JPH10209035A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH10209035A JPH10209035A JP9024332A JP2433297A JPH10209035A JP H10209035 A JPH10209035 A JP H10209035A JP 9024332 A JP9024332 A JP 9024332A JP 2433297 A JP2433297 A JP 2433297A JP H10209035 A JPH10209035 A JP H10209035A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure apparatus
- support
- reticle
- substrate
- vertex
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、半導体装置あるいは液晶表示装置な
どの製造に用いる露光装置に関し、露光時における装置
の動的安定性に優れた露光装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】設置面に対して３個所の装置支持脚３ａ〜
３ｃで支持する支持機構と、支持機構上に配設され、パ
ターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系ＩＬ
Ｓとを有し、パターンの像を基板に露光する露光装置に
おいて、照明光学系ＩＬＳは、設置面の垂直方向からみ
て、３個所の装置支持脚３ａ〜３ｃを頂点とする三角形
の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線に
対してほぼ線対称になるように配設されるように構成す
る。
どの製造に用いる露光装置に関し、露光時における装置
の動的安定性に優れた露光装置を提供することを目的と
する。 【解決手段】設置面に対して３個所の装置支持脚３ａ〜
３ｃで支持する支持機構と、支持機構上に配設され、パ
ターンが形成されたレチクルを照明する照明光学系ＩＬ
Ｓとを有し、パターンの像を基板に露光する露光装置に
おいて、照明光学系ＩＬＳは、設置面の垂直方向からみ
て、３個所の装置支持脚３ａ〜３ｃを頂点とする三角形
の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線に
対してほぼ線対称になるように配設されるように構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置あるい
は液晶表示装置などの製造に用いる露光装置に関する。
は液晶表示装置などの製造に用いる露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置あるいは液晶表示装置の製造
工程におけるフォトリソグラフィ工程では、半導体層や
金属配線層に微細な回路パターンを形成させるために投
影露光装置が用いられる。この投影露光装置は、回路パ
ターンの描画されたレチクルやフォトマスク（以下、レ
チクルと総称する）をレチクルステージ上に載置し、レ
ジストを塗布した半導体ウェハやガラス基板（以下、ウ
ェハという）を載置したウェハステージがレチクルに対
して相対的にＸ−Ｙ方向の２次元的に移動して、ウェハ
の所定領域にレチクルの回路パターンを投影露光するも
のである。
工程におけるフォトリソグラフィ工程では、半導体層や
金属配線層に微細な回路パターンを形成させるために投
影露光装置が用いられる。この投影露光装置は、回路パ
ターンの描画されたレチクルやフォトマスク（以下、レ
チクルと総称する）をレチクルステージ上に載置し、レ
ジストを塗布した半導体ウェハやガラス基板（以下、ウ
ェハという）を載置したウェハステージがレチクルに対
して相対的にＸ−Ｙ方向の２次元的に移動して、ウェハ
の所定領域にレチクルの回路パターンを投影露光するも
のである。
【０００３】そしてこの露光装置には大別して、レチク
ル上のパターンの像を投影光学系を介して縮小投影し、
パターン像をウェハ上の各ショット領域に順次露光する
ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置と、レ
チクルのパターンの一部を投影光学系を介してウェハ上
に投影し、レチクルとウェハとを同期させて走査するこ
とによりレチクルのパターンをウェハに逐次露光する、
いわゆるステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影
露光装置とがある。
ル上のパターンの像を投影光学系を介して縮小投影し、
パターン像をウェハ上の各ショット領域に順次露光する
ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置と、レ
チクルのパターンの一部を投影光学系を介してウェハ上
に投影し、レチクルとウェハとを同期させて走査するこ
とによりレチクルのパターンをウェハに逐次露光する、
いわゆるステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影
露光装置とがある。
【０００４】これらの従来の投影露光装置のうち、ステ
ップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置の概
略の構造を図５及び図６を用いて説明する。図５は、従
来の投影露光装置をその上方から当該装置の設置面に向
かって見た上面図である。図６は、同投影露光装置を装
置正面から見た正面図である。ここで、装置正面とは、
クリーンルーム内に投影露光装置を設置した際、投影露
光装置に隣接して設置される基板搬送装置（以下、ウェ
ハローダという）に複数枚のウェハをまとめて供給する
搬送ロボット等が移動する通路に面した側の面をいうも
のとする。
ップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置の概
略の構造を図５及び図６を用いて説明する。図５は、従
来の投影露光装置をその上方から当該装置の設置面に向
かって見た上面図である。図６は、同投影露光装置を装
置正面から見た正面図である。ここで、装置正面とは、
クリーンルーム内に投影露光装置を設置した際、投影露
光装置に隣接して設置される基板搬送装置（以下、ウェ
ハローダという）に複数枚のウェハをまとめて供給する
搬送ロボット等が移動する通路に面した側の面をいうも
のとする。
【０００５】図５、図６に示すように従来の投影露光装
置では、設置面に対して４個所の装置支持脚１０ａ、１
０ｂ、１０ｃ、１０ｄ で装置支持部１０を支持してい
る。装置支持部１０は後述する照明光学系ＩＬＳ、投影
光学系ＰＬ、レチクルステージＲＳＴ、ウェハステージ
ＷＳＴを主な装置構成要素とする装置全体を支持してい
る。装置支持部１０の枠体（以下、フレームという）
は、上面から見て長方形形状をしており、その４角の各
角部に装置支持脚１０ａ〜１０ｄが設けられている。
置では、設置面に対して４個所の装置支持脚１０ａ、１
０ｂ、１０ｃ、１０ｄ で装置支持部１０を支持してい
る。装置支持部１０は後述する照明光学系ＩＬＳ、投影
光学系ＰＬ、レチクルステージＲＳＴ、ウェハステージ
ＷＳＴを主な装置構成要素とする装置全体を支持してい
る。装置支持部１０の枠体（以下、フレームという）
は、上面から見て長方形形状をしており、その４角の各
角部に装置支持脚１０ａ〜１０ｄが設けられている。
【０００６】ここで図５及び図６における座標系は、装
置支持部１０のフレームの長方形形状の長辺の方向をＸ
軸とし、それと水平な直角方向にＹ軸をとり、垂直方向
をＺ軸としている。従ってこの例では、装置正面はＹ軸
を正方向に向かって見た面であり、搬送ロボット等の移
動に用いられる通路はＸ方向に設けられている。従っ
て、装置支持脚１０ａ、１０ｄ、及び装置支持脚１０
ｂ、１０ｃでそれぞれ形成される長方形の短辺はＹ軸に
平行であり、装置支持脚１０ａ、１０ｂ、及び装置支持
脚１０ｃ、１０ｄでそれぞれ形成される長方形の長辺は
Ｘ軸に平行となる。
置支持部１０のフレームの長方形形状の長辺の方向をＸ
軸とし、それと水平な直角方向にＹ軸をとり、垂直方向
をＺ軸としている。従ってこの例では、装置正面はＹ軸
を正方向に向かって見た面であり、搬送ロボット等の移
動に用いられる通路はＸ方向に設けられている。従っ
て、装置支持脚１０ａ、１０ｄ、及び装置支持脚１０
ｂ、１０ｃでそれぞれ形成される長方形の短辺はＹ軸に
平行であり、装置支持脚１０ａ、１０ｂ、及び装置支持
脚１０ｃ、１０ｄでそれぞれ形成される長方形の長辺は
Ｘ軸に平行となる。
【０００７】装置支持部１０上には、４個の照明光学系
用支持脚（以下、ＩＬＳ用支持脚という）１２ａ、１２
ｂ、１２ｃ、１２ｄが固定されている。ＩＬＳ用支持脚
１２ａ〜１２ｄは装置支持部１０の固定端で長方形形状
の４角を構成し、ＩＬＳ用支持脚１２ａ〜１２ｄのそれ
ぞれがＺ軸方向に延びて照明光学系支持部（以下、ＩＬ
Ｓ支持部という）１２を支持している。ＩＬＳ支持部１
２のフレームは、各ＩＬＳ用支持脚１２ａ〜１２ｄを各
角部とする長方形形状をしている。このＩＬＳ支持部１
２で照明光学系ＩＬＳが支持されている。ＩＬＳ用支持
脚１２ａ、１２ｄ、及びＩＬＳ用支持脚１２ｂ、１２ｃ
でそれぞれ形成される長方形の短辺はＹ軸に平行であ
り、ＩＬＳ用支持脚１２ａ、１２ｂ、及びＩＬＳ用支持
脚１２ｃ、１２ｄでそれぞれ形成される長方形の長辺は
Ｘ軸に平行である。照明光学系ＩＬＳは、装置全体から
みて設置面から最も高い位置に配置されている。照明光
学系ＩＬＳの照明光源及び所望の照明光を得るための光
学系（共に図示を省略）はＹ軸方向に延びて配置されて
いる。
用支持脚（以下、ＩＬＳ用支持脚という）１２ａ、１２
ｂ、１２ｃ、１２ｄが固定されている。ＩＬＳ用支持脚
１２ａ〜１２ｄは装置支持部１０の固定端で長方形形状
の４角を構成し、ＩＬＳ用支持脚１２ａ〜１２ｄのそれ
ぞれがＺ軸方向に延びて照明光学系支持部（以下、ＩＬ
Ｓ支持部という）１２を支持している。ＩＬＳ支持部１
２のフレームは、各ＩＬＳ用支持脚１２ａ〜１２ｄを各
角部とする長方形形状をしている。このＩＬＳ支持部１
２で照明光学系ＩＬＳが支持されている。ＩＬＳ用支持
脚１２ａ、１２ｄ、及びＩＬＳ用支持脚１２ｂ、１２ｃ
でそれぞれ形成される長方形の短辺はＹ軸に平行であ
り、ＩＬＳ用支持脚１２ａ、１２ｂ、及びＩＬＳ用支持
脚１２ｃ、１２ｄでそれぞれ形成される長方形の長辺は
Ｘ軸に平行である。照明光学系ＩＬＳは、装置全体から
みて設置面から最も高い位置に配置されている。照明光
学系ＩＬＳの照明光源及び所望の照明光を得るための光
学系（共に図示を省略）はＹ軸方向に延びて配置されて
いる。
【０００８】また装置支持部１０上であって、ＩＬＳ用
支持脚１２ａ〜１２ｄを４角として構成される長方形の
内側に、同じく４個のレチクルステージ用支持脚（以
下、ＲＳＴ用支持脚という）１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、
１４ｄが固定されている。ＲＳＴ用支持脚１４ａ〜１４
ｄは装置支持部１０の固定端で長方形形状の４角を構成
し、ＲＳＴ用支持脚１４ａ〜１４ｄのそれぞれがＺ軸方
向に延びてレチクルステージ支持部（以下、ＲＳＴ支持
部という）１４を支持している。
支持脚１２ａ〜１２ｄを４角として構成される長方形の
内側に、同じく４個のレチクルステージ用支持脚（以
下、ＲＳＴ用支持脚という）１４ａ、１４ｂ、１４ｃ、
１４ｄが固定されている。ＲＳＴ用支持脚１４ａ〜１４
ｄは装置支持部１０の固定端で長方形形状の４角を構成
し、ＲＳＴ用支持脚１４ａ〜１４ｄのそれぞれがＺ軸方
向に延びてレチクルステージ支持部（以下、ＲＳＴ支持
部という）１４を支持している。
【０００９】ＲＳＴ支持部１４のフレームは、各ＲＳＴ
用支持脚１４ａ〜１４ｄを各角部とする長方形形状をし
ている。従って、ＲＳＴ用支持脚１４ａ、１４ｄ、及び
ＲＳＴ用支持脚１４ｂ、１４ｃでそれぞれ形成される長
方形の短辺はＹ軸に平行であり、ＲＳＴ用支持脚１４
ａ、１４ｂ、及びＲＳＴ用支持脚１４ｃ、１４ｄでそれ
ぞれ形成される長方形の長辺はＸ軸に平行となる。この
ＲＳＴ支持部１４でレチクルステージＲＳＴが支持され
ている。レチクルステージＲＳＴは、図示しないレチク
ルを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けられており、
ステップ・アンド・スキャン方式での露光の際、Ｙ方向
にスキャンするようになっている。レチクル上には所定
の回路パターンが描画されている。
用支持脚１４ａ〜１４ｄを各角部とする長方形形状をし
ている。従って、ＲＳＴ用支持脚１４ａ、１４ｄ、及び
ＲＳＴ用支持脚１４ｂ、１４ｃでそれぞれ形成される長
方形の短辺はＹ軸に平行であり、ＲＳＴ用支持脚１４
ａ、１４ｂ、及びＲＳＴ用支持脚１４ｃ、１４ｄでそれ
ぞれ形成される長方形の長辺はＸ軸に平行となる。この
ＲＳＴ支持部１４でレチクルステージＲＳＴが支持され
ている。レチクルステージＲＳＴは、図示しないレチク
ルを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けられており、
ステップ・アンド・スキャン方式での露光の際、Ｙ方向
にスキャンするようになっている。レチクル上には所定
の回路パターンが描画されている。
【００１０】レチクルステージＲＳＴ下方には、装置支
持部１０で支持され、Ｚ軸方向に光軸を有する投影光学
系ＰＬが設けられている。照明光学系ＩＬＳからの照明
光はレチクルステージＲＳＴ上のレチクルに描画された
回路パターンを照明し、レチクルを通過した照明光は投
影光学系ＰＬにより集光されて投影光学系ＰＬの結像面
でレチクルの回路パターンの像を結ぶ。
持部１０で支持され、Ｚ軸方向に光軸を有する投影光学
系ＰＬが設けられている。照明光学系ＩＬＳからの照明
光はレチクルステージＲＳＴ上のレチクルに描画された
回路パターンを照明し、レチクルを通過した照明光は投
影光学系ＰＬにより集光されて投影光学系ＰＬの結像面
でレチクルの回路パターンの像を結ぶ。
【００１１】投影光学系ＰＬの結像面にウェハの表面が
一致するようにウェハを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能
なウェハステージＷＳＴが、ウェハステージ支持部（以
下、ＷＳＴ支持部という）８により支持されている。Ｗ
ＳＴ支持部８は装置支持部１０の下方に設けられ、装置
支持脚１０ａ〜１０ｄにより支持されている。ウェハス
テージＷＳＴはステップ・アンド・スキャン方式での露
光の際、レチクルステージＲＳＴと同期してＹ方向にス
キャンする。
一致するようにウェハを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能
なウェハステージＷＳＴが、ウェハステージ支持部（以
下、ＷＳＴ支持部という）８により支持されている。Ｗ
ＳＴ支持部８は装置支持部１０の下方に設けられ、装置
支持脚１０ａ〜１０ｄにより支持されている。ウェハス
テージＷＳＴはステップ・アンド・スキャン方式での露
光の際、レチクルステージＲＳＴと同期してＹ方向にス
キャンする。
【００１２】装置正面には、複数のウェハが収納された
ウェハライブラリからウェハを順に搬出してウェハステ
ージＷＳＴ上の所定のウェハホルダ（図示せず）まで搬
送するウェハローダＷＬが隣接して配置されている。ま
た、ウェハローダＷＬを含んで投影露光装置の全体は、
恒温状態を維持する直方体のチャンバ２０内に格納され
ている。
ウェハライブラリからウェハを順に搬出してウェハステ
ージＷＳＴ上の所定のウェハホルダ（図示せず）まで搬
送するウェハローダＷＬが隣接して配置されている。ま
た、ウェハローダＷＬを含んで投影露光装置の全体は、
恒温状態を維持する直方体のチャンバ２０内に格納され
ている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように従
来の露光装置は、装置支持部１０、ＲＳＴ支持部１４、
ＩＬＳ支持部１２等が何れも４本の支持脚による４点支
持により被支持体を支持している。そして、できるだけ
投影光学系ＰＬを装置の中心（重心）位置に近づけて配
置すると共に、レチクル及びウェハをそれぞれＸ−Ｙ面
内、特にＹ軸方向に同期して移動させるレチクルステー
ジＲＳＴ及びウェハステージＷＳＴの駆動軸は、それぞ
れ装置全体の左右方向、あるいは前後方向、すなわち図
５及び図６での座標系におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向に平
行になるように構成されている。また、照明光学系ＩＬ
Ｓ及びその他の補機類は装置の前後方向、すなわちＹ軸
方向に対し長辺が平行ないしは垂直になるように配置し
ている。このような配置構成を採用することにより、露
光時のステージ移動に伴う装置全体のかしぎや振動等に
対する動的安定性を高め、高精度の露光を行うようにし
ている。
来の露光装置は、装置支持部１０、ＲＳＴ支持部１４、
ＩＬＳ支持部１２等が何れも４本の支持脚による４点支
持により被支持体を支持している。そして、できるだけ
投影光学系ＰＬを装置の中心（重心）位置に近づけて配
置すると共に、レチクル及びウェハをそれぞれＸ−Ｙ面
内、特にＹ軸方向に同期して移動させるレチクルステー
ジＲＳＴ及びウェハステージＷＳＴの駆動軸は、それぞ
れ装置全体の左右方向、あるいは前後方向、すなわち図
５及び図６での座標系におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向に平
行になるように構成されている。また、照明光学系ＩＬ
Ｓ及びその他の補機類は装置の前後方向、すなわちＹ軸
方向に対し長辺が平行ないしは垂直になるように配置し
ている。このような配置構成を採用することにより、露
光時のステージ移動に伴う装置全体のかしぎや振動等に
対する動的安定性を高め、高精度の露光を行うようにし
ている。
【００１４】しかしながら、このような配置構成を採用
しても、上述のような４点支持で被支持体を支持する場
合には、装置の設置面の平面性が良好でないと安定して
支持することができない事態が生じ得る。４点支持にお
ける４点では１つの平面が定まらないことがあるからで
ある。従って、設置面の平面性の不良に基づく装置全体
の動的及び静的不安定性を改善するためには、露光装置
の設置の際に各支持脚の長さを最適に調整するという面
倒な作業を行って装置を基準面に合わせ込むようにする
必要があった。
しても、上述のような４点支持で被支持体を支持する場
合には、装置の設置面の平面性が良好でないと安定して
支持することができない事態が生じ得る。４点支持にお
ける４点では１つの平面が定まらないことがあるからで
ある。従って、設置面の平面性の不良に基づく装置全体
の動的及び静的不安定性を改善するためには、露光装置
の設置の際に各支持脚の長さを最適に調整するという面
倒な作業を行って装置を基準面に合わせ込むようにする
必要があった。
【００１５】また、この種の露光装置は１つのクリーン
ルーム内に多数台設置されて稼働するため、装置１台当
たりの設置床面積が小さい方がコスト面でも有利であ
る。しかし従来の露光装置の場合、装置本体及びウェハ
ローダを格納するチャンバは、メンテナンス時の作業者
の作業エリア等を考慮して、装置より多少広めにせざる
を得ず、設置面積を減少させることは困難であった。
ルーム内に多数台設置されて稼働するため、装置１台当
たりの設置床面積が小さい方がコスト面でも有利であ
る。しかし従来の露光装置の場合、装置本体及びウェハ
ローダを格納するチャンバは、メンテナンス時の作業者
の作業エリア等を考慮して、装置より多少広めにせざる
を得ず、設置面積を減少させることは困難であった。
【００１６】本発明の目的は、露光時における装置の動
的安定性に優れた露光装置を提供することにある。ま
た、本発明の目的は、装置の設置面の平面性がある程度
不良であっても容易に設置調整ができる露光装置を提供
することにある。またさらに、本発明の目的は、装置１
台当たりの設置床面積を減少させた露光装置を提供する
ことにある。
的安定性に優れた露光装置を提供することにある。ま
た、本発明の目的は、装置の設置面の平面性がある程度
不良であっても容易に設置調整ができる露光装置を提供
することにある。またさらに、本発明の目的は、装置１
台当たりの設置床面積を減少させた露光装置を提供する
ことにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】一実施例を表す図１と図
２とに対応付けて説明すると上記目的は、設置面に対し
て３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）で支持する支持
機構（３）と、支持機構（３）上に配設され、パターン
が形成されたレチクルを照明する照明光学系（ＩＬＳ）
とを有し、パターンの像を基板に露光する露光装置にお
いて、照明光学系（ＩＬＳ）は、設置面の垂直方向から
みて、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点か
ら、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線に対してほぼ
線対称になるように配設されていることを特徴とする露
光装置によって達成される。
２とに対応付けて説明すると上記目的は、設置面に対し
て３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）で支持する支持
機構（３）と、支持機構（３）上に配設され、パターン
が形成されたレチクルを照明する照明光学系（ＩＬＳ）
とを有し、パターンの像を基板に露光する露光装置にお
いて、照明光学系（ＩＬＳ）は、設置面の垂直方向から
みて、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点か
ら、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線に対してほぼ
線対称になるように配設されていることを特徴とする露
光装置によって達成される。
【００１８】また、上記目的は、パターンが形成された
レチクルを載置して移動するレチクルステージ（ＲＳ）
と、パターンの像が露光される基板を載置して移動する
基板ステージ（ＷＳＴ）と、レチクルステージと基板ス
テージとを同期して所定の走査方向に走査する走査装置
（１）と、設置面に対して３個所の支持脚でレチクルス
テージと基板ステージとを支持する支持機構（３）とを
備えた露光装置において、走査方向は、設置面の垂直方
向からみて、３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）を頂
点とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点
に引いた直線にほぼ平行であることを特徴とする露光装
置によって達成される。
レチクルを載置して移動するレチクルステージ（ＲＳ）
と、パターンの像が露光される基板を載置して移動する
基板ステージ（ＷＳＴ）と、レチクルステージと基板ス
テージとを同期して所定の走査方向に走査する走査装置
（１）と、設置面に対して３個所の支持脚でレチクルス
テージと基板ステージとを支持する支持機構（３）とを
備えた露光装置において、走査方向は、設置面の垂直方
向からみて、３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）を頂
点とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点
に引いた直線にほぼ平行であることを特徴とする露光装
置によって達成される。
【００１９】さらに、上記目的は、レチクルのパターン
の像が露光される基板を載置して、所定の一方向を含む
２次元平面を移動する基板ステージ（ＷＳＴ）と、設置
面に対して３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）で基板
ステージを支持する支持機構（３）とを備えた露光装置
において、所定の一方向は、設置面の垂直方向からみ
て、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点から、
当該一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行である
ことを特徴とする露光装置によって達成される。
の像が露光される基板を載置して、所定の一方向を含む
２次元平面を移動する基板ステージ（ＷＳＴ）と、設置
面に対して３個所の支持脚（３ａ、３ｂ、３ｃ）で基板
ステージを支持する支持機構（３）とを備えた露光装置
において、所定の一方向は、設置面の垂直方向からみ
て、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点から、
当該一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行である
ことを特徴とする露光装置によって達成される。
【００２０】また、上記の露光装置において、基板ステ
ージ上へ基板を搬入／搬出する基板搬送装置（ＷＬ）
が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点
とする三角形の一辺に沿って配置されているようにして
もよい。また、前記設置面上に当該露光装置を格納する
チャンバ（２０）が設けられ、当該チャンバの一壁面
は、基板搬送装置が配置された三角形の一辺にほぼ平行
であるようにしてもよい。
ージ上へ基板を搬入／搬出する基板搬送装置（ＷＬ）
が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点
とする三角形の一辺に沿って配置されているようにして
もよい。また、前記設置面上に当該露光装置を格納する
チャンバ（２０）が設けられ、当該チャンバの一壁面
は、基板搬送装置が配置された三角形の一辺にほぼ平行
であるようにしてもよい。
【００２１】本発明によれば、従来の４点支持の露光装
置の設置の際に生じていた各支持脚の長さの調整作業に
比較して、装置全体を３点で支持するようにしたので容
易に基準面に装置を合わせ込むことができるようにな
る。
置の設置の際に生じていた各支持脚の長さの調整作業に
比較して、装置全体を３点で支持するようにしたので容
易に基準面に装置を合わせ込むことができるようにな
る。
【００２２】装置の安定性を高めるために装置全体の支
持点をキネマティックマウントに代表されるような３点
支持構成にしようとする場合、装置全体のバランスを考
えると重い照明系（ＩＬＳ）は複数の支持点で分散させ
るのが望ましい。
持点をキネマティックマウントに代表されるような３点
支持構成にしようとする場合、装置全体のバランスを考
えると重い照明系（ＩＬＳ）は複数の支持点で分散させ
るのが望ましい。
【００２３】特にステップ・アンド・スキャン投影露光
装置では装置に動的な安定性が要求されるためスキャン
方向に対称に装置を構成するのが望ましい。このスキャ
ン方向に対称に装置を構成するという条件を満たそうと
して、単純に従来の４個の支持脚による装置構成と同様
にして３個の支持脚で支持させる構成をとると、以下の
ような問題が生じる。
装置では装置に動的な安定性が要求されるためスキャン
方向に対称に装置を構成するのが望ましい。このスキャ
ン方向に対称に装置を構成するという条件を満たそうと
して、単純に従来の４個の支持脚による装置構成と同様
にして３個の支持脚で支持させる構成をとると、以下の
ような問題が生じる。
【００２４】すなわち装置正面に３点支持の１点を構成
する支持脚を位置させて装置正面側にウェハローダを配
置し、残りの２個の支持脚は、当該残りの２個の支持脚
で規定される辺が搬送ロボット等の移動する通路に平行
になるように配置したとすれば、３本の支持脚のうち１
本の支持脚が正面に来てしまっているので、装置正面側
にウェハローダを配置してもＸ−Ｙステージへのウェハ
の搬送は迂回させる必要が生じてしまう。つまり、装置
正面にウェハローダやレチクルローダを配置して、通路
を移動してくる搬送ロボットとの間で短時間でウェハの
受け渡しを行わせることができても、逆にこれらローダ
と露光装置のウェハステージあるいはレチクルステージ
との間でウェハやレチクルを搬送する際には支持脚の存
在が邪魔になって、最短距離でウェハやレチクルを搬送
させることができなくなってしまう。
する支持脚を位置させて装置正面側にウェハローダを配
置し、残りの２個の支持脚は、当該残りの２個の支持脚
で規定される辺が搬送ロボット等の移動する通路に平行
になるように配置したとすれば、３本の支持脚のうち１
本の支持脚が正面に来てしまっているので、装置正面側
にウェハローダを配置してもＸ−Ｙステージへのウェハ
の搬送は迂回させる必要が生じてしまう。つまり、装置
正面にウェハローダやレチクルローダを配置して、通路
を移動してくる搬送ロボットとの間で短時間でウェハの
受け渡しを行わせることができても、逆にこれらローダ
と露光装置のウェハステージあるいはレチクルステージ
との間でウェハやレチクルを搬送する際には支持脚の存
在が邪魔になって、最短距離でウェハやレチクルを搬送
させることができなくなってしまう。
【００２５】結局、ローダとステージとの間でのウェハ
の交換に要する時間が長くなってしまうとともに、装置
内に無駄な空間が生じて装置外形が大きくなってしま
い、結果としてチャンバが大きくなってしまうという問
題が生じることになる。そこで本発明では、例として図
１、図２に示すように装置の側面にローダを密着させる
ことでこの問題を避けるようにしている。さらに、図１
に示す構成では露光装置に付随すべきウェハコータ／デ
ベロッパ（図示せず）へのインターフェースが装置の一
方向（例えば図１では右方向）に固定されてしまい、露
光装置のライン構成の柔軟性が損なわれると同時に装置
を複数台並べた場合の装置のアクセス性が損なわれると
いう問題が生じ得るので、例として図３及び図４に示す
ように、ローダが正面になるように装置全体を所定角度
回転させるようにしている。
の交換に要する時間が長くなってしまうとともに、装置
内に無駄な空間が生じて装置外形が大きくなってしま
い、結果としてチャンバが大きくなってしまうという問
題が生じることになる。そこで本発明では、例として図
１、図２に示すように装置の側面にローダを密着させる
ことでこの問題を避けるようにしている。さらに、図１
に示す構成では露光装置に付随すべきウェハコータ／デ
ベロッパ（図示せず）へのインターフェースが装置の一
方向（例えば図１では右方向）に固定されてしまい、露
光装置のライン構成の柔軟性が損なわれると同時に装置
を複数台並べた場合の装置のアクセス性が損なわれると
いう問題が生じ得るので、例として図３及び図４に示す
ように、ローダが正面になるように装置全体を所定角度
回転させるようにしている。
【００２６】このような本発明の構成を採用することに
より、ローダからステージ系への距離を小さく保ち、装
置内空間の有効利用が可能となることで処理性能の向上
並びに装置占有床面積の縮小が可能になる。また、従来
は装置の後方へ飛び出していた照明系を斜めにすること
ができ装置の全長が短縮されるという作用を有する。ま
た、従来と同じようにローダ部が装置正面に設置できる
ため装置設置の柔軟性を確保できるとともに、装置の対
称性を維持することが可能になり、良好な動的安定性を
確保できるようになる。
より、ローダからステージ系への距離を小さく保ち、装
置内空間の有効利用が可能となることで処理性能の向上
並びに装置占有床面積の縮小が可能になる。また、従来
は装置の後方へ飛び出していた照明系を斜めにすること
ができ装置の全長が短縮されるという作用を有する。ま
た、従来と同じようにローダ部が装置正面に設置できる
ため装置設置の柔軟性を確保できるとともに、装置の対
称性を維持することが可能になり、良好な動的安定性を
確保できるようになる。
【００２７】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
露光装置を図１及び図２を用いて説明する。図１は、本
実施の形態による露光装置を上面から見た構成を示して
いる。図２は、本実施の形態による露光装置を正面から
見た構成を示している。本実施の形態においても、装置
正面は、クリーンルーム内に投影露光装置を設置した
際、投影露光装置に隣接して設置されるウェハローダに
対して複数枚のウェハをまとめて供給する搬送ロボット
等が移動する通路に面した側の面をいうものとする。ま
た、本実施の形態における露光装置は、レチクルのパタ
ーンの一部を投影光学系を介してウェハ上に投影し、レ
チクルとウェハとを同期させて走査することによりレチ
クルのパターンをウェハに逐次露光する、いわゆるステ
ップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置であ
る。
露光装置を図１及び図２を用いて説明する。図１は、本
実施の形態による露光装置を上面から見た構成を示して
いる。図２は、本実施の形態による露光装置を正面から
見た構成を示している。本実施の形態においても、装置
正面は、クリーンルーム内に投影露光装置を設置した
際、投影露光装置に隣接して設置されるウェハローダに
対して複数枚のウェハをまとめて供給する搬送ロボット
等が移動する通路に面した側の面をいうものとする。ま
た、本実施の形態における露光装置は、レチクルのパタ
ーンの一部を投影光学系を介してウェハ上に投影し、レ
チクルとウェハとを同期させて走査することによりレチ
クルのパターンをウェハに逐次露光する、いわゆるステ
ップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置であ
る。
【００２８】図１及び図２に示すように本実施の形態に
よる投影露光装置では、設置面に対して３個所の装置支
持脚３ａ、３ｂ、３ｃで装置支持部３を支持している。
装置支持部３は後述する照明光学系ＩＬＳ、投影光学系
ＰＬ、レチクルステージＲＳＴ、ウェハステージＷＳＴ
を主な装置構成要素とする装置全体を支持している。ま
た、制御装置１は、投影露光装置全体を制御しており、
特に、レチクルステージＲＳとウェハステージＷＳＴと
を同期して互いに逆方向（プラスＹ方向とマイナスＹ方
向）に移動するように制御している。装置支持部３のフ
レームは、上面から見て全体形状として二等辺三角形形
状をしており、その３角の各角部に装置支持脚３ａ〜３
ｃが設けられている。
よる投影露光装置では、設置面に対して３個所の装置支
持脚３ａ、３ｂ、３ｃで装置支持部３を支持している。
装置支持部３は後述する照明光学系ＩＬＳ、投影光学系
ＰＬ、レチクルステージＲＳＴ、ウェハステージＷＳＴ
を主な装置構成要素とする装置全体を支持している。ま
た、制御装置１は、投影露光装置全体を制御しており、
特に、レチクルステージＲＳとウェハステージＷＳＴと
を同期して互いに逆方向（プラスＹ方向とマイナスＹ方
向）に移動するように制御している。装置支持部３のフ
レームは、上面から見て全体形状として二等辺三角形形
状をしており、その３角の各角部に装置支持脚３ａ〜３
ｃが設けられている。
【００２９】各角部に設けられた装置支持脚３ａ〜３ｃ
の水平断面形状はほぼ正方形形状をしており、それぞれ
の装置支持脚３ａ〜３ｃの一辺に沿って装置支持部３の
フレーム端部が曲げられているので、図１に示すように
厳密には装置支持部３のフレームの平面形状は六角形と
なるが、説明を簡略にして理解を容易にするため装置支
持部３のフレームの平面形状は二等辺三角形であるとし
て以降の説明を進めるものとする。この二等辺三角形の
底辺は、図１に示すように装置支持脚３ａ、３ｃで規定
され、底辺に対向する頂角は装置支持脚３ｂで与えら
れ、装置支持脚３ａ、３ｂで規定される辺と装置支持脚
３ｃ、３ｂで規定される辺の長さは相等しくなるように
構成されている。
の水平断面形状はほぼ正方形形状をしており、それぞれ
の装置支持脚３ａ〜３ｃの一辺に沿って装置支持部３の
フレーム端部が曲げられているので、図１に示すように
厳密には装置支持部３のフレームの平面形状は六角形と
なるが、説明を簡略にして理解を容易にするため装置支
持部３のフレームの平面形状は二等辺三角形であるとし
て以降の説明を進めるものとする。この二等辺三角形の
底辺は、図１に示すように装置支持脚３ａ、３ｃで規定
され、底辺に対向する頂角は装置支持脚３ｂで与えら
れ、装置支持脚３ａ、３ｂで規定される辺と装置支持脚
３ｃ、３ｂで規定される辺の長さは相等しくなるように
構成されている。
【００３０】ここで図１及び図２における座標系は、装
置支持部３の二等辺三角形形状のフレームの一辺と平行
にＸ軸をとり、それと水平な直角方向にＹ軸をとり、垂
直方向をＺ軸としている。本実施の形態では、装置正面
は、装置支持脚３ｂからＹ軸を正方向に向かって見た面
であり、搬送ロボット等の移動に用いられる通路は装置
支持脚３ｂからＹ軸を負方向にみた側のＸ軸に沿って設
けられている。従って、本実施の形態による露光装置
は、装置支持脚３ａ、３ｃで形成される二等辺三角形の
底辺がＸ軸に平行になるように設置されている。
置支持部３の二等辺三角形形状のフレームの一辺と平行
にＸ軸をとり、それと水平な直角方向にＹ軸をとり、垂
直方向をＺ軸としている。本実施の形態では、装置正面
は、装置支持脚３ｂからＹ軸を正方向に向かって見た面
であり、搬送ロボット等の移動に用いられる通路は装置
支持脚３ｂからＹ軸を負方向にみた側のＸ軸に沿って設
けられている。従って、本実施の形態による露光装置
は、装置支持脚３ａ、３ｃで形成される二等辺三角形の
底辺がＸ軸に平行になるように設置されている。
【００３１】装置支持部３上には、各装置支持脚３ａ〜
３ｃの軸上又はそれより内側に３個のＩＬＳ用支持脚４
ａ、４ｂ、４ｃが固定されている。ＩＬＳ用支持脚４ａ
〜４ｃは装置支持部３での固定端で二等辺三角形の３角
を構成し、ＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃのそれぞれがＺ軸
方向に延びてＩＬＳ支持部４を支持している。ＩＬＳ支
持部４のフレームは、各ＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃを各
角部とする二等辺三角形形状をしている。ＩＬＳ支持部
４のフレームの形状は、厳密には上述の装置支持部３の
フレームと同様の理由で六角形となるが説明の都合上二
等辺三角形として説明する。このＩＬＳ支持部４で照明
光学系ＩＬＳが支持されている。
３ｃの軸上又はそれより内側に３個のＩＬＳ用支持脚４
ａ、４ｂ、４ｃが固定されている。ＩＬＳ用支持脚４ａ
〜４ｃは装置支持部３での固定端で二等辺三角形の３角
を構成し、ＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃのそれぞれがＺ軸
方向に延びてＩＬＳ支持部４を支持している。ＩＬＳ支
持部４のフレームは、各ＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃを各
角部とする二等辺三角形形状をしている。ＩＬＳ支持部
４のフレームの形状は、厳密には上述の装置支持部３の
フレームと同様の理由で六角形となるが説明の都合上二
等辺三角形として説明する。このＩＬＳ支持部４で照明
光学系ＩＬＳが支持されている。
【００３２】ＩＬＳ用支持脚４ａ、４ｃで形成される二
等辺三角形の底辺はＸ軸に平行であり、一頂点を構成す
るＩＬＳ用支持脚４ｂが装置正面側にある。照明光学系
ＩＬＳは、装置全体からみて設置面から最も高い位置に
配置されている。照明光学系ＩＬＳは、Ｚ方向（すなわ
ち、設置面の垂直方向）からみて、３個のＩＬＳ用支持
脚４ａ〜４ｃを頂点とする二等辺三角形の一頂点を構成
するＩＬＳ用支持脚４ｂから、当該一頂点の対辺である
二等辺三角形の底辺を構成するＩＬＳ用支持脚４ａ、４
ｃ間の中点に引いた直線に対してほぼ線対称になるよう
に配設されている。
等辺三角形の底辺はＸ軸に平行であり、一頂点を構成す
るＩＬＳ用支持脚４ｂが装置正面側にある。照明光学系
ＩＬＳは、装置全体からみて設置面から最も高い位置に
配置されている。照明光学系ＩＬＳは、Ｚ方向（すなわ
ち、設置面の垂直方向）からみて、３個のＩＬＳ用支持
脚４ａ〜４ｃを頂点とする二等辺三角形の一頂点を構成
するＩＬＳ用支持脚４ｂから、当該一頂点の対辺である
二等辺三角形の底辺を構成するＩＬＳ用支持脚４ａ、４
ｃ間の中点に引いた直線に対してほぼ線対称になるよう
に配設されている。
【００３３】また装置支持部３上であって、ＩＬＳ用支
持脚４ａ〜４ｃを３角として構成される二等辺三角形の
内側に、同じく３個のＲＳＴ用支持脚６ａ、６ｂ、６ｃ
が固定されている。ＲＳＴ用支持脚６ａ〜６ｃは装置支
持部３の固定端で二等辺三角形の３角を構成し、ＲＳＴ
用支持脚６ａ〜６ｃのそれぞれがＺ軸方向に延びてＲＳ
Ｔ支持部６を支持している。ＲＳＴ支持部６のフレーム
は、各ＲＳＴ用支持脚６ａ〜６ｃを各角部とする二等辺
三角形形状をしている。ＲＳＴ用支持脚６ａ、６ｃで形
成される二等辺三角形の底辺はＸ軸に平行である。この
ＲＳＴ支持部６でレチクルステージＲＳＴが支持されて
いる。レチクルステージＲＳＴは、図示しないレチクル
を載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けられており、ス
テップ・アンド・スキャン方式での露光の際、プラスＹ
方向に移動するようになっている。
持脚４ａ〜４ｃを３角として構成される二等辺三角形の
内側に、同じく３個のＲＳＴ用支持脚６ａ、６ｂ、６ｃ
が固定されている。ＲＳＴ用支持脚６ａ〜６ｃは装置支
持部３の固定端で二等辺三角形の３角を構成し、ＲＳＴ
用支持脚６ａ〜６ｃのそれぞれがＺ軸方向に延びてＲＳ
Ｔ支持部６を支持している。ＲＳＴ支持部６のフレーム
は、各ＲＳＴ用支持脚６ａ〜６ｃを各角部とする二等辺
三角形形状をしている。ＲＳＴ用支持脚６ａ、６ｃで形
成される二等辺三角形の底辺はＸ軸に平行である。この
ＲＳＴ支持部６でレチクルステージＲＳＴが支持されて
いる。レチクルステージＲＳＴは、図示しないレチクル
を載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けられており、ス
テップ・アンド・スキャン方式での露光の際、プラスＹ
方向に移動するようになっている。
【００３４】つまり、走査方向が、設置面の垂直方向か
らみて、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点か
ら、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行と
なっている。
らみて、３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点か
ら、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行と
なっている。
【００３５】レチクルステージＲＳＴ下方には、装置支
持部３で支持され、Ｚ軸方向に光軸を有する投影光学系
ＰＬが設けられている。照明光学系ＩＬＳからの照明光
はレチクルステージＲＳＴ上のレチクルに描画された回
路パターンを照明し、レチクルを通過した照明光は投影
光学系ＰＬにより集光されて投影光学系ＰＬの結像面で
レチクルの回路パターンの像を結ぶ。
持部３で支持され、Ｚ軸方向に光軸を有する投影光学系
ＰＬが設けられている。照明光学系ＩＬＳからの照明光
はレチクルステージＲＳＴ上のレチクルに描画された回
路パターンを照明し、レチクルを通過した照明光は投影
光学系ＰＬにより集光されて投影光学系ＰＬの結像面で
レチクルの回路パターンの像を結ぶ。
【００３６】投影光学系ＰＬの結像面にウェハの表面が
一致するようにウェハを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能
なウェハステージＷＳＴが、ＷＳＴ支持部８により支持
されている。ＷＳＴ支持部８は装置支持部３の下方に設
けられ、装置支持脚３ａ〜３ｃにより支持されている。
ウェハステージＷＳＴはステップ・アンド・スキャン方
式での露光の際、レチクルステージＲＳＴと同期してマ
イナスＹ方向に移動する。つまり、走査方向が、設置面
の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点とする三角
形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線
にほぼ平行となっている。
一致するようにウェハを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能
なウェハステージＷＳＴが、ＷＳＴ支持部８により支持
されている。ＷＳＴ支持部８は装置支持部３の下方に設
けられ、装置支持脚３ａ〜３ｃにより支持されている。
ウェハステージＷＳＴはステップ・アンド・スキャン方
式での露光の際、レチクルステージＲＳＴと同期してマ
イナスＹ方向に移動する。つまり、走査方向が、設置面
の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点とする三角
形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に引いた直線
にほぼ平行となっている。
【００３７】図中装置右側側面の二等辺の一辺を構成す
る装置支持脚３ｂ、３ｃで規定される辺に隣接してウェ
ハローダＷＬが配置されている。つまり、ウェハステー
ジＷＳＴ上へウェハを搬入／搬出するウェハローダ（基
板搬送装置）が、設置面の垂直方向からみて、３個所の
支持脚を頂点とする三角形の一辺に沿って配置されてい
る。ウェハローダＷＬを含んで投影露光装置の全体は、
恒温状態を維持するチャンバ２０内に格納されている。
る装置支持脚３ｂ、３ｃで規定される辺に隣接してウェ
ハローダＷＬが配置されている。つまり、ウェハステー
ジＷＳＴ上へウェハを搬入／搬出するウェハローダ（基
板搬送装置）が、設置面の垂直方向からみて、３個所の
支持脚を頂点とする三角形の一辺に沿って配置されてい
る。ウェハローダＷＬを含んで投影露光装置の全体は、
恒温状態を維持するチャンバ２０内に格納されている。
【００３８】以上説明したように本実施の形態による露
光装置は装置を３点で支持するようにしたので、従来の
４点支持の露光装置の設置の際に生じていた各支持脚の
長さの調整作業に比較して、容易に基準面に装置を合わ
せ込むことができるようになる。
光装置は装置を３点で支持するようにしたので、従来の
４点支持の露光装置の設置の際に生じていた各支持脚の
長さの調整作業に比較して、容易に基準面に装置を合わ
せ込むことができるようになる。
【００３９】また、本実施の形態においては、露光装置
上に搭載されるステージ（ＷＳＴ及びＲＳＴ）の駆動方
向は、図１及び図２に示すＸ及びＹ方向である。重量が
大きくかつ装置の上部にある照明系ＩＬＳは、スキャン
方向であるＹ軸に対して対称であり、かつ装置の２本の
支持脚で安定に支えられている。また、装置全体もスキ
ャン方向であるＹ軸に対して線対称であるためスキャン
時に生じるステージによる装置全体の加振に対する耐性
も向上する。ウェハローダＷＬの位置がＹ軸に対し線対
称でないが、ローダ部分は装置本体と切り離して設置で
きるため本体の安定性については影響を及ぼさないよう
に構成することが可能である。
上に搭載されるステージ（ＷＳＴ及びＲＳＴ）の駆動方
向は、図１及び図２に示すＸ及びＹ方向である。重量が
大きくかつ装置の上部にある照明系ＩＬＳは、スキャン
方向であるＹ軸に対して対称であり、かつ装置の２本の
支持脚で安定に支えられている。また、装置全体もスキ
ャン方向であるＹ軸に対して線対称であるためスキャン
時に生じるステージによる装置全体の加振に対する耐性
も向上する。ウェハローダＷＬの位置がＹ軸に対し線対
称でないが、ローダ部分は装置本体と切り離して設置で
きるため本体の安定性については影響を及ぼさないよう
に構成することが可能である。
【００４０】このような構成を採用することにより、ロ
ーダからステージ系への距離を小さく保ち、装置内空間
の有効利用が可能となることで処理性能の向上並びに装
置占有床面積の縮小が可能になる。
ーダからステージ系への距離を小さく保ち、装置内空間
の有効利用が可能となることで処理性能の向上並びに装
置占有床面積の縮小が可能になる。
【００４１】次に、本発明の第２の実施の形態による露
光装置を図３及び図４を用いて説明する。図３は、本実
施の形態による露光装置の上面からみた構成を示してい
る。図４は、本実施の形態による露光装置を正面からみ
た構成を示している。
光装置を図３及び図４を用いて説明する。図３は、本実
施の形態による露光装置の上面からみた構成を示してい
る。図４は、本実施の形態による露光装置を正面からみ
た構成を示している。
【００４２】本実施の形態においても、装置正面は、ク
リーンルーム内に投影露光装置を設置した際、投影露光
装置に隣接して設置されるウェハローダＷＬに対して複
数枚のウェハをまとめて供給する搬送ロボット等が移動
する通路に面した側の面をいうものとする。また、本実
施の形態よる露光装置は、第１の実施の形態による投影
露光装置と同様のいわゆるステップ・アンド・スキャン
方式の走査型投影露光装置であり、且つ装置構成は第１
の実施の形態における露光装置の構成部材、要素と同一
の機能、作用を有しているので第１の実施の形態におい
て用いた符号と同一の符号を付してその説明は省略する
ものとする。
リーンルーム内に投影露光装置を設置した際、投影露光
装置に隣接して設置されるウェハローダＷＬに対して複
数枚のウェハをまとめて供給する搬送ロボット等が移動
する通路に面した側の面をいうものとする。また、本実
施の形態よる露光装置は、第１の実施の形態による投影
露光装置と同様のいわゆるステップ・アンド・スキャン
方式の走査型投影露光装置であり、且つ装置構成は第１
の実施の形態における露光装置の構成部材、要素と同一
の機能、作用を有しているので第１の実施の形態におい
て用いた符号と同一の符号を付してその説明は省略する
ものとする。
【００４３】図３及び図４に示すように本実施の形態に
よる投影露光装置においても、装置支持部３の二等辺三
角形形状のフレームの一辺と平行にＸ軸をとり、それと
水平な直角方向にＹ軸をとり、垂直方向をＺ軸とする座
標系を用いる。しかしながらこの座標系は、第１の実施
の形態において用いた座標系をＺ軸回りに所定角度回転
させて設定した座標系である点に特徴を有している。従
って本実施の形態では、装置正面は、装置支持脚３ａ、
３ｂで規定される辺側となり、搬送ロボット等の移動に
用いられる通路は装置支持脚３ａ、３ｂで規定される辺
に並行して設けられている。
よる投影露光装置においても、装置支持部３の二等辺三
角形形状のフレームの一辺と平行にＸ軸をとり、それと
水平な直角方向にＹ軸をとり、垂直方向をＺ軸とする座
標系を用いる。しかしながらこの座標系は、第１の実施
の形態において用いた座標系をＺ軸回りに所定角度回転
させて設定した座標系である点に特徴を有している。従
って本実施の形態では、装置正面は、装置支持脚３ａ、
３ｂで規定される辺側となり、搬送ロボット等の移動に
用いられる通路は装置支持脚３ａ、３ｂで規定される辺
に並行して設けられている。
【００４４】このような座標系において、照明光学系Ｉ
ＬＳは、Ｚ方向（すなわち、設置面の垂直方向）からみ
て、３個のＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃを頂点とする二等
辺三角形の一頂点を構成するＩＬＳ用支持脚４ｂから、
当該一頂点の対辺である二等辺三角形の底辺を構成する
ＩＬＳ用支持脚４ａ、４ｃ間の中点に引いた直線に対し
てほぼ線対称になるように配設されている。
ＬＳは、Ｚ方向（すなわち、設置面の垂直方向）からみ
て、３個のＩＬＳ用支持脚４ａ〜４ｃを頂点とする二等
辺三角形の一頂点を構成するＩＬＳ用支持脚４ｂから、
当該一頂点の対辺である二等辺三角形の底辺を構成する
ＩＬＳ用支持脚４ａ、４ｃ間の中点に引いた直線に対し
てほぼ線対称になるように配設されている。
【００４５】また、レチクルステージＲＳＴは、図示し
ないレチクルを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けら
れており、ステップ・アンド・スキャン方式での露光の
際、Ｙ方向にスキャンするようになっている。つまり、
走査方向が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持
脚を頂点とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺
の中点に引いた直線にほぼ平行となっている。
ないレチクルを載置してＸ−Ｙ面内を移動可能に設けら
れており、ステップ・アンド・スキャン方式での露光の
際、Ｙ方向にスキャンするようになっている。つまり、
走査方向が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持
脚を頂点とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺
の中点に引いた直線にほぼ平行となっている。
【００４６】ウェハステージＷＳＴもステップ・アンド
・スキャン方式での露光の際、レチクルステージＲＳＴ
と同期してＹ方向にスキャンする。つまり、走査方向
が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点
とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に
引いた直線にほぼ平行となっている。
・スキャン方式での露光の際、レチクルステージＲＳＴ
と同期してＹ方向にスキャンする。つまり、走査方向
が、設置面の垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点
とする三角形の一頂点から、当該一頂点の対辺の中点に
引いた直線にほぼ平行となっている。
【００４７】図中装置正面側の装置支持脚３ａ、３ｂで
規定される辺に隣接してウェハローダＷＬが配置されて
いる。つまり、ウェハステージＷＳＴ上へウェハを搬入
／搬出するウェハローダ（基板搬送装置）が、設置面の
垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点とする三角形
の一辺に沿って配置されている。ウェハローダＷＬを含
んで投影露光装置の全体は、恒温状態を維持するチャン
バ２０内に格納されおり、チャンバ２０の一壁面は、装
置支持部３ａ〜３ｃで規定される三角形のうちウェハロ
ーダＷＬが配置された一辺にほぼ平行になるように設置
されている。
規定される辺に隣接してウェハローダＷＬが配置されて
いる。つまり、ウェハステージＷＳＴ上へウェハを搬入
／搬出するウェハローダ（基板搬送装置）が、設置面の
垂直方向からみて、３個所の支持脚を頂点とする三角形
の一辺に沿って配置されている。ウェハローダＷＬを含
んで投影露光装置の全体は、恒温状態を維持するチャン
バ２０内に格納されおり、チャンバ２０の一壁面は、装
置支持部３ａ〜３ｃで規定される三角形のうちウェハロ
ーダＷＬが配置された一辺にほぼ平行になるように設置
されている。
【００４８】以上のような構成とすることにより、本実
施の形態による露光装置では、第１の実施の形態におけ
るのと同様に、重量が大きくかつ装置の上部にある照明
光学系ＩＬＳは、スキャン方向であるＹ軸に対して対称
であり、かつ装置の２本の支持脚で安定に支えられてい
る。また、装置全体もスキャン方向であるＹ軸に対して
線対称であるためスキャン時に生じるステージによる装
置全体の加振に対する耐性も向上する。また、ローダの
位置がＹ軸に対し線対称でないが、ローダ部分は装置本
体と切り離して設置できるため本体の安定性については
影響を及ぼさないように構成することが可能である。
施の形態による露光装置では、第１の実施の形態におけ
るのと同様に、重量が大きくかつ装置の上部にある照明
光学系ＩＬＳは、スキャン方向であるＹ軸に対して対称
であり、かつ装置の２本の支持脚で安定に支えられてい
る。また、装置全体もスキャン方向であるＹ軸に対して
線対称であるためスキャン時に生じるステージによる装
置全体の加振に対する耐性も向上する。また、ローダの
位置がＹ軸に対し線対称でないが、ローダ部分は装置本
体と切り離して設置できるため本体の安定性については
影響を及ぼさないように構成することが可能である。
【００４９】さらに図３及び図４に示すように、本実施
の形態による露光装置の配置によれば、ウェハローダＷ
Ｌが装置正面になるように装置全体を所定角度回転させ
るようにしているので、第１の実施の形態における露光
装置で生じ得る、ウェハコータ／デベロッパへのインタ
ーフェースが装置の一方向（図１では右側）に固定され
てしまい、ライン構成の柔軟性が損なわれると同時に装
置を複数台並べた場合の装置のアクセス性が損なわれる
という問題を防止することができるようになる。
の形態による露光装置の配置によれば、ウェハローダＷ
Ｌが装置正面になるように装置全体を所定角度回転させ
るようにしているので、第１の実施の形態における露光
装置で生じ得る、ウェハコータ／デベロッパへのインタ
ーフェースが装置の一方向（図１では右側）に固定され
てしまい、ライン構成の柔軟性が損なわれると同時に装
置を複数台並べた場合の装置のアクセス性が損なわれる
という問題を防止することができるようになる。
【００５０】このような本実施の形態による露光装置の
構成及び配置を採用することにより、ウェハローダＷＬ
からステージ系への距離を小さく保ち、装置内空間の有
効利用が可能となることで処理性能の向上並びに装置占
有床面積の縮小が可能になる。また、従来は装置の後方
へ飛び出していた照明光学系ＩＬＳを装置正面に対して
斜めに配置するようにしたので装置の全長が短縮される
という効果がある。また、従来と同じようにウェハロー
ダ部が装置正面に設置できるため装置設置の柔軟性を確
保できるとともに、装置の対称性を維持することが可能
になり、良好な動的安定性を確保できるようになる。
構成及び配置を採用することにより、ウェハローダＷＬ
からステージ系への距離を小さく保ち、装置内空間の有
効利用が可能となることで処理性能の向上並びに装置占
有床面積の縮小が可能になる。また、従来は装置の後方
へ飛び出していた照明光学系ＩＬＳを装置正面に対して
斜めに配置するようにしたので装置の全長が短縮される
という効果がある。また、従来と同じようにウェハロー
ダ部が装置正面に設置できるため装置設置の柔軟性を確
保できるとともに、装置の対称性を維持することが可能
になり、良好な動的安定性を確保できるようになる。
【００５１】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記実施の形態ではいわゆ
るステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装
置に本発明を適用したが、本発明はこれに限られず例え
ば、レチクル上のパターンの像を投影光学系を介して縮
小投影し、パターン像をウェハ上の各ショット領域に順
次露光するステップ・アンド・リピート方式の投影露光
装置に本発明を適用することももちろん可能である。
変形が可能である。例えば、上記実施の形態ではいわゆ
るステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装
置に本発明を適用したが、本発明はこれに限られず例え
ば、レチクル上のパターンの像を投影光学系を介して縮
小投影し、パターン像をウェハ上の各ショット領域に順
次露光するステップ・アンド・リピート方式の投影露光
装置に本発明を適用することももちろん可能である。
【００５２】その場合には、レチクルを照明する照明光
学系ＩＬＳとレチクルを載置するレチクルステージＷＳ
Ｔと、レチクル上のパターンを投影する投影光学系ＰＬ
と、Ｘ−Ｙ面内で２次元的に移動してレチクルのパター
ンの結像位置に基板を位置決めするウェハステージＷＳ
Ｔとを有し、３個所の支持脚により設置面上に３点支持
される投影露光装置であって、ウェハステージＷＳＴの
Ｘ軸又はＹ軸のいずれかは、設置面に垂直方向から見て
各支持脚を頂点とする三角形の一頂点からその対辺の中
点に引いた直線にほぼ平行になるように構成すればよ
い。
学系ＩＬＳとレチクルを載置するレチクルステージＷＳ
Ｔと、レチクル上のパターンを投影する投影光学系ＰＬ
と、Ｘ−Ｙ面内で２次元的に移動してレチクルのパター
ンの結像位置に基板を位置決めするウェハステージＷＳ
Ｔとを有し、３個所の支持脚により設置面上に３点支持
される投影露光装置であって、ウェハステージＷＳＴの
Ｘ軸又はＹ軸のいずれかは、設置面に垂直方向から見て
各支持脚を頂点とする三角形の一頂点からその対辺の中
点に引いた直線にほぼ平行になるように構成すればよ
い。
【００５３】また、上記実施の形態においては、３個の
支持脚で規定される形状を２等辺三角形として説明した
が、２等辺でない他の三角形形状の場合であっても本発
明を適用できることはいうまでもない。
支持脚で規定される形状を２等辺三角形として説明した
が、２等辺でない他の三角形形状の場合であっても本発
明を適用できることはいうまでもない。
【００５４】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、装置の動
的安定性を確保した状態で装置内空間の有効利用並びに
柔軟な設置性を確保することができる。
的安定性を確保した状態で装置内空間の有効利用並びに
柔軟な設置性を確保することができる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による露光装置の上
面図である。
面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態による露光装置の正
面図である。
面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態による露光装置の上
面図である。
面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態による露光装置の正
面図である。
面図である。
【図５】従来の露光装置の上面図である。
【図６】従来の露光装置の正面図である。
ＩＬＳ 照明光学系 ＲＳＴ レチクルステージ ＰＬ 投影光学系 ＷＳＴ ウェハステージ ＷＬ ウェハローダ １ 制御装置 ３ 装置支持部 ３ａ、３ｂ、３ｃ 装置支持脚 ４ 照明光学系支持部（ＩＬＳ支持部） ４ａ、４ｂ、４ｃ 照明光学系用支持脚（ＩＬＳ用支持
脚） ６ レチクルステージ支持部（ＲＳＴ支持部） ６ａ、６ｂ、６ｃ レチクルステージ用支持脚（ＲＳＴ
用支持脚） ８ ウェハステージ支持部（ＷＳＴ支持部） １０ 装置支持部 １０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ 装置支持脚 １２ 照明光学系支持部（ＩＬＳ支持部） １２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ 照明光学系用支持脚
（ＩＬＳ用支持脚） １４ レチクルステージ支持部（ＲＳＴ支持部） １４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ レチクルステージ用
支持脚（ＲＳＴ用支持脚） ２０ チャンバ
脚） ６ レチクルステージ支持部（ＲＳＴ支持部） ６ａ、６ｂ、６ｃ レチクルステージ用支持脚（ＲＳＴ
用支持脚） ８ ウェハステージ支持部（ＷＳＴ支持部） １０ 装置支持部 １０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄ 装置支持脚 １２ 照明光学系支持部（ＩＬＳ支持部） １２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ 照明光学系用支持脚
（ＩＬＳ用支持脚） １４ レチクルステージ支持部（ＲＳＴ支持部） １４ａ、１４ｂ、１４ｃ、１４ｄ レチクルステージ用
支持脚（ＲＳＴ用支持脚） ２０ チャンバ
Claims (5)
- 【請求項１】設置面に対して３個所の支持脚で支持する
支持機構と、 前記支持機構上に配設され、パターンが形成されたレチ
クルを照明する照明光学系とを有し、前記パターンの像
を基板に露光する露光装置において、 前記照明光学系は、前記設置面の垂直方向からみて、前
記３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点から、当
該一頂点の対辺の中点に引いた直線に対してほぼ線対称
になるように配設されていることを特徴とする露光装
置。 - 【請求項２】パターンが形成されたレチクルを載置して
移動するレチクルステージと、 前記パターンの像が露光される基板を載置して移動する
基板ステージと、 前記レチクルステージと前記基板ステージとを同期して
所定の走査方向に走査する走査装置と、 設置面に対して３個所の支持脚で前記レチクルステージ
と前記基板ステージとを支持する支持機構とを備えた露
光装置において、 前記走査方向は、前記設置面の垂直方向からみて、前記
３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点から、当該
一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行であること
を特徴とする露光装置。 - 【請求項３】レチクルのパターンの像が露光される基板
を載置して、所定の一方向を含む２次元平面を移動する
基板ステージと、 設置面に対して３個所の支持脚で前記基板ステージを支
持する支持機構とを備えた露光装置において、 前記所定の一方向は、前記設置面の垂直方向からみて、
前記３個所の支持脚を頂点とする三角形の一頂点から、
当該一頂点の対辺の中点に引いた直線にほぼ平行である
ことを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装
置において、 前記基板ステージ上へ前記基板を搬入／搬出する基板搬
送装置が、前記設置面の垂直方向からみて、前記３個所
の支持脚を頂点とする三角形の一辺に沿って配置されて
いることを特徴とする露光装置。 - 【請求項５】請求項４記載の露光装置において、 前記設置面上に当該露光装置を格納するチャンバが設け
られ、当該チャンバの一壁面は、前記基板搬送装置が配
置された前記三角形の一辺にほぼ平行であることを特徴
とする露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024332A JPH10209035A (ja) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 露光装置 |
| EP00121341A EP1069476A1 (en) | 1997-01-23 | 1998-01-14 | Apparatus and method for exposure |
| EP98300240A EP0855624B1 (en) | 1997-01-23 | 1998-01-14 | Apparatus and method for exposure |
| DE69807536T DE69807536D1 (de) | 1997-01-23 | 1998-01-14 | Belichtungsapparat und -verfahren |
| US09/010,500 US6008883A (en) | 1997-01-23 | 1998-01-21 | Apparatus and method for exposure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9024332A JPH10209035A (ja) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10209035A true JPH10209035A (ja) | 1998-08-07 |
Family
ID=12135238
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9024332A Pending JPH10209035A (ja) | 1997-01-23 | 1997-01-23 | 露光装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6008883A (ja) |
| EP (2) | EP0855624B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10209035A (ja) |
| DE (1) | DE69807536D1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6621556B2 (en) * | 2000-02-28 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and manufacturing and adjusting methods thereof |
| US6646719B2 (en) * | 2001-01-31 | 2003-11-11 | Nikon Corporation | Support assembly for an exposure apparatus |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE148911C (ja) * | ||||
| FR2388372A1 (fr) * | 1977-04-20 | 1978-11-17 | Thomson Csf | Platine a rattrapage de niveau et positionneur a indexation mecanique utilisant une telle platine |
| JPS61160934A (ja) * | 1985-01-10 | 1986-07-21 | Canon Inc | 投影光学装置 |
| GB2249189B (en) * | 1990-10-05 | 1994-07-27 | Canon Kk | Exposure apparatus |
| NL9100202A (nl) * | 1991-02-05 | 1992-09-01 | Asm Lithography Bv | Lithografische inrichting met een hangende objecttafel. |
| NL9100421A (nl) * | 1991-03-08 | 1992-10-01 | Asm Lithography Bv | Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting. |
| JP3506158B2 (ja) * | 1995-04-14 | 2004-03-15 | 株式会社ニコン | 露光装置及び走査型露光装置、並びに走査露光方法 |
| TW318255B (ja) * | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
| DE69608204T2 (de) * | 1995-05-30 | 2001-01-04 | Asm Lithography Bv | Lithographisches gerät mit einem sowie horizontal als auch vertikal justierbaren maskenhalter |
| DE69629087T2 (de) * | 1995-05-30 | 2004-04-22 | Asml Netherlands B.V. | Positionierungsgerät mit einem referenzrahmen für ein messsystem |
| TW316874B (ja) * | 1995-05-30 | 1997-10-01 | Philips Electronics Nv | |
| JP3659529B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
-
1997
- 1997-01-23 JP JP9024332A patent/JPH10209035A/ja active Pending
-
1998
- 1998-01-14 EP EP98300240A patent/EP0855624B1/en not_active Revoked
- 1998-01-14 EP EP00121341A patent/EP1069476A1/en not_active Withdrawn
- 1998-01-14 DE DE69807536T patent/DE69807536D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1998-01-21 US US09/010,500 patent/US6008883A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69807536D1 (de) | 2002-10-10 |
| EP0855624A3 (en) | 1998-12-23 |
| EP0855624A2 (en) | 1998-07-29 |
| EP0855624B1 (en) | 2002-09-04 |
| EP1069476A1 (en) | 2001-01-17 |
| US6008883A (en) | 1999-12-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6579501B2 (ja) | 移動体装置、露光装置、デバイス製造方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 | |
| US10514616B2 (en) | Movable body apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
| US9829802B2 (en) | Conveying hand and lithography apparatus | |
| JP6245308B2 (ja) | 基板搬送方法、デバイス製造方法、基板搬送装置および露光装置 | |
| US6222614B1 (en) | Exposure elements with a cable-relaying support | |
| JP2022133345A (ja) | 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
| TWI765918B (zh) | 搬運裝置、曝光裝置、曝光方法、平板顯示器的製造方法、元件製造方法以及搬運方法 | |
| JP2000106340A (ja) | 露光装置及び走査露光方法、並びにステージ装置 | |
| TWI739271B (zh) | 物體保持裝置、物體更換系統、曝光裝置、平面顯示器之製造方法、及元件製造方法 | |
| JP2013051237A (ja) | 物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体搬送装置、及び物体の搬入方法 | |
| JP2005092137A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
| JP4317163B2 (ja) | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2001100169A (ja) | 基板支持装置および基板処理装置 | |
| JP4932330B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH11307425A (ja) | マスクの受け渡し方法、及び該方法を使用する露光装置 | |
| JPH10209035A (ja) | 露光装置 | |
| JPH11224854A (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
| JP5741927B2 (ja) | 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
| JP2000323550A (ja) | 収納装置および基板処理装置 | |
| JP6015984B2 (ja) | 物体搬出方法、物体交換方法、物体保持装置、物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、及びデバイス製造方法 | |
| JP2001332600A (ja) | 搬送方法、露光装置 | |
| JP2769897B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2000306977A (ja) | 搬送方法及び搬送装置、並びに露光装置 | |
| JP6015983B2 (ja) | 物体交換システム、露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法及びデバイス製造方法 | |
| WO2018180969A1 (ja) | 物体交換装置、物体処理装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、物体交換方法、及び物体処理方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040119 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040210 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051101 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060314 |