JPH10221277A - 電子プローブマイクロアナライザ - Google Patents
電子プローブマイクロアナライザInfo
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- JPH10221277A JPH10221277A JP9027512A JP2751297A JPH10221277A JP H10221277 A JPH10221277 A JP H10221277A JP 9027512 A JP9027512 A JP 9027512A JP 2751297 A JP2751297 A JP 2751297A JP H10221277 A JPH10221277 A JP H10221277A
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Abstract
形状を三次元形状測定装置14で測定し、その形状デー
タをEPMAの測定制御装置12に転送する。オペレー
タはこの形状データに基づいて分析点の設定、及びその
高さの設定、または分析を行わない領域の設定等必要な
設定を行うことができるので、オペレータの負担は軽減
され、分析点毎の合焦も短時間で行うことができるので
分析時間を短縮でき、以て分析を効率よく行うことがで
きる。
Description
アナライザ(EPMA)に係り、特に複雑な形状を有す
る試料を効率よく分析できるEPMAに関する。
を備えたEPMAは、試料に電子線を照射し、そのとき
試料から放射される特性X線を分光結晶で分光して検出
器で検出することによって元素分析等を行うものである
が、近年では、研磨された平面を有する試料だけではな
く、非常に複雑な表面形状を有する試料(以下、これを
不定形試料と称する)をEPMAで分析することも行わ
れてきている。
オペレータの負担が大きく、しかも分析時間が長く、分
析効率が悪いものであった。
を有する試料を分析する場合を考える。当該試料の表面
形状は非常に複雑であるので不定形試料ということがで
きる。なお、図3においてAは当該不定形試料の内部に
ある貫通孔である。
いては、試料の表面を複数の領域に分割し、それらの各
分割領域毎に分析を行うようにするのが通常であるが、
一つ一つの分割領域は合焦する範囲になければならな
い。WDSを備えたEPMAにおいては、試料の分析領
域と、分光結晶と、検出器とはローランド円上に配置し
なければならないからある。これが合焦である。
きい不定形試料を分析する場合、オペレータは試料の形
状を観察して一つ一つの分析領域を設定していたので、
負担が大きいものであった。
め、分析領域を移動したとき、移動後の分析領域での合
焦に時間が掛かるという問題もある。
領域は分析する必要がないことは明らかであるが、従来
ではこのような分析を行う必要がない領域については、
オペレータが光学顕微鏡で試料を観察したり、あるいは
二次電子像で試料を観察して手動で移動させているの
で、作業が面倒であり、また操作のための時間も要する
ものであった。以上の結果、不定形試料の分析には時間
が掛かり、効率が悪いものであった。
って、オペレータの負担を軽減できると共に、従来に比
較して不定形試料の分析効率を向上させることができる
電子プローブマイクロアナライザを提供することを目的
とするものである。
めに、本発明の電子プローブマイクロアナライザは、試
料を三次元形状測定装置で測定した形状データに基づい
て当該試料の分析位置、高さ等を制御可能となされてい
ることを特徴とする。
テージの構造及びその駆動軸の方向を、電子プローブマ
イクロアナライザのホルダ、ステージの構造及びその駆
動軸の方向と同じにすると、三次元形状測定装置で得た
形状データを電子プローブマイクロアナライザでそのま
ま用いることができるので便利である。
マイクロアナライザの本体に組み込むことができる。
態について説明する。図1は本発明に係る電子プローブ
マイクロアナライザを用いた分析システムの一実施形態
を示す図であり、図中、1は電子線、2は試料、4はW
DS、5は分光結晶、6は検出器、7はWDS測定系、
8はホルダ、9はステージ、10はステージ駆動機構、
11はコントローラ、12は測定制御装置、13はイン
ターフェース(以下、I/Fと記す)、14は三次元形
状測定装置、15はホルダを示す。なお、図1において
は本発明の本質的でない部分については省略してある。
8はステージ9に装着されている。電子線1を試料2に
照射すると、試料2から特性X線が発生する。特性X線
はWDS4の分光結晶5で分光され、検出器6で検出さ
れる。検出器6からの信号はWDS測定系7に入力され
て計数等の所定の処理が施される。なお、WDS測定系
7はアンプ、タイマ、カウンタ等で構成されるが、この
点は周知でもあり、本発明において本質的な事項でもな
いので説明は省略する。
て駆動される。ステージ駆動機構10は、また、コント
ローラ11からの手動操作によっても駆動される。従っ
て、試料2を手動で移動させる必要が生じた場合には、
オペレータはコントローラ11を操作して手動でステー
ジ9を駆動することができる。
テージ駆動機構10の制御等、当該EPMAの動作を統
括して管理する機能を有するものであり、CPU及びそ
の周辺回路で構成されている。また、測定制御装置12
にはキーボード等の入力装置やCRT等の表示装置も備
えられている。
介して三次元形状測定装置14と接続されている。三次
元形状測定装置14は、試料2を載置したホルダ15を
装着した状態で試料2の三次元形状を測定できるように
なされている。そして、三次元形状測定装置14で測定
して得られた試料2の形状データはI/F13を介して
測定制御装置12に転送される。このI/F13はシリ
アルI/Fでもよく、パラレルI/Fでもよい。なお、
ホルダ15としては、EPMAのステージ9に装着する
ホルダ8をそのまま使用できるようになされているのが
望ましいものである。
フォーカス顕微鏡を用いて試料の三次元の形状データを
得る方式のもの、あるいは光の干渉を利用して三次元形
状データを得る方式のもの等が知られているが、何れの
方式のものを用いてもよい。なお、前者のオートフォー
カス顕微鏡を用いる方式は、試料を上下させながらオー
トフォーカス顕微鏡で適宜のオートフォーカス方法によ
り合焦位置を求め、その合焦位置でのステージの高さを
読み取る動作を予め設定された格子点について連続して
行って表面形状を求める方式である。また、後者の光の
干渉を利用する方式は、ガラス格子等を通して試料表面
に光を投射し、試料表面上に生じた干渉縞をTVカメラ
等で画像として読み取り、その縞の像を解析することに
よって表面形状を求める方式である。
面形状のデータは例えば図2に示すようである。この形
状データによれば、試料2の表面の各部位の高さが分か
り、従って、図3に示すような貫通孔を有する試料の場
合には、どの位置にどのような貫通孔があるかを明確に
知ることができることは明らかであろう。
2の分析を行う場合について説明する。
や歪みがないように固定する。次に、このホルダ15を
三次元形状測定装置14に装着して三次元形状を測定す
る。測定が終了すると、三次元形状測定装置14は測定
した形状データをI/F13を介して測定制御装置12
に転送する。
それを記憶する。オペレータは当該形状データを測定制
御装置12の表示装置に表示させる等によって試料2の
表面形状を明確に知ることができるので、分析点や分析
領域の設定、及びそのときの高さの設定、あるいは分析
を行わない領域の設定等を容易に行うことができ、オペ
レータの負担を従来に比較して軽減することができる。
分析点、分析領域を次々に自動的に分析するようにステ
ージ駆動機構10を制御する。また、測定制御装置12
は、分析点や分析領域を移動したときには、移動後の分
析点や分析領域に対して設定された高さに試料2の高さ
を自動的に制御する。このことによって、合焦のための
時間が大幅に短縮される。
向上される。なお、三次元形状測定装置14で表面形状
を測定した後には、EPMAで分析を行うために、試料
2をEPMAのホルダ8に載置してステージ9に装着す
る必要があることは当然である。
次元形状測定装置14から転送された形状データをその
まま記憶するものとしたが、場合によっては三次元形状
測定装置14で得た形状データに対して座標変換を行う
必要が生じる。
原点と座標が設定され、同様に三次元形状測定装置14
においても適宜に原点と座標が設定されている。従っ
て、EPMAのステージ9に装着するホルダ8に試料2
を載置した状態で三次元形状測定装置14のある座標位
置に装着して表面形状を測定し、その後当該ホルダ8を
ステージ9に装着するに際して、三次元形状測定装置1
4において装着したと同じ座標位置に装着するようにす
れば座標変換の必要はなく、三次元形状測定装置14で
得た形状データをそのまま測定制御装置12で用いるこ
とができる。
14のホルダ及びステージをEPMAのホルダ及びステ
ージと同じとし、その駆動軸の方向も同じにすればよ
い。
ダ、ステージがEPMAのホルダ、ステージと異なる場
合には、一般に座標変換を行う必要がある。この座標変
換は平行移動と回転で行うことができる。なぜなら、原
点の設定は座標値の平行移動で代用することができ、座
標軸の設定は座標軸の回転で代用することができるから
である。
x,y,zとし、三次元形状測定装置14で得た表面形
状の座標値をxm ,ym ,zm とすると、座標変換は次
の式で行うことができる。
係数である。
行うに際して、3次元形状測定装置14で試料2の表面
形状を予め測定し、その形状データに基づいて分析点、
分析領域の設定、その高さの設定、または分析を行わな
い領域の設定等を行うことができるので、不定形試料を
扱う際のオペレータの負担が軽減されるばかりでなく、
分析点、分析領域を移動した後の合焦のための時間等が
短縮されるので、効率よく分析を行うことができるもの
である。
が、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく種
々の変形が可能である。
装置14で得た形状データはI/F13により測定制御
装置12に転送するものとしたが、フロッピーディスク
や光磁気ディスク等の適宜な記憶媒体を用いてもよい。
また、ローカルエリアネットワーク(LAN)によって
通信を行ってもよい。
試料の形状を粗く測定しておき、その後、測定制御装置
12において測定されなかった点の位置情報を任意の方
法で補間するようにしてもよい。
を組み込み、三次元形状測定機能を持たせてもよい。
ザを用いた分析システムの一実施形態を示す図である。
形状のデータの例を示す図である。
…検出器、7…WDS測定系、8…ホルダ、9…ステー
ジ、10…ステージ駆動機構、11…コントローラ、1
2…測定制御装置、13…インターフェース(I/
F)、14…三次元形状測定装置、15…ホルダ。
Claims (3)
- 【請求項1】 試料を三次元形状測定装置で測定した形
状データに基づいて当該試料の分析位置、高さ等を制御
可能となされていることを特徴とする電子プローブマイ
クロアナライザ。 - 【請求項2】 三次元形状測定装置のホルダ、ステージ
の構造及びその駆動軸の方向は、電子プローブマイクロ
アナライザのホルダ、ステージの構造及びその駆動軸の
方向と同じであることを特徴とする請求項1記載の電子
プローブマイクロアナライザ。 - 【請求項3】 三次元形状測定装置は電子プローブマイ
クロアナライザの本体に組み込まれていることを特徴と
する請求項1または2記載の電子プローブマイクロアナ
ライザ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02751297A JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02751297A JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10221277A true JPH10221277A (ja) | 1998-08-21 |
JP3600704B2 JP3600704B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=12223194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02751297A Expired - Fee Related JP3600704B2 (ja) | 1997-02-12 | 1997-02-12 | 分析システム及び分析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3600704B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
-
1997
- 1997-02-12 JP JP02751297A patent/JP3600704B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2006221918A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Jeol Ltd | 試料鏡面の測定方法及び分析装置並びに電子ビーム装置 |
JP4628127B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2011-02-09 | 日本電子株式会社 | 試料表面の測定方法及び分析方法並びに電子ビーム装置 |
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---|---|
JP3600704B2 (ja) | 2004-12-15 |
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