JPH10197706A - Ａｕ薄膜付き反射鏡 - Google Patents
Ａｕ薄膜付き反射鏡Info
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- JPH10197706A JPH10197706A JP9026339A JP2633997A JPH10197706A JP H10197706 A JPH10197706 A JP H10197706A JP 9026339 A JP9026339 A JP 9026339A JP 2633997 A JP2633997 A JP 2633997A JP H10197706 A JPH10197706 A JP H10197706A
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
- F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
- F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
- F24S23/82—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors characterised by the material or the construction of the reflector
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
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- F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
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- F24S23/74—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors with trough-shaped or cylindro-parabolic reflective surfaces
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い反射特性及び熱伝導性を有し、Ａｕ薄膜
の密着性に優れた反射鏡を得られる。また反射鏡の生産
性が向上し、安価に反射鏡を製造できる。 【解決手段】 Ａｕ薄膜付き反射鏡１０は、Ａｌ又はＡ
ｌ合金からなる基体１１と、この基体１１上に形成され
たガラス層１２と、このガラス層１２の表面にＡｕ有機
化合物を含むペーストを塗布し焼成して形成されたＡｕ
薄膜１３を備える。このＡｕ薄膜１３はＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ
3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアル
カリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫであ
る。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸化物
（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）からなる
群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１〜２
０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。
の密着性に優れた反射鏡を得られる。また反射鏡の生産
性が向上し、安価に反射鏡を製造できる。 【解決手段】 Ａｕ薄膜付き反射鏡１０は、Ａｌ又はＡ
ｌ合金からなる基体１１と、この基体１１上に形成され
たガラス層１２と、このガラス層１２の表面にＡｕ有機
化合物を含むペーストを塗布し焼成して形成されたＡｕ
薄膜１３を備える。このＡｕ薄膜１３はＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ
3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアル
カリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫであ
る。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸化物
（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）からなる
群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１〜２
０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は赤外線の反射に適す
るＡｕ薄膜付き反射鏡に関する。更に詳しくはハロゲン
ヒータのような赤外線ヒータから放射された赤外線を反
射するに適した反射鏡に関するものである。
るＡｕ薄膜付き反射鏡に関する。更に詳しくはハロゲン
ヒータのような赤外線ヒータから放射された赤外線を反
射するに適した反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、太陽エネルギ吸収装置に用いられ
る反射鏡として、アルミニウム、鋼板、ステンレスなど
の金属、合金又はプラスチックなどの適宜な材料で形成
された基板上にアルミニウム、銀などからなる金属反射
膜が被着され、この金属反射膜の表面にＳｉＯ2のよう
なガラス質膜からなる透明性無機質保護膜が形成された
反射鏡が開示されている（特開昭５７−４００３）。こ
の反射鏡によれば、紫外域から可視域及び赤外域まで広
い範囲で高い反射率を有し、反射膜が透明性無機質保護
膜で保護されているため、反射面が平滑で汚損しにく
く、反射率が低下することがなく、またこの保護膜によ
り耐酸性、耐アルカリ性、耐塩性に優れ、長期にわた
り、反射特性を維持できる特長がある。
る反射鏡として、アルミニウム、鋼板、ステンレスなど
の金属、合金又はプラスチックなどの適宜な材料で形成
された基板上にアルミニウム、銀などからなる金属反射
膜が被着され、この金属反射膜の表面にＳｉＯ2のよう
なガラス質膜からなる透明性無機質保護膜が形成された
反射鏡が開示されている（特開昭５７−４００３）。こ
の反射鏡によれば、紫外域から可視域及び赤外域まで広
い範囲で高い反射率を有し、反射膜が透明性無機質保護
膜で保護されているため、反射面が平滑で汚損しにく
く、反射率が低下することがなく、またこの保護膜によ
り耐酸性、耐アルカリ性、耐塩性に優れ、長期にわた
り、反射特性を維持できる特長がある。
【０００３】しかし、上記従来の反射鏡には、反射鏡が
赤外線ヒータの放射熱のように１０００℃以上の高温の
熱線を受けてこれを反射すると、基板が金属の場合には
金属粒子が粒成長を起こし、また基板がプラスチックの
場合には熱変形を生じ、これにより金属反射膜が剥離し
て、それぞれ反射率を低下させる問題点があった。これ
らの点を解消するために、基板をＡｌ又はＡｌ合金の押
出し加工にて形成し、この基板の表面をバフ研磨した後
に、基板表面にＮｉめっき処理にてＮｉ層を形成し更に
Ａｕめっき処理にてＡｕめっき膜を形成することによ
り、基板表面に反射膜が形成された反射鏡が知られてい
る。この反射鏡では、反射鏡が赤外線ヒータの高温の熱
線を受けても、反射膜の表面の平滑性が極めて高いため
反射率が高く、これにより基板の温度上昇が最小限に抑
えられる。この結果、基板の金属粒子が粒成長を起こす
ことはなく、従って反射膜が剥離することがないので、
反射率が低下しないようになっている。
赤外線ヒータの放射熱のように１０００℃以上の高温の
熱線を受けてこれを反射すると、基板が金属の場合には
金属粒子が粒成長を起こし、また基板がプラスチックの
場合には熱変形を生じ、これにより金属反射膜が剥離し
て、それぞれ反射率を低下させる問題点があった。これ
らの点を解消するために、基板をＡｌ又はＡｌ合金の押
出し加工にて形成し、この基板の表面をバフ研磨した後
に、基板表面にＮｉめっき処理にてＮｉ層を形成し更に
Ａｕめっき処理にてＡｕめっき膜を形成することによ
り、基板表面に反射膜が形成された反射鏡が知られてい
る。この反射鏡では、反射鏡が赤外線ヒータの高温の熱
線を受けても、反射膜の表面の平滑性が極めて高いため
反射率が高く、これにより基板の温度上昇が最小限に抑
えられる。この結果、基板の金属粒子が粒成長を起こす
ことはなく、従って反射膜が剥離することがないので、
反射率が低下しないようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記改善され
た従来の反射鏡では、基板の表面、即ち中間めっき層で
あるＮｉ層表面の平滑性を高めるためにＮｉ層の厚さを
２０μｍ以上と比較的厚く形成する必要があり、また高
い赤外線反射特性を得るためにＡｕめっき膜の厚さを１
０μｍ以上と比較的厚く形成する必要があり、更に基板
を直接Ｎｉめっき浴及びＡｕめっき浴中に浸漬するため
反射面として用いられない基板の裏面にもＮｉ層及びＡ
ｕめっき膜が形成される。この結果、高価なＮｉ及びＡ
ｕを必要以上に使用するため、製造コストを押上げる不
具合があった。なお、上記Ａｕめっき膜の厚さを１０μ
ｍと比較的厚くするのは、赤外線の波長が１μｍ〜３μ
ｍであり、Ａｕめっき膜の厚さをこの波長と同程度であ
ると、Ａｕめっき膜による赤外線の吸収が起こり、赤外
線反射特性が低下するためである。本発明の目的は、高
い反射特性及び熱伝導性を有し、Ａｕ薄膜の密着性に優
れたＡｕ薄膜付き反射鏡を提供することにある。本発明
の別の目的は、生産性を向上し、安価に製造できるＡｕ
薄膜付き反射鏡を提供することにある。
た従来の反射鏡では、基板の表面、即ち中間めっき層で
あるＮｉ層表面の平滑性を高めるためにＮｉ層の厚さを
２０μｍ以上と比較的厚く形成する必要があり、また高
い赤外線反射特性を得るためにＡｕめっき膜の厚さを１
０μｍ以上と比較的厚く形成する必要があり、更に基板
を直接Ｎｉめっき浴及びＡｕめっき浴中に浸漬するため
反射面として用いられない基板の裏面にもＮｉ層及びＡ
ｕめっき膜が形成される。この結果、高価なＮｉ及びＡ
ｕを必要以上に使用するため、製造コストを押上げる不
具合があった。なお、上記Ａｕめっき膜の厚さを１０μ
ｍと比較的厚くするのは、赤外線の波長が１μｍ〜３μ
ｍであり、Ａｕめっき膜の厚さをこの波長と同程度であ
ると、Ａｕめっき膜による赤外線の吸収が起こり、赤外
線反射特性が低下するためである。本発明の目的は、高
い反射特性及び熱伝導性を有し、Ａｕ薄膜の密着性に優
れたＡｕ薄膜付き反射鏡を提供することにある。本発明
の別の目的は、生産性を向上し、安価に製造できるＡｕ
薄膜付き反射鏡を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１の拡大図に示すように、Ａｌ又はＡｌ合金により形
成された基体１１と、基体１１上に形成されたガラス層
１２と、ガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３とを
備えたＡｕ薄膜付き反射鏡であって、Ａｕ薄膜１３がＳ
ｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで
表されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又
はＫである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属
酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）か
らなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．
１〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成されたこと
を特徴とする。この請求項１に係るＡｕ薄膜付き反射鏡
では、基体１１の表面が粗くても、ガラス層１２がこれ
を平滑化し、ガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３
の表面を歪みのない鏡面とし、高い反射特性を有するよ
うにする。またガラス層１２の上にＡｕ有機化合物ペー
ストを塗布して乾燥した後、焼成すると、このペースト
中のＳｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｂａ等が酸化物となり、これらがガラス層１
２のガラス成分と化学的に結合する。これによりガラス
層１２の表面に高い密着力で緻密で連続したＡｕ薄膜１
３を形成する。Ａｕ薄膜１３中の酸化物の含有量が０．
１重量％未満ではガラス層１２のガラス成分との結合力
に劣り、２０重量％を越えるとＡｕの含有量が相対的に
低下し反射率が低下するようになる。Ａｕ薄膜１３中の
上記酸化物の好ましい含有割合は０．５〜１０重量％で
ある。更に基体１１をＡｌ又はＡｌ合金により形成した
ので、高い熱伝導性及び耐食性を有する反射鏡が得ら
れ、また軽量で複雑な形状の反射鏡を製造することがで
きる。
図１の拡大図に示すように、Ａｌ又はＡｌ合金により形
成された基体１１と、基体１１上に形成されたガラス層
１２と、ガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３とを
備えたＡｕ薄膜付き反射鏡であって、Ａｕ薄膜１３がＳ
ｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで
表されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又
はＫである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属
酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）か
らなる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．
１〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成されたこと
を特徴とする。この請求項１に係るＡｕ薄膜付き反射鏡
では、基体１１の表面が粗くても、ガラス層１２がこれ
を平滑化し、ガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３
の表面を歪みのない鏡面とし、高い反射特性を有するよ
うにする。またガラス層１２の上にＡｕ有機化合物ペー
ストを塗布して乾燥した後、焼成すると、このペースト
中のＳｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍ
ｇ，Ｃａ，Ｂａ等が酸化物となり、これらがガラス層１
２のガラス成分と化学的に結合する。これによりガラス
層１２の表面に高い密着力で緻密で連続したＡｕ薄膜１
３を形成する。Ａｕ薄膜１３中の酸化物の含有量が０．
１重量％未満ではガラス層１２のガラス成分との結合力
に劣り、２０重量％を越えるとＡｕの含有量が相対的に
低下し反射率が低下するようになる。Ａｕ薄膜１３中の
上記酸化物の好ましい含有割合は０．５〜１０重量％で
ある。更に基体１１をＡｌ又はＡｌ合金により形成した
ので、高い熱伝導性及び耐食性を有する反射鏡が得ら
れ、また軽量で複雑な形状の反射鏡を製造することがで
きる。
【０００６】請求項２に係る発明は、図３の拡大図に示
すように、Ａｌ又はＡｌ合金により形成された基体１１
と、基体１１上に形成されたＡｌ2Ｏ3層２５と、Ａｌ2
Ｏ3層２５上に形成されたガラス層１２と、ガラス層１
２上に形成されたＡｕ薄膜１３とを備えたＡｕ薄膜付き
反射鏡であって、Ａｕ薄膜１３がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ｐ
ｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ
金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及
びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸化物（但し、
Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）からなる群より選
ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１〜２０重量％
含み、残部がＡｕにより構成されたことを特徴とする。
この請求項２に係るＡｕ薄膜付き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3
層２５により基体１１とガラス層１２との密着性を高め
ることができることを除いて、作用は上記請求項１に係
る反射鏡と同様である。
すように、Ａｌ又はＡｌ合金により形成された基体１１
と、基体１１上に形成されたＡｌ2Ｏ3層２５と、Ａｌ2
Ｏ3層２５上に形成されたガラス層１２と、ガラス層１
２上に形成されたＡｕ薄膜１３とを備えたＡｕ薄膜付き
反射鏡であって、Ａｕ薄膜１３がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ｐ
ｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ
金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及
びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸化物（但し、
Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）からなる群より選
ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１〜２０重量％
含み、残部がＡｕにより構成されたことを特徴とする。
この請求項２に係るＡｕ薄膜付き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3
層２５により基体１１とガラス層１２との密着性を高め
ることができることを除いて、作用は上記請求項１に係
る反射鏡と同様である。
【０００７】請求項３に係る発明は、請求項１に係る発
明であって、更に図１の拡大図に示すように、ガラス層
１２が０．１μｍ〜２００μｍの厚さに形成され、Ａｕ
薄膜１３が０．０１μｍ〜１０μｍの厚さに形成された
ことを特徴とする。この請求項３に係るＡｕ薄膜付き反
射鏡では、ガラス層１２は２μｍ〜４０μｍの厚さに形
成されることが好ましい。ガラス層１２の厚さが０．１
μｍ未満ではＡｕ薄膜１３とガラス層１２との密着性及
び表面平滑性が不十分となり、２００μｍを越えると基
体１１自身の熱伝導性を低下させる不具合がある。また
Ａｕ薄膜１３は反射鏡１１の用途に応じて０．２μｍ〜
４μｍの厚さに形成されることが好ましい。Ａｕ薄膜１
３の厚さが０．０１μｍ未満では高い反射特性を得るこ
とが困難となり、１０μｍを越えると経済的でない。
明であって、更に図１の拡大図に示すように、ガラス層
１２が０．１μｍ〜２００μｍの厚さに形成され、Ａｕ
薄膜１３が０．０１μｍ〜１０μｍの厚さに形成された
ことを特徴とする。この請求項３に係るＡｕ薄膜付き反
射鏡では、ガラス層１２は２μｍ〜４０μｍの厚さに形
成されることが好ましい。ガラス層１２の厚さが０．１
μｍ未満ではＡｕ薄膜１３とガラス層１２との密着性及
び表面平滑性が不十分となり、２００μｍを越えると基
体１１自身の熱伝導性を低下させる不具合がある。また
Ａｕ薄膜１３は反射鏡１１の用途に応じて０．２μｍ〜
４μｍの厚さに形成されることが好ましい。Ａｕ薄膜１
３の厚さが０．０１μｍ未満では高い反射特性を得るこ
とが困難となり、１０μｍを越えると経済的でない。
【０００８】請求項４に係る発明は、請求項２に係る発
明であって、更に図３の拡大図に示すように、にＡｌ2
Ｏ3層２５が０．１μｍ〜５０μｍの厚さに形成され、
ガラス層１２が０．１μｍ〜２００μｍの厚さに形成さ
れ、Ａｕ薄膜１３が０．０１μｍ〜１０μｍの厚さに形
成されたことを特徴とする。この請求項４に係るＡｕ薄
膜付き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3層２５は２μｍ〜２０μｍ
の厚さに形成されることが好ましい。Ａｌ2Ｏ3層２５の
厚さが０．１μｍ未満ではガラス層１２の基体１１に対
する密着性が不十分となり、５０μｍを越えると基体１
１自身の熱伝導性が低下する不具合がある。ガラス層１
２及びＡｕ薄膜１３の厚さについては上記請求項３に係
る反射鏡と同様である。
明であって、更に図３の拡大図に示すように、にＡｌ2
Ｏ3層２５が０．１μｍ〜５０μｍの厚さに形成され、
ガラス層１２が０．１μｍ〜２００μｍの厚さに形成さ
れ、Ａｕ薄膜１３が０．０１μｍ〜１０μｍの厚さに形
成されたことを特徴とする。この請求項４に係るＡｕ薄
膜付き反射鏡では、Ａｌ2Ｏ3層２５は２μｍ〜２０μｍ
の厚さに形成されることが好ましい。Ａｌ2Ｏ3層２５の
厚さが０．１μｍ未満ではガラス層１２の基体１１に対
する密着性が不十分となり、５０μｍを越えると基体１
１自身の熱伝導性が低下する不具合がある。ガラス層１
２及びＡｕ薄膜１３の厚さについては上記請求項３に係
る反射鏡と同様である。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に本発明の第１の実施の形態を
図面に基づいて詳しく説明する。図１及び図２に示すよ
うに、反射鏡１０の基板１１は板状のＡｌ又はＡｌ合金
により形成され、その反射面である表面は、凹面に形成
される。なお、反射面は凹面ではなく、平面であっても
よい。またガラス層１２を構成するガラス成分は、例え
ばＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土
類金属、アルカリ金属等が添加された系である。このガ
ラス層１２は、熱膨張係数が基板の熱膨張係数に近いこ
とが、ガラス層１２形成時にクラック等の欠陥を生じな
いため、好ましい。基板１１がＡｌ又はＡｌ合金である
ので、ガラス層１２の熱膨張係数はこの基板１１の熱膨
張係数に近い（２５．６±５）×１０-6／℃であること
が好ましい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末を溶剤と
混合してガラスペーストとし、このガラスペーストを基
板の表面にスクリーン印刷法、スプレーコーティング
法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
溶射法等により塗布して乾燥した後、焼成しガラスを軟
化させることにより形成されるか、或いは基板１１を上
記ガラス成分を含む電解質に浸漬して分極する電着法に
より基板１１の表面に上記ガラス成分を析出させて乾燥
した後、焼成することにより形成される。
図面に基づいて詳しく説明する。図１及び図２に示すよ
うに、反射鏡１０の基板１１は板状のＡｌ又はＡｌ合金
により形成され、その反射面である表面は、凹面に形成
される。なお、反射面は凹面ではなく、平面であっても
よい。またガラス層１２を構成するガラス成分は、例え
ばＰｂＯ−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土
類金属、アルカリ金属等が添加された系である。このガ
ラス層１２は、熱膨張係数が基板の熱膨張係数に近いこ
とが、ガラス層１２形成時にクラック等の欠陥を生じな
いため、好ましい。基板１１がＡｌ又はＡｌ合金である
ので、ガラス層１２の熱膨張係数はこの基板１１の熱膨
張係数に近い（２５．６±５）×１０-6／℃であること
が好ましい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末を溶剤と
混合してガラスペーストとし、このガラスペーストを基
板の表面にスクリーン印刷法、スプレーコーティング
法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、
溶射法等により塗布して乾燥した後、焼成しガラスを軟
化させることにより形成されるか、或いは基板１１を上
記ガラス成分を含む電解質に浸漬して分極する電着法に
より基板１１の表面に上記ガラス成分を析出させて乾燥
した後、焼成することにより形成される。
【００１０】更に本発明のガラス層１２上に形成される
Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物を含むペーストを塗布
し焼成してなるＡｕ薄膜である。従来のＡｕペーストと
異なり、本発明のＡｕペーストはＡｕ又はその合金が粉
末の状態でなく、Ａｕ成分及び微量の他の金属成分が有
機成分と化合物を形成し、液状になっているため、１μ
ｍ以下の厚さの連続した薄膜も得られる特長がある。本
発明のガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３はＳｉ
Ｏ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表
されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又は
Ｋである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸
化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）から
なる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１
〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。
Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物を含むペーストを塗布
し焼成してなるＡｕ薄膜である。従来のＡｕペーストと
異なり、本発明のＡｕペーストはＡｕ又はその合金が粉
末の状態でなく、Ａｕ成分及び微量の他の金属成分が有
機成分と化合物を形成し、液状になっているため、１μ
ｍ以下の厚さの連続した薄膜も得られる特長がある。本
発明のガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３はＳｉ
Ｏ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表
されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又は
Ｋである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸
化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）から
なる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１
〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。
【００１１】この液状のＡｕ有機化合物に、例えばα−
テレピネオール、エチルセルロース等の有機物を添加
し、ペースト化する。この有機物はペーストに粘性を付
与して塗工性を高めるとともに、焼成後のバインダとし
ての機能を有する。Ａｕ以外の他の金属成分としてはＰ
ｂ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等
が挙げられる。Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物ペース
トをガラス層の表面にスクリーン印刷法、スプレーコー
ティング法、ディップコーティング法、スピンコーティ
ング法等により塗布して乾燥した後、焼成することによ
り形成される。このＡｕ薄膜１３の上に更にＡｕめっき
（図示せず）を施せば、反射特性がより向上し好まし
い。
テレピネオール、エチルセルロース等の有機物を添加
し、ペースト化する。この有機物はペーストに粘性を付
与して塗工性を高めるとともに、焼成後のバインダとし
ての機能を有する。Ａｕ以外の他の金属成分としてはＰ
ｂ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等
が挙げられる。Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物ペース
トをガラス層の表面にスクリーン印刷法、スプレーコー
ティング法、ディップコーティング法、スピンコーティ
ング法等により塗布して乾燥した後、焼成することによ
り形成される。このＡｕ薄膜１３の上に更にＡｕめっき
（図示せず）を施せば、反射特性がより向上し好まし
い。
【００１２】図３は本発明の第２の実施の形態を示す。
図３において図１と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、反射鏡２０の基板１１とガラス層１２と
の間にＡｌ2Ｏ3層２５が形成されることを除いて、上記
第１の実施の形態と同一に構成される。このＡｌ2Ｏ3層
２５は陽極酸化法、熱酸化法、ゾルゲル法等により形成
される。陽極酸化法では、基板１１を硫酸、シュウ酸又
はホウ酸等の水溶液に浸漬してアノード分極することに
より、基板１１の表面に不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3
層２５が形成される。また熱酸化法では、基板１１を酸
化雰囲気中で加熱することにより、基板１１の表面に酸
化膜であるＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。更にゾルゲル
法では、Ａｌ2Ｏ3微粒子を分散した含水酸化物ゾルを脱
水処理してゲルとし、このゲルを加熱して得られた無機
酸化物を基板１１の表面に塗布し、或いはＡｌアルコキ
シド溶液を直接塗布して、乾燥した後、焼成することに
よりＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。
図３において図１と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、反射鏡２０の基板１１とガラス層１２と
の間にＡｌ2Ｏ3層２５が形成されることを除いて、上記
第１の実施の形態と同一に構成される。このＡｌ2Ｏ3層
２５は陽極酸化法、熱酸化法、ゾルゲル法等により形成
される。陽極酸化法では、基板１１を硫酸、シュウ酸又
はホウ酸等の水溶液に浸漬してアノード分極することに
より、基板１１の表面に不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3
層２５が形成される。また熱酸化法では、基板１１を酸
化雰囲気中で加熱することにより、基板１１の表面に酸
化膜であるＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。更にゾルゲル
法では、Ａｌ2Ｏ3微粒子を分散した含水酸化物ゾルを脱
水処理してゲルとし、このゲルを加熱して得られた無機
酸化物を基板１１の表面に塗布し、或いはＡｌアルコキ
シド溶液を直接塗布して、乾燥した後、焼成することに
よりＡｌ2Ｏ3層２５が形成される。
【００１３】図４は本発明の第３の実施の形態を示す。
図４において図１と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、反射鏡３０の基体３１がバルク状に形成
されることを除いて、上記第１の実施の形態の反射鏡と
同一に構成される。図５は本発明の第４の実施の形態を
示す。図５において図３又は図４と同一符号は同一部品
を示す。この実施の形態では、反射鏡４０の基体３１が
バルク状に形成されることを除いて、上記第２の実施の
形態の反射鏡と同一に構成される。
図４において図１と同一符号は同一部品を示す。この実
施の形態では、反射鏡３０の基体３１がバルク状に形成
されることを除いて、上記第１の実施の形態の反射鏡と
同一に構成される。図５は本発明の第４の実施の形態を
示す。図５において図３又は図４と同一符号は同一部品
を示す。この実施の形態では、反射鏡４０の基体３１が
バルク状に形成されることを除いて、上記第２の実施の
形態の反射鏡と同一に構成される。
【００１４】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。 ＜実施例１＞図１及び図２に示すように、Ａｕ薄膜付き
反射鏡１０の基板１１は厚さが１０ｍｍのＡｌ合金（６
０６３材、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系）であって、この基板１
１の凹面は２次曲面に形成された。この基板１１の凹面
上のガラス層１２は、凹面全体に平均粒径が５．０μｍ
のＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3系ガラス粒子を含むスラリーをスプレ
ーコーティング法により上記Ａｌ合金材表面に塗布し、
３００℃で３０分間乾燥した後、６００℃で５分間焼成
することにより、約２０μｍの厚さで形成された。
反射鏡１０の基板１１は厚さが１０ｍｍのＡｌ合金（６
０６３材、Ａｌ−Ｍｇ−Ｓｉ系）であって、この基板１
１の凹面は２次曲面に形成された。この基板１１の凹面
上のガラス層１２は、凹面全体に平均粒径が５．０μｍ
のＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3系ガラス粒子を含むスラリーをスプレ
ーコーティング法により上記Ａｌ合金材表面に塗布し、
３００℃で３０分間乾燥した後、６００℃で５分間焼成
することにより、約２０μｍの厚さで形成された。
【００１５】この基板１１のガラス層１２上に厚さ０．
５μｍのＡｕ薄膜１３を形成した。このＡｕ薄膜１３は
他の金属成分としてＰｂとＢｉを含有する。即ち、Ａｕ
薄膜１３は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％のＰｂ
と、０．２重量％のＢｉと、０．１重量％のＳｉとをそ
れぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオール、
エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合物ペ
ーストをスプレーコーティング法により塗布して、基板
１１を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。反射鏡１０の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータ１４を設置した。
５μｍのＡｕ薄膜１３を形成した。このＡｕ薄膜１３は
他の金属成分としてＰｂとＢｉを含有する。即ち、Ａｕ
薄膜１３は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％のＰｂ
と、０．２重量％のＢｉと、０．１重量％のＳｉとをそ
れぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオール、
エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合物ペ
ーストをスプレーコーティング法により塗布して、基板
１１を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。反射鏡１０の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータ１４を設置した。
【００１６】＜実施例２＞図３に示すように、基板１１
を実施例１と同一材料により同一形状に形成した。この
基板１１の表面には、陽極酸化法、即ち基板１１を濃度
１５％の硫酸の水溶液に浸漬してアノード分極すること
により、厚さ１０μｍの不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3
層２５を形成した。この表面にＡｌ2Ｏ3層２５が形成さ
れた基板１１の凹面には、上記実施例１と同一材料で同
一厚さにガラス層１２及びＡｕ薄膜１３を形成した。反
射鏡２０の２次曲線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、
消費電力１０００Ｗのハロゲンヒータ１４を設置した。
を実施例１と同一材料により同一形状に形成した。この
基板１１の表面には、陽極酸化法、即ち基板１１を濃度
１５％の硫酸の水溶液に浸漬してアノード分極すること
により、厚さ１０μｍの不導体酸化皮膜であるＡｌ2Ｏ3
層２５を形成した。この表面にＡｌ2Ｏ3層２５が形成さ
れた基板１１の凹面には、上記実施例１と同一材料で同
一厚さにガラス層１２及びＡｕ薄膜１３を形成した。反
射鏡２０の２次曲線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、
消費電力１０００Ｗのハロゲンヒータ１４を設置した。
【００１７】＜実施例３＞実施例３の反射鏡はＡｕ薄膜
の成分を除いて、実施例１と同一に形成した。このＡｕ
薄膜は他の金属成分としてＫとＣａを含有する。即ち、
Ａｕ薄膜は、２８重量％のＡｕと、０．１重量％のＢ
と、０．１重量％のＫと、０．２重量％のＣａとをそれ
ぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオール、エ
チルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合物ペー
ストをスプレーコーティング法により塗布して、基板を
１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０分間焼
成することにより形成した。また反射鏡の２次曲線の焦
点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００Ｗのハ
ロゲンヒータを設置した。
の成分を除いて、実施例１と同一に形成した。このＡｕ
薄膜は他の金属成分としてＫとＣａを含有する。即ち、
Ａｕ薄膜は、２８重量％のＡｕと、０．１重量％のＢ
と、０．１重量％のＫと、０．２重量％のＣａとをそれ
ぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオール、エ
チルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合物ペー
ストをスプレーコーティング法により塗布して、基板を
１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０分間焼
成することにより形成した。また反射鏡の２次曲線の焦
点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００Ｗのハ
ロゲンヒータを設置した。
【００１８】＜実施例４＞実施例４の反射鏡はＡｕ薄膜
の成分を除いて、実施例２と同一に形成した。このＡｕ
薄膜は他の金属成分としてＰｂとＢａを含有する。即
ち、Ａｕ薄膜は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％の
Ｓｉと、０．２重量％のＰｂと、０．１重量％のＢａと
をそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオー
ル、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合
物ペーストをスプレーコーティング法により塗布して、
基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータを設置した。
の成分を除いて、実施例２と同一に形成した。このＡｕ
薄膜は他の金属成分としてＰｂとＢａを含有する。即
ち、Ａｕ薄膜は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％の
Ｓｉと、０．２重量％のＰｂと、０．１重量％のＢａと
をそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオー
ル、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合
物ペーストをスプレーコーティング法により塗布して、
基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータを設置した。
【００１９】＜実施例５＞実施例５の反射鏡は基板の材
質及びＡｕ薄膜の成分を除いて、実施例１と同一に形成
した。基板を純度が９９．９％のＡｌにより形成した。
Ａｕ薄膜は他の金属成分としてＡｌとＬｉを含有する。
即ち、Ａｕ薄膜は、２８重量％のＡｕと、０．２重量％
のＢと、０．１重量％のＡｌと、０．１重量％のＬｉと
をそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオー
ル、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合
物ペーストをスプレーコーティング法により塗布して、
基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータを設置した。
質及びＡｕ薄膜の成分を除いて、実施例１と同一に形成
した。基板を純度が９９．９％のＡｌにより形成した。
Ａｕ薄膜は他の金属成分としてＡｌとＬｉを含有する。
即ち、Ａｕ薄膜は、２８重量％のＡｕと、０．２重量％
のＢと、０．１重量％のＡｌと、０．１重量％のＬｉと
をそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオー
ル、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化合
物ペーストをスプレーコーティング法により塗布して、
基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で１０
分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２次曲
線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０００
Ｗのハロゲンヒータを設置した。
【００２０】＜実施例６＞実施例６の反射鏡は基板の材
質及びＡｕ薄膜の成分を除いて、実施例２と同一に形成
した。基板を純度が９９．９％のＡｌにより形成した。
Ａｕ薄膜は他の金属成分としてＮａとＭｇを含有する。
即ち、Ａｕ薄膜は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％
のＳｉと、０．１重量％のＮａと、０．１重量％のＭｇ
とをそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオ
ール、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化
合物ペーストをスプレーコーティング法により塗布し
て、基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で
１０分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２
次曲線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０
００Ｗのハロゲンヒータを設置した。
質及びＡｕ薄膜の成分を除いて、実施例２と同一に形成
した。基板を純度が９９．９％のＡｌにより形成した。
Ａｕ薄膜は他の金属成分としてＮａとＭｇを含有する。
即ち、Ａｕ薄膜は、２７重量％のＡｕと、０．１重量％
のＳｉと、０．１重量％のＮａと、０．１重量％のＭｇ
とをそれぞれ含む有機化合物と、残部がα−テレピネオ
ール、エチルセルロース等の有機物からなるＡｕ有機化
合物ペーストをスプレーコーティング法により塗布し
て、基板を１２０℃で乾燥した後、大気中で４００℃で
１０分間焼成することにより形成した。また反射鏡の２
次曲線の焦点近傍には定格電圧２００Ｖ、消費電力１０
００Ｗのハロゲンヒータを設置した。
【００２１】＜比較例１及び２＞比較用試料として、実
施例１〜４と同一材料で同一形状の基板を用い、この基
板表面に、電解めっき法により厚さ１２μｍのＮｉ層及
び厚さ０．５μｍのＡｕ層を形成したものを比較例１と
し、同様に厚さ１２μｍのＮｉ層及び厚さ１０μｍのＡ
ｕ層を形成したものを比較例２とした。
施例１〜４と同一材料で同一形状の基板を用い、この基
板表面に、電解めっき法により厚さ１２μｍのＮｉ層及
び厚さ０．５μｍのＡｕ層を形成したものを比較例１と
し、同様に厚さ１２μｍのＮｉ層及び厚さ１０μｍのＡ
ｕ層を形成したものを比較例２とした。
【００２２】＜比較例３及び４＞比較用試料として、実
施例５及び６と同一材料で同一形状の基板を用い、この
基板表面に、電解めっき法により厚さ１２μｍのＮｉ層
及び厚さ０．５μｍのＡｕ層を形成したものを比較例３
とし、同様に厚さ１２μｍのＮｉ層及び厚さ１０μｍの
Ａｕ層を形成したものを比較例４とした。
施例５及び６と同一材料で同一形状の基板を用い、この
基板表面に、電解めっき法により厚さ１２μｍのＮｉ層
及び厚さ０．５μｍのＡｕ層を形成したものを比較例３
とし、同様に厚さ１２μｍのＮｉ層及び厚さ１０μｍの
Ａｕ層を形成したものを比較例４とした。
【００２３】＜比較試験と評価＞実施例１〜６及び比較
例１〜４の反射鏡について、それぞれ赤外線の反射率と
を比較試験した。反射率は基板上のＡｕ薄膜又はＡｕ層
に対して波長１．０μｍの赤外線を照射したときの赤外
線の全反射率を測定することにより求めた。
例１〜４の反射鏡について、それぞれ赤外線の反射率と
を比較試験した。反射率は基板上のＡｕ薄膜又はＡｕ層
に対して波長１．０μｍの赤外線を照射したときの赤外
線の全反射率を測定することにより求めた。
【００２４】
【表１】
【００２５】その結果、赤外線の全反射率は実施例１〜
６、比較例２及び４においてそれぞれ９７．４％〜９
８．６％の値が得られ、高い赤外線反射特性を示した。
一方、比較例１及び３における反射率は８１．０％及び
７８．８％であり、赤外線反射特性は低かった。この結
果、実施例の反射鏡はＡｕ膜の厚さが薄い、換言すれば
使用するＡｕの量が少ないにも拘わらず、高い赤外線反
射特性を示すことから、赤外線反射鏡を安価に製造でき
ることが確認できた。
６、比較例２及び４においてそれぞれ９７．４％〜９
８．６％の値が得られ、高い赤外線反射特性を示した。
一方、比較例１及び３における反射率は８１．０％及び
７８．８％であり、赤外線反射特性は低かった。この結
果、実施例の反射鏡はＡｕ膜の厚さが薄い、換言すれば
使用するＡｕの量が少ないにも拘わらず、高い赤外線反
射特性を示すことから、赤外線反射鏡を安価に製造でき
ることが確認できた。
【００２６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、本
発明のＡｕ薄膜付き反射鏡では、基体の表面が粗くて
も、ガラス層がこれを平滑化し、ガラス層上に形成され
たＡｕ薄膜の表面を歪みのない鏡面とする。基体上のガ
ラス層上にＡｕ有機化合物を含むペーストを塗布し焼成
することによりＡｕ薄膜が形成されているので、ガラス
層の表面に高い密着力でＡｕ薄膜を形成できる。また基
体の表面が粗くても、ガラス層がこれを平滑化するの
で、ガラス層上に形成されたＡｕ薄膜の表面を歪みのな
い鏡面とすることができ、高い反射特性を有する。
発明のＡｕ薄膜付き反射鏡では、基体の表面が粗くて
も、ガラス層がこれを平滑化し、ガラス層上に形成され
たＡｕ薄膜の表面を歪みのない鏡面とする。基体上のガ
ラス層上にＡｕ有機化合物を含むペーストを塗布し焼成
することによりＡｕ薄膜が形成されているので、ガラス
層の表面に高い密着力でＡｕ薄膜を形成できる。また基
体の表面が粗くても、ガラス層がこれを平滑化するの
で、ガラス層上に形成されたＡｕ薄膜の表面を歪みのな
い鏡面とすることができ、高い反射特性を有する。
【００２７】また高い赤外線反射特性を得るためにＡｕ
めっき膜の厚さを１０μｍ以上と比較的厚く形成しなけ
ればならない従来の改善された反射鏡と比較して、本発
明ではＡｕ薄膜の厚さを従来の厚さの１／１０００〜１
／１０と薄くでき、反射鏡を安価に製造できる。また基
体がＡｌ又はＡｌ合金により形成されるので、高い熱伝
導性及び耐食性を有する反射鏡が得られ、また軽量で複
雑な形状の反射鏡を比較的容易に製造できるので、生産
性を向上できる。更に基体とガラス層との間にＡｌ2Ｏ3
層を形成すれば、Ａｌ2Ｏ3層により基体とガラス層との
密着性を更に高めることができる。
めっき膜の厚さを１０μｍ以上と比較的厚く形成しなけ
ればならない従来の改善された反射鏡と比較して、本発
明ではＡｕ薄膜の厚さを従来の厚さの１／１０００〜１
／１０と薄くでき、反射鏡を安価に製造できる。また基
体がＡｌ又はＡｌ合金により形成されるので、高い熱伝
導性及び耐食性を有する反射鏡が得られ、また軽量で複
雑な形状の反射鏡を比較的容易に製造できるので、生産
性を向上できる。更に基体とガラス層との間にＡｌ2Ｏ3
層を形成すれば、Ａｌ2Ｏ3層により基体とガラス層との
密着性を更に高めることができる。
【図１】本発明の第１実施形態のＡｕ薄膜付き反射鏡の
断面図。
断面図。
【図２】その斜視図。
【図３】本発明の第２実施形態のＡｕ薄膜付き反射鏡の
断面図。
断面図。
【図４】本発明の第３実施形態のＡｕ薄膜付き反射鏡の
断面図。
断面図。
【図５】本発明の第４実施形態のＡｕ薄膜付き反射鏡の
断面図。
断面図。
【符号の説明】 １０，２０，３０，４０ Ａｕ薄膜付き反射鏡 １１ 基板（基体） １２ ガラス層 １３ Ａｕ薄膜 ２５ Ａｌ2Ｏ3層 ３１ 基体
Claims (4)
- 【請求項１】 Ａｌ又はＡｌ合金により形成された基体
(11,31)と、前記基体(11,31)上に形成されたガラス層(1
2)と、前記ガラス層(12)上に形成されたＡｕ薄膜(13)と
を備えたＡｕ薄膜付き反射鏡であって、 前記Ａｕ薄膜(13)がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ
3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成されたことを特徴とするＡｕ薄膜付き反射
鏡。 - 【請求項２】 Ａｌ又はＡｌ合金により形成された基体
(11,31)と、前記基体(11,31)上に形成されたＡｌ2Ｏ3層
(25)と、前記Ａｌ2Ｏ3層(25)上に形成されたガラス層(1
2)と、前記ガラス層(12)上に形成されたＡｕ薄膜(13)と
を備えたＡｕ薄膜付き反射鏡であって、 前記Ａｕ薄膜(13)がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ
3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成されたことを特徴とするＡｕ薄膜付き反射
鏡。 - 【請求項３】 ガラス層(12)が０．１μｍ〜２００μｍ
の厚さに形成され、Ａｕ薄膜(13)が０．０１μｍ〜１０
μｍの厚さに形成された請求項１記載のＡｕ薄膜付き反
射鏡。 - 【請求項４】 Ａｌ2Ｏ3層(25)が０．１μｍ〜５０μｍ
の厚さに形成され、ガラス層(12)が０．１μｍ〜２００
μｍの厚さに形成され、Ａｕ薄膜(13)が０．０１μｍ〜
１０μｍの厚さに形成された請求項２記載のＡｕ薄膜付
き反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9026339A JPH10197706A (ja) | 1996-11-15 | 1997-02-10 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-304256 | 1996-11-15 | ||
| JP30425696 | 1996-11-15 | ||
| JP9026339A JPH10197706A (ja) | 1996-11-15 | 1997-02-10 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10197706A true JPH10197706A (ja) | 1998-07-31 |
Family
ID=26364112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9026339A Withdrawn JPH10197706A (ja) | 1996-11-15 | 1997-02-10 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10197706A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008170238A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | バイオチップ用基板の製造方法 |
| JP2010520437A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 太陽集光器 |
-
1997
- 1997-02-10 JP JP9026339A patent/JPH10197706A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008170238A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | バイオチップ用基板の製造方法 |
| JP2010520437A (ja) * | 2007-03-05 | 2010-06-10 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 太陽集光器 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040511 |