル孔、インク供給領域、並びに、
ノズル・プレートのインク供給領域内における高分子材
から成る１つ以上の突起を含む。
の目的及び長所に対して、本発明は改善された設計を有
するインクジェット・プリンタ用のノズル・プレートを
提供する。ノズル・プレートは、高分子材層、ノズル・
プレート厚みを画成すべく該高分子材層に取付けられた
接着層、並びに、ノズル・プレートのフロー・フィーチ
ャーを画成する前記高分子材層及び接着層の融蝕部分を
備え、該フロー・フィーチャーが、インク流チャネル、
発射チャンバー、ノズル孔、インク供給領域、並びに、
ノズル・プレートのインク供給領域内における高分子材
から成る１つ以上の突起を含む。
【００１３】本発明の他の局面は、インクジェット・プ
リンタ用のノズル・プレートを製作する方法を提供する
ことである。この方法は、接着層及び該接着層上の保護
層を含む高分子材層から形成される高分子材フィルムを
提供し、インク流チャネル、発射チャンバー、ノズル
孔、並びにインク供給領域を前記フィルム内に前記保護
層を通じてレーザ融蝕して、ノズル・プレートのフロー
・フィーチャーを画成することを含む。ひとたびフロー
・フィーチャーが形成されると、保護層はそのフィルム
から除去され、個々別々のノズル・プレートがそのフィ
ルムから分離されて該ノズル・プレートが半導体基板に
取付け可能となる。ノズル・プレートのインク供給領域
内における高分子材の内の少なくとも一部が融蝕後に残
存されて、融蝕段階中に発生する破片等を低減してい
る。
リンタ用のノズル・プレートを製作する方法を提供する
ことである。この方法は、接着層及び該接着層上の保護
層を含む高分子材層から形成される高分子材フィルムを
提供し、インク流チャネル、発射チャンバー、ノズル
孔、並びにインク供給領域を前記フィルム内に前記保護
層を通じてレーザ融蝕して、ノズル・プレートのフロー
・フィーチャーを画成することを含む。ひとたびフロー
・フィーチャーが形成されると、保護層はそのフィルム
から除去され、個々別々のノズル・プレートがそのフィ
ルムから分離されて該ノズル・プレートが半導体基板に
取付け可能となる。ノズル・プレートのインク供給領域
内における高分子材の内の少なくとも一部が融蝕後に残
存されて、融蝕段階中に発生する破片等を低減してい
る。
【００１４】更なる他の局面において、本発明はプリン
タ用のインクジェット印刷ヘッドを提供する。この印刷
ヘッドは、インクを加熱する抵抗要素を含む半導体基板
と、該基板に取付けられたノズル・プレートとを備え
る。ノズル・プレートは、高分子材層、該高分子材層に
取付けられた接着層、並びに、ノズル・プレートのフロ
ー・フィーチャーを画成する前記高分子材層及び接着層
の融蝕部分から構成されている。フロー・フィーチャー
は、インク流チャネル、発射チャネル、ノズル孔、並び
に、インク供給領域を提供する融蝕領域と、ノズル・プ
レートのインク供給領域に隣接する１つ以上の高分子材
突起を提供する略未融蝕領域とを含む。
タ用のインクジェット印刷ヘッドを提供する。この印刷
ヘッドは、インクを加熱する抵抗要素を含む半導体基板
と、該基板に取付けられたノズル・プレートとを備え
る。ノズル・プレートは、高分子材層、該高分子材層に
取付けられた接着層、並びに、ノズル・プレートのフロ
ー・フィーチャーを画成する前記高分子材層及び接着層
の融蝕部分から構成されている。フロー・フィーチャー
は、インク流チャネル、発射チャネル、ノズル孔、並び
に、インク供給領域を提供する融蝕領域と、ノズル・プ
レートのインク供給領域に隣接する１つ以上の高分子材
突起を提供する略未融蝕領域とを含む。
【００１５】本発明の長所は、高分子材内にフロー・フ
ィーチャーを形成すべく要求される融蝕量における実質
的な減少である。高分子材が融蝕されると、分解産物が
形成されて高分子材フィルムの保護層に付着する。保護
層に取り付く分解産物の量が増大すると、ひとたびフロ
ー・フィーチャーがノズル・プレート内に形成された
際、水で保護層を除去することが難しくなる。しかしな
がら、ノズル・プレートを形成すべく要求される融蝕量
を低減することによって、保護層の除去が実質的に改善
される。
ィーチャーを形成すべく要求される融蝕量における実質
的な減少である。高分子材が融蝕されると、分解産物が
形成されて高分子材フィルムの保護層に付着する。保護
層に取り付く分解産物の量が増大すると、ひとたびフロ
ー・フィーチャーがノズル・プレート内に形成された
際、水で保護層を除去することが難しくなる。しかしな
がら、ノズル・プレートを形成すべく要求される融蝕量
を低減することによって、保護層の除去が実質的に改善
される。
【００１６】本発明の他の長所は、ノズル・プレートの
インク供給領域に入る破片等を捕獲又は防止するノズル
・プレート設計を用いることによって得られる印刷品質
における実質的な改善である。この設計には、濾過機能
を発揮するインク供給領域内の複数の突起を含む。これ
ら突起も高分子材のより少ない融蝕を要求するので、分
解産物の量及びそれによる保護層上の堆積も低減され
る。こうして、保護層の除去も、濾過機能を提供する複
数突起を有するノズル・プレートを製作することによっ
て向上させられる。
インク供給領域に入る破片等を捕獲又は防止するノズル
・プレート設計を用いることによって得られる印刷品質
における実質的な改善である。この設計には、濾過機能
を発揮するインク供給領域内の複数の突起を含む。これ
ら突起も高分子材のより少ない融蝕を要求するので、分
解産物の量及びそれによる保護層上の堆積も低減され
る。こうして、保護層の除去も、濾過機能を提供する複
数突起を有するノズル・プレートを製作することによっ
て向上させられる。
【００１７】次に、本発明の上述の特徴及び長所やその
他の特徴及び長所は、図面及び特許請求の範囲に関連さ
せての好適実施例の以下の詳細な記載で説明される。
他の特徴及び長所は、図面及び特許請求の範囲に関連さ
せての好適実施例の以下の詳細な記載で説明される。
【００１８】
【実施例】本発明は改善されたノズル・プレートと、イ
ンクジェット・プリンタ用ノズル・プレートのための改
善された製造技術とを提供する。特に、ノズル・プレー
トはそのフロー・フィーチャー側から該ノズル・プレー
トのインク供給領域内へ突入している高分子材を含む。
それらの突起はノズル・プレート用の改善された製造操
作に寄与するばかりではなく、ノズル・プレートにおけ
るフロー・フィーチャー内でのインク流動性をも改善す
る。
ンクジェット・プリンタ用ノズル・プレートのための改
善された製造技術とを提供する。特に、ノズル・プレー
トはそのフロー・フィーチャー側から該ノズル・プレー
トのインク供給領域内へ突入している高分子材を含む。
それらの突起はノズル・プレート用の改善された製造操
作に寄与するばかりではなく、ノズル・プレートにおけ
るフロー・フィーチャー内でのインク流動性をも改善す
る。
【００１９】次に図面を参照すると、図１には半導体基
板１２に取付けられたノズル・プレート１０の断面図が
示されている。ノズル・プレートは、ポリイミド重合
体、ポリエステル重合体、フルオロカーボン重合体、並
びにポリカーボネート重合体から成るグループから選択
された高分子材から、より好ましくはポリイミド重合体
等の高分子材から形成され、該高分子材は発射チャンバ
ー１４、該発射チャンバー１４に供給するインク供給チ
ャネル１６、該発射チャンバーに関連されたノズル孔１
８を含む充分な厚みを有する。高分子材は約１５ミクロ
ンから約２００ミクロンの厚み、そして最も好ましくは
約２５ミクロンから約１２５ミクロンの厚名を有するこ
とが好ましい。説明を簡略化するために、発射チャンバ
ー及び供給チャネルは集合的にノズル・プレート１０の
「フロー・フィーチャー」と呼称し、そしてこれらはノ
ズル・プレート１０のフロー・フィーチャー面２０にお
ける高分子材内に融除又は融蝕される。
板１２に取付けられたノズル・プレート１０の断面図が
示されている。ノズル・プレートは、ポリイミド重合
体、ポリエステル重合体、フルオロカーボン重合体、並
びにポリカーボネート重合体から成るグループから選択
された高分子材から、より好ましくはポリイミド重合体
等の高分子材から形成され、該高分子材は発射チャンバ
ー１４、該発射チャンバー１４に供給するインク供給チ
ャネル１６、該発射チャンバーに関連されたノズル孔１
８を含む充分な厚みを有する。高分子材は約１５ミクロ
ンから約２００ミクロンの厚み、そして最も好ましくは
約２５ミクロンから約１２５ミクロンの厚名を有するこ
とが好ましい。説明を簡略化するために、発射チャンバ
ー及び供給チャネルは集合的にノズル・プレート１０の
「フロー・フィーチャー」と呼称し、そしてこれらはノ
ズル・プレート１０のフロー・フィーチャー面２０にお
ける高分子材内に融除又は融蝕される。
【００２０】各ノズル・プレートは、高分子材内にそれ
ぞれが位置決めされた、複数の発射チャンバー１４、イ
ンク供給チャネル１６、並びにノズル孔１８を含んで、
各ノズル孔がインク推進装置２２の略上方における発射
チャンバー１４に関連されて、その推進装置２２の起動
に及んで、インク小滴が発射チャンバー１４からノズル
孔１８を介して印刷されるべき基板に対して排出される
ようになっている。１つ以上の発射チャンバーの素速く
連続した継続動作で、複数のインク滴が基板上に提供さ
れ、それらが相互に組み合わされると画像を作り出す。
典型的なノズル・プレートは１インチ当たり３００個の
ピッチでのノズル孔の二重セットを含む。
ぞれが位置決めされた、複数の発射チャンバー１４、イ
ンク供給チャネル１６、並びにノズル孔１８を含んで、
各ノズル孔がインク推進装置２２の略上方における発射
チャンバー１４に関連されて、その推進装置２２の起動
に及んで、インク小滴が発射チャンバー１４からノズル
孔１８を介して印刷されるべき基板に対して排出される
ようになっている。１つ以上の発射チャンバーの素速く
連続した継続動作で、複数のインク滴が基板上に提供さ
れ、それらが相互に組み合わされると画像を作り出す。
典型的なノズル・プレートは１インチ当たり３００個の
ピッチでのノズル孔の二重セットを含む。
【００２１】ノズル・プレートを基板に取付ける前に、
その基板に光硬化性エポキシ樹脂を被覆することが好ま
しく、ノズル・プレートと基板との接着性を高めてい
る。この光硬化性エポキシ樹脂は基板上にまたがって広
がっており、供給チャネル１６、発射チャンバー１４、
並びにインク供給領域２４を画成するパターンで光硬化
させられる。次いでそのエポキシ樹脂の未硬化領域は適
切な溶剤が用いられて溶解させられる。
その基板に光硬化性エポキシ樹脂を被覆することが好ま
しく、ノズル・プレートと基板との接着性を高めてい
る。この光硬化性エポキシ樹脂は基板上にまたがって広
がっており、供給チャネル１６、発射チャンバー１４、
並びにインク供給領域２４を画成するパターンで光硬化
させられる。次いでそのエポキシ樹脂の未硬化領域は適
切な溶剤が用いられて溶解させられる。
【００２２】好適な光硬化性エポキシの配合は、約５０
乃至約７５重量％の（-ブチロラクトン、約１０重量％
乃至約２０重量％のポリメタクリル酸メチル−メタクリ
ル酸共重合体、約１０重量％乃至約２０重量％の米国、
Ｔｅｘａｓ、ＨｏｕｓｔｏｎのＳｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ社から市販されているＥＰＯＮ
１００１Ｆなどの二官能価のエポキシ樹脂、約０．５
重量％乃至約３．０重量％のＭｉｃｈｉｇａｎ、Ｍｉｄ
ｌａｎｄのＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ
社から市販されているＤＥＮ ４３１などの多官能価の
エポキシ樹脂、約２重量％乃至約６重量％のＣｏｎｎｅ
ｃｔｉｃｕｔのＤａｎｂｕｒｙのＵｎｉｏｎ Ｃａｒｂ
ｉｄｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社から市販されている
ＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＩ-６９７４などの光開始剤、
並びに、約０．１重量％乃至約１重量％のγ-グリシド
キシプロピルトリメトキシ・シランを含む。
乃至約７５重量％の（-ブチロラクトン、約１０重量％
乃至約２０重量％のポリメタクリル酸メチル−メタクリ
ル酸共重合体、約１０重量％乃至約２０重量％の米国、
Ｔｅｘａｓ、ＨｏｕｓｔｏｎのＳｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ社から市販されているＥＰＯＮ
１００１Ｆなどの二官能価のエポキシ樹脂、約０．５
重量％乃至約３．０重量％のＭｉｃｈｉｇａｎ、Ｍｉｄ
ｌａｎｄのＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ
社から市販されているＤＥＮ ４３１などの多官能価の
エポキシ樹脂、約２重量％乃至約６重量％のＣｏｎｎｅ
ｃｔｉｃｕｔのＤａｎｂｕｒｙのＵｎｉｏｎ Ｃａｒｂ
ｉｄｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社から市販されている
ＣＹＲＡＣＵＲＥ ＵＶＩ-６９７４などの光開始剤、
並びに、約０．１重量％乃至約１重量％のγ-グリシド
キシプロピルトリメトキシ・シランを含む。
【００２３】インクは、半導体基板１２における開口内
に設けられたインク供給領域２４を通じて発射チャンバ
ー１４に提供される。高分子材から成る突起又は付加物
はノズル・プレートのフロー・フィーチャー面２０上に
提供されて、半導体基板内の開口又はバイヤ２８によっ
て画成されたインク供給領域２４と対向するインク供給
チャネル１６間の融除領域との上方或はそれらの内部に
提供されている。高分子材製の突起２６は高分子材をマ
スキングしてその高分子突起２６の領域内を融除しない
ようにするか、或は、高分子材の一部がインク供給領域
２４内に残存するように高分子材を部分的にのみ融除す
ることによって作成可能である。
に設けられたインク供給領域２４を通じて発射チャンバ
ー１４に提供される。高分子材から成る突起又は付加物
はノズル・プレートのフロー・フィーチャー面２０上に
提供されて、半導体基板内の開口又はバイヤ２８によっ
て画成されたインク供給領域２４と対向するインク供給
チャネル１６間の融除領域との上方或はそれらの内部に
提供されている。高分子材製の突起２６は高分子材をマ
スキングしてその高分子突起２６の領域内を融除しない
ようにするか、或は、高分子材の一部がインク供給領域
２４内に残存するように高分子材を部分的にのみ融除す
ることによって作成可能である。
【００２４】図２は、ノズル・プレートのフロー・フィ
ーチャー面２０から見た場合の図１のノズル・プレート
の平面図である。図２における高分子材製の突起２６
は、各発射チャンバー１４におけるインク・バイヤ２８
からインク供給チャネル１６へインクを提供するための
インク供給領域２４を画成する融除領域によって取囲ま
れた状態で示されている。
ーチャー面２０から見た場合の図１のノズル・プレート
の平面図である。図２における高分子材製の突起２６
は、各発射チャンバー１４におけるインク・バイヤ２８
からインク供給チャネル１６へインクを提供するための
インク供給領域２４を画成する融除領域によって取囲ま
れた状態で示されている。
【００２５】突起２６はインク供給領域２４に隣接して
横たわっているので、チップ・バイヤ２８から、ノズル
・プレートの発射チャンバー１４に至るインク供給チャ
ネル１６へ向かうインクに対して本質的には狭搾部が何
等存在しない。突起２６の他の長所は融除される高分子
材の量を削減することであり、それによってレーザ融除
段階中にノズル・プレート１０から沈着物又は堆積物を
除去する補助を為すべく使用される保護又は犠牲層（不
図示）を形成すると共にそれに付着する分解堆積物の量
を実質的に削減している。
横たわっているので、チップ・バイヤ２８から、ノズル
・プレートの発射チャンバー１４に至るインク供給チャ
ネル１６へ向かうインクに対して本質的には狭搾部が何
等存在しない。突起２６の他の長所は融除される高分子
材の量を削減することであり、それによってレーザ融除
段階中にノズル・プレート１０から沈着物又は堆積物を
除去する補助を為すべく使用される保護又は犠牲層（不
図示）を形成すると共にそれに付着する分解堆積物の量
を実質的に削減している。
【００２６】突起２６の幅は本発明にとって重要ではな
く、そして好ましくは約１０ミクロンから約３００ミク
ロンであり、それは当該突起に最も近いインク供給領域
における地点での該インク供給領域２４の幅以下であ
る。突起２６の幅としては、インク供給チャネル１６へ
のインク流を抑制することを回避するほどに充分に狭い
ことが好ましい。従って、図３に示されるように実質的
に妨げられることがないインク流を突起２６の縁部３２
とチップ・バイヤ２８との間に提供する最少距離３０が
ある。この最少距離は約１０ミクロンから約３００ミク
ロンの範囲内であることが可能であり、好ましくは約２
０ミクロン以上である。
く、そして好ましくは約１０ミクロンから約３００ミク
ロンであり、それは当該突起に最も近いインク供給領域
における地点での該インク供給領域２４の幅以下であ
る。突起２６の幅としては、インク供給チャネル１６へ
のインク流を抑制することを回避するほどに充分に狭い
ことが好ましい。従って、図３に示されるように実質的
に妨げられることがないインク流を突起２６の縁部３２
とチップ・バイヤ２８との間に提供する最少距離３０が
ある。この最少距離は約１０ミクロンから約３００ミク
ロンの範囲内であることが可能であり、好ましくは約２
０ミクロン以上である。
【００２７】他の局面において本発明はノズル・プレー
トのインク供給領域内に略位置決めされた異なる設計の
突起を提供して、インクがインク供給チャネル及び発射
チャンバーに入る前に該インクから破片又は残骸等を濾
過する追加機能を提供しており、高分子材内に形成され
ている。図４及び図５は、インクを濾過すべく、本発明
のノズル・プレートに使用可能な２種類の突起を示して
いる。
トのインク供給領域内に略位置決めされた異なる設計の
突起を提供して、インクがインク供給チャネル及び発射
チャンバーに入る前に該インクから破片又は残骸等を濾
過する追加機能を提供しており、高分子材内に形成され
ている。図４及び図５は、インクを濾過すべく、本発明
のノズル・プレートに使用可能な２種類の突起を示して
いる。
【００２８】図４において、そのフロー・フィーチャー
面から見た場合のノズル・プレート４０は高分子材から
形成されており、レーザでの融除又は融蝕で、インク供
給領域４４内の複数の突起４２、インク供給チャネル４
６、発射チャンバー４８、並びにノズル孔５０が形成さ
れている。図４で図示された設計において、それら突起
は実質的に矩形であると共に、実質的に交互配置された
交互配置アレイ状である。突起４２はインク供給チャネ
ル４６に隣接するノズル・プレートの未融蝕領域５４か
ら少なくとも距離５２の隔てられていることが好まし
い。この距離５２は、好ましくは、約５ミクロンから約
２００ミクロンの範囲内である。
面から見た場合のノズル・プレート４０は高分子材から
形成されており、レーザでの融除又は融蝕で、インク供
給領域４４内の複数の突起４２、インク供給チャネル４
６、発射チャンバー４８、並びにノズル孔５０が形成さ
れている。図４で図示された設計において、それら突起
は実質的に矩形であると共に、実質的に交互配置された
交互配置アレイ状である。突起４２はインク供給チャネ
ル４６に隣接するノズル・プレートの未融蝕領域５４か
ら少なくとも距離５２の隔てられていることが好まし
い。この距離５２は、好ましくは、約５ミクロンから約
２００ミクロンの範囲内である。
【００２９】突起間の距離５６はインク供給チャネルの
幅５８と関連されている。距離５６は幅５８未満であり
且つ該幅５８の半分以上であることが好ましい。距離５
６及び幅５８の間の関係は次式によって与えられる。 ２Ｐ＋２Ｇ＝Ｃ （Ｉ） Ｇ＜Ｔ＜２Ｇ （ＩＩ） Ｃ＝２／Ｒ （ＩＩＩ） ここで、Ｐは突起４２の幅６０であり、Ｇは隣接突起間
の距離５６であり、Ｃはセル幅６２、Ｔはインク供給チ
ャネルの幅５８であり、Ｒは１インチ当たりのドット数
（ｄｐｉ）での印刷解像度である。
幅５８と関連されている。距離５６は幅５８未満であり
且つ該幅５８の半分以上であることが好ましい。距離５
６及び幅５８の間の関係は次式によって与えられる。 ２Ｐ＋２Ｇ＝Ｃ （Ｉ） Ｇ＜Ｔ＜２Ｇ （ＩＩ） Ｃ＝２／Ｒ （ＩＩＩ） ここで、Ｐは突起４２の幅６０であり、Ｇは隣接突起間
の距離５６であり、Ｃはセル幅６２、Ｔはインク供給チ
ャネルの幅５８であり、Ｒは１インチ当たりのドット数
（ｄｐｉ）での印刷解像度である。
【００３０】本発明は特定のノズル・ピッチを有する任
意のプリンタに限定されることはない。それ故に、例え
ば１００ｄｐｉから１２００ｄｐｉのノズル・ピッチを
有するプリンタがこの発明の特徴の利益に浴することが
できる。
意のプリンタに限定されることはない。それ故に、例え
ば１００ｄｐｉから１２００ｄｐｉのノズル・ピッチを
有するプリンタがこの発明の特徴の利益に浴することが
できる。
【００３１】しかしながら、例えば、１インチ当たりド
ット数で６００（ｄｐｉ）の解像度Ｒを有して、１イン
チ当たり３００ピッチの二重セットのノズル孔を具備す
る印刷ヘッドは、典型的には、約６ミクロンから５０ミ
クロンの範囲内の幅５８を有する。従って、幅５８が２
６ミクロンである場合、距離５６は約１３ミクロンから
約２６ミクロンの範囲内となり得る。
ット数で６００（ｄｐｉ）の解像度Ｒを有して、１イン
チ当たり３００ピッチの二重セットのノズル孔を具備す
る印刷ヘッドは、典型的には、約６ミクロンから５０ミ
クロンの範囲内の幅５８を有する。従って、幅５８が２
６ミクロンである場合、距離５６は約１３ミクロンから
約２６ミクロンの範囲内となり得る。
【００３２】図５に示される代替設計において、インク
供給領域内への複数の突起又は付属物は、相互に離間し
て略平行したフィンガー部７０の形態であることが可能
であり、それらフィンガー部が高分子材から形成され、
半導体基板（図１参照）におけるインク・バイヤの上に
横たわるノズル・プレートの中央領域７２から横方向へ
延出している。フィンガー部７０は、好ましくは、ノズ
ル・プレートの中央領域７２から距離７４にわたって延
びて、フィンガー部７８の端部からの距離７６は約５ミ
クロンから約２００ミクロンの範囲にわたる。
供給領域内への複数の突起又は付属物は、相互に離間し
て略平行したフィンガー部７０の形態であることが可能
であり、それらフィンガー部が高分子材から形成され、
半導体基板（図１参照）におけるインク・バイヤの上に
横たわるノズル・プレートの中央領域７２から横方向へ
延出している。フィンガー部７０は、好ましくは、ノズ
ル・プレートの中央領域７２から距離７４にわたって延
びて、フィンガー部７８の端部からの距離７６は約５ミ
クロンから約２００ミクロンの範囲にわたる。
【００３３】フィンガー部７０に実質的に平行するフィ
ンガー部８０はそれらフィンガー部７０とは交互配置パ
ターンでオフセットされて、発射チャンバー８４及びノ
ズル孔８６を含むノズル・プレートの発射チャンバー側
８２から延出してもいることが特に好ましいい。図４に
示された実施例を参照して説明されたように、隣接フィ
ンガー部７０及び８０間の距離８８は、上式（Ｉ），
（ＩＩ），（ＩＩＩ）に従ったインク供給チャネルの幅
９０と印刷解像度に関連されている。距離８８は幅９０
よりも小さく且つ幅９０の半分以上であることが好まし
い。
ンガー部８０はそれらフィンガー部７０とは交互配置パ
ターンでオフセットされて、発射チャンバー８４及びノ
ズル孔８６を含むノズル・プレートの発射チャンバー側
８２から延出してもいることが特に好ましいい。図４に
示された実施例を参照して説明されたように、隣接フィ
ンガー部７０及び８０間の距離８８は、上式（Ｉ），
（ＩＩ），（ＩＩＩ）に従ったインク供給チャネルの幅
９０と印刷解像度に関連されている。距離８８は幅９０
よりも小さく且つ幅９０の半分以上であることが好まし
い。
【００３４】例えば、１インチ当たり６００ドット（６
００ｄｐｉ）の解像度Ｒを有して、１インチ当たり３０
０のピッチでの二重セットのノズル孔を具備する印刷ヘ
ッドは、典型的には、約６ミクロンから約５０ミクロン
までの範囲内の幅９０を有することになる。従って、幅
９０は２６ミクロンである場合、距離８８は約１３ミク
ロンから２６ミクロンまでの範囲内であり得る。
００ｄｐｉ）の解像度Ｒを有して、１インチ当たり３０
０のピッチでの二重セットのノズル孔を具備する印刷ヘ
ッドは、典型的には、約６ミクロンから約５０ミクロン
までの範囲内の幅９０を有することになる。従って、幅
９０は２６ミクロンである場合、距離８８は約１３ミク
ロンから２６ミクロンまでの範囲内であり得る。
【００３５】高分子材の実質量はノズル・プレートのイ
ンク供給領域内において本質的に未融除のままであるの
で、融除プロセス中にノズル・プレートの接着層を被覆
している保護層上に堆積する分解産物の量を著しく減少
している。保護層上の分解産物量の低減は、保護層を除
去する容易性を増大すると共に必要とされる時間を低減
することが判明された。理論的な考察に縛られることな
しに、分解産物は高有機炭素含有物を有するものと信じ
られている。堆積物は保護層を被覆する傾向があり、極
性溶剤がそれら堆積物を透過して保護層を溶解すること
を難しくしている。従って保護層上の堆積物を低減する
ことで、極性溶剤を用いての保護層除去は改善される。
ンク供給領域内において本質的に未融除のままであるの
で、融除プロセス中にノズル・プレートの接着層を被覆
している保護層上に堆積する分解産物の量を著しく減少
している。保護層上の分解産物量の低減は、保護層を除
去する容易性を増大すると共に必要とされる時間を低減
することが判明された。理論的な考察に縛られることな
しに、分解産物は高有機炭素含有物を有するものと信じ
られている。堆積物は保護層を被覆する傾向があり、極
性溶剤がそれら堆積物を透過して保護層を溶解すること
を難しくしている。従って保護層上の堆積物を低減する
ことで、極性溶剤を用いての保護層除去は改善される。
【００３６】本発明のノズル・プレートを作製するため
に使用される典型的な高分子フィルム１００の断面図が
図６に示されている。フィルム１００はポリイミド等の
高分子材１０２、接着層１０４、並びに、該接着層１０
４上の保護層１０６を含む。
に使用される典型的な高分子フィルム１００の断面図が
図６に示されている。フィルム１００はポリイミド等の
高分子材１０２、接着層１０４、並びに、該接着層１０
４上の保護層１０６を含む。
【００３７】接着層１０４は、好ましくは、幾つかの熱
可塑性材を含む任意のＢ段階となることが可能な材料で
ある。任意のＢ段階となることが可能な熱硬化樹脂の例
としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、ユリ
ア樹脂、エポキシ樹脂、エチレン・ユリア樹脂、フラン
樹脂、ポリウレタン、並びに、シリコン含有樹脂等が挙
げられる。適切な熱可塑性或は高温溶融性の材料として
は、エチレン酢酸ビニル、エチレン・エチルアクリレー
ト、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ
エステル、並びにポリウレタン等が挙げられる。接着層
１０４は厚さが約１ミクロン乃至２５ミクロンである。
最も好ましい実施例での接着層１０４は、米国、Ａｒｉ
ｚｏｎａ、ＣｈａｎｄｌｅｒのＲｏｇｅｒｓ社から市販
されているラミネートＲＬＥＸ Ｒ１１００或はＲＦＬ
ＥＸ Ｒ１０００に使用するようなフェノール・ブチラ
ール接着剤である。
可塑性材を含む任意のＢ段階となることが可能な材料で
ある。任意のＢ段階となることが可能な熱硬化樹脂の例
としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、ユリ
ア樹脂、エポキシ樹脂、エチレン・ユリア樹脂、フラン
樹脂、ポリウレタン、並びに、シリコン含有樹脂等が挙
げられる。適切な熱可塑性或は高温溶融性の材料として
は、エチレン酢酸ビニル、エチレン・エチルアクリレー
ト、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ
エステル、並びにポリウレタン等が挙げられる。接着層
１０４は厚さが約１ミクロン乃至２５ミクロンである。
最も好ましい実施例での接着層１０４は、米国、Ａｒｉ
ｚｏｎａ、ＣｈａｎｄｌｅｒのＲｏｇｅｒｓ社から市販
されているラミネートＲＬＥＸ Ｒ１１００或はＲＦＬ
ＥＸ Ｒ１０００に使用するようなフェノール・ブチラ
ール接着剤である。
【００３８】接着層１０４は、好ましくはポリビニルア
ルコール等の水溶性ポリマーである保護層１０６で被覆
される。保護層として使用できる市販のポリビニルアル
コール材料としては、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎ
ｃ．社から市販されているＡＩＲＶＯＬ １６５、Ｅｍ
ｕｌｓｉｔｏｎｅ Ｉｎｃ．社からのＥＭＳ１１４６、
並びに、Ａｌｄｒｉｃｈ社からの様々なポリビニルアル
コール樹脂等が挙げられる。保護層１０６は最も好まし
くは厚さが少なくとも約１ミクロンあり、好ましくは接
着層１０４上に被覆される。
ルコール等の水溶性ポリマーである保護層１０６で被覆
される。保護層として使用できる市販のポリビニルアル
コール材料としては、Ａｉｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎ
ｃ．社から市販されているＡＩＲＶＯＬ １６５、Ｅｍ
ｕｌｓｉｔｏｎｅ Ｉｎｃ．社からのＥＭＳ１１４６、
並びに、Ａｌｄｒｉｃｈ社からの様々なポリビニルアル
コール樹脂等が挙げられる。保護層１０６は最も好まし
くは厚さが少なくとも約１ミクロンあり、好ましくは接
着層１０４上に被覆される。
【００３９】押出し成形、ロール塗布、刷毛塗り、ブレ
ード塗り、溶射（吹付け）、浸漬、並びに、被覆産業で
周知の他の技法で、接着層１０４に保護層又は犠牲層１
０６を被覆することができる。この保護層１０６は、薄
層として被覆可能であると共に、接着層１０４或は高分
子材１０２と相互作用しない溶剤によって除去可能であ
る任意の高分子材であり得る。保護層１０６を除去する
ための好ましい溶剤は水であり、そしてポリビニルアル
コールが適切な水溶性保護層１０６の正に一例である。
ード塗り、溶射（吹付け）、浸漬、並びに、被覆産業で
周知の他の技法で、接着層１０４に保護層又は犠牲層１
０６を被覆することができる。この保護層１０６は、薄
層として被覆可能であると共に、接着層１０４或は高分
子材１０２と相互作用しない溶剤によって除去可能であ
る任意の高分子材であり得る。保護層１０６を除去する
ための好ましい溶剤は水であり、そしてポリビニルアル
コールが適切な水溶性保護層１０６の正に一例である。
【００４０】有機溶剤で溶解する保護層も使用可能であ
るが、それらは好ましくない。保護層を有機溶剤で除去
する間、高分子材或は接着層の侵蝕がその溶剤に依存し
て生ずる可能性がある。従って、水等の極性溶剤で溶解
する保護層を使用することが好ましい。
るが、それらは好ましくない。保護層を有機溶剤で除去
する間、高分子材或は接着層の侵蝕がその溶剤に依存し
て生ずる可能性がある。従って、水等の極性溶剤で溶解
する保護層を使用することが好ましい。
【００４１】図７は、高分子フィルム１０８に複数のノ
ズル・プレートを形成する方法を示す流れ図である。先
ず上面に接着層１０４を含む高分子フィルム１０８が供
給リール１１０から巻戻されている。高分子フィルム１
０８を融除する前に、フィルムの接着層側１０４はロー
ルコーター１１２によって保護層１０６（図６）が被覆
される。次いで被覆された高分子フィルム１００はプラ
テン上に位置決めされて、該フィルム内に複数のノズル
・プレートを作製するために、レーザ１１４がその高分
子フィルム内にフロー・フィーチャーを融除又は融蝕す
べく使用され得る。
ズル・プレートを形成する方法を示す流れ図である。先
ず上面に接着層１０４を含む高分子フィルム１０８が供
給リール１１０から巻戻されている。高分子フィルム１
０８を融除する前に、フィルムの接着層側１０４はロー
ルコーター１１２によって保護層１０６（図６）が被覆
される。次いで被覆された高分子フィルム１００はプラ
テン上に位置決めされて、該フィルム内に複数のノズル
・プレートを作製するために、レーザ１１４がその高分
子フィルム内にフロー・フィーチャーを融除又は融蝕す
べく使用され得る。
【００４２】レーザ・ビーム１１６はマスク１１８を通
過するように指向されて高分子フィルム１００に衝突す
ることによって、高分子材の複数部分がフィルムから所
望パターン状に除去されてノズル・プレートのフロー・
フィーチャーを形成する。高分子フィルム１００から除
去されたある程度の物質は分解産物又は破片１２０を形
成して、図８に示されるように、高分子フィルム１００
の保護層１０６上に再堆積する。
過するように指向されて高分子フィルム１００に衝突す
ることによって、高分子材の複数部分がフィルムから所
望パターン状に除去されてノズル・プレートのフロー・
フィーチャーを形成する。高分子フィルム１００から除
去されたある程度の物質は分解産物又は破片１２０を形
成して、図８に示されるように、高分子フィルム１００
の保護層１０６上に再堆積する。
【００４３】フィルム１２２からの分解破片１２０を含
む保護層１０６を除去するために、フィルム１２２は溶
剤吹付けシステム１２４（図７）を通過させられ、溶剤
吹付け１２６をフィルム１２２上に向けて保護層を溶解
し去って、該保護層に取り付いた破片をも除去してい
る。溶解された保護層物質及び破片１２８を含む溶剤は
フィルム１２２から除去されて、フィルム１３０は高分
子層１０２及び接着層１０４のみを含むことになる（図
７）。
む保護層１０６を除去するために、フィルム１２２は溶
剤吹付けシステム１２４（図７）を通過させられ、溶剤
吹付け１２６をフィルム１２２上に向けて保護層を溶解
し去って、該保護層に取り付いた破片をも除去してい
る。溶解された保護層物質及び破片１２８を含む溶剤は
フィルム１２２から除去されて、フィルム１３０は高分
子層１０２及び接着層１０４のみを含むことになる（図
７）。
【００４４】保護層１０６の溶解及び除去に引き続い
て、ノズル・プレートが打抜型１３２で個別分離又は単
一化されて、個々別々のノズル・プレート１３４を形成
し、次いで半導体基板に取付けられる。こうしたプロセ
ス段階が連続的なプロセスとして図示されている一方
で、中間的な貯蔵及び他の処理段階が形成されたノズル
・プレートを基板に取付ける前に採用され得ることを理
解して頂けるであろう。
て、ノズル・プレートが打抜型１３２で個別分離又は単
一化されて、個々別々のノズル・プレート１３４を形成
し、次いで半導体基板に取付けられる。こうしたプロセ
ス段階が連続的なプロセスとして図示されている一方
で、中間的な貯蔵及び他の処理段階が形成されたノズル
・プレートを基板に取付ける前に採用され得ることを理
解して頂けるであろう。
【００４５】以上、本発明及びその好適実施例を説明し
たが、添付の請求項によって規定された本発明の精神及
び範囲から逸脱することなしに、数々の変更、再構成、
並びに各種パーツの代替等を為し得ることを当業者には
ご理解頂けるであろう。
たが、添付の請求項によって規定された本発明の精神及
び範囲から逸脱することなしに、数々の変更、再構成、
並びに各種パーツの代替等を為し得ることを当業者には
ご理解頂けるであろう。
【図１】図１は、半導体基板に取付けられた本発明に係
るノズル・プレートの同尺ではない断面図である。
るノズル・プレートの同尺ではない断面図である。
【図２】図２は、図１のノズル・プレートのフロー・フ
ィーチャー面側から見た平面図である。
ィーチャー面側から見た平面図である。
【図３】図３は、ノズル・プレートと該ノズル・プレー
トが取付けられた半導体基板との内の一部の部分的断面
図である。
トが取付けられた半導体基板との内の一部の部分的断面
図である。
【図４】図４は、本発明に係るノズル・プレートのフロ
ー・フィーチャー面側から見た他の平面図である。
ー・フィーチャー面側から見た他の平面図である。
【図５】図５は、本発明に係るノズル・プレートのフロ
ー・フィーチャー面側から見た更なる他の平面図であ
る。
ー・フィーチャー面側から見た更なる他の平面図であ
る。
【図６】図６は、ノズル・プレートを製作するために使
用される高分子材フィルム複合材の同尺ではない断面図
である。
用される高分子材フィルム複合材の同尺ではない断面図
である。
【図７】図７は、本発明方法に従ってノズル・プレート
を用意するためのプロセスに関する概略的な流れ図であ
る。
を用意するためのプロセスに関する概略的な流れ図であ
る。
【図８】図８は、フロー・フィーチャーの融蝕後におけ
る図６における高分子材フィルムの部分的な断面図であ
る。
る図６における高分子材フィルムの部分的な断面図であ
る。
１０ ノズル・プレート ２６ 突起 １４，４８ 発射チャンバー １６，４６ インク供給チャネル １８，５０ ノズル孔 ７０ フィンガー部 １００ 高分子材フィルム １０２ 高分子材 １０４ 接着層 １０６ 保護層 １１６ レーザ・ビーム １１８ マスク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スティーブン・ロバート・コンプリン アメリカ合衆国 40515 ケンタッキー、 レキシントン、エスコンデイーダ・ウェイ 2201 (72)発明者 ジェームス・ハロルド・パワーズ アメリカ合衆国 40515 ケンタッキー、 レキシントン、リーマ・ウェイ 4772
Claims (28)
- 【請求項１】 インクジェット・プリンタ用のノズル・
プレートを製作する方法であって、接着層及び該接着層
上の保護層を含む高分子材層から形成された高分子材フ
ィルムを提供し、前記ノズル・プレートのフロー・フィ
ーチャーを画成すべく、前記保護層及び前記接着層に通
ずるように前記フィルム内に、インク流チャネル、発射
チャンバー、ノズル孔、並びにインク供給領域をレーザ
融蝕し、前記フィルムから前記保護層を除去し、前記フ
ィルムから個々別々のノズル・プレートを分離して、そ
れらノズル・プレートを半導体基板に取付ける方法であ
り、前記ノズル・プレートの前記インク供給領域内にお
ける前記高分子材の内の少なくとも一部を前記レーザ融
蝕後に残存することによって、前記融蝕段階中に作り出
される破片を低減する方法。 - 【請求項２】 前記インク供給領域に残存されている前
記高分子材の一部が、周囲を取囲む周囲に融蝕部を有す
る高分子材製の長尺状部を備える、請求項１に記載の方
法。 - 【請求項３】 前記インク供給領域に残存されている前
記高分子材の一部が、前記インク供給チャネルと平行す
ると共に該インク供給チャネルとはオフセットされてい
る相互に離間する複数のフィンガー部を備える、請求項
１に記載の方法。 - 【請求項４】 前記高分子材層及び前記接着層がノズル
・プレート厚みを画成し、前記フィンガー部が部分的に
融蝕されていることによって、前記フィンガー部が前記
ノズル・プレートの前記厚み未満の高さを有する、請求
項３に記載の方法。 - 【請求項５】 平行する共に前記インク供給チャネルか
ら前記インク供給領域へ向かって延出する複数の相互に
離間する長尺状フィンガー部から成る第２のフィンガー
部セットを融蝕すること更に含み、当該第２フィンガー
部セットが前記インク供給領域内の前記相互に離間する
複数の長尺状フィンガー部とはオフセットされているこ
とによって、複数のフィンガー部から成る交互配置アレ
イを提供している、請求項３に記載の方法。 - 【請求項６】 前記高分子材が、前記インク供給チャネ
ルに隣接する複数の相互に離間する高分子材製の突起を
画成するパターン状に融蝕され、該突起が、前記破片が
前記発射チャンバーへ向かって前記インク供給チャネル
に入る前に、該破片を捕獲するに充分な隣接突起間の間
隔を有している、請求項１に記載の方法。 - 【請求項７】 前記相互に離間する突起が交互配置アレ
イ・パターン状である、請求項６に記載の方法。 - 【請求項８】 前記高分子材層及び前記接着層がノズル
・プレート厚みを画成し、前記高分子材製の複数の突起
が部分的に融蝕されて、該突起が前記ノズル・プレート
の前記厚み未満の高さを有する、請求項６に記載の方
法。 - 【請求項９】 前記複数の突起が相互に離間していて、
隣接突起間にそこを通るインク流のためのゲートを画成
して、前記突起が約２０ミクロンから約２８ミクロンま
での幅を有し、前記ゲートが約１３ミクロンから約２６
ミクロンまでの幅を有する、請求項６に記載の方法。 - 【請求項１０】 インクジェット・プリンタ用のノズル
・プレートであって、高分子材層と、前記ノズル・プレ
ートの厚みを画成するように該高分子材層に取付けられ
た接着層と、前記高分子材層及び前記接着層の複数の融
蝕部分とを備え、前記複数の融蝕部分が、インク流チャ
ネル、発射チャンバー、ノズル孔、インク供給領域、並
びに、前記ノズル・プレートの前記インク供給領域内に
おける高分子材から成る１つ以上の突起を画成している
ことから成るノズル・プレート。 - 【請求項１１】 前記高分子材から成る前記突起が、周
囲を取囲む融蝕部を有する高分子材から成る長尺状部を
備える、請求項１０に記載のノズル・プレート。 - 【請求項１２】 高分子材から成る前記突起が、前記イ
ンク供給チャネルと平行すると共に該インク供給チャネ
ルとはオフセットしている複数の相互に離間するフィン
ガー部を備える、請求項１０に記載のノズル・プレー
ト。 - 【請求項１３】 前記高分子材層及び前記接着層がノズ
ル・プレート厚みを画成しており、前記フィンガー部が
部分的に融蝕されて、該フィンガー部が前記ノズル・プ
レートの前記厚み未満の高さを有する、請求項１２に記
載のノズル・プレート。 - 【請求項１４】 平行していると共に、前記インク供給
領域へ向かって前記インク供給チャネルから延出する複
数の相互に離間する長尺状フィンガー部から成る第２フ
ィンガー部セットを更に備え、前記第２フィンガー部セ
ットが前記インク供給領域内の前記相互に離間する長尺
状フィンガー部とはオフセットしていることによって、
交互配置された複数のフィンガー部から成るアレイを提
供している、請求項１０に記載のノズル・プレート。 - 【請求項１５】 高分子材から成る複数の前記突起が、
前記インク供給チャネルに隣接してフロー・フィーチャ
ー面から延出している複数の相互に離間する突起であ
り、前記破片が前記発射チャンバーへ向かって前記イン
ク供給チャネルに入る前に該破片を捕獲するに充分であ
る複数の相互に離間する突起を備える、請求項１０に記
載のノズル・プレート。 - 【請求項１６】 前記相互に離間する突起が交互配置さ
れたアレイ・パターン状に提供されている、請求項１５
に記載のノズル・プレート。 - 【請求項１７】 前記高分子材層及び前記接着層がノズ
ル・プレート厚みを画成しており、前記突起が前記ノズ
ル・プレートの厚み未満の高さを有する、請求項１５に
記載のノズル・プレート。 - 【請求項１８】 隣接する前記突起間の前記間隔がゲー
トを画成しており、前記前記が約２０ミクロンから約２
８ミクロンまでの幅を有し、前記ゲートが約１４ミクロ
ンから約２２ミクロンまでの幅を有する、請求項１５に
記載のノズル・プレート。 - 【請求項１９】 前記インク供給チャネルの各々に隣接
する少なくとも２つの突起を有する、請求項１５に記載
のノズル・プレート。 - 【請求項２０】 請求項１０のノズル・プレートを含む
インクジェット・ヘッド。 - 【請求項２１】 インクを加熱するための抵抗要素を含
む半導体基板と、該基板に取付けられたノズル・プレー
トと、を備えるインクジェット印刷ヘッドであって、前
記ノズル・プレートが、高分子材層と、該高分子材層に
取付けられた接着層と、前記ノズル・プレートのフロー
・フィーチャーを画成する前記高分子材及び前記接着層
の融蝕部分とを含み、前記フロー・フィーチャーが、イ
ンク流チャネル、発射チャンバー、ノズル孔、並びにイ
ンク供給領域を提供する融蝕領域と、前記ノズル・プレ
ートの前記インク供給領域に隣接する１つ以上の高分子
材突起を画成する実質的に未融蝕の領域とを含むことか
ら成るインクジェット印刷ヘッド。 - 【請求項２２】 前記実質的に未融蝕の領域が、前記融
蝕領域によって取囲まれた高分子材から成る中央長尺状
部を含む、請求項２１に記載のインクジェット印刷ヘッ
ド。 - 【請求項２３】 前記実質的に未融蝕の領域が前記イン
ク供給チャネルと平行すると共に該インク供給チャネル
からオフセットされている、請求項２１に記載のインク
ジェット印刷ヘッド。 - 【請求項２４】 前記インク供給チャネルから前記イン
ク供給領域へ向かって平行して延びる複数の相互に離間
する長尺状フィンガー部から成る第２のフィンガー部セ
ットを更に備え、前記第２のフィンガー部セットが前記
インク供給領域内の前記相互に離間する長尺状フィンガ
ー部からオフセットされていることによって、 - 【請求項２５】 前記未融蝕領域が、前記インク供給チ
ャネルに隣接する前記フロー・フィーチャー面から延出
する複数の相互に離間する突起を備えると共に、前記相
互に隣接する突起の間の間隔が破片が前記発射チャンバ
ーへ向かって前記インク供給チャネルに入る前に該破片
を捕獲するに充分である、請求項２１に記載のインクジ
ェット印刷ヘッド。 - 【請求項２６】 前記相互に離間する突起が交互配置さ
れたアレイ・パターン状に設けられている、請求項２５
に記載のインクジェット印刷ヘッド。 - 【請求項２７】 前記隣接する突起間の前記間隔がゲー
トを画成しており、前記突起が約２０ミクロンから約２
８ミクロンの幅を有し、前記ゲートが約１４ミクロンか
ら約２２ミクロンの幅を有する、請求項２５に記載のイ
ンクジェット印刷ヘッド。 - 【請求項２８】 前記インク供給チャネルの各々に隣接
して少なくとも２つの突起を有する、請求項２５に記載
のインクジェット印刷ヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/827,241 | 1997-03-28 | ||
| US08/827,241 US6045214A (en) | 1997-03-28 | 1997-03-28 | Ink jet printer nozzle plate having improved flow feature design and method of making nozzle plates |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10291320A true JPH10291320A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=25248689
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10123832A Ceased JPH10291320A (ja) | 1997-03-28 | 1998-03-30 | インクジェット・プリンタの改善された流動構成を有するノズル・プレート |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6045214A (ja) |
| EP (1) | EP0869005B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10291320A (ja) |
| KR (1) | KR100512660B1 (ja) |
| CN (1) | CN1188279C (ja) |
| DE (1) | DE69803711T2 (ja) |
| TW (1) | TW425354B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7893386B2 (en) | 2003-11-14 | 2011-02-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Laser micromachining and methods of same |
Families Citing this family (69)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG52140A1 (en) * | 1994-03-04 | 1998-09-28 | Canon Kk | Ink jet recording head and method of manufacture therefor and laser processing apparatus and ink jet recording apparatus |
| US6158843A (en) * | 1997-03-28 | 2000-12-12 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printer nozzle plates with ink filtering projections |
| JP2957528B2 (ja) * | 1997-10-07 | 1999-10-04 | 株式会社東京機械製作所 | インクジェット印刷用ノズル、そのオリフィス部材及びオリフィス部材の製造方法 |
| US6540335B2 (en) * | 1997-12-05 | 2003-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet print head and ink jet printing device mounting this head |
| US6213587B1 (en) * | 1999-07-19 | 2001-04-10 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printhead having improved reliability |
| US6986566B2 (en) * | 1999-12-22 | 2006-01-17 | Eastman Kodak Company | Liquid emission device |
| CN1111117C (zh) * | 2000-01-12 | 2003-06-11 | 威硕科技股份有限公司 | 用于打印装置的喷墨头的制造方法 |
| JP3728210B2 (ja) * | 2001-02-23 | 2005-12-21 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法、インクジェット記録装置 |
| US6684504B2 (en) * | 2001-04-09 | 2004-02-03 | Lexmark International, Inc. | Method of manufacturing an imageable support matrix for printhead nozzle plates |
| JP2003136728A (ja) * | 2001-11-05 | 2003-05-14 | Sony Corp | インクジェットプリントヘッド及びこれを備えたインクジェットプリンタ、並びにインクジェットプリントヘッドの製造方法 |
| US6512198B2 (en) * | 2001-05-15 | 2003-01-28 | Lexmark International, Inc | Removal of debris from laser ablated nozzle plates |
| WO2003007216A1 (en) * | 2001-07-12 | 2003-01-23 | Diedre Moire Corporation | Targeted advertisement assembly and delivery system |
| US6852241B2 (en) * | 2001-08-14 | 2005-02-08 | Lexmark International, Inc. | Method for making ink jet printheads |
| US6779877B2 (en) * | 2002-07-15 | 2004-08-24 | Xerox Corporation | Ink jet printhead having a channel plate with integral filter |
| CN1325268C (zh) * | 2003-12-23 | 2007-07-11 | 明基电通股份有限公司 | 流体喷射装置及其制造方法 |
| US20050157112A1 (en) | 2004-01-21 | 2005-07-21 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cradle with shaped recess for receiving a printer cartridge |
| US20050157128A1 (en) * | 2004-01-21 | 2005-07-21 | Silverbrook Research Pty Ltd | Pagewidth inkjet printer cartridge with end electrical connectors |
| US7731327B2 (en) * | 2004-01-21 | 2010-06-08 | Silverbrook Research Pty Ltd | Desktop printer with cartridge incorporating printhead integrated circuit |
| US7645025B2 (en) * | 2004-01-21 | 2010-01-12 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with two printhead integrated circuits |
| US7083273B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-08-01 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with uniform compressed air distribution |
| US7360868B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-04-22 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with infrared ink delivery capabilities |
| US7524016B2 (en) * | 2004-01-21 | 2009-04-28 | Silverbrook Research Pty Ltd | Cartridge unit having negatively pressurized ink storage |
| US7367647B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-05-06 | Silverbrook Research Pty Ltd | Pagewidth inkjet printer cartridge with ink delivery member |
| US7303255B2 (en) * | 2004-01-21 | 2007-12-04 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with a compressed air port |
| US7364264B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-04-29 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cradle with single drive motor performing multiple functions |
| US7328985B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-02-12 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge refill dispenser with security mechanism |
| US7441865B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-10-28 | Silverbrook Research Pty Ltd | Printhead chip having longitudinal ink supply channels |
| US20050157125A1 (en) * | 2004-01-21 | 2005-07-21 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with integral shield |
| US7374355B2 (en) | 2004-01-21 | 2008-05-20 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cradle for receiving a pagewidth printhead cartridge |
| US20050157000A1 (en) * | 2004-01-21 | 2005-07-21 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cradle with end data and power contacts |
| US7097291B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-08-29 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with ink refill port having multiple ink couplings |
| US7469989B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-12-30 | Silverbrook Research Pty Ltd | Printhead chip having longitudinal ink supply channels interrupted by transverse bridges |
| US7121655B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-10-17 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge refill dispenser |
| US7198352B2 (en) * | 2004-01-21 | 2007-04-03 | Kia Silverbrook | Inkjet printer cradle with cartridge stabilizing mechanism |
| US7448734B2 (en) * | 2004-01-21 | 2008-11-11 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printer cartridge with pagewidth printhead |
| JP2005205721A (ja) * | 2004-01-22 | 2005-08-04 | Sony Corp | 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
| GB2410464A (en) * | 2004-01-29 | 2005-08-03 | Hewlett Packard Development Co | A method of making an inkjet printhead |
| US7152951B2 (en) * | 2004-02-10 | 2006-12-26 | Lexmark International, Inc. | High resolution ink jet printhead |
| CN1968815B (zh) * | 2004-06-28 | 2013-05-01 | 佳能株式会社 | 排液头制造方法，和使用该方法得到的排液头 |
| JP4214999B2 (ja) * | 2005-01-12 | 2009-01-28 | セイコーエプソン株式会社 | ノズル板の製造方法、ノズル板、液滴吐出ヘッドおよび液滴吐出装置 |
| US7425052B2 (en) * | 2005-02-28 | 2008-09-16 | Silverbrook Research Pty Ltd | Printhead assembly having improved adhesive bond strength |
| JP4641440B2 (ja) * | 2005-03-23 | 2011-03-02 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよび該インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
| US7735965B2 (en) * | 2005-03-31 | 2010-06-15 | Lexmark International Inc. | Overhanging nozzles |
| JP2006297683A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Sony Corp | 液体吐出ヘッド及び液体吐出ヘッドの製造方法 |
| US7401910B2 (en) * | 2005-10-11 | 2008-07-22 | Silverbrook Research Pty Ltd | Inkjet printhead with bubble trap |
| US7441869B2 (en) * | 2005-12-30 | 2008-10-28 | Lexmark International, Inc. | Ink jet print head adapted to minimize orientation-induced line-width variation |
| US7401898B2 (en) * | 2005-12-30 | 2008-07-22 | Lexmark International, Inc. | Ink jet print head adapted to minimize orientation-induced line-width variation |
| TWI273035B (en) * | 2006-01-04 | 2007-02-11 | Benq Corp | Microinjection apparatus integrated with size detector |
| JP4640613B2 (ja) * | 2006-03-09 | 2011-03-02 | セイコーエプソン株式会社 | 液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
| KR100818282B1 (ko) * | 2006-10-26 | 2008-04-01 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 |
| US7874654B2 (en) * | 2007-06-14 | 2011-01-25 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid manifold for fluid ejection device |
| US7850286B2 (en) * | 2007-06-25 | 2010-12-14 | Lexmark International, Inc. | Micro-fluid ejector pattern for improved performance |
| JP4937061B2 (ja) * | 2007-09-20 | 2012-05-23 | 富士フイルム株式会社 | 液体吐出ヘッドの流路基板の製造方法 |
| KR101682416B1 (ko) * | 2009-06-29 | 2016-12-05 | 비디오제트 테크놀러지즈 인코포레이티드 | 내용매성을 가지는 열구동 방식 잉크젯 프린트 헤드 |
| US8303093B2 (en) * | 2009-12-15 | 2012-11-06 | Xerox Corporation | Print head having a polymer layer to facilitate assembly of the print head |
| KR101691088B1 (ko) | 2010-02-17 | 2016-12-29 | 삼성전자주식회사 | 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템 |
| JP5158122B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2013-03-06 | ブラザー工業株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP5854693B2 (ja) * | 2010-09-01 | 2016-02-09 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
| JP5701014B2 (ja) * | 2010-11-05 | 2015-04-15 | キヤノン株式会社 | 吐出素子基板の製造方法 |
| JP5921186B2 (ja) * | 2011-12-26 | 2016-05-24 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド基板の加工方法 |
| JP6261623B2 (ja) | 2013-02-28 | 2018-01-17 | ヒューレット−パッカード デベロップメント カンパニー エル．ピー．Ｈｅｗｌｅｔｔ‐Ｐａｃｋａｒｄ Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ Ｃｏｍｐａｎｙ， Ｌ．Ｐ． | 成形式プリントバー |
| US10821729B2 (en) | 2013-02-28 | 2020-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Transfer molded fluid flow structure |
| EP2961612B1 (en) * | 2013-02-28 | 2019-08-07 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Molding a fluid flow structure |
| CN105189122B (zh) | 2013-03-20 | 2017-05-10 | 惠普发展公司，有限责任合伙企业 | 具有暴露的前表面和后表面的模制芯片条 |
| JP6202869B2 (ja) * | 2013-04-17 | 2017-09-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド |
| TWI572494B (zh) * | 2013-07-29 | 2017-03-01 | 惠普發展公司有限責任合夥企業 | 流體流動結構及製造流體流動結構中之流體通道之方法 |
| US10112389B2 (en) * | 2014-06-27 | 2018-10-30 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Inkjet head and coating apparatus using same |
| USD881955S1 (en) * | 2017-10-26 | 2020-04-21 | Wolf & Associates, Inc. | Printer nozzle |
| US11577513B2 (en) * | 2020-10-06 | 2023-02-14 | Funai Electric Co., Ltd. | Photoimageable nozzle member for reduced fluid cross-contamination and method therefor |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62152860A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-07 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| US4985710A (en) * | 1989-11-29 | 1991-01-15 | Xerox Corporation | Buttable subunits for pagewidth "Roofshooter" printheads |
| EP0471157B1 (en) * | 1990-08-16 | 1995-08-09 | Hewlett-Packard Company | Photo-ablated components for inkjet printhead |
| US5703631A (en) * | 1992-05-05 | 1997-12-30 | Compaq Computer Corporation | Method of forming an orifice array for a high density ink jet printhead |
| US5463413A (en) * | 1993-06-03 | 1995-10-31 | Hewlett-Packard Company | Internal support for top-shooter thermal ink-jet printhead |
| US5852460A (en) * | 1995-03-06 | 1998-12-22 | Hewlett-Packard Company | Inkjet print cartridge design to decrease deformation of the printhead when adhesively sealing the printhead to the print cartridge |
| US5734399A (en) * | 1995-07-11 | 1998-03-31 | Hewlett-Packard Company | Particle tolerant inkjet printhead architecture |
| EP0761448B1 (en) * | 1995-08-28 | 2002-11-27 | Lexmark International, Inc. | Method of forming an inkjet printhead nozzle structure |
| US5847737A (en) * | 1996-06-18 | 1998-12-08 | Kaufman; Micah Abraham | Filter for ink jet printhead |
-
1997
- 1997-03-28 US US08/827,241 patent/US6045214A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-27 CN CN98108734.5A patent/CN1188279C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-28 KR KR10-1998-0010853A patent/KR100512660B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1998-03-30 JP JP10123832A patent/JPH10291320A/ja not_active Ceased
- 1998-03-30 DE DE69803711T patent/DE69803711T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-30 EP EP98302448A patent/EP0869005B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-04-01 TW TW087104678A patent/TW425354B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7893386B2 (en) | 2003-11-14 | 2011-02-22 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Laser micromachining and methods of same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6045214A (en) | 2000-04-04 |
| KR19980080813A (ko) | 1998-11-25 |
| DE69803711D1 (de) | 2002-03-21 |
| EP0869005A3 (en) | 1999-02-03 |
| EP0869005A2 (en) | 1998-10-07 |
| CN1188279C (zh) | 2005-02-09 |
| EP0869005B1 (en) | 2002-02-06 |
| KR100512660B1 (ko) | 2005-10-27 |
| CN1197732A (zh) | 1998-11-04 |
| DE69803711T2 (de) | 2002-08-14 |
| TW425354B (en) | 2001-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH10291320A (ja) | インクジェット・プリンタの改善された流動構成を有するノズル・プレート | |
| JP3245193B2 (ja) | インクジェットプリンタの印字ヘッド | |
| US8376525B2 (en) | Liquid discharge head and method of manufacturing the same | |
| US5524784A (en) | Method for producing ink jet head by multiple development of photosensitive resin, ink jet head produced thereby, and ink jet apparatus with the ink jet head | |
| JPH10291317A (ja) | インクジェット・プリンタのノズル・プレート | |
| JP3899396B2 (ja) | インクジェット印刷ヘッドのノズル構造体を形成する方法 | |
| US6283584B1 (en) | Ink jet flow distribution system for ink jet printer | |
| US6310641B1 (en) | Integrated nozzle plate for an inkjet print head formed using a photolithographic method | |
| DE69924047T2 (de) | Flüssigkeitsausstossverfahren | |
| JP3305041B2 (ja) | インクジェットヘッド、その製造方法および前記インクジェットヘッドを備えたインクジェット装置 | |
| US11186089B2 (en) | Ink jet prinithead | |
| US8210655B2 (en) | Liquid ejection head and manufacturing method of liquid ejection head | |
| JP2006341451A (ja) | ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート、液体吐出ヘッド、及び画像形成装置。 | |
| EP0781203B1 (en) | Inkjet printheads | |
| CA2059617C (en) | Method for manufacturing an ink jet recording head and a recording head manufactured thereby | |
| JPH054348A (ja) | インクジエツト記録ヘツドおよびその製造方法 | |
| JPH091808A (ja) | インクジェット記録ヘッド用ノズル板の製造方法並びにインクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録装置 | |
| US8042269B2 (en) | Method of manufacturing a component for droplet deposition apparatus | |
| JPH06312509A (ja) | インクジェット記録ヘッド、インクジェット記録ヘッドの製造方法および前記インクジェット記録ヘッドを備えたインクジェット記録装置 | |
| JPH0592569A (ja) | 液体噴射記録ヘツド及びその製造方法 | |
| JPH08258275A (ja) | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 | |
| JP2791240B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法、該製造方法によって製造されたインクジェット記録ヘッド及び該ヘッドを具備するインクジェット記録装置 | |
| JP2791227B2 (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 | |
| JPH0911483A (ja) | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 | |
| JPH1044437A (ja) | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050330 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050330 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050608 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080122 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080421 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080508 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080421 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080527 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090106 |
|
| A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20090526 |