JPH10221277A - 電子プローブマイクロアナライザ - Google Patents
電子プローブマイクロアナライザInfo
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- JPH10221277A JPH10221277A JP9027512A JP2751297A JPH10221277A JP H10221277 A JPH10221277 A JP H10221277A JP 9027512 A JP9027512 A JP 9027512A JP 2751297 A JP2751297 A JP 2751297A JP H10221277 A JPH10221277 A JP H10221277A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＥＰＭＡで不定形試料を効率よく分析する。
【解決手段】 試料２の分析に先立って、試料２の表面
形状を三次元形状測定装置１４で測定し、その形状デー
タをＥＰＭＡの測定制御装置１２に転送する。オペレー
タはこの形状データに基づいて分析点の設定、及びその
高さの設定、または分析を行わない領域の設定等必要な
設定を行うことができるので、オペレータの負担は軽減
され、分析点毎の合焦も短時間で行うことができるので
分析時間を短縮でき、以て分析を効率よく行うことがで
きる。
形状を三次元形状測定装置１４で測定し、その形状デー
タをＥＰＭＡの測定制御装置１２に転送する。オペレー
タはこの形状データに基づいて分析点の設定、及びその
高さの設定、または分析を行わない領域の設定等必要な
設定を行うことができるので、オペレータの負担は軽減
され、分析点毎の合焦も短時間で行うことができるので
分析時間を短縮でき、以て分析を効率よく行うことがで
きる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子プローブマイクロ
アナライザ（ＥＰＭＡ）に係り、特に複雑な形状を有す
る試料を効率よく分析できるＥＰＭＡに関する。
アナライザ（ＥＰＭＡ）に係り、特に複雑な形状を有す
る試料を効率よく分析できるＥＰＭＡに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ＷＤＳ
を備えたＥＰＭＡは、試料に電子線を照射し、そのとき
試料から放射される特性Ｘ線を分光結晶で分光して検出
器で検出することによって元素分析等を行うものである
が、近年では、研磨された平面を有する試料だけではな
く、非常に複雑な表面形状を有する試料（以下、これを
不定形試料と称する）をＥＰＭＡで分析することも行わ
れてきている。
を備えたＥＰＭＡは、試料に電子線を照射し、そのとき
試料から放射される特性Ｘ線を分光結晶で分光して検出
器で検出することによって元素分析等を行うものである
が、近年では、研磨された平面を有する試料だけではな
く、非常に複雑な表面形状を有する試料（以下、これを
不定形試料と称する）をＥＰＭＡで分析することも行わ
れてきている。
【０００３】しかしながら、従来の不定形試料の分析は
オペレータの負担が大きく、しかも分析時間が長く、分
析効率が悪いものであった。
オペレータの負担が大きく、しかも分析時間が長く、分
析効率が悪いものであった。
【０００４】例えば、いま、図３に示すような断面形状
を有する試料を分析する場合を考える。当該試料の表面
形状は非常に複雑であるので不定形試料ということがで
きる。なお、図３においてＡは当該不定形試料の内部に
ある貫通孔である。
を有する試料を分析する場合を考える。当該試料の表面
形状は非常に複雑であるので不定形試料ということがで
きる。なお、図３においてＡは当該不定形試料の内部に
ある貫通孔である。
【０００５】このような試料を分析する場合、従来にお
いては、試料の表面を複数の領域に分割し、それらの各
分割領域毎に分析を行うようにするのが通常であるが、
一つ一つの分割領域は合焦する範囲になければならな
い。ＷＤＳを備えたＥＰＭＡにおいては、試料の分析領
域と、分光結晶と、検出器とはローランド円上に配置し
なければならないからある。これが合焦である。
いては、試料の表面を複数の領域に分割し、それらの各
分割領域毎に分析を行うようにするのが通常であるが、
一つ一つの分割領域は合焦する範囲になければならな
い。ＷＤＳを備えたＥＰＭＡにおいては、試料の分析領
域と、分光結晶と、検出器とはローランド円上に配置し
なければならないからある。これが合焦である。
【０００６】従って、図３に示すような表面の凹凸が大
きい不定形試料を分析する場合、オペレータは試料の形
状を観察して一つ一つの分析領域を設定していたので、
負担が大きいものであった。
きい不定形試料を分析する場合、オペレータは試料の形
状を観察して一つ一つの分析領域を設定していたので、
負担が大きいものであった。
【０００７】また、不定形試料では表面の凹凸が多いた
め、分析領域を移動したとき、移動後の分析領域での合
焦に時間が掛かるという問題もある。
め、分析領域を移動したとき、移動後の分析領域での合
焦に時間が掛かるという問題もある。
【０００８】更に、図３に示す試料の貫通孔Ａのような
領域は分析する必要がないことは明らかであるが、従来
ではこのような分析を行う必要がない領域については、
オペレータが光学顕微鏡で試料を観察したり、あるいは
二次電子像で試料を観察して手動で移動させているの
で、作業が面倒であり、また操作のための時間も要する
ものであった。以上の結果、不定形試料の分析には時間
が掛かり、効率が悪いものであった。
領域は分析する必要がないことは明らかであるが、従来
ではこのような分析を行う必要がない領域については、
オペレータが光学顕微鏡で試料を観察したり、あるいは
二次電子像で試料を観察して手動で移動させているの
で、作業が面倒であり、また操作のための時間も要する
ものであった。以上の結果、不定形試料の分析には時間
が掛かり、効率が悪いものであった。
【０００９】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、オペレータの負担を軽減できると共に、従来に比
較して不定形試料の分析効率を向上させることができる
電子プローブマイクロアナライザを提供することを目的
とするものである。
って、オペレータの負担を軽減できると共に、従来に比
較して不定形試料の分析効率を向上させることができる
電子プローブマイクロアナライザを提供することを目的
とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の電子プローブマイクロアナライザは、試
料を三次元形状測定装置で測定した形状データに基づい
て当該試料の分析位置、高さ等を制御可能となされてい
ることを特徴とする。
めに、本発明の電子プローブマイクロアナライザは、試
料を三次元形状測定装置で測定した形状データに基づい
て当該試料の分析位置、高さ等を制御可能となされてい
ることを特徴とする。
【００１１】ここで、三次元形状測定装置のホルダ、ス
テージの構造及びその駆動軸の方向を、電子プローブマ
イクロアナライザのホルダ、ステージの構造及びその駆
動軸の方向と同じにすると、三次元形状測定装置で得た
形状データを電子プローブマイクロアナライザでそのま
ま用いることができるので便利である。
テージの構造及びその駆動軸の方向を、電子プローブマ
イクロアナライザのホルダ、ステージの構造及びその駆
動軸の方向と同じにすると、三次元形状測定装置で得た
形状データを電子プローブマイクロアナライザでそのま
ま用いることができるので便利である。
【００１２】また、三次元形状測定装置は電子プローブ
マイクロアナライザの本体に組み込むことができる。
マイクロアナライザの本体に組み込むことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ実施の形
態について説明する。図１は本発明に係る電子プローブ
マイクロアナライザを用いた分析システムの一実施形態
を示す図であり、図中、１は電子線、２は試料、４はＷ
ＤＳ、５は分光結晶、６は検出器、７はＷＤＳ測定系、
８はホルダ、９はステージ、１０はステージ駆動機構、
１１はコントローラ、１２は測定制御装置、１３はイン
ターフェース（以下、Ｉ／Ｆと記す）、１４は三次元形
状測定装置、１５はホルダを示す。なお、図１において
は本発明の本質的でない部分については省略してある。
態について説明する。図１は本発明に係る電子プローブ
マイクロアナライザを用いた分析システムの一実施形態
を示す図であり、図中、１は電子線、２は試料、４はＷ
ＤＳ、５は分光結晶、６は検出器、７はＷＤＳ測定系、
８はホルダ、９はステージ、１０はステージ駆動機構、
１１はコントローラ、１２は測定制御装置、１３はイン
ターフェース（以下、Ｉ／Ｆと記す）、１４は三次元形
状測定装置、１５はホルダを示す。なお、図１において
は本発明の本質的でない部分については省略してある。
【００１４】試料２はホルダ８に載置され、そのホルダ
８はステージ９に装着されている。電子線１を試料２に
照射すると、試料２から特性Ｘ線が発生する。特性Ｘ線
はＷＤＳ４の分光結晶５で分光され、検出器６で検出さ
れる。検出器６からの信号はＷＤＳ測定系７に入力され
て計数等の所定の処理が施される。なお、ＷＤＳ測定系
７はアンプ、タイマ、カウンタ等で構成されるが、この
点は周知でもあり、本発明において本質的な事項でもな
いので説明は省略する。
８はステージ９に装着されている。電子線１を試料２に
照射すると、試料２から特性Ｘ線が発生する。特性Ｘ線
はＷＤＳ４の分光結晶５で分光され、検出器６で検出さ
れる。検出器６からの信号はＷＤＳ測定系７に入力され
て計数等の所定の処理が施される。なお、ＷＤＳ測定系
７はアンプ、タイマ、カウンタ等で構成されるが、この
点は周知でもあり、本発明において本質的な事項でもな
いので説明は省略する。
【００１５】ステージ９はステージ駆動機構１０によっ
て駆動される。ステージ駆動機構１０は、また、コント
ローラ１１からの手動操作によっても駆動される。従っ
て、試料２を手動で移動させる必要が生じた場合には、
オペレータはコントローラ１１を操作して手動でステー
ジ９を駆動することができる。
て駆動される。ステージ駆動機構１０は、また、コント
ローラ１１からの手動操作によっても駆動される。従っ
て、試料２を手動で移動させる必要が生じた場合には、
オペレータはコントローラ１１を操作して手動でステー
ジ９を駆動することができる。
【００１６】測定制御装置１２は、ＷＤＳ測定系７、ス
テージ駆動機構１０の制御等、当該ＥＰＭＡの動作を統
括して管理する機能を有するものであり、ＣＰＵ及びそ
の周辺回路で構成されている。また、測定制御装置１２
にはキーボード等の入力装置やＣＲＴ等の表示装置も備
えられている。
テージ駆動機構１０の制御等、当該ＥＰＭＡの動作を統
括して管理する機能を有するものであり、ＣＰＵ及びそ
の周辺回路で構成されている。また、測定制御装置１２
にはキーボード等の入力装置やＣＲＴ等の表示装置も備
えられている。
【００１７】更に、測定制御装置１２は、Ｉ／Ｆ１３を
介して三次元形状測定装置１４と接続されている。三次
元形状測定装置１４は、試料２を載置したホルダ１５を
装着した状態で試料２の三次元形状を測定できるように
なされている。そして、三次元形状測定装置１４で測定
して得られた試料２の形状データはＩ／Ｆ１３を介して
測定制御装置１２に転送される。このＩ／Ｆ１３はシリ
アルＩ／Ｆでもよく、パラレルＩ／Ｆでもよい。なお、
ホルダ１５としては、ＥＰＭＡのステージ９に装着する
ホルダ８をそのまま使用できるようになされているのが
望ましいものである。
介して三次元形状測定装置１４と接続されている。三次
元形状測定装置１４は、試料２を載置したホルダ１５を
装着した状態で試料２の三次元形状を測定できるように
なされている。そして、三次元形状測定装置１４で測定
して得られた試料２の形状データはＩ／Ｆ１３を介して
測定制御装置１２に転送される。このＩ／Ｆ１３はシリ
アルＩ／Ｆでもよく、パラレルＩ／Ｆでもよい。なお、
ホルダ１５としては、ＥＰＭＡのステージ９に装着する
ホルダ８をそのまま使用できるようになされているのが
望ましいものである。
【００１８】三次元形状測定装置１４としては、オート
フォーカス顕微鏡を用いて試料の三次元の形状データを
得る方式のもの、あるいは光の干渉を利用して三次元形
状データを得る方式のもの等が知られているが、何れの
方式のものを用いてもよい。なお、前者のオートフォー
カス顕微鏡を用いる方式は、試料を上下させながらオー
トフォーカス顕微鏡で適宜のオートフォーカス方法によ
り合焦位置を求め、その合焦位置でのステージの高さを
読み取る動作を予め設定された格子点について連続して
行って表面形状を求める方式である。また、後者の光の
干渉を利用する方式は、ガラス格子等を通して試料表面
に光を投射し、試料表面上に生じた干渉縞をＴＶカメラ
等で画像として読み取り、その縞の像を解析することに
よって表面形状を求める方式である。
フォーカス顕微鏡を用いて試料の三次元の形状データを
得る方式のもの、あるいは光の干渉を利用して三次元形
状データを得る方式のもの等が知られているが、何れの
方式のものを用いてもよい。なお、前者のオートフォー
カス顕微鏡を用いる方式は、試料を上下させながらオー
トフォーカス顕微鏡で適宜のオートフォーカス方法によ
り合焦位置を求め、その合焦位置でのステージの高さを
読み取る動作を予め設定された格子点について連続して
行って表面形状を求める方式である。また、後者の光の
干渉を利用する方式は、ガラス格子等を通して試料表面
に光を投射し、試料表面上に生じた干渉縞をＴＶカメラ
等で画像として読み取り、その縞の像を解析することに
よって表面形状を求める方式である。
【００１９】三次元形状測定装置１４で測定して得た表
面形状のデータは例えば図２に示すようである。この形
状データによれば、試料２の表面の各部位の高さが分か
り、従って、図３に示すような貫通孔を有する試料の場
合には、どの位置にどのような貫通孔があるかを明確に
知ることができることは明らかであろう。
面形状のデータは例えば図２に示すようである。この形
状データによれば、試料２の表面の各部位の高さが分か
り、従って、図３に示すような貫通孔を有する試料の場
合には、どの位置にどのような貫通孔があるかを明確に
知ることができることは明らかであろう。
【００２０】次に、図１に示す分析システムにより試料
２の分析を行う場合について説明する。
２の分析を行う場合について説明する。
【００２１】まず、試料２をホルダ１５に載置し、ズレ
や歪みがないように固定する。次に、このホルダ１５を
三次元形状測定装置１４に装着して三次元形状を測定す
る。測定が終了すると、三次元形状測定装置１４は測定
した形状データをＩ／Ｆ１３を介して測定制御装置１２
に転送する。
や歪みがないように固定する。次に、このホルダ１５を
三次元形状測定装置１４に装着して三次元形状を測定す
る。測定が終了すると、三次元形状測定装置１４は測定
した形状データをＩ／Ｆ１３を介して測定制御装置１２
に転送する。
【００２２】測定制御装置１２は形状データを受けると
それを記憶する。オペレータは当該形状データを測定制
御装置１２の表示装置に表示させる等によって試料２の
表面形状を明確に知ることができるので、分析点や分析
領域の設定、及びそのときの高さの設定、あるいは分析
を行わない領域の設定等を容易に行うことができ、オペ
レータの負担を従来に比較して軽減することができる。
それを記憶する。オペレータは当該形状データを測定制
御装置１２の表示装置に表示させる等によって試料２の
表面形状を明確に知ることができるので、分析点や分析
領域の設定、及びそのときの高さの設定、あるいは分析
を行わない領域の設定等を容易に行うことができ、オペ
レータの負担を従来に比較して軽減することができる。
【００２３】そして、測定制御装置１２は、設定された
分析点、分析領域を次々に自動的に分析するようにステ
ージ駆動機構１０を制御する。また、測定制御装置１２
は、分析点や分析領域を移動したときには、移動後の分
析点や分析領域に対して設定された高さに試料２の高さ
を自動的に制御する。このことによって、合焦のための
時間が大幅に短縮される。
分析点、分析領域を次々に自動的に分析するようにステ
ージ駆動機構１０を制御する。また、測定制御装置１２
は、分析点や分析領域を移動したときには、移動後の分
析点や分析領域に対して設定された高さに試料２の高さ
を自動的に制御する。このことによって、合焦のための
時間が大幅に短縮される。
【００２４】以上の動作によって、分析効率は従来より
向上される。なお、三次元形状測定装置１４で表面形状
を測定した後には、ＥＰＭＡで分析を行うために、試料
２をＥＰＭＡのホルダ８に載置してステージ９に装着す
る必要があることは当然である。
向上される。なお、三次元形状測定装置１４で表面形状
を測定した後には、ＥＰＭＡで分析を行うために、試料
２をＥＰＭＡのホルダ８に載置してステージ９に装着す
る必要があることは当然である。
【００２５】以上の説明では、測定制御装置１２は、三
次元形状測定装置１４から転送された形状データをその
まま記憶するものとしたが、場合によっては三次元形状
測定装置１４で得た形状データに対して座標変換を行う
必要が生じる。
次元形状測定装置１４から転送された形状データをその
まま記憶するものとしたが、場合によっては三次元形状
測定装置１４で得た形状データに対して座標変換を行う
必要が生じる。
【００２６】即ち、ＥＰＭＡのステージ９上には適宜に
原点と座標が設定され、同様に三次元形状測定装置１４
においても適宜に原点と座標が設定されている。従っ
て、ＥＰＭＡのステージ９に装着するホルダ８に試料２
を載置した状態で三次元形状測定装置１４のある座標位
置に装着して表面形状を測定し、その後当該ホルダ８を
ステージ９に装着するに際して、三次元形状測定装置１
４において装着したと同じ座標位置に装着するようにす
れば座標変換の必要はなく、三次元形状測定装置１４で
得た形状データをそのまま測定制御装置１２で用いるこ
とができる。
原点と座標が設定され、同様に三次元形状測定装置１４
においても適宜に原点と座標が設定されている。従っ
て、ＥＰＭＡのステージ９に装着するホルダ８に試料２
を載置した状態で三次元形状測定装置１４のある座標位
置に装着して表面形状を測定し、その後当該ホルダ８を
ステージ９に装着するに際して、三次元形状測定装置１
４において装着したと同じ座標位置に装着するようにす
れば座標変換の必要はなく、三次元形状測定装置１４で
得た形状データをそのまま測定制御装置１２で用いるこ
とができる。
【００２７】このようにするには、三次元形状測定装置
１４のホルダ及びステージをＥＰＭＡのホルダ及びステ
ージと同じとし、その駆動軸の方向も同じにすればよ
い。
１４のホルダ及びステージをＥＰＭＡのホルダ及びステ
ージと同じとし、その駆動軸の方向も同じにすればよ
い。
【００２８】しかし、三次元形状測定装置１４のホル
ダ、ステージがＥＰＭＡのホルダ、ステージと異なる場
合には、一般に座標変換を行う必要がある。この座標変
換は平行移動と回転で行うことができる。なぜなら、原
点の設定は座標値の平行移動で代用することができ、座
標軸の設定は座標軸の回転で代用することができるから
である。
ダ、ステージがＥＰＭＡのホルダ、ステージと異なる場
合には、一般に座標変換を行う必要がある。この座標変
換は平行移動と回転で行うことができる。なぜなら、原
点の設定は座標値の平行移動で代用することができ、座
標軸の設定は座標軸の回転で代用することができるから
である。
【００２９】従って、ＥＰＭＡのステージ９の座標値を
ｘ，ｙ，ｚとし、三次元形状測定装置１４で得た表面形
状の座標値をｘm ，ｙm ，ｚm とすると、座標変換は次
の式で行うことができる。
ｘ，ｙ，ｚとし、三次元形状測定装置１４で得た表面形
状の座標値をｘm ，ｙm ，ｚm とすると、座標変換は次
の式で行うことができる。
【００３０】
【数１】
【００３１】ここで、ａij（i=1,2,3 ，j=1,2,3,4）は
係数である。
係数である。
【００３２】以上のようであるので、ＥＰＭＡで分析を
行うに際して、３次元形状測定装置１４で試料２の表面
形状を予め測定し、その形状データに基づいて分析点、
分析領域の設定、その高さの設定、または分析を行わな
い領域の設定等を行うことができるので、不定形試料を
扱う際のオペレータの負担が軽減されるばかりでなく、
分析点、分析領域を移動した後の合焦のための時間等が
短縮されるので、効率よく分析を行うことができるもの
である。
行うに際して、３次元形状測定装置１４で試料２の表面
形状を予め測定し、その形状データに基づいて分析点、
分析領域の設定、その高さの設定、または分析を行わな
い領域の設定等を行うことができるので、不定形試料を
扱う際のオペレータの負担が軽減されるばかりでなく、
分析点、分析領域を移動した後の合焦のための時間等が
短縮されるので、効率よく分析を行うことができるもの
である。
【００３３】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。
【００３４】例えば、上記の説明では、三次元形状測定
装置１４で得た形状データはＩ／Ｆ１３により測定制御
装置１２に転送するものとしたが、フロッピーディスク
や光磁気ディスク等の適宜な記憶媒体を用いてもよい。
また、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）によって
通信を行ってもよい。
装置１４で得た形状データはＩ／Ｆ１３により測定制御
装置１２に転送するものとしたが、フロッピーディスク
や光磁気ディスク等の適宜な記憶媒体を用いてもよい。
また、ローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）によって
通信を行ってもよい。
【００３５】また、三次元形状測定装置１４において、
試料の形状を粗く測定しておき、その後、測定制御装置
１２において測定されなかった点の位置情報を任意の方
法で補間するようにしてもよい。
試料の形状を粗く測定しておき、その後、測定制御装置
１２において測定されなかった点の位置情報を任意の方
法で補間するようにしてもよい。
【００３６】また、ＥＰＭＡ本体に自動焦点合わせ機構
を組み込み、三次元形状測定機能を持たせてもよい。
を組み込み、三次元形状測定機能を持たせてもよい。
【図１】 本発明に係る電子プローブマイクロアナライ
ザを用いた分析システムの一実施形態を示す図である。
ザを用いた分析システムの一実施形態を示す図である。
【図２】 三次元形状測定装置１４で測定して得た表面
形状のデータの例を示す図である。
形状のデータの例を示す図である。
【図３】 不定形試料の例を示す断面図である。
１…電子線、２…試料、４…ＷＤＳ、５…分光結晶、６
…検出器、７…ＷＤＳ測定系、８…ホルダ、９…ステー
ジ、１０…ステージ駆動機構、１１…コントローラ、１
２…測定制御装置、１３…インターフェース（Ｉ／
Ｆ）、１４…三次元形状測定装置、１５…ホルダ。
…検出器、７…ＷＤＳ測定系、８…ホルダ、９…ステー
ジ、１０…ステージ駆動機構、１１…コントローラ、１
２…測定制御装置、１３…インターフェース（Ｉ／
Ｆ）、１４…三次元形状測定装置、１５…ホルダ。
Claims (3)
- 【請求項１】 試料を三次元形状測定装置で測定した形
状データに基づいて当該試料の分析位置、高さ等を制御
可能となされていることを特徴とする電子プローブマイ
クロアナライザ。 - 【請求項２】 三次元形状測定装置のホルダ、ステージ
の構造及びその駆動軸の方向は、電子プローブマイクロ
アナライザのホルダ、ステージの構造及びその駆動軸の
方向と同じであることを特徴とする請求項１記載の電子
プローブマイクロアナライザ。 - 【請求項３】 三次元形状測定装置は電子プローブマイ
クロアナライザの本体に組み込まれていることを特徴と
する請求項１または２記載の電子プローブマイクロアナ
ライザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02751297A JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02751297A JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221277A true JPH10221277A (ja) | 1998-08-21 |
| JP3600704B2 JP3600704B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=12223194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02751297A Expired - Fee Related JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3600704B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP02751297A patent/JP3600704B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
| JP4628127B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-02-09 | 日本電子株式会社 | 試料表面の測定方法及び分析方法並びに電子ビーム装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3600704B2 (ja) | 2004-12-15 |
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