JPH10206906A - エレクトロクロミック素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 屋外使用に耐えうる耐紫外線性を有し、かつ
安価に製造できるエレクトロクロミック素子を提供す
る。 【解決手段】 少なくとも内側面に電極を有する一対の
対向導電基板と対向導電基板の間に挟持して設けたイオ
ン伝導物質と、導電基板の内側面の電極およびイオン伝
導性物質の間の少なくとも一方に設けたエレクトロクロ
ミック性物質を含む層とを備えたエレクトロクロミック
素子であって、対向導電基板の少なくとも一方が透明導
電基板であり、この透明導電基板が透明基板、透明電
極、および透明電極とは反対側の透明基板面に紫外線吸
収層を有し、紫外線吸収層が、少なくとも（ａ）一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物（例えば３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン）またはその誘導体と、 （ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤
と、を反応させてアミド結合が生成した成分を透明基板
の上に塗布、硬化することによって作製する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトロクロミ
ック素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロクロミック材料を用いた素子
は広く用途が期待されているが、従来のエレクトロクロ
ミック素子は屋外等紫外線の照射される環境下において
劣化し易いという欠点がある。これを防ぐためには、例
えばエレクトロクロミック素子を構成する基板の外側に
紫外線遮断層を設けることが考えられる。従来から一般
にガラス板等の透明基板に紫外線吸収性を付与するには
（１）多層膜による多重反射を利用する方法と、（２）
紫外線吸収性の物質を用いて透明基板を処理をする方法
とがある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前述の（１）の多層膜
による多重反射を利用する方法は、カット波長を自由に
調節できる、クリアカットが可能であるという点で優れ
ているが、作業工程が多くコスト的に問題がある。
（２）の紫外線吸収性の物質で処理をする方法には無機
系紫外線吸収剤を用いる場合と有機系紫外線吸収剤を用
いる場合がある。無機系紫外線吸収剤（例えば特開平５
−３３９０３３，特開平５−３４５６３９，特開平６−
５６４６６号公報等）では耐候性、耐熱性等の耐久性が
優れる反面、吸収波長が化合物のバンドギャップによっ
て決定されるため、自由度が少なく、また４００ｎｍ近
辺の紫外線領域までクリアにカットできるものはなく、
さらに長波長カットでは着色を伴うものが多い。これに
対して有機系の紫外線吸収剤は吸収帯に幅があるため、
吸収剤の種類や濃度、膜厚を選ぶことにより様々な吸収
波長のものを得ることができる。これまで種々の有機系
紫外線吸収剤を用いた系が検討されており、長波長領域
までカットする場合には、最大吸収波長が長波長領域に
あるものを用いるか、濃度もしくは膜厚を大きくするか
の２通りが考えられている。しかし、最大吸収波長が長
波長領域にあるもの（例えば特開平６−１４５３８７号
公報等）は耐光性が悪く、吸収能が時間とともに減少し
てしまう。前記特開平６−１４５３８７公報においては
蛍光増白剤を用いるため蛍光により透視性が悪くなると
いう問題もある。これに対してベンゾフェノン系やベン
ゾトリアゾール系の紫外線吸収剤は比較的耐光性も良
く、濃度や膜厚を大きくすれば長波長領域まで比較的ク
リアにカットできる。しかし通常これらの紫外線吸収剤
を樹脂等に混ぜて塗布する場合、膜厚的には数十μｍ程
度が限界である。この膜厚で長波長領域までカットしよ
うとするとかなり高濃度に紫外線吸収剤を添加する必要
がある。しかしながら、単に高濃度に添加しただけでは
紫外線吸収剤の析出や長期使用によるブリードアウトが
生じるという問題がある。そこで樹脂と反応させてこれ
らを防ごうという試みが多くなされている。例えばアク
リル樹脂などに共重合させる等の試みがなされているが
（特開平２−２４８４１２，特開平６−８８０６４号公
報等），アクリル樹脂自体が耐候性、耐熱性に難がある
ため，とても長期使用には耐えられない。また耐候性、
耐熱性に優れるシリコーン樹脂と反応しうる紫外線吸収
剤を用いた系についても種々検討がなされている（例え
ば特公昭６１−５４８００，特開平２−１１７９２８，
特公平３−４５０９４号公報等）。しかし，紫外線吸収
剤の合成が工業的に難しかったり、耐久性に問題が生じ
るものが多いのが実状である。本発明は、このような実
状に鑑みなされたものであり、その目的は、屋外での使
用に耐えうる耐紫外線性を有し、かつ安価に製造できる
エレクトロクロミック素子を提供することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のエレクトロクロミック素子は、少なくとも
内側面に電極を有する一対の対向導電基板と対向導電基
板の間に挟持して設けたイオン伝導物質と、導電基板の
内側面の電極およびイオン伝導性物質の間の少なくとも
一方に設けたエレクトロクロミック性物質を含む層とを
備えたエレクトロクロミック素子であって、前記対向導
電基板の少なくとも一方が透明導電基板であり、この透
明導電基板が透明基板、透明電極、および透明電極とは
反対側の透明基板面に紫外線吸収層を有し、該紫外線吸
収層が、少なくとも、（ａ）上記一般式（１）に示され
るアミノシラン化合物またはその誘導体（以下、「成分
Ａ」と称す）と、

【化２】 （式中、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキレン基、または
一般式−（ＣＨ₂）_m−ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整数］
で表される２価の基を示し、各々のＲ²は同一若しくは
異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、
炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアル
コキシ基を示す。但し全てのＲ²のうち少なくとも一つ
はアルコキシ基若しくは水酸基を示す。ｎはｎ≧０の整
数を示す。） （ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤
と、を反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導
体に由来するアミド結合が生成した成分を、前記透明基
板の上に塗布、硬化することによって作製されているも
のである。前記紫外線吸収層上にさらにオーバーコート
層を設けることが好ましい。

【０００５】

【発明の実施の形態】以下、本発明についてさらに詳細
に説明する。本発明のエレクトロクロミック素子は、少
なくとも内側面に電極を有する一対の対向導電基板と、
イオン導電性物質と、エレクトロクロミック性物質を含
む層と、紫外線吸収層とにより基本的に構成されてい
る。本発明のエレクトロクロミック素子を構成する対向
導電基板は、少なくとも内側面に電極の機能を有する基
板であればよく、具体的には導電基板全体が電極機能を
有する材料により構成されたもの、基板と基板の内側に
配置した電極とを備えるもの等の何れであっても良い。
前記導電基板全体が電極機能を有する材料により構成さ
れた場合には、電極機能を有する材料としては、鉄、
銅、銀、アルミニウム、錫、鉛、金、亜鉛等の金属の単
体、またはこれらの各種合金等が挙げられる。前記基板
と電極とを備える導電基板を採用する場合の基板として
は、平滑な面を有していれば特に限定はされないが、一
対の対向導電基板において少なくとも一方の基板は透明
基板であることが必須である。前記基板としては、具体
的には、各種プラスチック、樹脂、ガラス、木材、石材
等を挙げることができる。また透明基板としては、特に
限定されないが、例えば無色あるいは有色ガラス、強化
ガラス等が用いられる他、無色あるいは有色の透明性を
有する樹脂でも良い。具体的には、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリアミド、ポリサルフォン、ポリエーテル
サルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレ
ンサルファイド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。
なお、本発明における透明とは、１０〜１００％の光透
過率を有することであり、また、本発明における基板は
常温において平滑な面を有するものであり、その面は平
面あるいは曲面であってもよく、また応力によって変形
するものであってもよい。

【０００６】前記基板と電極を備える導電基板を採用す
る場合の電極としては、本発明の目的を果たすものであ
る限り特に限定されないが、透明性を満たすものが望ま
しく、前記一対の対向導電基板において少なくとも一方
を透明基板とした側の電極は透明電極とする必要があ
る。また電極の形態は膜状または層状であることが望ま
しい。前記電極としては例えば金、銀、クロム、銅、タ
ングステン等の金属薄膜、金属酸化物からなる導電膜な
どが挙げられる。前記金属酸化物としては、例えばＩＴ
Ｏ（Ｉｎ₂Ｏ₃-ＳｎＯ₂）、酸化錫、酸化銀、酸化亜鉛、
酸化バナジウム等が挙げられる。電極の膜厚は、通常１
００〜５０００オングストロ−ム、好ましくは５００〜
３０００オングストロ−ムが望ましい。また、表面抵抗
（抵抗率）は、本発明の基板の用途により適宜選択でき
るが、通常、０.５〜５００Ω／cm²、好ましくは１〜５
０Ω／cm²が望ましい。前記電極の形成法としては、特
に限定されず、電極を構成する前記金属および金属酸化
物等の種類により適宜公知の方法を選択することができ
る。通常、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパ
ッタリング法あるいはゾルゲル法等が用いられる。何れ
の場合も、基板温度が通常１００〜３５０℃の範囲内で
電極を形成することが望ましい。また、前記電極には、
酸化還元能の付与、導電性の付与、電気二重層容量の付
与の目的で、部分的に不透明な電極活物質を付与するこ
ともできる。この際電極として透明電極を採用する場合
には、電極面全体の透明性を満たす範囲で付与する必要
がある。不透明な電極活物質としては、例えば、銅、
銀、金、白金、鉄、タングステン、チタン、リチウム等
の金属、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロー
ル、フタロシアニンなどの酸化還元能を有する有機物、
活性炭、グラファイトなどの炭素材、Ｖ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、
ＭｎＯ₂、ＮｉＯ、Ｉｒ₂Ｏ₃などの金属酸化物またはこ
れらの混合物等を用いることができる。また、これらを
電極に結着させるために、さらに各種樹脂を用いても良
い。この不透明な電極活物質等を電極に付与するには、
例えば、ＩＴＯ透明電極上に、活性炭繊維、グラファイ
ト、アクリル樹脂等からなる組成物をストライプ状等の
微細パターンに形成したり、金（Ａｕ）薄膜上に、Ｖ₂
Ｏ₅、アセチレンブラック、ブチルゴム等からなる組成
物をメッシュ状に形成したりすることができる。

【０００７】本発明のエレクトロクロミック素子におい
て用いるイオン伝導性物質は、前記対向導電基板の間に
挟持して設けられている。前記挟持して設ける方法とし
ては特に限定されず、真空注入法、大気注入法、メニス
カス法等によって対向導電基板の間に設けた間隙に注入
する方法や、スパッタリング法、蒸着法、ゾルゲル法等
によって導電基板の電極上にイオン伝導性物質の層を形
成した後、対向導電基板を合わせる方法やフィルム状の
イオン導電性物質を用いて合わせガラス化する方法等を
用いることができる。このイオン伝導性物質とは、後述
するエレクトロクロミック性物質を着色、消色、色変化
等をさせることができるものである限り特に限定されな
いが、通常室温で１×１０^-7Ｓ／cm以上のイオン伝導度
を示す物質であるのが好ましい。イオン伝導性物質とし
ては、特に限定されなく、液系イオン伝導性物質、ゲル
化液系イオン伝導性物質あるいは固体系イオン伝導性物
質等を用いることができる。本発明においては、特に固
体系イオン伝導性物質が望ましい。前記液系イオン導電
性物質としては、溶媒に塩類、酸類、アルカリ類等の支
持電解質を溶解したもの等を用いることができる。前記
溶媒としては、支持電解質を溶解できるものであれば特
に限定されないが、特に極性をするものが好ましい。具
体的には水や、メタノール、エタノール、プロピレンカ
ーボネート、エチレンカーボネート、ジメチルスルホキ
シド、ジメトキシエタン、アセトニトリル、γ−ブチロ
ラクトン、スルホラン、１、３ージオキサン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルホルムアミド、１，２−ジメトキシエタン、テ
トラヒドロフランなどの有機極性溶媒が挙げられる。好
ましくは、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネ
ート、ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセ
トニトリル、γ−ブチロラクトン、スルホラン、１、３
ージオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２
−ジメトキシエタン、テトラヒドロフランなどの有機極
性溶媒が望ましい。これらは、使用に際して単独もしく
は混合物として使用できる。支持電解質としての塩類
は、特に限定されず、各種のアルカリ金属塩、アルカリ
土類金属塩などの無機イオン塩や４級アンモニウム塩や
環状４級アンモニウム塩などがあげられる。具体的には
ＬｉＣｌＯ₄，ＬｉＳＣＮ，ＬｉＢＦ₄，ＬｉＡｓＦ₆，
ＬｉＣＦ₃ＳＯ₃，ＬｉＰＦ₆、ＬｉＩ、ＮａＩ，ＮａＳ
ＣＮ，ＮａＣｌＯ₄，ＮａＢＦ₄，ＮａＡｓＦ₆，ＫＳＣ
Ｎ，ＫＣｌ等のＬｉ，Ｎａ，Ｋのアルカリ金属塩等や、
（ＣＨ₃）₄ＮＢＦ₄，（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＢＦ₄，（ｎ−Ｃ₄Ｈ
₉）₄ＮＢＦ₄，（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＢｒ，（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＣｌ
Ｏ₄，（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄ＮＣｌＯ₄等の４級アンモニウム
塩および環状４級アンモニウム塩等、もしくはこれらの
混合物が好適なものとして挙げられる。支持電解質とし
ての酸類は、特に限定されず、無機酸、有機酸などが挙
げられ、具体的には硫酸、塩酸、リン酸類、スルホン酸
類、カルボン酸類などが挙げられる。支持電解質として
のアルカリ類は、特に限定されず、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化リチウムなどが挙げられる。

【０００８】前記ゲル化液系イオン伝導性物質として
は、前記液系イオン伝導性物質に、さらにポリマーを含
有させたり、ゲル化剤を含有させたりして粘稠若しくは
ゲル状としたもの等を用いることができる。前記ポリマ
ーとしては、特に限定されず、例えばポリアクリロニト
リル、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレンオキサイド、ポリウレタン、ポリアクリレ
ート、ポリメタクリレート、ポリアミド、ポリアクリル
アミド、セルロース、ポリエステル、ポリプロピレンオ
キサイド、ナフィオンなどが挙げられる。前記ゲル化剤
としては、特に限定されず、オキシエチレンメタクリレ
ート、オキシエチレンアクリレート、ウレタンアクリレ
ート、アクリルアミド、寒天、などが挙げられる。前記
固体系イオン伝導性物質としては、室温で固体であり、
かつイオン導電性を有するものであれば特に限定され
ず、ポリエチレンオキサイド、オキシエチレンメタクリ
レートのポリマー、ナフィオン、ポリスチレンスルホン
酸、Ｌｉ₃Ｎ、Ｎａ-β-Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｎ（ＨＰＯ₄）₂・
Ｈ₂Ｏなどが挙げることができ、特にオキシアルキレン
メタクリレート系化合物、オキシアルキレンアクリレー
ト系化合物またはウレタンアクリレート系化合物を重合
することによって得られる高分子化合物等を用いた高分
子固体電解質が好ましい。前記高分子固体電解質の第１
の例としては、下記一般式（１１）で示されるウレタン
アクリレート，前記有機極性溶媒，および前記支持電解
質を含む組性物（以下組成物Ａと略す）を固化すること
により得られる高分子固体電解質が挙げられる

【化３】 （式中Ｒ¹およびＲ²は同一または異なる基であって、下
記一般式（１１ａ）〜（１１ｃ）で示され、Ｒ³および
Ｒ⁴は同一または異なる基であって、炭素数１〜２０の
２価炭化水素残基を示す。Ｙはポリエーテル単位、ポリ
エステル単位、ポリカーボネート単位またはこれらの混
合単位を示す。またｎは１〜１００の範囲の整数を示
す。）

【化４】

【化５】

【化６】 （但し式（１１ａ）〜（１１ｃ）中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は同一ま
たは異なる基であって、水素原子または炭素数１〜３の
アルキル基を示す。またＲ⁸は炭素数１〜２０の２〜４
価有機残基を示す。） 前記式（１１）中、Ｒ⁸は炭素数１〜２０、好ましくは
２〜８の２価〜４価の有機残基を示し、かかる有機残基
としては、具体的には、アルキルトリル基、アルキルテ
トラリル基、下記一般式（１２）で示されるアルキレン
基等の炭化水素残基が挙げられる。

【化７】 （式中、Ｒ⁹は炭素数１〜３のアルキル基または水素を
示し、ｐは０〜６の整数を示す。ｐが２以上の場合Ｒ⁹
は同一でも異なっても良い。） 前記炭化水素残基は、水素原子の一部が炭素数１〜６、
好ましくは１〜３のアルコキシ基、炭素数６〜１２のア
リールオキシ基などの含酸素炭化水素基により置換され
ている基でもよい。前記式（１１）中のＲ⁸としては具
体的には、下記に示される基等を好ましく挙げることが
できる。

【化８】 前記式（１１）中、Ｒ³およびＲ⁴は、同一または異なる
基であって、炭素数１〜２０、好ましくは２〜１２の２
価炭化水素残基を示し、かかる炭化水素残基としては、
鎖状２価炭化水素基、含芳香族炭化水素基、含脂環炭化
水素基などが挙げられる。鎖状２価炭化水素基として
は、下記一般式（１３）で示されるアルキレン基等を挙
げることができる。

【化９】 （式中、Ｒ⁹は炭素数１〜３のアルキル基または水素を
示し、ｐは０〜６の整数を示し、ｐ≧２以上の場合はＲ
⁹は同一でも異なってもよい。） また、前記芳香族炭化水素基および含脂環炭化水素基と
しては、下記に示される炭化水素基等が挙げられる。

【化１０】 （式中、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は同一または異なる基であっ
て、フェニレン基、置換フェニレン基（アルキル置換フ
ェニレン基等）、シクロアルキレン基、置換シクロアル
キレン基（アルキル置換シクロアルキレン基等）を示
す。Ｒ¹²〜Ｒ¹⁵は、同一または異なる基であって、水素
原子または炭素数１〜３のアルキル基を示す。また、ｑ
は１〜５の整数を示す） 前記式（１１）中のＲ³およびＲ⁴としては具体的には下
記に示される基等を好ましく挙げることができる。

【化１１】 前記式（１１）中、Ｙはポリエーテル単位、ポリエステ
ル単位およびポリカーボネート単位またはこれらの混合
単位を示す。前記ポリエーテル単位、ポリエステル単位
およびポリカーボネート単位としては、ポリエーテル結
合単位としてはそれぞれ下記の式（ａ）、（ｂ）、
（ｃ）および（ｄ）で示される単位を挙げることができ
る。

【化１２】 式（ａ）〜（ｄ）中、Ｒ¹⁶〜Ｒ²¹は同一または異なる基
であって、炭素数１〜２０、好ましくは２〜１２の２価
の炭化水素残基を示す。特にＲ¹⁹は、炭素数２〜６程度
が好ましい。前記Ｒ¹⁶〜Ｒ²¹としては、直鎖または分岐
のアルキレン基などが好ましく、具体的には、Ｒ¹⁸とし
てメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、プロ
ピレン基等が好ましい。また、Ｒ¹⁶〜Ｒ¹⁷およびＲ¹⁹〜
Ｒ²¹としてはエチレン基、プロピレン基などが好まし
い。また、式（ａ）〜（ｄ）中、ｍは２〜３００、好ま
しくは１０〜２００の整数を示す。また、ｒは１〜３０
０、好ましくは２〜２００の整数、ｓは１〜２００、好
ましくは２〜１００の整数、ｔは１〜２００、好ましく
は２〜１００の整数、ｕは１〜３００、好ましくは１０
〜２００の整数を示す。また、式（ａ）〜（ｄ）中にお
いて、各単位は同一でも、異なる単位の共重合でも良
い。即ち、複数のＲ¹⁶〜Ｒ²¹が存在する場合、Ｒ¹⁶同
志、Ｒ¹⁷同志、Ｒ¹⁸同志、Ｒ¹⁹同志、Ｒ²⁰同志およびＲ
²¹同志は同一でも異なっても良い。前記共重号体の例と
してはエチレンオキサイドとプロピレンオキサイドの共
重合単位などが特に好適な例として挙げられる。前記式
（１１）中、ｎは１〜１００、好ましくは１〜５０、さ
らに好ましくは１〜２０の整数を示す。前記式（１１）
で示されるウレタンアクリレートの分子量は、２，５０
０〜３０，０００、好ましくは３，０００〜２０，００
０が望ましい。前記ウレタンアクリレート１分子中の重
合官能基数は、好ましくは２〜６、さらに好ましくは２
〜４が望ましい。前記式（１１）で示されるウレタンア
クリレートは、公知の方法により容易に製造することが
でき、その製法は特に限定されるものではない。また、
前記有機極性溶媒としては、極性を有し支持電解質を溶
解できるものであれば限定されないが、好適なものとし
ては、具体的には、プロピレンカーボネート，エチレン
カーボネート，ブチレンカーボネート，γ−ブチロラク
トン，スルホラン，１，３−ジオキサン，Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド，１，２−ジメトキシエタン，アセト
ニトリル，テトラヒドロフラン，等の単独または２種以
上の混合物が好適なものとして挙げられる。有機非水溶
媒の添加量はウレタンアクリレート１００重量部に対し
て通常１００〜１２００重量部，好ましくは２００〜９
００重量部の割合である。有機非水溶媒の添加量が少な
すぎると，イオン伝導度も十分ではなく，また有機非水
溶媒の添加量が多すぎると機械強度が低下してしまう場
合がある。支持電解質としては、本発明の高分子固体電
解質の用途などその目的により適宜選択され、本発明の
目的を損なわない限り、特に限定されないが、前記に例
示したものが好適なものとして挙げられる。添加量とし
ては有機非水溶媒に対し０．１〜３０重量％好ましくは
１〜２０重量％である。前記組成物Ａは、基本的には前
記ウレタンアクリレート，有機非水溶媒，および支持電
解質からなる基本成分を固化することにより得られる
が、かかる組成物の任意成分として本発明の目的を損な
わないさらに別の成分を必要に応じて加えることがで
き、係る任意成分としては、例えば架橋剤や重合開始剤
（光または熱）などが挙げられる。前記第１の例の高分
子固体電解質は、組成物Ａを適宜公知の方法により所望
個所に注入した後、固化することにより対向する導電基
板の間に挟持させることができる。ここでいう固化と
は、重合性または架橋性の成分などが、重合（重縮合）
や架橋の進行にともない硬化し、組成物全体として常温
において実質的に流動しない状態となることをいう。な
お、この場合ネットワーク状の基本構造を有する。

【０００９】また、前記高分子固体電解質の第２の例と
しては、下記一般式（２）で表される単官能アクリロイ
ル変性ポリアルキレンオキシド，多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシド，有機極性溶媒、および前記
支持電解質を含む組性物（以下組成物Ｂと略す）を固化
することにより得られる高分子固体電解質が挙げられ
る。

【化１３】 （式中，Ｒ²²，Ｒ²³，Ｒ²⁴およびＲ²⁵は，各々水素また
は１〜５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｎは１
以上の整数を示す） 式中において，Ｒ²²，Ｒ²³，Ｒ²⁴およびＲ²⁵は，各々水
素または１〜５の炭素原子を有するアルキル基であり，
係るアルキル基としては，メチル基，エチル基，i-プロ
ピル基，n-プロピル基，n-ブチル基，t-ブチル基，n-ペ
ンチル基等が挙げられ、互いに同一でも異なってもよ
く、特にＲ²²は水素、メチル基、Ｒ²³は水素、メチル
基、特にＲ²⁴は水素、メチル基、Ｒ²⁵は水素、メチル
基、エチル基が好ましい。また，式中のｎは，１以上の
整数、通常１≦ｎ≦１００、好ましくは２≦ｎ≦５０さ
らに好ましくは２≦ｎ≦３０の範囲の整数を示すもので
ある。係る化合物として具体的には，オキシアルキレン
ユニットを１〜１００、好ましくは２〜５０、さらに好
ましくは１〜２０の範囲で持つメトキシポリエチレング
リコールメタクリレート，メトキシポリプロピレングリ
コールメタクリレート，エトキシポリエチレングリコー
ルメタクリレート，エトキシポリプロピレングリコール
メタクリレート，メトキシポリエチレングリコールアク
リレート，メトキシポリプロピレングリコールアクリレ
ート，エトキシポリエチレングリコールアクリレート，
エトキシポリプロピレングリコールアクリレート、また
はこれらの混合物等を挙げることができる。また、ｎが
２以上の場合、オキシアルキレンユニットが互いに異な
るいわゆる共重合オキシアルキレンユニットを持つもの
でもよく、例えば、オキシエチレンユニットを１〜５
０、好ましくは１〜２０の範囲で持ち、かつオキシプロ
ピレンユニットを１〜５０、好ましくは１〜２０の範囲
で持つところの、メトキシポリ（エチレン・プロピレ
ン）グリコールメタクリレート，エトキシポリ（エチレ
ン・プロピレン）グリコールメタクリレート，メトキシ
ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールアクリレー
ト，エトキシポリ（エチレン・プロピレン）グリコール
アクリレート、またはこれらの混合物などが挙げられ
る。

【００１０】本発明に使用される多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドとしては、好適なものとし
て、下記の一般式（３）で示される化合物いわゆる２官
能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド，一般式
（４）で表される化合物、いわゆる３官能以上の多官能
アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドなどが挙げら
れる。

【化１４】 （式中，Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸およびＲ²⁹は，各々水素また
は１〜５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｍは１
以上の整数を示す）

【化１５】 （式中，Ｒ³⁰，Ｒ³¹およびＲ³²は，各々水素または１〜
５の炭素原子を有するアルキル基であり，ｐは１以上の
整数を示し，ｑは２〜４の整数であり，Ｌはｑ価の連結
基を示す） 前記一般式（３）において、式中のＲ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸お
よびＲ²⁹は，各々水素または１〜５の炭素原子を有する
アルキル基であり，係るアルキル基としては，メチル
基，エチル基，i-プロピル基，n-プロピル基，n-ブチル
基，t-ブチル基，n-ペンチル基等が挙げられる。特にＲ
²⁶は水素、メチル基、Ｒ²⁷は水素、メチル基、特にＲ²⁸
は水素、メチル基、Ｒ²⁹は水素、メチル基が好ましい。
また，式中のｍは，１以上の整数、通常１≦ｍ≦１０
０、好ましくは２≦ｍ≦５０さらに好ましくは２≦ｍ≦
３０の範囲の整数を示すものである。係る化合物として
具体的には，オキシアルキレンユニットを１〜１００、
好ましくは２〜５０、さらに好ましくは１〜２０の範囲
で持つポリエチレングリコールジメタクリレート，ポリ
プロピレングリコールジメタクリレート，ポリエチレン
グリコールジアクリレート，ポリプロピレングリコール
ジメタクリレート、またはこれらの混合物等を挙げるこ
とができる。また、ｍが２以上の場合、オキシアルキレ
ンユニットが互いに異なるいわゆる共重合オキシアルキ
レンユニットを持つものでもよく、例えば、オキシエチ
レンユニットを１〜５０、好ましくは１〜２０の範囲で
持ち、かつオキシプロピレンユニットを１〜５０、好ま
しくは１〜２０の範囲で持つところの、ポリ（エチレン
・プロピレン）グリコールジメタクリレート，ポリ（エ
チレン・プロピレン）グリコールジアクリレート、また
はこれらの混合物などが挙げられる。

【００１１】一般式（４）において，Ｒ³⁰，Ｒ³¹および
Ｒ³²は，各々水素または１〜５の炭素原子を有するアル
キル基であり，係るアルキル基としては，メチル基，エ
チル基，i-プロピル基，n-プロピル基，n-ブチル基，t-
ブチル基，n-ペンチル基等が挙げられる。特にＲ³⁰，Ｒ
³¹およびＲ³²は水素、メチル基が好ましい。また，式中
のｐは，１以上の整数、通常１≦ｐ≦１００、好ましく
は２≦ｐ≦５０さらに好ましくは２≦ｐ≦３０の範囲の
整数を示すものである。ｑは連結基Ｌの連結数であり，
２≦ｑ≦４の整数を示す。連結基Ｌとしては、通常、炭
素数１〜３０、好ましくは１〜２０の二価、三価または
四価の炭化水素基である。二価炭化水素基としては、ア
ルキレン基、アリーレン基、アリールアルキレン基、ア
ルキルアリーレン基、またはこれらを基本骨格として有
する炭化水素基などが挙げられ、具体的には下記に示さ
れる基

【化１６】 などが挙げられる。また、三価の炭化水素基としては、
アルキルトリル基、アリールトリル基、アリールアルキ
ルトリル基、アルキルアリールトリル基、またはこれら
を基本骨格として有する炭化水素基などが挙げられ、具
体的には下記に示される基

【化１７】 などが挙げられる。また、四価の炭化水素基としては、
アルキルテトラリル基、アリールテトラリル基、アリー
ルアルキルテトラリル基、アルキルアリールテトラリル
基、またはこれらを基本骨格として有する炭化水素基な
どが挙げられ、具体的には下記に示される基

【化１８】 などが挙げられる。係る化合物として具体的には，オキ
シアルキレンユニットを１〜１００、好ましくは２〜５
０、さらに好ましくは１〜２０の範囲で持つトリメチロ
ールプロパントリ（ポリエチレングリコールアクリレー
ト），トリメチロールプロパントリ（ポリエチレングリ
コールメタクリレート），トリメチロールプロパントリ
（ポリプロピレングリコールアクリレート），トリメチ
ロールプロパントリ（ポリプロピレングリコールメタク
リレート），テトラメチロールメタンテトラ（ポリエチ
レングリコールアクリレート），テトラメチロールメタ
ンテトラ（ポリエチレングリコールメタクリレート），
テトラメチロールメタンテトラ（ポリプロピレングリコ
ールアクリレート），テトラメチロールメタンテトラ
（ポリプロピレングリコールメタクリレート），２，２
−ビス［４−（アクリロキシポリエトキシ）フェニル］
プロパン，２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエ
トキシ）フェニル］プロパン，２，２−ビス［４−（ア
クリロキシポリイソプロポキシ）フェニル］プロパン，
２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリイソプロポキ
シ）フェニル］プロパン、またはこれらの混合物等を挙
げることができる。また、ｐが２以上の場合、オキシア
ルキレンユニットが互いに異なるいわゆる共重合オキシ
アルキレンユニットを持つものでもよく、例えば、オキ
シエチレンユニットを１〜５０、好ましくは１〜２０の
範囲で持ち、かつオキシプロピレンユニットを１〜５
０、好ましくは１〜２０の範囲で持つところの、トリメ
チロールプロパントリ（ポリ（エチレン・プロピレン）
グリコールアクリレート），トリメチロールプロパント
リ（ポリ（エチレン・プロピレン）グリコールメタクリ
レート），テトラメチロールメタンテトラ（ポリ（エチ
レン・プロピレン）グリコールアクリレート），テトラ
メチロールメタンテトラ（ポリ（エチレン・プロピレ
ン）グリコールメタクリレート），またはこれらの混合
物などが挙げられる。

【００１２】もちろん、前記一般式（３）で示される２
官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドと前記一
般式（４）で表される３官能以上の多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシドを併用してもよい。一般式
（３）で示される化合物と一般式（４）で示される化合
物を併用する場合、その重量比は通常０．０１／９９．
９〜９９．９／０．０１、好ましくは１／９９〜９９／
１、さらに好ましくは２０／８０〜８０／２０の範囲が
望ましい。本発明に使用される一般式（１１）で示され
る化合物と多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキ
シドの重量比は通常１／０．００１〜１／１，好ましく
は１／０．０５〜１／０．５の範囲である。前記極性有
機溶媒の配合割合としては、一般式（１１）で示される
化合物および多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオ
キシドの重量和に対して通常５０〜８００重量％，好ま
しくは１００〜５００重量％の範囲が望ましい。また、
前記支持電解質の配合割合は，一般式（１１）で示され
る化合物，多官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキ
シドおよび極性有機溶媒の重量和に対して通常１〜３０
重量％，好ましくは３〜２０重量％の範囲である。前記
組成物Ｂは、これらの各成分の他に、任意成分として、
本発明を損なわない限り、さらに別の成分を必要に応じ
て加えることができる。任意成分としては、特に限定さ
れないが、光重合のための光重合開始剤や熱重合するた
めの熱重合開始剤等を挙げることができる。本発明に使
用される重合開始剤の使用量は，一般式（１１）で示さ
れる化合物および、多官能アクリロイル変性ポリアルキ
レンオキシドの重量和に対して通常０．００５〜５重量
％，好ましくは０．０１〜３重量％の範囲である。

【００１３】前記第２の例の高分子固体電解質は、組成
物Ｂを適宜公知の方法により所望個所に注入した後、固
化することにより対向する導電基板の間に挟持させるこ
とができる。ここでいう固化とは、重合性または架橋性
の成分、例えば単官能または多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドなどが、重合（重縮合）や架橋の
進行にともない硬化し、組成物全体として常温において
実質的に流動しない状態となることをいう。なお、この
場合、通常単官能または多官能アクリロイル変性ポリア
ルキレンオキシドはともににネットワーク状の基本構造
をとる。もちろん、本発明のイオン伝導性物質において
は、これらに限定されるものではない。

【００１４】本発明のエレクトロクロミック素子におい
ては、前記導電基板の内側面の電極および前記イオン導
電性物質の間の少なくとも一方にエレクトロクロミック
性物質を含む層を設けている。このエレクトロクロミッ
ク性物質とは、電気化学的な酸化、あるいは還元反応等
によって着色、消色、色変化などを示す物質であり、本
発明の目的を達するものである限り特に限定されない
が、Ｍｏ₂Ｏ₃、Ｉｒ₂Ｏ₃、ＮｉＯ、Ｖ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、ビ
オロゲン、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロー
ル、金属フタロシアニンなどが好適なものとしてあげら
れる。前記エレクトロクロミック性物質を含有する層と
は、前記エレクトロクロミック性物質のみからなる層
（膜）でもよく、またエレクトロクロミック性物質とマ
トリックス成分に分散させてえられる層（膜）でもよい
が、エレクトロクロミック性物質のみからなる層（膜）
がより好ましい。前記エレクトロクロミック性物質を含
有する層の厚さは、通常、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましく
は５０〜８００ｎｍが望ましい。前記エレクトロクロミ
ック性物質を含有する層の形成方法としては、特に限定
されず、蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法、電解重合法、ディップコート法、スピンコート
法等の種々の既知の方法を用いることができる。本発明
のエレクトロクロミック素子おいては、前記対向導電基
板の少なくとも一方を透明基板およびこの透明基板の内
側に配した透明電極を備える透明導電基板とする必要が
ある。そして透明導電基板の透明電極とは反対側の面に
紫外吸収層を設けている。この具体的態様としては、一
対の対向導電基板の基板と電極とが全て透明であるエレ
クトロクロミック素子の場合、少なくとも一方または両
方の透明基板の透明電極とは反対側の面に前記紫外線吸
収層が設けられる。また透明基板と透明電極を備える透
明導電基板と、基板および／または電極が不透明である
透明でない導電基板からなる場合、透明基板の透明電極
とは反対側の面には前記紫外線吸収層が必ず設けられ
る。この場合、透明でない導電基板の電極とは反対側の
面にも前記紫外線吸収層を設けても良い。前記紫外線吸
収層は、前述の通り、少なくとも、（ａ）上記一般式
（１）に示されるアミノシラン化合物またはその誘導
体、（以下、「成分Ａ」と称す）と（ｂ）分子内にカル
ボキシル基を有する紫外線吸収剤（以下「成分Ｂ」と称
す）とを反応させ、前記アミノシラン又はその誘導体に
由来するアミド結合を生成せしめた成分を，透明基板の
上に塗布、硬化することによって作製されることを特徴
とする。

【００１５】本発明において成分Ａとして用いるアミノ
シラン化合物としては、下記の一般式（１）に示すもの
である。

【化１９】 式中において、Ｒ¹は炭素数１〜１０、好ましくは１〜
５のアルキレン基、または一般式−（ＣＨ₂）_m−ＮＨ−
［ｍは１≦ｍ≦４の整数］で表される２価の基を示す。
該アルキレン基としては具体的にはメチレン基、エチレ
ン基、トリメチレン基、プロピレン基等が例示される。
各々のＲ²は同一若しくは異なる基であって、水素原
子、水酸基、塩素、臭素等のハロゲン原子、炭素数１〜
１０、好ましくは１〜５のアルキル基若しくはアルコキ
シ基、または炭素数６〜１０、好ましくは６〜８のアリ
ール基を示す。但し、全てのＲ²のうち少なくとも一
つ、好ましくは１〜５はアルコキシ基若しくは水酸基で
ある。前記Ｒ²のアルキル基としてはメチル基、エチル
基。プロピル基、i-プロピル基等が例示でき、アリール
基としてはフェニル基、トリル基などが例示できる。ア
ルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、i-プロポキシ基等が例示できる。ｎはｎ≧０、好
ましくは０≦ｎ≦３の整数を示す。一般式（１）で示さ
れるアミノシラン化合物の好適な例としては、３-アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、３-アミノプロピルジ
イソプロピルエトキシシラン、３-アミノプロピルメチ
ルジエトキシシラン、３-アミノプロピルトリクロロシ
ラン、３-アミノプロピルポリジメチルシロキサン、Ｎ-
（２-アミノエチル）-３-アミノプロピルトリメトキシ
シラン、３-アミノプロピルトリス（メトキシエトキシ
エトキシ）シラン等が挙げられる。また、アミノシラン
化合物の誘導体としては、前記好適な化合物の加水分解
物等が好ましく挙げられる。これらのアミノシラン化合
物又はその誘導体である成分Ａは公知の方法により製造
できる。また、本発明においては、該一般式で示される
アミノシラン化合物の誘導体を用いることもできる。か
かる誘導体としては、前記化合物の加水分解物が好まし
いものとして挙げられる。

【００１６】成分Ｂとして用いる分子内にカルボキシル
基を有する紫外線吸収剤としては、分子の側鎖にカルボ
キシル基を１個または２個以上有する化合物が挙げら
れ、例えばベンゾトリアゾール骨格またはベンゾフェノ
ン骨格を有する化合物等が挙げられる。ベンゾトリアゾ
ール骨格を有する化合物としては、下記の一般式（５）
により表される化合物が好適に挙げられる。

【化２０】 式（５）中のＲ³は、水素原子、ハロゲン原子または炭
素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を示す。
ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等、
該アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シクロヘキ
シル基等が例示できる。Ｒ³の置換位置としては、ベン
ゾトリアゾール骨格の４位または５位であるが、ハロゲ
ン原子及びアルキル基は通常４位に位置する。式中のＲ
⁴は、水素原子または炭素数１〜１０、好ましくは１〜
６のアルキル基を示す。アルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、ブチル基、
t-ブチル基、シクロヘキシル基等が例示できる。式中の
Ｒ⁵は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキレ
ン基または、アルキリデン基を示す。アルキレン基とし
ては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロ
ピレン基等が、アルキリデン基としては、エチリデン、
プロピリデン基等が挙げられる。一般式（５）で示され
る化合物としては、３−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチ
ル）−４−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸、３−（２
Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシ
ベンゼンエタン酸、３−（５−メチル−２Ｈ−ベンゾト
リアゾール−２−イル）−５−（１−メチルエチル）−
４−ヒドロキシベンゼンプロパン酸等が挙げられる。前
記ベンゾフェノン骨格を有する化合物として、下記の一
般式（６）〜（９）にて示されるベンゾフェノン系化合
物等が好適に挙げられる。

【化２１】

【化２２】

【化２３】

【化２４】 式（６）〜（９）中Ｒ⁷及びＲ⁸は、同一若しくは異なる
基であって、水素原子、水酸基、炭素数１〜１０、好ま
しくは１〜６のアルキル基又はアルコキシ基を示す。
ｎ、ｍは、０≦ｍ≦３、０≦ｎ≦３の範囲の整数を示
す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、シクロヘ
キシル基等が、アルコキシ基としては、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、i-プロポキシ基、ブトキシ基
等が具体的に例示される。式中Ｒ⁶は、炭素数１〜１
０、好ましくは１〜３のアルキレン基又は、アルキリデ
ン基を示す。アルキレン基としては、メチレン基、エチ
レン基、トリメチレン基、プロピレン基等が、アルキリ
デン基としてはエチリデン基、プロピリデン基等が挙げ
られる。このようなベンゾフェノン骨格を有する化合物
の具体例としては、２−ヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノン−５−カルボン酸、２，２’−ジヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン−５−カルボン酸、４−
（２−ヒドロキシベンゾイル）−３−ヒドロキシベンゼ
ンプロパン酸等が好適に挙げられる。前記ベンゾトリア
ゾール骨格又はベンゾフェノン骨格を有する紫外線吸収
剤は公知の方法により製造できる。

【００１７】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいて、前記成分Ａと成分Ｂとを少なくとも反応させ
て、成分Ａに由来するアミド結合を生成せしめる反応は
通常脱水反応が主である。この際、反応により生成する
アミド結合の量は、特に限定されないが、通常、成分Ａ
の全アミノシランの１０モル％以上、好ましくは、５０
モル％以上に対してアミド結合が生じるようにすれば良
く、上限は通常１００モル％であるが、上限が１００モ
ル％未満でも差し支えない。本発明に用いられる塗布成
分の製造方法においては、上記のとおり、少なくとも成
分Ａおよび成分Ｂを反応させれば良いが、係る反応の
際、または反応後に本発明の目的を損なわない範囲で任
意成分をさらに共存・添加してもよい。次にこれらの任
意成分について説明する。

【００１８】任意成分の一例としてはシリコーン樹脂
（以下、「成分Ｃ」と称す）が挙げられる。成分Ｃとし
ては反応性シリコーン樹脂、即ち、成分Ａのアルコキシ
シリル基部分と反応（通常脱水反応および／または脱ア
ルコール反応等）しうる官能基を有するシリコーン樹脂
が好ましい。官能基としてはアルコキシシリル基やシラ
ノール基等が好ましい。このような反応性シリコーン樹
脂は、一般的にアルコキシシランやクロロシラン類の部
分加水分解反応とそれに続く縮合反応によって容易に合
成することができる。市販品では、純シリコーンワニス
（例えば、商品名「ＸＯ７９３１−クリヤー」：オキツ
モ（株）製）、シリコーンレジン（例えば、商品名「Ｓ
Ｒ２４１０」：東レ・ダウコーニングシリコーン（株）
製）、アクリル変性シリコーン樹脂（例えば、商品名
「サイラコート１０００」：チッソ（株）製）等が好適
に挙げられる。また、シリコーン樹脂を本発明の目的を
損なわない範囲で各種溶剤を用いた溶液の形で用いるこ
とができる。溶剤としては、特に限定されないが、各種
炭化水素系溶剤、ケトン類、エーテル類、エステル類、
エーテル・エステル類などが挙げられる。また、シリコ
ーン樹脂を各種変性したものを用いても良い。成分Ｃ
は、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際、または反応後のい
ずれにおいても共存させられるが、成分Ａおよび成分Ｂ
の反応の際に共存させることが特に好ましい。前記任意
成分の他の例としては、各種のエポキシシラン類（以下
「成分Ｄ」と称す）が挙げられ、好ましくは下記の一般
式（２０）及び（２１）に示すようなエポキシシラン類
が挙げられる。

【化２５】

【化２６】 式（２０）及び（２１）中、Ｒ⁹およびＲ¹¹は同一若し
くは異なる基であって、炭素数１〜１０、好ましくは１
〜５のアルキレン基又は、式−Ｒ−Ｏ−Ｒ'−（但し、
Ｒ及びＲ'は各々炭素数１〜１０、好ましくは１〜５の
アルキレン基を示す）により示される２価の基を示し、
各々のＲ¹⁰は、同一若しくは異なる基であって、水素原
子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜１０、好ましく
は１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ基、または炭
素数６〜１０好ましくは６〜８のアリール基を示す。但
し、全ての、Ｒ¹⁰のうち少なくとも１つ、好ましくは１
〜５個はアルコキシ基若しくは水酸基である。ｎはｎ≧
０、好ましくは０≦ｎ≦３の整数を示す。前記アルキレ
ン基としては、メチレン基、トリメチレン基、テトラメ
チレン基等が好適に例示できる。前記アルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、
ブチル基、t-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプ
チル基、、オクチル基等が好適に挙げられ、前記アルコ
キシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基、t-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基等が挙げられ、前記アリール基として
は、フェニル基、トリル基等が挙げられる。

【００１９】成分Ｄとしては、３-グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、ジメトキシ-３-グリシドキシプ
ロピルメチルシラン、２-（３，４-エポキシシクロヘキ
シルエチル）トリメトキシシラン、ジメチルエトキシ-
３-グリシドキシプロピルシラン、１，３−ビス（３−
グリシドキシプロピル）−１，３−ジメチル−１，３−
ジメトキシジシロキサン又はこれらの混合物等が好適に
挙げられる。成分Ｄは、予め加水分解して用いても良
い。また予め適当な重合触媒でエポキシ基を開環重合さ
せて用いることもできる。重合触媒としては、三フッ化
ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、ジエ
チル亜鉛等のルイス酸触媒が好適である。また、エポキ
シ基を開環重合させる際の重合条件は特に限定されない
が、通常、−８０℃〜１３０℃、好ましくは−２０℃〜
８０℃程度が望ましく、反応時間は反応条件、反応様式
等により適宜選択でき、通常１０分〜１０時間、好まし
くは１時間〜６時間程度が望ましい。この際用いる溶媒
は特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素溶媒、各種のケトン類やエステル類等
が挙げられる。成分Ｄは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の
際、または反応後のいずれにおいても共存させられる
が、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えることが好ま
しい。但し、前記予め成分Ｄのエポキシ基を開環重合さ
せたものを用いる場合には、成分Ａ及び成分Ｂの反応の
際に加えるのが好ましい。

【００２０】他の任意成分としては、ポリエーテル変性
ポリシロキサン類（以下「成分Ｅ」と称す）が挙げら
れ、好ましくは、下記の一般式（２２）で示されるポリ
エーテル変性ポリシロキサン類が例示される。

【化２７】 （式中、Ｒ¹²、Ｒ¹³およびＲ¹⁴は同一若しくは異なる基
であって、炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキ
レン基を示し、各々のＲ¹⁵は同一若しくは異なる基であ
って、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数１〜１
０、好ましくは１〜５のアルキル基若しくはアルコキシ
基、または炭素数６〜１０好ましくは６〜８のアリール
基を示す。またＲ¹⁵のうち少なくとも一つ、好ましくは
１〜１０個はアルコキシ基である。ｍ、ｎ、ｐは、各々
ｍ≧０、好ましくは０≦ｍ≦１００、ｎ≧０、好ましく
は０≦ｎ≦１０、ｐ≧０、好ましくは０≦ｐ≦１０の整
数を示す。前記アルキレン基としては、メチレン基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基などが好適に挙げられ
る。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、i-プロピル基、ブチル基、t-ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、、オクチル基等が好
適に挙げられる。前記アルコキシ基としては、メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、t-ブトキ
シ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げら
れる。前記アリール基としては、フェニル基、トリル基
等が挙げられる。このような、一般式にて表される成分
Ｅとしては、具体的には、テトラエチレングリコール-
ビス（トリエトキシシリルエチル）エーテル、ポリエチ
レングリコール-ビス（トリエトキシシリルエチル）エ
ーテル、ポリプロピレングリコール-ビス（トリエトキ
シシリルエチル）エーテル又はこれらの混合物が挙げら
れる。成分Ｅとしては、予め加水分解したものを用いて
も良い。成分Ｅは、成分Ａおよび成分Ｂの反応の際、ま
たは反応後のいずれにおいても共存させられるが、成分
Ａおよび成分Ｂの反応の際に加えるのが好ましい。任意
成分として特に、前記成分Ｄのエポキシシラン類や成分
Ｅのポリエーテル変性ポリシロキサン類を用いることに
より、当該基板上の紫外線吸収性被膜は、耐熱性を損な
うことなく基板への密着性が改善され、厚膜にしても割
れにくくなる等、さらに優れた効果を奏する。

【００２１】他の任意成分としては、無機微粒子分散液
（以下、「成分Ｆ」と称す）が挙げられる。成分Ｆとし
ては、特に限定されないが、シリカ、アルミナ、酸化チ
タン、酸化アンチモン等の微粒子の分散液等が挙げられ
る。微粒子の粒子径は１〜１００nm程度であり、分散媒
としては水、メタノール、キシレン、メチルエチルケト
ン、等が挙げられる。市販品ではＬＵＤＯＸ LＳ（デ
ュポン社製）や、ＸＢＡ−ＳＴ（日産化学社製）などが
好適に挙げられる。成分Ｆは、成分Ａおよび成分Ｂの反
応の際、または反応後のいずれにおいても共存させられ
るが、成分Ａおよび成分Ｂの反応の後に加えることが好
ましい。成分Ｆを加えることで，表面硬度を改善し，耐
摩耗性，耐薬品性などを向上させることができる。な
お、任意成分は公知の方法により製造できる。

【００２２】本発明に用いられる塗布成分の製造方法に
おいては、前述のとおり、少なくとも、成分Ａと成分Ｂ
とを反応させるか、若しくは必要に応じて前記任意成分
の共存下反応させることにより容易に製造することがで
きる。この反応条件は、成分Ａに由来するアミド結合が
生成する条件であれば特に限定されなく、その条件は適
宜選択されるところであるが、通常、成分Ａおよび成分
Ｂ、さらに所望により任意成分を溶媒中にて混合したの
ち、溶媒の存在下において、室温〜３５０℃、好ましく
は６０〜２５０℃において、通常５分〜５０時間、好ま
しくは１０分〜１５時間の条件で好適に行うことができ
る。これらの反応操作は繰り返し行うことができる。こ
の反応に用いる溶媒としては、本発明の目的を損なわな
い限り特に限定されないが、例えば、トルエン、キシレ
ン等の芳香族系溶剤や、シクロヘキサノン等のケトン系
溶剤、またはこれらの混合物が挙げられる。溶媒は、反
応後除去してもよく、除去せずに溶液の状態でも良い。
前記反応において、成分Ａと成分Ｂとの使用割合は、特
に限定されないが、成分Ｂの使用量が、成分Ａと成分Ｂ
との総量に対し、通常５〜９０質量％、好ましくは１０
〜８０質量％の範囲で任意に選択することができる。塗
布成分は、このような反応終了後直ちに、そのままの形
態で塗布に供してもよく、また上記の反応終了後、即ち
塗布成分を得た後、各種成分を加えたものを塗布液とし
て使用することもできる。各種成分としては、本発明の
目的を損なわない限り、特に限定されないが、例えば、
酸化防止剤、クエンチャーもしくはラジカル捕捉剤、ま
たは塩酸、硫酸、酢酸などの無機酸や有機酸、３フッ化
ホウ素・ジエチルエーテル錯体、６フッ化アンチモン酸
ナトリウム等のルイス酸、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、トリエチルアミン、アニリンなどの塩基、ジブ
チルスズジラウレート、チタンテトライソプロポキサイ
ドなどの有機金属に例示されるような、硬化促進作用を
有するする触媒（紫外線吸収材料に対して、通常０．１
〜５．０mass％であることが好ましい）、トルエン、キ
シレン、エタノール、イソプロパノール、ジメチルホル
ムアミド、シクロヘキサノン、１−メトキシ−２−アセ
トキシプロパン等、各種シンナー等の溶剤、などを加え
ることもでき、これらの成分を加えたものを塗布液とし
て使用することもできる。また、任意成分であるシリコ
ーン樹脂の使用量としては、特に限定されないが、成分
Ａと成分Ｂの総量に対して、５〜３００質量部、好まし
くは２０〜１５０質量部が望ましい。また、エポキシシ
ラン類の使用量としては、特に限定されないが、成分Ａ
と成分Ｂの総量に対して、１０〜５００質量部、好まし
くは１００〜４００質量部が望ましい。また、ポリエー
テル変性ポリシロキサン類の使用量としては、特に限定
されないが、成分Ａと成分Ｂの総量に対して、１０〜５
００質量部、好ましくは１００〜４００質量部が望まし
い。また、無機微粒子分散液の使用量としては、特に限
定されないが、成分Ａと成分Ｂの総量に対して、５〜４
００質量部、好ましくは１０〜２００質量部が望まし
い。

【００２３】本発明の特定の紫外線吸収層は、かくして
得られた塗布成分を，透明基板の上に塗布、硬化するこ
とによって得られる。塗布成分は通常、液状であり、そ
の塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選択
されるところである。例えば、スピンコート、スプレー
コート、ディップコート、キャストコート、ブレードコ
ート、フローコートなどが、目的に応じて適宜使用され
る。硬化反応は、前記硬化促進作用を有する触媒を用い
た場合は、通常室温から２５０℃、好ましくは４０℃〜
２００℃程度で硬化させることができる。また該触媒を
用いなくても通常室温〜３５０℃、好ましくは６０℃〜
２５０℃で加熱することによって硬化させることができ
る。硬化に要する時間は、適宜選択されるところである
が、通常１０分〜５時間程度である。なお、当然のこと
ながら、紫外線吸収層を形成する際の透明基板として
は、予め反対側に電極を形成せしめたのち、紫外線吸収
層を付与しても良いし、また、紫外線吸収層を付与した
のち、電極を形成せしめてもよく、この場合、必要に応
じ、当該電極または紫外線吸収層の保護を目的とした保
護層を製造の過程において使用してもよい。透明基板上
に形成される紫外線吸収層の膜厚は、特に限定されなく
適宜選択されるところであるが、通常０.５〜５０μｍ
程度の範囲内で用いられる。０.５μｍ以下では充分な
紫外線遮断能力を出すことが難しい場合があり、５０μ
ｍ以上では亀裂を生じさせずに塗布するのが難しい場合
がある。

【００２４】また紫外線吸収層を保護し耐摩耗性を向上
させる目的で、紫外線吸収層上にオーバーコート層を設
けることも行われる。オーバーコート層としては特に限
定はしないが、通常耐摩耗性、耐候性に優れた樹脂が用
いられる。具体的には、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルフォ
ン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、シ
リコーンワニスなどのシリコーン樹脂、尿素樹脂などが
挙げられ、これらの中でもシリコーン樹脂のオーバーコ
ート剤が最適である。またこれらを組み合わせて用いて
も良い。ガラスフィラーや無機粉体と共用することも行
われる。無機粉体としては、通常ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、Ｃ
ｅＯ₂、シリカなどの微粒子が用いられる。シリコーン
樹脂オーバーコート剤としてはコロイダルシリカなどの
無機微粒子を分散させたシリコーンレジン系やアルコキ
シシラン，クロロシランなどのシラン類の部分加水分解
生成物及び部分重縮合生成物などが挙げられる。具体的
には，市販品ではトスガード510（東芝シリコーン製）
やAPZ7703、APZ7705（日本ユニカー製）、Ｎ-Ｌ１１
０，Ｎ-Ｌ７１０等のポリシラザン（東燃製）が挙げら
れる。またエポキシシランの部分加水分解生成物もオー
バーコート剤として耐摩耗性などが優れていることが知
られている。オーバーコート層の形成法としては、特に
限定されなく適宜公知の方法が選択されるところである
が、通常、オーバーコート層を構成する樹脂の溶液、あ
るいは前駆体からなる溶液を塗布することによって得ら
れる。塗布後はそれぞれの樹脂の性質によって必要な処
理がなされ、オーバーコート層が得られる。また上記樹
脂からなるフィルムを貼る方法も行われる。具体的に
は、例えばシリコーンワニスを用いた場合、ジブチルス
ズジラウリレートなどの触媒を加え、塗布した後１００
〜２００℃程度で５分〜２時間程度加熱硬化すること
で、１〜２０μｍのオーバーコート層を得ることができ
る。また、例えばアクリル−メラミン樹脂前駆体を用い
た場合には、塗布した後１３０〜１９０℃で５分〜２時
間程度加熱硬化することで、１０〜１００μｍのオーバ
ーコート層を得ることができる。また光硬化型のアクリ
ル系樹脂前駆体などを用いた場合には、塗布した後、高
圧水銀灯照射下に置くことによって通常５分以内に１〜
１０μｍのオーバーコート層を得ることができる。塗布
方法としては、既知の方法が用いられる。例えばスピン
コート、スプレーコート、キャストコート、ブレードコ
ート、ディップコートなどが挙げられる。また，オーバ
ーコート作製前に光表面改質やプライマー処理を施すこ
とで，オーバーコート材の塗れ性改善や，オーバーコー
ト層の紫外線吸収層への密着性を改善することもでき
る。

【００２５】本発明のエレクトロクロミック素子は、少
なくとも一方が透明導電基板である一対の対向導電基
板、イオン導電性物質、エレクトロクロミック性物質を
含有する層、および紫外線吸収層によって構成している
が、その具体的形態を、図面を参照してさらに詳細に説
明する。本発明のエレクトロクロミック素子の最も単純
な形態の例としては、図１に示すように、透明基板１ａ
と、その内側に位置する透明電極２ａと透明電極とは反
対側に紫外線吸収層２とを備える透明導電基板Ａ、並び
に透明基板１ｂと、その内側に位置する透明電極２ｂと
を備える透明導電基板Ｂを対向して配置しており、透明
導電基板Ｂの透明電極２ｂ内側にエレクトロクロミック
層４が形成されており、透明基板Ａと、エレクトロクロ
ミック層４が形成された透明導電基板Ｂとの間にイオン
導電性物質６を挟持して、イオン導電性物質６の層をシ
ール剤５で密封したエレクトロクロミック素子を挙げる
ことができる。また図２に示すように、透明基板１ａと
紫外線吸収層３との間に、１層以上の中間層７を設ける
こともできる。中間層７の機能は特に限定されないが、
例えば有機紫外線吸収剤種類によっては遠紫外線により
有機紫外線吸収剤が劣化する場合があるので、その劣化
を抑制する目的で、ＺｎＯ、ＣｅＯ₂、ＴｉＯ₂などの無
機酸化物を含む紫外線吸収層を設けたり、あるいは、紫
外線吸収層３と透明基板１ａとの密着性を向上させる目
的で、シランカップリング剤や界面活性剤などを含む中
間層７を設けたりすることができる。尚図２において図
１と同一番号で示す部材は同一のものであるので説明を
省略する。さらに図３に示すように、紫外線吸収層３上
にオーバーコート層８を設けることもできる。オーバー
コート層８の機能は特に限定されないが、例えば紫外線
吸収層３を外的要因（摩擦等）から保護する目的で設け
ることができる。尚図３において図１と同一番号で示す
部材は同一のものであるので説明を省略する。さらに図
４に示すように、透明基板１ａと紫外線吸収層３との間
に中間層７を設けると共に、紫外線吸収層３上にオーバ
ーコート層８を設けることもできる。尚図４において図
１〜３と同一番号で示す部材は同一のものであるので説
明を省略する。また、図５に示すように、図１〜４の透
明導電基板Ｂの代わりに、透明でない不透明基板９と透
明でない不透明電極からなる導電基板Ｃを設けることも
できる。尚図５において図１と同一番号で示す部材は同
一のものであるので説明を省略する。

【００２６】本発明のエレクトロクロミック素子を構成
する各膜および層の形成方法としては、特に限定される
ものではなく、各膜および層を前述の製法に従い順次作
成することができる。例えば、図１に示す構成のエレク
トロクロミック素子の場合、透明基板１ａ上に透明電極
２ａを作製し、さらに透明電極とは反対側の面に、前述
の方法により紫外線吸収層３を作製し透明導電基板Ａを
得る。この際作製順序としては透明基板１ａ上に紫外線
吸収層３を作製した後、紫外線吸収層３とは反対側の面
に透明電極２ａを作製しても良い。次に、もう一枚の透
明基板１ｂ上に前述の方法により透明電極２ｂおよびエ
レクトロクロミック層４を形成し、透明導電基板Ｂを得
る。これら透明導電基板（１ａ，１ｂ）を１〜１０００
μｍ程度の間隔で対向させ、注入口を除いた周囲をシー
ル剤５でシールする。イオン伝導性物質６を前述の方法
で注入し、エレクトロクロミック素子を得ることができ
る。前記透明導電基板（１ａ，１ｂ）を対向させる際、
間隔を一定に確保するためにスペーサーを用いることが
できる。スペーサーとしては特に限定されないが、ガラ
ス、ポリマー等で構成されるビーズまたはシートを用い
ることができる。スペーサーは、対向する導電基板の間
隙に挿入したり、導電基板の電極上に樹脂等の絶縁物で
構成される突起状物を形成する方法等より設けることが
できる。また、イオン導電性物質６を形成する方法は、
例えば前記固体系イオン導電性物質の前駆体等を対向す
る導電基板の間隙に注入し、その後硬化させる方法等に
より形成することができる。硬化方法としては、特に限
定されないが、光による方法、熱による方法、経時的に
硬化する反応液を注入直前に混合した後、直ちに注入し
硬化させる方法等が挙げられる。また、図２に示す構成
のエレクトロクロミック素子の場合、紫外線吸収層３を
形成する前に、中間層７を形成する以外は図１に示す構
成の場合と同様の手順によりエレクトロクロミック素子
を得ることができる。図３に示す構成のエレクトロクロ
ミック素子の場合、紫外線吸収層３を形成した後、オー
バーコート層８を形成する以外は、図１に示す構成の場
合と同様の手順によりエレクトロクロミック素子を得る
ことができる。また図４に示す構成のエレクトロクロミ
ック素子の場合、中間層７を形成した後、紫外線吸収層
３、オーバーコート層８を順次形成する以外は、図１に
示す構成の場合と同様の手順によりエレクトロクロミッ
ク素子を得ることができる。

【００２７】

【発明の効果】本発明のエレクトロクロミック素子は、
透明導電基板の透明電極とは反対側の面に紫外線吸収層
を備えており、屋外での使用にも耐えうる耐久性、耐紫
外線性を有する。さらに該紫外線吸収層中の有機紫外線
吸収剤と母材とが化学的に結合しているため、長波長の
紫外線をカットするために高濃度に紫外線吸収剤を含有
させても紫外線吸収剤が析出することもなく、長期使用
にも耐えられる。特に紫外線吸収層を適宜選択すること
により、４００nm以下の長波長領域までも極めてクリア
に遮断することができる。また紫外線吸収層上にオーバ
ーコート層を設ける構成を採用することにより、耐摩耗
性に優れたエレクトロクロミック素子を得ることができ
る。且つこのようなエレクトロクロミック素子を用いて
作製したエレクトロクロミックデバイス自体を紫外線か
ら保護することができる。従って本発明のエレクトロク
ロミック素子は、屋内用窓はもちろん、屋外に面した
窓、天窓、ソーラーハウス用窓材、自動車用窓、車両用
窓、サンルーフ、間仕切り等に利用することができる。

【００２８】以上、本発明について詳細に説明してきた
が、本発明のエレクトロクロミック素子に関して好適な
実施態様としては以下の態様が挙げられる。 １． 紫外線吸収層形成性塗布成分が、少なくとも
（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化合物
またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカルボキ
シル基を有する紫外線吸収剤を反応させる際に、前記シ
リコーン樹脂の存在下で行うことにより得られるもので
あることを特徴とするエレクトロクロミック素子。 ２． 紫外線吸収層形成性塗布成分が、少なくとも、
（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化合物
またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカルボキ
シル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、該アミノシラ
ンに由来するアミド結合を生成せしめたのち、前記エポ
キシシラン類をさらに加えることにより得られるもので
あることを特徴とするエレクトロクロミック素子。 ３． 紫外線吸収層形成性塗布成分が、少なくとも、
（ａ）前記一般式（１）に示されるアミノシラン化合物
またはその誘導体、および（ｂ）前記分子内にカルボキ
シル基を有する紫外線吸収剤を反応させ、前記アミノシ
ラン類に由来するアミド結合を生成せしめたのち、無機
微粒子分散液をさらに加えることにより得られるもので
あることを特徴とするエレクトロクロミック素子。

【００２９】

【実施例】以下に本発明の実施例を挙げ説明するが、本
発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１カルボン酸残基含有紫外線吸収剤の合成 ２２５ｇ（０.４６モル）の ３-（５-クロロ-２Ｈ-ベン
ゾトリアゾール-２-イル）-５-（１,１-ジメチルエチ
ル）-４-ヒドロキシ-ベンゼンプロパン酸オクチルエス
テル（ＴＩＮＵＶＩＮ １０９、商標名、Ｃｉｂａ−Ｇ
ｅｉｇｙ社製）を７００ｍｌのアセトンに溶解し、２Ｎ
水酸化ナトリウム水溶液６００ｍｌを加えて室温で２４
時間撹拌した。２Ｎ塩酸６５０ｍｌを加えて酸性にした
後、不溶化した生成物を濾別し、蒸留水で濾液が中性に
なるまで洗浄した。この生成物を真空乾燥した後、トル
エンからの再結晶を行うことで３-（５-クロロ-２Ｈ-ベ
ンゾトリアゾール-２-イル）-５-（１,１-ジメチルエチ
ル）-４-ヒドロキシ-ベンゼンプロパン酸［化合物Ｉ］
を得た。紫外線吸収層の作製 ３−アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇをキシレン
３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しながら、前記化合物Ｉ
５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１３０℃まで昇
温し、３時間還流した。放冷後、３−グリシドキシプロ
ピルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、これを紫外線
吸収性塗布液とした。得られた塗布液を１３Ｃ−ＮＭＲ
により分析したところ、アミド結合に由来するカルボニ
ルのピーク（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミ
ノシラン類に由来するアミド結合が存在していることを
確認した。前記紫外線吸収性塗布液を抵抗１０Ω／cm²
のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導電膜とは反対側面
にスプレー塗布し、室温で２０分放置後２００℃で２０
分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有する紫
外線吸収透明導電ガラスを作製した。この透明導電ガラ
スの分光透過率を図６に示した。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、２０〜３０オングス
トロ−ム／秒の条件下、厚さ約５０００オングストロ−
ムとなるように、ＷＯ₃を蒸着し、発色材電極を作製し
た。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に表面積１５００ｍ²／ｇの活性炭繊維（群栄化学株
式会社）を、導電性接着剤（商品名「シルベストＰ−２
５５」：徳力化学研究所製）を用いて格子状に接着し
た。この際、活性炭繊維の格子の形状は、格子間隔２c
m、格子線幅０．８ｍｍ、活性炭繊維の使用量は０．８
５ｍｇ／cmとした。次に、活性炭繊維の上にポリエステ
ルフィルムを接着し、絶縁層を設けて対向電極を作製し
た。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せ
しめ、周辺をエポキシ樹脂で５ｍｍ 幅でシールし、内部に電解液であるＬｉＣｌＯ₄のプロ
ピレンカーボネート溶液（１Ｍ／リットル）を真空注入
して注入口をエポキシ樹脂で封止した。ついで発色材お
よび対向電極の各々にリード線を接続して調光体とし
た。次いで得られた調光体の性能評価を下記の各試験に
基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３０】実施例２紫外線吸収層の作製 ３ｇの３-アミノプロピルトリエトキシシランをキシレ
ン４０ｇに溶解し６０℃に加熱しつつ、５ｇの実施例１
における化合物Ｉを徐々に加えた。添加終了後、１３０
℃まで昇温し、３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性塗
布液を得た。得られた溶液を¹³Ｃ−ＮＭＲにより分析し
たところ、アミド結合に由来するカルボニルのピーク
（約１７３ｐｐｍ）が観測され、原料のアミノシラン類
に由来するアミド結合が存在していることを確認した。
前記塗布液を抵抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガ
ラス基板の導電膜とは反対側面にスプレー塗布し、室温
で２０分放置後１３０℃で３０分加熱し、厚さ約１０μ
ｍの紫外線吸収被膜を有する紫外線吸収透明導電ガラス
を作製した。この透明導電基板の分光透過率を測定した
ところ実施例１と同様に４００nm以下をほぼ完全にカッ
トするものが得られた。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３１】実施例３紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１
３０℃まで昇温し３時間還流し、溶液状の紫外線吸収性
塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液を抵抗１０Ω／
cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導電膜とは反対
側面にスプレー塗布し、室温で２０分放置後、２００℃
で２０分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線吸収被膜を有
する紫外線吸収透明導電ガラスを作製した。この紫外線
吸収透明導電ガラスに対して碁盤目試験を行ったとこ
ろ、５０％剥離が見られた。また、この紫外線吸収透明
導電基板を沸騰アセトンで２４時間抽出を行ったとこ
ろ、重量減少はほとんどなかった。このことから、紫外
線吸収剤はアミノシランを介して樹脂と結合しているこ
とがわかった。この透明導電基板の分光透過率を図７に
示した。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．１であった。続い
て、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよう
に１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに着
色は消滅し、この際の光学密度は０．２１であった。こ
の際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３２】実施例４紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１
３０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３-グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ添加し、紫
外線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液を抵
抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導電
膜とは反対側面にスプレー塗布し、室温で２０分放置
後、２００℃で２０分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線
吸収被膜を有する紫外線吸収透明導電ガラスを作製し
た。この紫外線吸収透明導電ガラスの紫外可視吸収スペ
クトルを図８に示した。また、実施例３のように碁盤目
試験での剥離は認められなかった。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．１１であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２２であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３３】実施例５紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン３５ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１
３０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、３-グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシランを１６ｇ、コロイダ
ルシリカ分散液（日産化学製、MIBK-ST）を８ｇ添加し
紫外線吸収性塗布液を得た。前記紫外線吸収性塗布液を
抵抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導
電膜とは反対側面にスプレー塗布し、室温で２０分放置
後、２００℃で２０分加熱し、厚さ約１７μｍの紫外線
吸収被膜を有する紫外線吸収透明導電ガラスを作製し
た。鉛筆硬度は４Ｈであった。この透明導電ガラス基板
の紫外可視吸収スペクトルを図９に示した。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０９であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８７であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３４】実施例６エポキシシランの重合 ３-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２００ｇ
をキシレン７５ｇに溶解させ、３フッ化ホウ素・ジエチ
ルエーテル錯体４ｍｌを室温で徐々に加えた後、４時間
攪拌しエポキシ基の開環重合を行った。得られたポリマ
ーの分子量はＭｗ＝３３００（ポリスチレン換算）であ
った。紫外線吸収性塗布液の製造 シリコーンワニス（ＸＯ−７９３１−クリヤー、オキツ
モ製）１７．７ｇと３-アミノプロピルトリエトキシシ
ラン３ｇをキシレン２９ｇに溶解し、８０℃に加熱しな
がら化合物Ｉ ５ｇを徐々に添加した。添加終了後、１
３０℃まで昇温し３時間還流した。放冷後、上記エポキ
シシラン重合体溶液を２２ｇを加え紫外線吸収材料を得
た。前記溶液状の紫外線吸収材料をコーテング液とし
て、これを抵抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラ
ス基板の導電膜とは反対側面にスプレー塗布し、室温で
２０分放置後、１５０℃で３０分加熱し、厚さ約１５μ
ｍの紫外線吸収層のついた透明導電ガラス基板を作製し
た。鉛筆硬度は６Ｈであった。この紫外線吸収層上にＮ
−Ｌ７１０（東燃製）をディップコートし、室温にて２
０分放置後、２００℃にて１時間焼成し，９５℃、８０
％ＲＨの雰囲気で硬化させ膜厚１μm程度のオーバーコ
ート層を得た。オーバーコート層を作製した紫外線吸収
膜の鉛筆硬度は９Ｈ，テーバー摩耗試験ではΔＨ７〜８
％であった。この透明導電基板の分光透過率を図１０に
示した。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０９であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８９であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３５】実施例７紫外線吸収塗布液の製造 ３-アミノプロピルトリエトキシシラン３ｇと実施例６
のエポキシシラン重合体溶液１１ｇをキシレン３２ｇに
溶解し、８０℃に加熱しながら化合物Ｉ５ｇを徐々に添
加した。添加終了後、１３０℃まで昇温し３時間還流
し、紫外線吸収材料を得た。前記溶液状の紫外線吸収材
料をコーテング液として、これを抵抗１０Ω／cm²のＩ
ＴＯ付き透明導電ガラス基板の導電膜とは反対側面にス
プレー塗布し、室温で２０分放置後、１５０℃で３０分
加熱し、厚さ約１５μｍの紫外線吸収層のついた透明導
電ガラス基板を作製した。鉛筆硬度は５Ｈであった。こ
の紫外線吸収層上に，トスガード５１０をスプレー塗布
し、室温で２０分放置後、１４０℃で３０分加熱し、膜
厚４〜５μmのオーバーコート層を得た。オーバーコー
ト層を作製した紫外線吸収層の鉛筆硬度は７〜８Ｈ，テ
ーバー摩耗試験ではΔＨ８〜１０％であった。この透明
導電基板の分光透過率を図１１に示した。発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの前記紫外線吸収層を有する透明導電基板
上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を
作製した。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を相対向せしめ、周辺を
エポキシ樹脂で５ｍｍ幅でシールし、内部に電解液であ
るＬｉＣｌＯ₄のプロピレンカーボネート溶液（１Ｍ／
リットル）を真空注入して注入口をエポキシ樹脂で封止
した。ついで発色材および対向電極の各々にリード線を
接続して調光体とした。次いで得られた調光体の性能評
価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２１であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８７であっ
た。 紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３６】実施例８発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 １０×１０cmの実施例７で作製した紫外線吸収層を有す
る透明導電基板上に実施例１と同様に活性炭繊維を配置
し、対向電極を作製した。固体系イオン伝導物質前駆体の作製 メトキシポリエチレングリコール＃２３０メタクリレー
ト（新中村化学製，Ｍ−４０Ｇ）１ｇとポリエチレング
リコール＃４００ジメタクリレート（新中村化学製，９
Ｇ）０．０２ｇと光重合開始剤（ダロキュアー１１７
３，チバガイギー製）２０ｍｇを１Ｍ-ＬｉＣｌＯ４／
γ-ブチロラクトン溶液４ｇに溶解させ、固体系イオン
伝導物質前駆体とした。調光体の作製 前記発色材電極と前記対向電極を粒径２００μｍのガラ
スビーズを挟んで相対向せしめ、周辺をエポキシ樹脂で
５ｍｍ幅でシールし、内部に前述の固体系イオン伝導物
質前駆体を真空注入して、紫外線硬化後、注入口をエポ
キシ樹脂で封止した。ついで発色材および対向電極の各
々にリード線を接続して調光体とした。次いで得られた
調光体の性能評価を下記の各試験に基づいて評価した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は１．１５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２５で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．９
０であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３７】実施例９中間層の作製 抵抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導
電膜とは反対側面にＺｎＯ超微粒子分散塗料（レジノカ
ラー工業社製、ＵＶ−Ｓ−４００）をディップコートに
より塗布し、２００℃で２０分加熱硬化させることによ
って、厚さ約２μｍの紫外線吸収層を作製した。この上
にポリエーテルサルフォン（ＩＣＩ社製、｀ＶＩＣＴＲ
ＥＸ´ＰＥＳ ４１００Ｐ）の塩化メチレン溶液をスピ
ンコートすることにより、厚さ約２μｍのポリマー層を
作製した。紫外線吸収層の作製 さらに、実施例７で作製したのと同様に、厚さ約１５μ
ｍの紫外線吸収層を作製した。オーバーコート層の作製 こうして得られた紫外線吸収層の上に、ポリイミドワニ
ス（日産化学工業社製、ＲＮ−８１２）をスピンコート
した。ホットプレート上６０℃で溶媒が乾燥させた後、
オーブン中２００℃で３０分加熱硬化させることによっ
て、厚さ約２μｍのオーバーコート層を得た。発色材電極の作製 こうして得られた紫外線遮断能を有する透明導電基板１
０×１０cmを用いて、５モル／リットルの塩酸アニリ
ン、０．５規定の過塩素酸溶液中で、５００μＡ／ｃｍ
²の電流密度で電解重合を行い、重合面積７０ｃｍ²、厚
さ約３０００オングストロ−ムのポリアニリン膜を得
た。対向電極の作製 １０×１０ｃｍのＩＴＯガラス上に、電解重合で得られ
た表面積７３ｍ²／ｇのポリピロール粉末を、実施例１
と同様な導電性接着剤を用いて横縞状に接着した。この
際、線間隔１ｃｍ、線幅０．５ｍｍ、ポリピロール粉末
の使用量は０．６５ｍｇ／ｃｍとした。次に、ポリピロ
ール層の上にポリエステルフィルムを接着して、絶縁層
を設け対向電極とした。イオン伝導性ゲル前駆体の調整 メトキシテトラエチレングリコールメタクリレート１０
ｇ、γ−ブチロラクトン４０ｇ、過塩素酸リチウム４ｇ
を混合し、遮光下で、光重合開始剤ダロキュアー１１７
３（チバガイギー製）０．２ｇを添加した。調光体の作製 実施例８と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は０．６５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．４
５であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下、光学密度差
の低下等はほとんどみられず、きわめて安定したサイク
ル特性であった。

【００３８】比較例１発色材電極の作製 １０×１０cmのＩＴＯガラス上に、実施例１と同様にＷ
Ｏ₃を蒸着し、発色材電極を作製した。対向電極の作製 実施例２と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例１と同様に、電解液を真空中入し、調光体を作製
した。着消色試験 次に、発色材電極側が負極、対向電極側が正極となるよ
うに１Ｖの電圧を１２０秒間印加したところ、青色に均
一に着色し、着色時の光学密度は１．０８であった。続
いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極となるよ
うに１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、すみやかに
着色は消滅し、この際の光学密度は０．２０であった。
この際着色時と消色時の光学密度差は、０．８８であっ
た。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、０．２５に減少した。

【００３９】比較例２無機紫外線吸収層の作製 抵抗１０Ω／cm²のＩＴＯ付き透明導電ガラス基板の導
電膜とは反対側面にＺｎＯ超微粒子分散塗料（レジノカ
ラー工業社製、ＵＶ−Ｓ−４００）をディップコートに
より塗布し、２００℃で２０分加熱硬化させることによ
って、厚さ約２μｍの紫外線吸収層を作製した。この透
明導電基板の分光透過率を図１２に示した。発色材電極の作製 実施例１と同様にＷＯ₃を蒸着し、発色材電極を作製し
た。対向電極の作製 実施例２と同様に活性炭繊維を配置し、対向電極を作製
した。調光体の作製 実施例８と同様に、イオン伝導性ゲル前駆体を真空中入
し、調光体を作製した。着消色試験 実施例１と同様の条件で、着消色試験を行ったところ、
青色に均一に着色し、着色時の光学密度は１．１５であ
った。続いて、発色材電極側が正極、対向電極側が負極
となるように１Ｖの電圧を６０秒間印加したところ、す
みやかに着色は消滅し、この際の光学密度は０．２５で
あった。この際着色時と消色時の光学密度差は、０．９
０であった。紫外線照射下でのサイクル試験 前記着色試験と消色試験をサンテスター内で１２００回
行ったが、着色の消え残り、応答性の低下が観察され、
光学密度差は、０．６５まで減少した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエレクトロクロミック素子の構造説明
図である。

【図２】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図３】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図４】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図５】本発明の他のエレクトロクロミック素子の構造
説明図である。

【図６】実施例１で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図７】実施例３で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図８】実施例４で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図９】実施例５で作製した透明導電基板の分光透過率
を各々表すグラフである。

【図１０】実施例６で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【図１１】実施例７で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【図１２】比較例２で作製した透明導電基板の分光透過
率を各々表すグラフである。

【符号の説明】

１ａ，１ｂ 透明基板 ２ａ，２ｂ 透明電極 ３ 紫外線吸収層 ４ エレクトロクロミック層 ５ シール剤 ６ イオン伝導性物質 ７ 中間層 ８ オーバーコート層 ９ 不透明基板 １０ 不透明電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 錦谷 禎範 横浜市中区千鳥町８番地 日本石油株式会 社中央技術研究所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも内側面に電極を有する一対の
   対向導電基板と対向導電基板の間に挟持して設けたイオ
   ン伝導物質と、導電基板の内側面の電極およびイオン伝
   導性物質の間の少なくとも一方に設けたエレクトロクロ
   ミック性物質を含む層とを備えたエレクトロクロミック
   素子であって、 前記対向導電基板の少なくとも一方が透明導電基板であ
   り、この透明導電基板が透明基板、透明電極、および透
   明電極とは反対側の透明基板面に紫外線吸収層を有し、
   該紫外線吸収層が、少なくとも、 （ａ）一般式（１）に示されるアミノシラン化合物また
   はその誘導体と、 【化１】 （式中、Ｒ¹は炭素数１〜１０のアルキレン基、または
   一般式−（ＣＨ₂）_m−ＮＨ−［ｍは１≦ｍ≦４の整数］
   で表される２価の基を示し、各々のＲ²は同一若しくは
   異なる基であって、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、
   炭素数１〜１０のアルキル基又は炭素数１〜１０のアル
   コキシ基を示す。但し全てのＲ²のうち少なくとも一つ
   はアルコキシ基若しくは水酸基を示す。ｎはｎ≧０の整
   数を示す。） （ｂ）分子内にカルボキシル基を有する紫外線吸収剤
   と、を反応させ、前記アミノシラン化合物又はその誘導
   体に由来するアミド結合が生成した成分を、前記透明基
   板の上に塗布、硬化することによって作製されているこ
   とを特徴とするエレクトロクロミック素子。
2. 【請求項２】 前記紫外線吸収層上にオーバーコート層
   を設けた請求項１記載のエレクトロクロミック素子。