JP3094199B2 - 微小部分析方法 - Google Patents
微小部分析方法Info
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- JP3094199B2 JP3094199B2 JP06065308A JP6530894A JP3094199B2 JP 3094199 B2 JP3094199 B2 JP 3094199B2 JP 06065308 A JP06065308 A JP 06065308A JP 6530894 A JP6530894 A JP 6530894A JP 3094199 B2 JP3094199 B2 JP 3094199B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、試料にＸ線や電子線
を照射したときに発生するＸ線を検出して元素分析を行
う、Ｘ線分析方法に関る。
を照射したときに発生するＸ線を検出して元素分析を行
う、Ｘ線分析方法に関る。
【０００２】
【従来の技術】従来、１次ビームとして使用するＸ線や
電子線の照射サイズに対して、より高い空間分解能をも
ってＸ線分析を行うことはできず、空間分解能を高める
ためには、Ｘ線の場合はコリメータで照射領域を制限す
る、あるいはＸ線光学系により絞るなどの方法が、電子
線の場合は電子光学系を高精度のものにするなどの方法
が用いられ、いずれも１次ビームの照射サイズを直接小
さくするという方法が取られていた。
電子線の照射サイズに対して、より高い空間分解能をも
ってＸ線分析を行うことはできず、空間分解能を高める
ためには、Ｘ線の場合はコリメータで照射領域を制限す
る、あるいはＸ線光学系により絞るなどの方法が、電子
線の場合は電子光学系を高精度のものにするなどの方法
が用いられ、いずれも１次ビームの照射サイズを直接小
さくするという方法が取られていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしＸ線の場合、Ｘ
線の照射領域制限用の微小部コリメータを作成するのは
技術的に十〜数十ミクロンが限界であり、またＸ線光学
系は、使用するＸ線用光学部品の製作に高度な技術を要
し高価であり、使用時の調整も困難であるという課題が
あった。
線の照射領域制限用の微小部コリメータを作成するのは
技術的に十〜数十ミクロンが限界であり、またＸ線光学
系は、使用するＸ線用光学部品の製作に高度な技術を要
し高価であり、使用時の調整も困難であるという課題が
あった。
【０００４】また電子線の場合、高精度の電子光学系を
用いればビームを絞ることが可能だが、そのような電子
光学系は複雑で高価であり、大型になるという課題があ
った。そこで、この発明の目的は、従来のこのような課
題を解決するため、使用する１次ビームの照射サイズを
直接小さくすることなく、１次ビームの照射サイズより
も小さな領域を分析することができる方法を得ることで
ある。
用いればビームを絞ることが可能だが、そのような電子
光学系は複雑で高価であり、大型になるという課題があ
った。そこで、この発明の目的は、従来のこのような課
題を解決するため、使用する１次ビームの照射サイズを
直接小さくすることなく、１次ビームの照射サイズより
も小さな領域を分析することができる方法を得ることで
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は、試料にＸ線や電子線を照射したときに
発生するＸ線を検出して元素分析を行うＸ線分析方法に
おいて、試料ステージとして最小移動量が１次ビームの
照射サイズよりも小さいものを使用し、 １．所望の分析領域に対して、１次ビームの照射領域が
内接する条件を満たす複数のステージ位置のうち、ステ
ージ位置に対応する複数のビーム照射領域の重畳する領
域がほぼ分析領域に一致するようなステージ位置の組み
合わせを選び、各ステージ位置でＸ線スペクトルを取得
し、取得した複数のスペクトルの共通成分Ｉを得る。
に、この発明は、試料にＸ線や電子線を照射したときに
発生するＸ線を検出して元素分析を行うＸ線分析方法に
おいて、試料ステージとして最小移動量が１次ビームの
照射サイズよりも小さいものを使用し、 １．所望の分析領域に対して、１次ビームの照射領域が
内接する条件を満たす複数のステージ位置のうち、ステ
ージ位置に対応する複数のビーム照射領域の重畳する領
域がほぼ分析領域に一致するようなステージ位置の組み
合わせを選び、各ステージ位置でＸ線スペクトルを取得
し、取得した複数のスペクトルの共通成分Ｉを得る。
【０００６】２．つぎに、上述の分析領域に対して、１
次ビームの照射領域が外接する条件を満たす複数のステ
ージ位置のうち、ステージ位置に対応する複数のビーム
照射領域のいずれにもあたらない領域がほぼ分析領域に
一致するようなステージ位置の組み合わせを選び、各ス
テージ位置でＸ線スペクトルを取得し、取得した複数の
スペクトルの共通成分Ｊを得る。
次ビームの照射領域が外接する条件を満たす複数のステ
ージ位置のうち、ステージ位置に対応する複数のビーム
照射領域のいずれにもあたらない領域がほぼ分析領域に
一致するようなステージ位置の組み合わせを選び、各ス
テージ位置でＸ線スペクトルを取得し、取得した複数の
スペクトルの共通成分Ｊを得る。
【０００７】３．内接条件を満たすビームを照射して得
られたスペクトルの共通成分Ｉと外接条件を満たすビー
ムを照射して得られたスペクトルの共通成分Ｊとの差か
ら、所望の分析領域に関する情報を得る。という手順に
より、１次ビームの照射サイズよりも小さな領域を分析
できるようにした。
られたスペクトルの共通成分Ｉと外接条件を満たすビー
ムを照射して得られたスペクトルの共通成分Ｊとの差か
ら、所望の分析領域に関する情報を得る。という手順に
より、１次ビームの照射サイズよりも小さな領域を分析
できるようにした。
【０００８】
【作用】上記のような方法によるＸ線分析においては、
１次ビームの照射領域が分析領域に内接する位置で取得
した複数のスペクトルの共通成分Ｉにより、分析領域か
らの情報および近傍の領域からのバックグラウンドの情
報の両方が得られ、また、１次ビームの照射領域が分析
領域に外接する位置で取得した複数のスペクトルの共通
成分Ｊにより、分析領域を含まない分析領域近傍のバッ
クグラウンドの情報のみが得られる。したがって、この
ＩとＪの差より分析領域からの情報のみを得ることがで
きる。
１次ビームの照射領域が分析領域に内接する位置で取得
した複数のスペクトルの共通成分Ｉにより、分析領域か
らの情報および近傍の領域からのバックグラウンドの情
報の両方が得られ、また、１次ビームの照射領域が分析
領域に外接する位置で取得した複数のスペクトルの共通
成分Ｊにより、分析領域を含まない分析領域近傍のバッ
クグラウンドの情報のみが得られる。したがって、この
ＩとＪの差より分析領域からの情報のみを得ることがで
きる。
【０００９】このとき、試料ステージの位置精度が分析
領域の大きさより十分小さいものを使用すれば、１次ビ
ームの照射サイズよりも小さな分析領域を分析できるこ
ととなる。
領域の大きさより十分小さいものを使用すれば、１次ビ
ームの照射サイズよりも小さな分析領域を分析できるこ
ととなる。
【００１０】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図に基づいて説
明する。図４に本発明に用いられるＸ線分析装置の一例
を示す。試料ステージ２４は、最小移動量が１次ビーム
の照射サイズよりも小さく、装置制御部２３によって少
なくとも２次元方向にコントロールされ、１次ビームの
照射位置と分析領域の位置関係が任意に選択できるよう
になっている。１次ビーム発生部２１から照射した１次
ビームは試料ステージ２４上の試料２５を励起し、発生
したＸ線がＸ線検出部２２で検出され、データ処理部２
６でエネルギー弁別されてＸ線スペクトルが取得され
る。１次ビームとしては、Ｘ線や電子線などが用いられ
る。
明する。図４に本発明に用いられるＸ線分析装置の一例
を示す。試料ステージ２４は、最小移動量が１次ビーム
の照射サイズよりも小さく、装置制御部２３によって少
なくとも２次元方向にコントロールされ、１次ビームの
照射位置と分析領域の位置関係が任意に選択できるよう
になっている。１次ビーム発生部２１から照射した１次
ビームは試料ステージ２４上の試料２５を励起し、発生
したＸ線がＸ線検出部２２で検出され、データ処理部２
６でエネルギー弁別されてＸ線スペクトルが取得され
る。１次ビームとしては、Ｘ線や電子線などが用いられ
る。
【００１１】図１（ｂ）は、試料ステージを上から見た
ときの、４箇所の１次ビームの照射領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
と所望の分析領域１の位置関係を示す模式図である。２
〜５は１次ビームの照射領域の末端を示す。第１に、１
次ビームの照射領域が分析領域１に内接するようにステ
ージを移動し、Ｘ線スペクトルを取得する。１次ビーム
の照射領域の末端２と分析領域１の位置関係がその例で
ある。１次ビームの照射領域の形状およびサイズについ
ては、あらかじめ測定しておく。測定方法としては、電
子線であれば、ファラデーカップを用いたナイフエッジ
法を、Ｘ線であれば、感光フィルムによる方法を使用で
きる。また、試料ステージを走査して試料からのＸ線を
検出することにより照射領域のサイズを得る方法は、電
子線・Ｘ線ともに使用できる方法である。
ときの、４箇所の１次ビームの照射領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ
と所望の分析領域１の位置関係を示す模式図である。２
〜５は１次ビームの照射領域の末端を示す。第１に、１
次ビームの照射領域が分析領域１に内接するようにステ
ージを移動し、Ｘ線スペクトルを取得する。１次ビーム
の照射領域の末端２と分析領域１の位置関係がその例で
ある。１次ビームの照射領域の形状およびサイズについ
ては、あらかじめ測定しておく。測定方法としては、電
子線であれば、ファラデーカップを用いたナイフエッジ
法を、Ｘ線であれば、感光フィルムによる方法を使用で
きる。また、試料ステージを走査して試料からのＸ線を
検出することにより照射領域のサイズを得る方法は、電
子線・Ｘ線ともに使用できる方法である。
【００１２】１次ビームの照射領域が分析領域１に内接
するような位置は１つではないので、その条件を満たす
ほかの位置にステージを移動して次々にＸ線スペクトル
を取得する。たとえば、１次ビームの照射領域Ｂ、Ｃ、
Ｄの末端３、４、５がその例である。このとき、これら
の１次ビームの照射領域の重畳する領域が分析領域１に
ほぼ一致するように位置を選択する必要がある。図１で
は位置を変えて４回の測定を行う例であるが、１次ビー
ムの照射位置を適当に選べば、Ｘ線スペクトルの取得は
３箇所以上の位置においてなされれば良い。
するような位置は１つではないので、その条件を満たす
ほかの位置にステージを移動して次々にＸ線スペクトル
を取得する。たとえば、１次ビームの照射領域Ｂ、Ｃ、
Ｄの末端３、４、５がその例である。このとき、これら
の１次ビームの照射領域の重畳する領域が分析領域１に
ほぼ一致するように位置を選択する必要がある。図１で
は位置を変えて４回の測定を行う例であるが、１次ビー
ムの照射位置を適当に選べば、Ｘ線スペクトルの取得は
３箇所以上の位置においてなされれば良い。
【００１３】次に、複数位置で取得した複数のＸ線スペ
クトルについて、共通成分Ｉを得る。共通成分Ｉを得る
には例えば、Ｘ線のエネルギーまたはチャンネルについ
て、各スペクトルのうちの最小値を選べば良い。図１
（ａ）に１次ビームの照射領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄと共通成
分（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに共通して含まれる成分）Ｉのスペ
クトルを示す。今例えば図１（ｂ）に示されるような位
置にゴミ１００があったとする。図１（ｂ）において照
射領域Ａ、Ｄにおいては、ゴミは存在していないので、
図１（ａ）においてＡ、Ｄのスペクトルとしてはバック
グラウンドと考えられる鉄のスペクトルと分析領域にあ
る異物としての銅のスペクトルが現れる。照射領域Ｂ、
Ｃににはゴミがあるために、このゴミが銅であるとすれ
ば、図１（ａ）のＢ、Ｃのスペクトルに見られるように
銅スペクトルの強度が強くなる。図１（ａ）において、
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各スペクトルに共通に存在する成分を
求めると、Ｉに示すスペクトルとなる。こうして得られ
る共通成分Ｉには、分析領域の外に局在するごみ・しみ
・偏析の情報はキャンセルされ、分析領域内からの情報
および、分析領域近傍に均一に含まれるバックグラウン
ド（図１においては鉄）の情報のみが含まれている。
クトルについて、共通成分Ｉを得る。共通成分Ｉを得る
には例えば、Ｘ線のエネルギーまたはチャンネルについ
て、各スペクトルのうちの最小値を選べば良い。図１
（ａ）に１次ビームの照射領域Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄと共通成
分（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄに共通して含まれる成分）Ｉのスペ
クトルを示す。今例えば図１（ｂ）に示されるような位
置にゴミ１００があったとする。図１（ｂ）において照
射領域Ａ、Ｄにおいては、ゴミは存在していないので、
図１（ａ）においてＡ、Ｄのスペクトルとしてはバック
グラウンドと考えられる鉄のスペクトルと分析領域にあ
る異物としての銅のスペクトルが現れる。照射領域Ｂ、
Ｃににはゴミがあるために、このゴミが銅であるとすれ
ば、図１（ａ）のＢ、Ｃのスペクトルに見られるように
銅スペクトルの強度が強くなる。図１（ａ）において、
Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの各スペクトルに共通に存在する成分を
求めると、Ｉに示すスペクトルとなる。こうして得られ
る共通成分Ｉには、分析領域の外に局在するごみ・しみ
・偏析の情報はキャンセルされ、分析領域内からの情報
および、分析領域近傍に均一に含まれるバックグラウン
ド（図１においては鉄）の情報のみが含まれている。
【００１４】第２に、１次ビームの照射領域が分析領域
１に外接するようにステージを移動し、Ｘ線スペクトル
を取得する。図２（ｂ）は照射領域Ａ’、Ｂ’、Ｃ’、
Ｄ’と分析領域１の位置関係を示す基本図である。例え
ば１次ビームの照射領域Ａ’の末端１２と分析領域１の
位置関係が上記した外接の例である。
１に外接するようにステージを移動し、Ｘ線スペクトル
を取得する。図２（ｂ）は照射領域Ａ’、Ｂ’、Ｃ’、
Ｄ’と分析領域１の位置関係を示す基本図である。例え
ば１次ビームの照射領域Ａ’の末端１２と分析領域１の
位置関係が上記した外接の例である。
【００１５】１次ビームの照射領域が分析領域１に外接
するような位置は内接する場合と同様１つではないの
で、その条件を満たすほかの位置にステージを移動して
次々にＸ線スペクトルを取得する。たとえば、１次ビー
ムの照射領域Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’の末端１３、１４、１５
がその例である。このとき、これらの１次ビームの照射
領域の末端が取り囲む領域が分析領域１にほぼ一致する
ように位置を選択する必要がある。図２（ｂ）では位置
を変えて４回の測定を行う例であるが、１次ビームの照
射位置を適当に選べば、Ｘ線スペクトルの取得は３箇所
以上の位置においてなされれば良い。
するような位置は内接する場合と同様１つではないの
で、その条件を満たすほかの位置にステージを移動して
次々にＸ線スペクトルを取得する。たとえば、１次ビー
ムの照射領域Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’の末端１３、１４、１５
がその例である。このとき、これらの１次ビームの照射
領域の末端が取り囲む領域が分析領域１にほぼ一致する
ように位置を選択する必要がある。図２（ｂ）では位置
を変えて４回の測定を行う例であるが、１次ビームの照
射位置を適当に選べば、Ｘ線スペクトルの取得は３箇所
以上の位置においてなされれば良い。
【００１６】こちらについても、複数位置で取得した複
数のＸ線スペクトルについて、共通成分Ｊを得る。共通
成分Ｊを得るには、共通成分Ｉを得たときと同様の方法
を用いる。図２（ａ）に１次ビームの照射領域Ａ’、
Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’と共通成分Ｊのスペクトルを示す。図
２（ｂ）において照射領域Ａ’、Ｄ’においては、ゴミ
は存在していないので、図２（ａ）においてはＡ’、
Ｄ’のスペクトルとしてバックグラウンドと考えられる
鉄のスペクトルのみが現れる。照射領域Ｂ、Ｃにはゴミ
があるために、このゴミが銅であるとすれば、図２
（ａ）のＢ、Ｃのスペクトルに見られるように銅スペク
トルの成分が現れる。図２（ａ）において、Ａ’、
Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’各スペクトルに共通に存在する成分を
求めると、Ｊに示すスペクトルとなる。こうして得られ
る共通成分Ｊには、分析領域１内の情報はまったく含ま
れておらず、さらに分析領域１の外についても局在する
ごみ・しみ・偏析の情報はキャンセルされてしまうの
で、分析領域１を含まない分析領域近傍に均一に含まれ
るバックグラウンドの情報のみが含まれている。したが
って、共通成分Ｉと共通成分Ｊの差を取れば、分析領域
１内の情報のみを得ることができる。図３（ａ）にこの
差Ｉ−Ｊのスペクトルを示す。すなわち、分析領域１内
に所定量の銅があることがわかる。よって図３（ｂ）に
示すように鉄３１からなるバックグラウンドの分析領域
３２内に銅粒３３があることがわかる。
数のＸ線スペクトルについて、共通成分Ｊを得る。共通
成分Ｊを得るには、共通成分Ｉを得たときと同様の方法
を用いる。図２（ａ）に１次ビームの照射領域Ａ’、
Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’と共通成分Ｊのスペクトルを示す。図
２（ｂ）において照射領域Ａ’、Ｄ’においては、ゴミ
は存在していないので、図２（ａ）においてはＡ’、
Ｄ’のスペクトルとしてバックグラウンドと考えられる
鉄のスペクトルのみが現れる。照射領域Ｂ、Ｃにはゴミ
があるために、このゴミが銅であるとすれば、図２
（ａ）のＢ、Ｃのスペクトルに見られるように銅スペク
トルの成分が現れる。図２（ａ）において、Ａ’、
Ｂ’、Ｃ’、Ｄ’各スペクトルに共通に存在する成分を
求めると、Ｊに示すスペクトルとなる。こうして得られ
る共通成分Ｊには、分析領域１内の情報はまったく含ま
れておらず、さらに分析領域１の外についても局在する
ごみ・しみ・偏析の情報はキャンセルされてしまうの
で、分析領域１を含まない分析領域近傍に均一に含まれ
るバックグラウンドの情報のみが含まれている。したが
って、共通成分Ｉと共通成分Ｊの差を取れば、分析領域
１内の情報のみを得ることができる。図３（ａ）にこの
差Ｉ−Ｊのスペクトルを示す。すなわち、分析領域１内
に所定量の銅があることがわかる。よって図３（ｂ）に
示すように鉄３１からなるバックグラウンドの分析領域
３２内に銅粒３３があることがわかる。
【００１７】このとき、分析可能な領域のサイズは、１
次ビームの照射サイズには影響されず、試料を２次元方
向に搬送する試料ステージの最小移動量および位置決め
精度にのみ左右されることがわかる。したがって、試料
ステージとして最小移動量が１次ビームの照射サイズよ
りも小さいものを使用し、以上の手順による手法を用い
れば、１次ビームの照射サイズよりも小さな領域を分析
できる。
次ビームの照射サイズには影響されず、試料を２次元方
向に搬送する試料ステージの最小移動量および位置決め
精度にのみ左右されることがわかる。したがって、試料
ステージとして最小移動量が１次ビームの照射サイズよ
りも小さいものを使用し、以上の手順による手法を用い
れば、１次ビームの照射サイズよりも小さな領域を分析
できる。
【００１８】
【発明の効果】本発明は、試料にＸ線や電子線を照射し
たときに発生するＸ線を検出して元素分析を行うＸ線分
析において、微小異物検査や材料偏析分析などの微小部
分析に対して多大な効果をもたらす。
たときに発生するＸ線を検出して元素分析を行うＸ線分
析において、微小異物検査や材料偏析分析などの微小部
分析に対して多大な効果をもたらす。
【００１９】とくに、１次ビームとしてＸ線を使用する
場合、５０ミクロン以下に１次Ｘ線を絞るには多大なコ
ストがかかり、そのような微小部の分析を行うことは非
常に困難であったが、本発明を利用することで、安価な
装置で微小部の分析が行える。 また、１次ビームを細
く絞った装置においても、本発明を利用すればさらに小
さな領域の分析を行うことができるという効果もある。
場合、５０ミクロン以下に１次Ｘ線を絞るには多大なコ
ストがかかり、そのような微小部の分析を行うことは非
常に困難であったが、本発明を利用することで、安価な
装置で微小部の分析が行える。 また、１次ビームを細
く絞った装置においても、本発明を利用すればさらに小
さな領域の分析を行うことができるという効果もある。
【図１】本発明の実施例による微小部分析の方法の説明
図である。
図である。
【図２】本発明の実施例による微小部分析の方法の説明
図である。
図である。
【図３】本発明による実施例による微小部分析の方法説
明図である。
明図である。
【図４】本発明を用いるＸ線分析装置の概略図である。
１ 所望の分析領域 ２、３、４、５、１２、１３、１４、１５ １次ビーム
の照射領域の末端 ２１ １次ビーム発生部 ２２ Ｘ線検出器 ２３ 装置制御部 ２４ 試料ステージ ２５ 試料
の照射領域の末端 ２１ １次ビーム発生部 ２２ Ｘ線検出器 ２３ 装置制御部 ２４ 試料ステージ ２５ 試料
Claims (2)
- 【請求項１】 試料に１次ビームを照射しＸ線を励起さ
せる励起線源と、前記試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージを少なくとも２次元方向に制御する装
置制御部と、前記試料からの前記Ｘ線を検出するＸ線検
出部と、前記Ｘ線検出部からの情報をもとにデータ処理
を行いＸ線スペクトルを取得するデータ処理部とから構
成される微小部Ｘ線分析装置において、前記試料ステー
ジとして最小移動量が前記１次ビームの照射サイズより
も小さいものを使用し、 １．所望の分析領域に対して、前記１次ビームの照射領
域が内接する条件を満たす複数の第１のステージ位置の
うち、前記第１のステージ位置に対応する複数のビーム
照射領域の重畳する領域がほぼ前記分析領域に一致する
ような前記第１のステージ位置の組み合わせを選び、前
記第１の各ステージ位置で取得した複数のＸ線スペクト
ルの共通成分Ｉを得る。 ２．前記分析領域に対して、前記１次ビームの照射領域
が外接する条件を満たす複数の第２のステージ位置のう
ち、前記第２のステージ位置に対応する複数のビーム照
射領域のいずれにもあたらない領域がほぼ前記分析領域
に一致するような第２のステージ位置の組み合わせを選
び、前記第２の各ステージ位置で取得した複数のＸ線ス
ペクトルの共通成分Ｊを得る。 ３．前記共通成分Ｉと前記共通成分Ｊとの差を求める。 以上の手順により、１次ビームの照射サイズよりも小さ
な領域の分析を行うことを特徴とする微小部分析方法。 - 【請求項２】 試料に１次ビームを照射しＸ線を励起さ
せる励起線源と、前記試料を載置する試料ステージと、
前記試料ステージを少なくとも２次元方向に制御する装
置制御部と、前記試料からの前記Ｘ線を検出するＸ線検
出部と、前記Ｘ線検出部からの情報をもとにデータ処理
を行いＸ線スペクトルを取得するデータ処理部とから構
成される微小部Ｘ線分析装置において、前記試料ステー
ジとして最小移動量が前記１次ビームの照射サイズより
も小さいものを使用し、所望の分析領域に対して、複数
のビーム照射領域の重畳する領域がほぼ前記所望の分析
領域に一致するように前記第１のステージ位置の組み合
わせを選び、前記第１の各ステージ位置で取得した複数
のＸ線スペクトルが共通に含まれる成分を得ることによ
って、分析領域及びバックグラウンド情報を得ることを
特徴とする微小部分析方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06065308A JP3094199B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 微小部分析方法 |
| US08/412,665 US5541973A (en) | 1994-04-01 | 1995-03-29 | Micro area analyzing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06065308A JP3094199B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 微小部分析方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270346A JPH07270346A (ja) | 1995-10-20 |
| JP3094199B2 true JP3094199B2 (ja) | 2000-10-03 |
Family
ID=13283156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06065308A Expired - Fee Related JP3094199B2 (ja) | 1994-04-01 | 1994-04-01 | 微小部分析方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5541973A (ja) |
| JP (1) | JP3094199B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6407386B1 (en) * | 1999-02-23 | 2002-06-18 | Applied Materials, Inc. | System and method for automatic analysis of defect material on semiconductors |
| WO2007015472A1 (ja) * | 2005-08-04 | 2007-02-08 | Sii Nanotechnology Inc. | Ｘ線分析装置及び方法 |
| IL180482A0 (en) * | 2007-01-01 | 2007-06-03 | Jordan Valley Semiconductors | Inspection of small features using x - ray fluorescence |
| EP2425234B1 (en) * | 2009-04-30 | 2019-10-23 | Thermo Scientific Portable Analytical Instruments Inc. | Localization of an element of interest by xrf analysis of different inspection volumes |
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