JPH10286791A - Drop of work preventing mechanism and method thereof - Google Patents
Drop of work preventing mechanism and method thereofInfo
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- JPH10286791A JPH10286791A JP9545097A JP9545097A JPH10286791A JP H10286791 A JPH10286791 A JP H10286791A JP 9545097 A JP9545097 A JP 9545097A JP 9545097 A JP9545097 A JP 9545097A JP H10286791 A JPH10286791 A JP H10286791A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、ウエハなどのワ
ークに所定波長の紫外線を照射してワークの表面を洗浄
するなどの光照射処理作業を行う装置に使用され、ワー
クの搬送中および光照射処理中にワークの落下を防止す
ることができるワークの落下防止機構およびその方法に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used in an apparatus for performing a light irradiation processing operation such as irradiating a work such as a wafer with ultraviolet rays having a predetermined wavelength to clean the surface of the work, and during work transfer and light irradiation. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a work drop prevention mechanism capable of preventing a work from falling during processing and a method thereof.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、ウエハなどのワークの表面に所
定波長の紫外線を照射してワークの表面を洗浄するな
ど、ワークに光照射処理する装置は、つぎのような構成
としている。すなわち、搬入されたワークの一方の面を
吸着して搬入位置から光照射位置を経由して搬出位置ま
で移動する保持アームと、この保持アームに設けたワー
クの吸着機構と、この吸着機構で吸着したワークの下方
から、そのワークにエアーを吹きつける落下防止機構
と、前記ワークに所定波長の光を照射する光源装置など
を備えている。2. Description of the Related Art In general, an apparatus for irradiating a workpiece with light, such as irradiating the surface of a workpiece such as a wafer with ultraviolet rays having a predetermined wavelength to clean the surface of the workpiece, has the following configuration. That is, a holding arm that sucks one surface of the loaded work and moves from the loading position to the unloading position via the light irradiation position, a work suction mechanism provided on the holding arm, and a suction mechanism using the suction mechanism. The work is provided with a fall prevention mechanism for blowing air from below the work, a light source device for irradiating the work with light of a predetermined wavelength, and the like.
【０００３】そして、前記ワークは、ハンドラーにより
光処理装置側に搬入され、前記保持アームの吸着機構で
吸着保持され、その保持アームが移動することで搬送さ
れ、光源装置の位置で光照射された後、保持アームの移
動により搬出側に搬送される。さらに、搬出位置に設置
されたワークは、搬出側のハンドラーにより次工程に搬
送されて行く構成としている。[0003] The work is carried into the optical processing apparatus side by a handler, is suction-held by the suction mechanism of the holding arm, is conveyed by moving the holding arm, and is irradiated with light at the position of the light source device. Thereafter, the sheet is conveyed to the unloading side by the movement of the holding arm. Further, the work set at the unloading position is configured to be transferred to the next process by the unloading-side handler.
【０００４】したがって、ワークがハンドラーから保持
アームに受け渡され、前記吸着機構によりワークを吸着
すると、落下防止機構のエアーを下側から吹きつける落
下防止機構が作動し、ワークの光照射処理および保持ア
ームがワークを吸着保持している間、前記落下防止機構
によりワークにエアーが吹きつけられている。Accordingly, when the work is transferred from the handler to the holding arm and the work is sucked by the suction mechanism, the fall prevention mechanism for blowing the air of the fall prevention mechanism from below is activated, and the light irradiation processing and the holding of the work are performed. While the arm is holding the work by suction, air is blown to the work by the fall prevention mechanism.
【０００５】また、前記落下防止機構の他の構成とし
て、保持ピンをシリンダー機構などを介して出没自在に
設け、保持アームがワークを保持している間は、シリン
ダー機構を作動させて、保持ピンをワーク側に突出させ
た状態とし、ワークの落下を防止する構成のものも知ら
れている。As another structure of the fall prevention mechanism, a holding pin is provided so as to be able to protrude and retract via a cylinder mechanism or the like, and while the holding arm is holding the work, the cylinder mechanism is operated to hold the holding pin. There is also known a configuration in which the work is projected to the work side to prevent the work from falling.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のワーク
の落下防止機構では、次のような問題点が存在してい
た。However, the conventional work drop prevention mechanism has the following problems.
【０００７】 従来のワークの落下防止機構では、保
持しているワークにエアーを吹きつけるため、空中に浮
遊している塵埃をワークに付着させる可能性が高く不都
合であった。In the conventional work drop prevention mechanism, since air is blown to the held work, there is a high possibility that dust floating in the air adheres to the work, which is inconvenient.
【０００８】 ワークの落下防止機構では、エアーを
吹きつける構成であるため、ワークをハンドラに受け渡
す場合、ワークを吸着保持している吸着機構と、落下防
止機構の切換えとのタイミングを合わすのが困難であっ
た。また、切換えのタイミングが合っていたとしても、
作動中に電気的な障害などにより、切換えのタイミング
がズレる場合があり、ワークの落下を防止することが出
来なかった。Since the work drop prevention mechanism is configured to blow air, when transferring the work to the handler, the timing of switching between the suction mechanism holding the work and the fall prevention mechanism should be synchronized. It was difficult. Also, even if the switching timing is correct,
In some cases, the timing of switching may be shifted due to an electrical obstacle or the like during operation, and it has not been possible to prevent the workpiece from falling.
【０００９】 ワークを光照射処理する場合、照射光
をワークに均等に照射する必要があり、ワークを保持し
ている保持アームを回転させながら光処理するため、落
下防止機構を作動させるための電気的な接続コードや、
エアー吹きつけ用のエアーホースなどがあると邪魔にな
り、ワークを支持する保持アームの作動に制限を加える
か、接続コードあるいはエアーホースの配置処理を保持
アームの回転動作に対応して考慮することや、それらの
配置スペースや作動スペースを確保するなどの必要があ
った。In the case of performing a light irradiation process on a work, it is necessary to uniformly irradiate the work with irradiation light. Since the light processing is performed while rotating a holding arm holding the work, an electric power for operating a fall prevention mechanism is required. Connection code,
If an air hose for blowing air is obstructed, restrict the operation of the holding arm that supports the work, or consider the connection cord or the arrangement of the air hose according to the rotation of the holding arm. Also, it was necessary to secure a space for arranging them and an operation space.
【００１０】この発明は、前述の問題点を解決すべく創
案されたもので、ワークに塵埃を付着させず、保持アー
ムの回転動作に制限を加えることなく、簡単な構成でワ
ークの落下を確実に防止することが可能なワークの落下
防止機構を提供することを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and does not allow dust to adhere to the work, does not limit the rotation of the holding arm, and ensures the fall of the work with a simple structure. It is an object of the present invention to provide a work fall prevention mechanism that can prevent the work from falling.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
め、この発明は、ワークの一方面側を吸引してワークを
保持する保持アームを備え、所定波長の紫外線を照射し
て前記ワークの洗浄作業などを行う光照射装置におい
て、前記保持アームの側部位置に設けた落下防止部と、
前記保持アームのワーク吸引位置および離脱位置に設け
た当接ガイド部とからなるワークの落下防止機構として
構成した。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises a holding arm for holding a work by sucking one surface side of the work, and irradiating ultraviolet light of a predetermined wavelength to the work to irradiate the work. In a light irradiation device for performing a washing operation or the like, a fall prevention unit provided at a side position of the holding arm,
The holding arm is configured as a work drop prevention mechanism including a contact guide portion provided at a work suction position and a detachment position.
【００１２】また、前記落下防止部は、ワークの周縁側
に沿って突出する保持爪と、この保持爪を支持する支持
部と、この支持部を直立状態または傾斜状態に傾動自在
に前記保持アームに支持する取付部と、前記支持部に設
けた当接凸部と、前記支持部を前記ワーク側に付勢する
弾性部材とを有する構成とすると都合が良い。[0012] The fall prevention portion includes a holding claw projecting along the peripheral edge of the work, a support portion for supporting the holding claw, and the holding arm capable of tilting the support portion in an upright state or an inclined state. It is convenient to have a configuration having an attachment portion for supporting the support portion, a contact projection provided on the support portion, and an elastic member for urging the support portion toward the work.
【００１３】さらに、前記当接ガイド部は、前記落下防
止部の当接凸部を、その弾性部材の付勢力に抗して徐々
に一方向に押動する当接面を有する構成とすると都合が
良い。Further, it is convenient that the contact guide portion has a contact surface that gradually pushes the contact convex portion of the fall prevention portion in one direction against the urging force of the elastic member. Is good.
【００１４】そして、前記保持爪は、所定波長の紫外線
を透過させる部材で形成することや、前記保持アームの
ワークを保持する保持開口部側に、前記ワークの周縁側
に点接して支持する点接支持部を設ける構成としても良
い。さらに、前記保持アームを回動機構を介して回転さ
せる構成としても構わない。The holding claw may be formed of a member that transmits ultraviolet light of a predetermined wavelength, or may be supported at the holding opening side of the holding arm that holds the work by being in contact with the peripheral edge of the work. It is good also as a structure which provides a contact support part. Further, the holding arm may be configured to be rotated via a rotation mechanism.
【００１５】また、ワークの表面に所定波長の紫外線を
照射して洗浄作業などの光照射処理を行う光照射方法に
おいて、ワーク搬入位置および保持アームに設けた当接
作動機構とが互いに当接してワークの落下防止機構の保
持爪を解放する第１工程と、前記落下防止機構を解放し
た後に保持アームがワークを吸着保持すると共に、当接
作動機構が互いに離脱してワークの落下防止機構を作動
させ、ワークの搬送中および光照射処理中は、ワークの
落下防止機構の保持爪をワークの周縁側に沿って突出さ
せる第２工程と、ワーク搬出位置およびワークを保持し
ている保持アームに設けた当接作動機構とが互いに当接
してワークの落下防止機構の保持爪を解放する第３工程
とからなるワークの落下防止方法として構成した。Further, in the light irradiation method of irradiating the surface of the work with ultraviolet light of a predetermined wavelength to perform light irradiation processing such as cleaning work, the work loading position and the contact operating mechanism provided on the holding arm are brought into contact with each other. A first step of releasing the holding claws of the work drop prevention mechanism, and a holding arm sucking and holding the work after releasing the fall prevention mechanism, and the contact operation mechanisms detaching from each other to operate the work fall prevention mechanism. A second step of projecting the holding claws of the work fall prevention mechanism along the peripheral edge of the work during the transfer of the work and during the light irradiation processing, and a work unloading position and a holding arm holding the work. And a third step of releasing the holding claws of the work fall prevention mechanism by contacting the contact operation mechanisms with each other.
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
図面に基づいて説明する。図１は落下防止機構を備える
光照射位置の正面図、図２は落下防止機構を備える光照
射位置の平面図、図３は保持アームの構成を示す一部切
り欠いた状態の斜視図、図４は落下防止機構の保持アー
ムの断面図、図５は保持アームの回動機構の要部を示す
側面図である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a front view of a light irradiation position provided with a fall prevention mechanism, FIG. 2 is a plan view of a light irradiation position provided with a fall prevention mechanism, and FIG. 3 is a perspective view showing a configuration of a holding arm in a partially cutaway state. 4 is a sectional view of a holding arm of the fall prevention mechanism, and FIG. 5 is a side view showing a main part of a rotation mechanism of the holding arm.
【００１７】図１で示すように、ワークＷ（図３参照）
を保持して洗浄作業などの光照射処理を行う光照射処理
装置１６は、その正面側に保持アーム１を備え、光源装
置１０の光軸線上に配置できるように、前記保持アーム
を左右上下に移動自在に本体１１側に支持している。そ
して、前記保持アームの左右側には、ワークＷを光照射
処理装置１６側に搬入あるいは搬出するハンドラ１２、
１３が設けられている。As shown in FIG. 1, a work W (see FIG. 3)
The light irradiation processing device 16 that holds the light and performs light irradiation processing such as a cleaning operation includes the holding arm 1 on the front side, and moves the holding arm vertically and horizontally so that the holding arm 1 can be disposed on the optical axis of the light source device 10. It is movably supported on the body 11 side. And, on the left and right sides of the holding arm, a handler 12 for loading or unloading the workpiece W to or from the light irradiation processing device 16 side,
13 are provided.
【００１８】図３および図４で示すように、前記保持ア
ーム１は、その保持開口部２側に吸着機構３の接続ホー
ス３ａを連通して接続している。そして、保持アーム１
は、前記吸着機構３によりワークＷが保持開口部２の位
置に吸着されるとき、そのワークＷを点接して支持する
点接支持部４を備えると共に、前記ワークの落下防止機
構７の落下防止部５などを備えている。また、保持アー
ム１は、ワークＷを保持して光照射処理する場合に、ワ
ークＷに均等に光が照射できるように回動機構９により
回転できるように構成されている。As shown in FIG. 3 and FIG. 4, the holding arm 1 has a holding hose 2a of the suction mechanism 3 communicated and connected to the holding opening 2 side. And the holding arm 1
When the work W is sucked to the position of the holding opening 2 by the suction mechanism 3, the work W is provided with a point contact support portion 4 that contacts and supports the work W, and the work drop prevention mechanism 7 prevents the work W from falling. And the like. The holding arm 1 is configured to be rotatable by the rotating mechanism 9 so that the work W can be evenly irradiated with light when the work W is held and subjected to light irradiation processing.
【００１９】前記回動機構９は、図５で示すように、保
持アーム１の上部側に設けた駆動モータ９ａと、この駆
動モータ９ａの回動軸の先端側に設けた第１プーリ９ｂ
と、前記保持アーム１の上部側に設けた第２プーリ９ｃ
と、それら両プーリ９ｂ、９ｃに掛け渡して設けた駆動
ベルト９ｄとから構成されている。そして、前記保持ア
ーム１の保持開口部２側が回転できるように、ベアリン
グなどの回動軸受部９ｅを介して、固定部９ｆによりそ
の保持アーム１の基端側に、保持開口部２側を支持して
いる。As shown in FIG. 5, the rotation mechanism 9 includes a drive motor 9a provided on the upper side of the holding arm 1 and a first pulley 9b provided on the tip end of a rotation shaft of the drive motor 9a.
And a second pulley 9c provided on the upper side of the holding arm 1.
And a drive belt 9d provided to extend over both pulleys 9b and 9c. Then, the holding opening 1 side is supported on the base end side of the holding arm 1 by a fixing portion 9f via a rotating bearing 9e such as a bearing so that the holding opening 2 side of the holding arm 1 can rotate. doing.
【００２０】前記吸着機構３は、図４で示すように、空
気の吸引および排気を行う真空ポンプ３ｃと、この真空
ポンプ３ｃの接続ホース３ａの所定位置に設けた開閉弁
３ｂと、センサスイッチなどを備えており、前記保持ア
ーム１の移動位置およびセンサスイッチの作動に伴っ
て、前記開閉弁３ｂの開閉あるいは、真空ポンプの作動
または停止を行う構成としている。As shown in FIG. 4, the suction mechanism 3 includes a vacuum pump 3c for sucking and exhausting air, an open / close valve 3b provided at a predetermined position of a connection hose 3a of the vacuum pump 3c, a sensor switch, and the like. The opening and closing of the on-off valve 3b or the operation or stop of the vacuum pump is performed in accordance with the movement position of the holding arm 1 and the operation of the sensor switch.
【００２１】また、図４で示すように、前記保持アーム
１の保持開口部２の周縁位置には、前記ワークＷの周縁
側に点接して支持する点接支持部４を設けている。前記
点接支持部４は、その先端側にワークＷに当接する支持
ピン４ａと、この支持ピン４ａを上下動自在に保持する
高さ調整機構を有するピン保持部４ｂとから構成されて
いる。そして、前記接点支持部４は、支持するワークＷ
が水平状態となるように、少なくとも３か所以上設置さ
れている。なお、前記支持ピン４ａの高さ調整を行う高
さ調整機構は、送りネジ機構など精度が高く微妙な調整
ができる構成のものが望ましい。As shown in FIG. 4, a point contact support portion 4 is provided at a peripheral position of the holding opening 2 of the holding arm 1 to support the work W in a point contact with the peripheral side. The point contact support portion 4 includes a support pin 4a which contacts the work W at the tip end thereof, and a pin holding portion 4b having a height adjustment mechanism for vertically holding the support pin 4a. The contact support portion 4 supports the workpiece W
Are installed at least at three or more positions so as to be horizontal. The height adjustment mechanism for adjusting the height of the support pin 4a is desirably one having a structure with high accuracy and fine adjustment, such as a feed screw mechanism.
【００２２】図３および図４で示すように、前記落下防
止機構７は、保持アーム１側に設けた当接作動機構とし
ての落下防止部５と、ワークＷの光照射処理装置１６の
搬入位置に形成した搬入ステージ１４側および、搬出位
置に形成した搬出ステージ１５側に設けた当接作動機構
としての当接ガイド部６とから構成されている。As shown in FIGS. 3 and 4, the fall prevention mechanism 7 is provided with a fall prevention section 5 provided as a contact operating mechanism provided on the holding arm 1 side, and a loading position of the light irradiation processing device 16 for the work W. And a contact guide portion 6 as a contact operating mechanism provided on the carry-out stage 14 side formed at the carry-out position and the carry-out stage 15 formed at the carry-out position.
【００２３】そして、前記落下防止部５は、前記保持ア
ーム１の側部位置に設けられており、支持部としてのブ
ラケット５ａと、このブラケット５ａを直立状態または
傾斜状態に傾動自在に支持する取付部５ｅと、前記ブラ
ケット５ａの下部側に設けた保持爪５ｂと、前記ブラケ
ット５ａの背面側に設けた当接凸部としてのベアリング
５ｃと、前記ブラケット５ａを常に一方向に付勢する弾
性部材としてのスプリング５ｄとから構成されている。The drop prevention portion 5 is provided at a side position of the holding arm 1, and has a bracket 5a as a support portion, and a mounting for supporting the bracket 5a in a tiltable state in an upright state or an inclined state. Part 5e, a holding claw 5b provided on the lower side of the bracket 5a, a bearing 5c provided on the back side of the bracket 5a as a contact convex part, and an elastic member for constantly urging the bracket 5a in one direction. And a spring 5d.
【００２４】前記保持爪５ｂは、線状に形成されてお
り、前記光源装置１０から照射される所定波長の紫外線
が、ワークＷに悪影響を与える影を作ることなく照射で
きるように細く構成されると共に、保持アーム１の吸着
機構３が何らかの原因で、あらかじめ決められたタイミ
ング以外でワークＷを解除した場合でも、そのワークＷ
を保持できる強度を備えている。なお、前記保持爪５ｂ
は、紫外線を透過させる部材、例えば石英ガラス、合成
石英ガラスなどで形成されると都合が良く、紫外線を透
過させる部材で保持爪５ｂを形成する場合は、その太さ
に制限がなく形成することができる。The holding claw 5b is formed in a linear shape, and is configured to be thin so that ultraviolet rays of a predetermined wavelength emitted from the light source device 10 can be emitted without forming a shadow that adversely affects the work W. At the same time, even if the suction mechanism 3 of the holding arm 1 releases the work W at a timing other than the predetermined timing for some reason, the work W
It has the strength that can hold. The holding claw 5b
Is preferably formed of a member that transmits ultraviolet light, for example, quartz glass, synthetic quartz glass, or the like. When the holding claw 5b is formed of a member that transmits ultraviolet light, the thickness thereof is not limited. Can be.
【００２５】また、前記当接ガイド部６は、搬入ステー
ジ１４および搬出ステージ１５に配設したベース８上に
突出して高さ調整ができるように設けられており、その
当接ガイド部６の上端部側に所定角度で傾斜する当接面
６ａが形成されている。そして、当接ガイド部６は、前
記落下防止部５のベアリング５ｃの設置数に対応して設
けられている。なお、ワークＷの下面より、前記落下防
止部５の保持爪５ｂの位置が下方に位置するため、ワー
クＷを保持するベース８は、その保持爪５ｂがベース８
より下方に降下できるように開口穴や溝、あるいは、ワ
ークＷの載置部分が島状に形成される構成としている。The contact guide portion 6 is provided so as to protrude above a base 8 provided on the carry-in stage 14 and the carry-out stage 15 so as to be adjustable in height, and the upper end of the contact guide portion 6 is provided. A contact surface 6a inclined at a predetermined angle is formed on the side of the section. The contact guide portions 6 are provided corresponding to the number of bearings 5c of the fall prevention portion 5. In addition, since the position of the holding claw 5b of the fall prevention unit 5 is located below the lower surface of the work W, the base 8 for holding the work W is
An opening hole, a groove, or a mounting portion of the work W is formed in an island shape so that the work W can be lowered further.
【００２６】つぎに、落下防止機構の作動状態を説明す
る。図１および図２で示すように、ハンドラ１２は、上
下作動あるいは、そのハンドラ１２のアームの伸縮によ
り、所定位置に配置されたワークＷを吸着保持して、光
照射処理装置１６の搬入ステージ１４にワークＷを搬送
して載置する。Next, the operation of the fall prevention mechanism will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the handler 12 sucks and holds the work W arranged at a predetermined position by the vertical operation or the expansion and contraction of the arm of the handler 12, and the loading stage 14 of the light irradiation processing device 16. The work W is transported and placed on the work.
【００２７】搬入ステージ１４にワークＷが載置される
と、保持アーム１が図１の仮想線で示すように移動して
ワークＷの直上に位置し、ワークＷ側に降下して近接す
る。このとき、図４の仮想線で示すように、保持アーム
１に設けた落下防止部５，５のベアリング５ｃ，５ｃ
が、当接ガイド部６，６の当接面６ａ，６ａに当接して
徐々に押動させられ、ブラケット５ａをスプリング５
ｄ，５ｄの付勢力に抗して傾斜させることで、保持爪５
ｂ、５ｂが外側に解放した姿勢（図４の仮想線）で維持
される。そして、更に保持アーム１を降下させてベース
８上に載置されているワークＷを、吸着機構３の作動に
より保持アーム１の保持開口部２の位置に吸着保持す
る。When the work W is placed on the carry-in stage 14, the holding arm 1 moves as shown by the imaginary line in FIG. 1 and is located immediately above the work W, and descends and approaches the work W side. At this time, as shown by the imaginary line in FIG.
Is brought into contact with the contact surfaces 6a, 6a of the contact guide portions 6, 6 and is gradually pushed, so that the bracket 5a is
The holding claw 5 is tilted against the urging force of d, 5d.
b and 5b are maintained in the postures released outward (the phantom lines in FIG. 4). Then, the holding arm 1 is further lowered to suck and hold the work W placed on the base 8 at the position of the holding opening 2 of the holding arm 1 by the operation of the suction mechanism 3.
【００２８】ワークＷが、保持アーム１に吸着保持され
る際、保持開口部２から突出する点接支持部４の支持ピ
ン４ａが、ワークＷの周縁位置に点接して支持するた
め、ワークＷの表面に回路などが形成されていても、適
切に支持できる。When the work W is sucked and held by the holding arm 1, the support pin 4a of the point contact support portion 4 protruding from the holding opening 2 supports the work W by being in point contact with the peripheral position of the work W. Even if a circuit or the like is formed on the surface of the device, it can be appropriately supported.
【００２９】保持アーム１は、ワークＷを保持すると上
昇し、その上昇に伴って当接ガイド部６、６で押動され
ていたベアリング５ｃ，５ｃが，当接ガイド部６との当
接から解放されると、図４の実線で示すように、スプリ
ング５ｄ、５ｄによりブラケット５ａ，５ａがワークＷ
側に付勢されることで、保持爪５ｂ，５ｂがワークＷの
下側周縁部分に沿って突出した状態となり、ワークＷの
落下を防止することができる状態となる。The holding arm 1 rises when the work W is held, and the bearings 5c, 5c, which have been pushed by the contact guides 6, 6 as the work W is lifted, come into contact with the contact guide 6. When released, the brackets 5a, 5a are moved by the springs 5d, 5d as shown by solid lines in FIG.
By being urged to the side, the holding claws 5b, 5b are in a state of protruding along the lower peripheral edge portion of the work W, so that the work W can be prevented from falling.
【００３０】図１で示すように、ワークＷが保持アーム
１に保持され、光照射位置に搬送されると、光源装置１
０が所定タイミングで点灯（連続点灯している場合は、
光源装置の光照射側に設けたシャッターの解放）してワ
ークＷに所定波長の紫外線を照射する。この場合、必要
に応じて光路にフィルタを介在させる構成としても構わ
ない。As shown in FIG. 1, when the work W is held by the holding arm 1 and transported to the light irradiation position, the light source device 1
0 is lit at a predetermined timing (when lit continuously,
The shutter provided on the light irradiation side of the light source device is released) to irradiate the work W with ultraviolet light of a predetermined wavelength. In this case, a filter may be interposed in the optical path as needed.
【００３１】また、ワークＷの表面に所定波長の紫外線
を均等に照射するため、図３で示すように、保持アーム
１は、光照射処理中は、回動機構９を介して所定速度で
回転（一方向あるいは両方向）する構成としている。前
記回動機構９によりワークＷを保持している保持アーム
が回転しても、落下防止部５には、電気的な配線コード
などを必要としないため、その保持アーム１の回転作動
に制限を加えることがない。回動機構９を介してワーク
Ｗを回転させることで、ワークＷに対する処理エネルギ
ーの均衡化が図られる。In order to uniformly irradiate the surface of the work W with ultraviolet light of a predetermined wavelength, the holding arm 1 is rotated at a predetermined speed via the rotating mechanism 9 during the light irradiation process, as shown in FIG. (One direction or both directions). Even if the holding arm holding the work W is rotated by the rotation mechanism 9, the fall prevention unit 5 does not need an electric wiring cord or the like, so that the rotation operation of the holding arm 1 is limited. There is no addition. By rotating the work W via the rotation mechanism 9, the processing energy for the work W is balanced.
【００３２】ワークに光照射が一定時間行われると、光
源装置１０は、消灯（シャッターの閉鎖）すると共に、
保持アーム１が移動して搬送ステージ上にワークＷを搬
送する。そして、保持アームＷが降下すると、当接ガイ
ド部６に落下防止部５のベアリング５ｃ，５ｃが当接
し、ブラケット５ａ，５ａをスプリング５ｄ，５ｄの付
勢力に抗して押動させて傾斜させることで、保持爪５
ｂ，５ｂをワークＷの下方より解放する。When the work is irradiated with light for a certain period of time, the light source device 10 is turned off (the shutter is closed) and
The holding arm 1 moves to transfer the work W onto the transfer stage. When the holding arm W descends, the bearings 5c, 5c of the fall prevention unit 5 abut against the contact guide unit 6, and the brackets 5a, 5a are pushed and tilted against the urging force of the springs 5d, 5d. By holding the claw 5
b and 5b are released from below the work W.
【００３３】前記保持爪５ｂ，５ｂが解放されて、さら
に保持アーム１が降下し、搬出ステージ１５のベース８
上で吸着動作を停止することでワークＷを保持アーム１
から解放し、ベース８上にワークを載置する。When the holding claws 5b, 5b are released, the holding arm 1 is further lowered, and the base 8 of the unloading stage 15 is moved.
The work W is held by stopping the suction operation above.
, And the work is placed on the base 8.
【００３４】保持アーム１は、ワークＷを搬出ステージ
に載置すると、再び上昇し、その後搬入ステージ側に移
動する。そして、搬出ステージに載置されたワークＷ
は、ハンドラ１３により保持されて次の工程に送られ
る。一方、ワークＷを解放した保持アーム１は、上記の
動作を繰り返し行い、ワークＷを連続いて処理する構成
としている。When the work W is placed on the carry-out stage, the holding arm 1 rises again and thereafter moves to the carry-in stage. Then, the work W placed on the unloading stage
Is held by the handler 13 and sent to the next step. On the other hand, the holding arm 1 having released the work W is configured to repeat the above-described operation and process the work W continuously.
【００３５】なお、前記した当接ガイド部は、その構成
を回転ローラの構成と、前記落下防止部の当接凸部の構
成を円周面を有する凸部に形成しても良い。したがっ
て、その円周面を有する凸部が、回転ローラに当接する
と、その回転ローラは回転しながら円周面を有する凸部
を押動する構成となる。また、前記弾性部材は、スプリ
ングとして説明したが、板バネなどであっても構わな
い。The configuration of the abutment guide may be such that the configuration of the rotating roller is used, and the configuration of the abutment projection of the drop prevention unit is a projection having a circumferential surface. Therefore, when the convex portion having the circumferential surface comes into contact with the rotating roller, the rotating roller is configured to push the convex portion having the circumferential surface while rotating. Further, the elastic member has been described as a spring, but may be a leaf spring or the like.
【００３６】さらに、前記保持アームの落下防止部が所
定位置まで降下して停止したとき、当接ガイド部が上昇
して落下防止部の当接凸部を押動させ、ワークの下方に
突出した保持爪を解除する構成としても良い。また、前
記回動機構は、歯車により回転駆動を伝達する構成とし
ても構わない。Further, when the drop prevention portion of the holding arm is lowered to a predetermined position and stopped, the contact guide portion rises to push the contact convex portion of the drop prevention portion and to protrude below the work. It is good also as composition which releases a holding nail. Further, the rotation mechanism may be configured to transmit rotation drive by gears.
【００３７】[0037]
【発明の効果】この発明は上記したように構成している
ため、以下の優れた効果を奏する。 ワークの落下防止機構は、ワーク搬入位置およびワ
ーク搬出位置に設けた当接ガイド部と、ワークを保持す
る保持アームに設けた落下防止部が当接することでワー
クの下方に沿って突出する保持爪を解放させ、また、前
記当接ガイド部と落下防止部がその当接を解除すること
で、ワークの下方に突出していた保持爪を解放すること
ができるため、簡単な構成で確実にワークの落下防止を
行うことが可能となる。Since the present invention is configured as described above, it has the following excellent effects. The work drop prevention mechanism includes a holding claw that protrudes below the work when the contact guides provided at the work carry-in position and the work carry-out position come into contact with the fall prevention part provided at the holding arm that holds the work. Is released, and the contact pawl and the drop prevention part release the contact, so that the holding claws projecting below the work can be released. Fall prevention can be performed.
【００３８】 ワークの落下防止機構は、落下防止部
の保持爪が、当接ガイド部に当接して押動する当接凸部
の作動により支持部を介してワークの下方面（光照射
面）の周縁部分に沿って突出あるいは解放状態となるた
め、その構成が簡単でかつ確実に作動すると共に、保持
アームの吸着機構とのタイミング合わせをする場合も容
易に行うことが可能となる。The work drop prevention mechanism is configured such that the holding claw of the fall prevention unit abuts against the contact guide unit and is actuated by an abutting projection, which is actuated by a lower portion of the work (light irradiation surface) via the support unit. Is protruded or released along the peripheral edge of the arm, so that the structure is simple and reliable, and the timing of the holding arm with the suction mechanism can be easily adjusted.
【００３９】また、ワークＷを保持している落下防止機
構７の構成が電気的な制御ではなく、機械的な制御で作
動することから、停電などの不慮の事故が発生しても、
ワークを落下させることがなく安全性に優れている。Further, since the structure of the fall prevention mechanism 7 holding the work W operates not by electrical control but by mechanical control, even if an accident such as a power failure occurs,
Excellent safety without dropping the work.
【００４０】 ワークの落下防止機構の保持爪は、所
定波長の紫外線を透過させる部材で形成すると、ワーク
の光照射作業の際に、ワークの光処理作業に影響を及ぼ
すことなく、その保持爪の突出寸法を長くすることが可
能となり、さらに落下防止機能を高めることが可能とな
る。When the holding claw of the work fall prevention mechanism is formed of a member that transmits ultraviolet light having a predetermined wavelength, the work claw of the holding claw is not affected at the time of light irradiation work of the work without affecting the light processing work of the work. The protrusion dimension can be lengthened, and the fall prevention function can be further enhanced.
【００４１】 ワークが保持アームに吸着支持される
とき、保持開口部位置に設けた点接支持部が、ワークの
周縁側に突出することで、点接して支持するため、ワー
クの表面に形成されている回路などの構成に影響を与え
ることなく保持することが可能となる。When the work is suction-supported by the holding arm, the point contact support portion provided at the holding opening position is formed on the surface of the work to project and support the work by projecting toward the peripheral edge of the work. It can be held without affecting the configuration of the circuit or the like.
【００４２】 ワークの光処理作業中に、ワークを保
持している保持アームが回転動作を行っても、落下防止
機構は、配線を必要とせずに作動することから、配線が
絡まる心配がなく、保持アームの回転作動を制限するこ
とがない。Even if the holding arm holding the work rotates during the light processing work on the work, the fall prevention mechanism operates without requiring the wiring, so that there is no fear of the wiring becoming entangled. There is no limitation on the rotation operation of the holding arm.
【図１】この発明の落下防止機構を備える光照射装置の
正面図である。FIG. 1 is a front view of a light irradiation device provided with a fall prevention mechanism according to the present invention.
【図２】この発明の落下防止機構を備える光照射装置の
平面図である。FIG. 2 is a plan view of a light irradiation device including the fall prevention mechanism of the present invention.
【図３】この発明の落下防止機構を備える保持アームの
斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of a holding arm provided with the fall prevention mechanism of the present invention.
【図４】この発明の落下防止機構を備える保持アームの
断面図である。FIG. 4 is a sectional view of a holding arm provided with the fall prevention mechanism of the present invention.
【図５】この発明の落下防止機構を備える保持アームの
要部を示すの側面図である。FIG. 5 is a side view showing a main part of a holding arm provided with the fall prevention mechanism of the present invention.
１ 保持アーム ２ 保持開口部 ３ 吸着機構 ４ 点接支持部 ５ 落下防止部（当接作動機構） ５ａ ブラケット（支持部） ５ｂ 保持爪 ５ｃ 当接凸部 ５ｄ スプリング（弾性部材） ５ｅ 取付部 ６ 当接ガイド部（当接作動機構） ６ａ 当接面 ７ 落下防止機構 ８ ベース ９ 回動機構 １０ 光源装置 １１ 本体 １２ ハンドラ １３ ハンドラ １４ 搬入ステージ １５ 搬出ステージ １６ 光照射処理装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Holding arm 2 Holding opening 3 Suction mechanism 4 Point contact support part 5 Fall prevention part (contact operating mechanism) 5a Bracket (support part) 5b Holding claw 5c Contact convex part 5d Spring (elastic member) 5e Mounting part 6 contact Contact guide part (contact operating mechanism) 6a Contact surface 7 Fall prevention mechanism 8 Base 9 Rotating mechanism 10 Light source device 11 Main body 12 Handler 13 Handler 14 Loading stage 15 Unloading stage 16 Light irradiation processing device
Claims (7)
する保持アームを備え、所定波長の紫外線を照射して前
記ワークの洗浄作業などを行う光照射処理装置におい
て、 前記保持アームの側部位置に設けた落下防止部と、前記
保持アームのワーク吸引位置および離脱位置に設けた当
接ガイド部とからなることを特徴とするワークの落下防
止機構。1. A light irradiation processing apparatus comprising: a holding arm for holding one side of a work by sucking the one side of the work; and irradiating an ultraviolet ray having a predetermined wavelength to clean the work. A drop prevention mechanism for a workpiece, comprising: a drop prevention part provided at a position of the workpiece; and a contact guide part provided at a work suction position and a separation position of the holding arm.
て突出する保持爪と、この保持爪を支持する支持部と、
この支持部を直立状態または傾斜状態に傾動自在に前記
保持アームに支持する取付部と、前記支持部に設けた当
接凸部と、前記支持部を前記ワーク側に付勢する弾性部
材とを有することを特徴とする請求項１に記載のワーク
の落下防止機構。2. The holding device according to claim 1, wherein the drop preventing portion includes a holding claw projecting along a peripheral edge of the work, a supporting portion for supporting the holding claw,
A mounting portion for supporting the support portion on the holding arm so as to be tiltable in an upright state or an inclined state, a contact protrusion provided on the support portion, and an elastic member for urging the support portion toward the work. The work fall prevention mechanism according to claim 1, wherein the work fall prevention mechanism is provided.
接凸部を、その弾性部材の付勢力に抗して徐々に一方向
に押動する当接面を有する請求項１または２に記載のワ
ークの落下防止機構。3. The contact guide portion has a contact surface that gradually pushes the contact convex portion of the fall prevention portion in one direction against the urging force of the elastic member. 3. The work fall prevention mechanism according to 2.
せる部材で形成した請求項２に記載のワークの落下防止
機構。4. The mechanism according to claim 2, wherein the holding claw is formed of a member that transmits ultraviolet light having a predetermined wavelength.
口部側に、前記ワークの周縁側に点接して支持する点接
支持部を設けた請求項１または２に記載のワークの落下
防止機構。5. The work drop prevention mechanism according to claim 1, wherein a point contact support portion is provided at a side of the holding opening for holding the work of the holding arm, the point contact supporting portion supporting the work by contacting with a peripheral edge of the work. .
外線を照射する際に、所定速度で回転させる回動機構を
備える請求項１または２に記載のワークの落下防止機
構。6. The work drop prevention mechanism according to claim 1, wherein the holding arm includes a rotation mechanism that rotates the work at a predetermined speed when irradiating the work with ultraviolet light of a predetermined wavelength.
て洗浄作業などの光照射処理を行う光照射方法におい
て、ワーク搬入位置および保持アームに設けた当接作動
機構とが互いに当接してワークの落下防止機構の保持爪
を解放する第１工程と、前記落下防止機構を解放した後
に保持アームがワークを吸着保持すると共に、当接作動
機構が互いに離脱してワークの落下防止機構を作動さ
せ、ワークの搬送中および光照射処理中は、ワークの落
下防止機構の保持爪をワークの周縁側に沿って突出させ
る第２工程と、ワーク搬出位置およびワークを保持して
いる保持アームに設けた当接作動機構とが互いに当接し
てワークの落下防止機構の保持爪を解放する第３工程と
からなるワークの落下防止方法。7. A light irradiation method for irradiating ultraviolet light of a predetermined wavelength onto a surface of a work to perform a light irradiation process such as a cleaning operation, wherein a work loading position and a contact operating mechanism provided on a holding arm are brought into contact with each other. A first step of releasing the holding claws of the work drop prevention mechanism, and a holding arm sucking and holding the work after releasing the fall prevention mechanism, and the contact operation mechanisms detaching from each other to operate the work fall prevention mechanism. A second step of projecting the holding claws of the work fall prevention mechanism along the peripheral edge of the work during the transfer of the work and during the light irradiation processing, and a work unloading position and a holding arm holding the work. A third step of releasing the holding claws of the work drop prevention mechanism by contacting the contact operation mechanisms with each other.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9545097A JPH10286791A (en) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | Drop of work preventing mechanism and method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9545097A JPH10286791A (en) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | Drop of work preventing mechanism and method thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10286791A true JPH10286791A (en) | 1998-10-27 |
Family
ID=14138041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9545097A Pending JPH10286791A (en) | 1997-04-14 | 1997-04-14 | Drop of work preventing mechanism and method thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10286791A (en) |
Cited By (10)
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-
1997
- 1997-04-14 JP JP9545097A patent/JPH10286791A/en active Pending
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