JPH10188354A - Optical disk and its production - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce an optical disk having a reflective film excellent in corrosion resistance and high in reflectivity and low in cost by constituting the disk by incorporating a reflective layer laminating in order a metallic oxide film containing In and Ag and a metallic thin film containing In and Ag on a transparent substrate. SOLUTION: The disk is formed by laminating in order a recording layer 3 consisting of a dyestuff thin film using cyanine based dyestuff, squarylium based dyestuff, etc., the reflective film 4 consisting of an In-Ag metallic oxide film 5 and an In-Ag metallic thin film 6 and a resin made protective layer 7. Among these, the In-Ag metallic thin film 6 is composed of the thin film having the composition containing 0.1-20 atomic % In and 80-99.9 atomic % Ag. When the In content is less than 0.1 atomic % or the Ag content is more than 99.9 atomic %, the material is inferior in the corrosion resistance and the reflectivity is deteriorated by aging. And when the In content is more than 20 atomic % and the Ag content is less than 80 atomic %, the reflectivity is low from the beginning of production.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高反射率かつ耐蝕
性に優れた反射膜を有する光学式情報記録媒体である光
ディスクおよびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk as an optical information recording medium having a reflective film having high reflectance and excellent corrosion resistance, and a method of manufacturing the same.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、記録可能領域を備えた円板状の光
ディスクの１つとして、情報を直接記録可能であると共
に、記録後に再生専用プレイヤーやドライブ等で再生可
能であるコンパクトディスクがある。このような記録可
能なコンパクトディスクは、記録可能領域の構成や情報
を記録する原理によって、さらに数種類に分類される
が、その１種であるＣＤ−Ｒは、記録層として有機系色
素からなる薄膜を有している。2. Description of the Related Art Conventionally, as one type of disk-shaped optical disk having a recordable area, there is a compact disk capable of directly recording information and reproducing after recording by a read-only player or drive. Such recordable compact discs are further classified into several types according to the structure of the recordable area and the principle of recording information. One type of CD-R is a thin film made of an organic dye as a recording layer. have.

【０００３】通常、金型を用いて基板にピットを転写し
て製造される再生専用のＣＤ−ＡｕｄｉｏやＣＤ−ＲＯ
Ｍ等のコンパクトディスク（以下、単にＣＤともいう）
の反射層には、安価なＡｌの薄膜が用いられているが、
ＣＤ−Ｒでは記録層の色素薄膜によって光が吸収される
ため、反射光による十分な信号強度を得るためには、Ａ
ｌ薄膜よりも反射率の高い反射層が必要とされる。Normally, a read-only CD-Audio or CD-RO manufactured by transferring pits to a substrate using a mold is used.
Compact discs such as M (hereinafter simply referred to as CDs)
In the reflection layer, an inexpensive Al thin film is used.
In the case of CD-R, light is absorbed by the dye thin film of the recording layer.
A reflective layer having a higher reflectance than the thin film is required.

【０００４】この要求を満たすために、従来のＣＤ−Ｒ
では通常ＡｕまたはＡｕを主成分とする合金が反射層と
して使用されている。このＡｕまたはＡｕを主成分とす
る合金からなる反射層は、記録された情報を読み出すた
めの波長780nm レーザ光に対して、色素薄膜の存在下で
あっても65％以上の高反射率を実現でき、かつ高い耐蝕
性を有している。In order to satisfy this demand, a conventional CD-R
In general, Au or an alloy containing Au as a main component is used as the reflective layer. The reflective layer made of Au or an alloy containing Au as a main component realizes a high reflectance of 65% or more with respect to a laser beam having a wavelength of 780 nm for reading recorded information even in the presence of a dye thin film. And high corrosion resistance.

【０００５】このように、ＡｕまたはＡｕを主成分とす
る合金は反射率と耐蝕性とを兼ね合わせており、光ディ
スクの反射層として優れた材料である。[0005] As described above, Au or an alloy containing Au as a main component has both reflectance and corrosion resistance, and is an excellent material as a reflection layer of an optical disk.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ａｕは
極めて高価であるため、光ディスクの製造コストが上昇
のしてしまうという問題点があった。一方、反射率の点
では、たとえばＡｇの方がＡｕよりも優れているが、Ａ
ｇはＡｕよりも耐蝕性に劣り、経時的に反射率が低下し
てしまう。However, since Au is extremely expensive, there is a problem that the manufacturing cost of the optical disk increases. On the other hand, in terms of reflectivity, for example, Ag is superior to Au,
g is inferior in corrosion resistance to Au, and the reflectance decreases over time.

【０００７】このように、安価なＡｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の
金属およびこれらを主成分とする金属薄膜を反射層とし
て用いた場合には、腐蝕による反射率の低下等に起因
し、再生時に十分な信号強度が得られず、読み取りエラ
ーが増加するおそれがある。このため、これらの金属か
らなる薄膜のみでは、光ディスクの反射層としては不適
当である。As described above, when an inexpensive metal such as Ag, Cu, or Al and a metal thin film containing these as a main component are used as a reflective layer, the reflectivity is lowered due to corrosion and the like, so that a sufficient amount of light cannot be reproduced. Signal strength may not be obtained, and reading errors may increase. Therefore, a thin film composed of only these metals is not suitable as a reflective layer of an optical disk.

【０００８】本発明はこのような従来の問題点に鑑み、
高反射率でしかも耐蝕性に優れた反射膜を有し、かつ低
コストの光ディスクおよびその製造方法を提供すること
を目的とする。The present invention has been made in view of such conventional problems,
It is an object of the present invention to provide a low-cost optical disk having a reflective film having high reflectance and excellent corrosion resistance, and a method of manufacturing the optical disk.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】このため、請求項１およ
び請求項７に係る発明では、円板状の透明な基板と、該
基板上に、ＩｎとＡｇとを含む金属酸化膜と、ＩｎとＡ
ｇとを含む金属薄膜とを、順次積層した反射層とを含ん
で光ディスクを構成する。これにより、光ディスクに高
い反射率と耐蝕性とを有する反射膜を設ける。Therefore, according to the first and seventh aspects of the present invention, a disk-shaped transparent substrate, a metal oxide film containing In and Ag on the substrate, And A
An optical disk is constituted by including a metal thin film containing g and a reflection layer sequentially laminated. Thus, a reflective film having high reflectivity and corrosion resistance is provided on the optical disc.

【００１０】また、請求項２および請求項８に係る発明
では、基板と反射層との間に、色素薄膜からなる記録層
を設けて、使用者が情報を記録することのできる光ディ
スクを形成する。そして、請求項３に係る発明では、上
述した金属酸化膜は、後に形成される金属薄膜と同組成
の金属の酸化膜とする。このような構成では、例えば蒸
着法を用いる場合、同じ蒸着ソースを用い、連続して金
属酸化膜と金属薄膜とを形成することができる。In the invention according to claims 2 and 8, a recording layer made of a dye thin film is provided between the substrate and the reflection layer to form an optical disk on which a user can record information. . In the invention according to claim 3, the metal oxide film is a metal oxide film having the same composition as a metal thin film to be formed later. In such a configuration, for example, when the evaporation method is used, a metal oxide film and a metal thin film can be successively formed using the same evaporation source.

【００１１】また、確実に高い反射率と耐蝕性とを得る
ためには、請求項４に係る発明のように、前記金属薄膜
は、１〜18原子％のＩｎおよび72〜99原子％のＡｇを含
んで構成されることが好ましく、このうち、請求項５に
係る発明のように、１〜18原子％のＩｎおよび72〜99原
子％のＡｇを含んで前記金属薄膜を構成したものが特に
好ましい。In order to surely obtain high reflectivity and corrosion resistance, the metal thin film is preferably made of 1 to 18 atomic% of In and 72 to 99 atomic% of Ag. It is preferable that the metal thin film includes 1 to 18 atomic% of In and 72 to 99 atomic% of Ag as in the invention according to claim 5. preferable.

【００１２】さらには、請求項６に係る発明のように、
前記金属膜は、ＩｎとＡｇとの合計含有量が99.5原子％
以上であることが望ましい。また、請求項９に係る発明
では、酸素を含む雰囲気中で蒸着法により前記金属酸化
膜を形成して、均質な金属酸化膜を有する反射層を容易
に作製する。Further, as in the invention according to claim 6,
The metal film has a total content of In and Ag of 99.5 atomic%.
It is desirable that this is the case. In the invention according to claim 9, the metal oxide film is formed by an evaporation method in an atmosphere containing oxygen, and a reflective layer having a uniform metal oxide film is easily manufactured.

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。本発明の光ディスクには、基板上
に反射層が設けられた構造を有し、光によって情報を記
録しうるもの、記録された情報を光によって読み取りう
るもの、光によって記録を消去しあるいは書き換えうる
もの等を包含する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The optical disc of the present invention has a structure in which a reflective layer is provided on a substrate, and can record information by light, can read recorded information by light, can erase or rewrite recording by light. And the like.

【００１４】光ディスクの具体例としては、記録層とし
て色素薄膜を有する記録可能な光ディスク（ＣＤ−
Ｒ）、基板上に形成されたピットにより情報が記録さ
れ、光により記録された情報を読み取ることが可能なコ
ンパクトディスク（ＣＤ）、その他記録の消去および書
き換えが可能な光磁気ディスク（ＭＤまたはＭＯ）、相
変化型光ディスク（ＰＤ、ＣＤ−Ｅ）等を挙げることが
できるが、本発明に係る反射膜は特にＣＤ−Ｒに有用な
ので、以下ＣＤ−Ｒを例示して本発明を説明する。As a specific example of an optical disk, a recordable optical disk (CD-
R), a compact disk (CD) in which information is recorded by pits formed on the substrate and the information recorded by light is readable, and a magneto-optical disk (MD or MO) in which recording can be erased and rewritten. ), Phase-change type optical disks (PD, CD-E), etc., but the reflective film according to the present invention is particularly useful for CD-R.

【００１５】図１は、ＣＤ−Ｒの半径方向の模式断面図
である。このＣＤ−Ｒ１は、情報の記録および再生時に
使用する光に対して透明な基板２上に、色素薄膜からな
る記録層３、Ｉｎ−Ａｇ金属酸化膜５とＩｎ−Ａｇ金属
薄膜６とからなる反射層４、および樹脂製の保護層７を
順次積層して形成されている。基板２を形成する材料と
しては、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等
のプラスチック、およびガラス等を挙げることができ
る。なかでも、価格、強度、加工の容易さ等の点でポリ
カーボネートが好ましい。基板２の厚さは通常、1.2mm
である。この基板２の板面には、情報の記録および再生
用のレーザ光を照射するガイドとして作用する案内溝８
が螺旋状に設けられている。FIG. 1 is a schematic sectional view of a CD-R in the radial direction. This CD-R 1 comprises a recording layer 3 made of a dye thin film, an In-Ag metal oxide film 5 and an In-Ag metal thin film 6 on a substrate 2 transparent to light used for recording and reproducing information. The reflective layer 4 and the protective layer 7 made of resin are sequentially laminated. Examples of the material for forming the substrate 2 include plastics such as polycarbonate and polymethyl methacrylate, and glass. Among them, polycarbonate is preferable in terms of price, strength, ease of processing, and the like. The thickness of the substrate 2 is usually 1.2 mm
It is. A guide groove 8 acting as a guide for irradiating a laser beam for recording and reproducing information is formed on the surface of the substrate 2.
Are provided spirally.

【００１６】記録層３を形成する色素薄膜の色素として
は、光、例えばレーザのエネルギを吸収して光学的性質
が変化するものであれば、特に制限されない。具体的に
は、有機色素であるシアニン系色素、スクアリリウム系
色素、クロコニウム系色素、アズレニウム系色素、トリ
アリールアミン系色素、アントラキノン系色素、含金属
アゾ系色素、ジチオール金属錯塩系色素、インドアニリ
ン金属錯体系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシ
アニン系色素、分子間ＣＴコンプレックス系色素等が好
ましく用いられる。また、これらの色素は単独であるい
は併用して用いることができる。また、色素薄膜には、
酸化防止剤、バインダー等を添加することができる。The dye of the dye thin film forming the recording layer 3 is not particularly limited as long as it absorbs light, for example, laser energy and changes its optical properties. Specifically, cyanine dyes, squarylium dyes, croconium dyes, azurenium dyes, triarylamine dyes, anthraquinone dyes, metal-containing azo dyes, dithiol metal complex salt dyes, indoaniline metal which are organic dyes Complex dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, and intermolecular CT complex dyes are preferably used. These dyes can be used alone or in combination. In addition, the dye film
An antioxidant, a binder and the like can be added.

【００１７】有機色素を含有する記録層３の形成方法と
しては、有機色素を有機溶媒に溶解して、透明な基板２
上にスピンコートする方法が好ましく用いられるが、フ
タロシアニン系色素のように昇華性を有する色素につい
ては蒸着法を用いることもできる。記録層３の色素薄膜
の膜厚は、レーザ等の記録するために用いられる光のエ
ネルギに対する記録感度、性能係数等を考慮して、使用
する波長、反射層４の光学物性および色素薄膜の材質等
に応じて適宜選択され、通常、120 〜150nm の範囲であ
る。As a method for forming the recording layer 3 containing an organic dye, the organic dye is dissolved in an organic solvent and the transparent substrate 2
A method of spin-coating is preferably used, but for a dye having a sublimation property such as a phthalocyanine dye, an evaporation method can also be used. The thickness of the dye thin film of the recording layer 3 is determined by taking into consideration the recording sensitivity to light energy used for recording such as a laser, the coefficient of performance, etc. It is appropriately selected according to the conditions, and is usually in the range of 120 to 150 nm.

【００１８】反射層４は、Ｉｎ−Ａｇ金属酸化膜５とＩ
ｎ−Ａｇ金属薄膜６とを順次積層して形成される。この
うち、Ｉｎ−Ａｇ金属薄膜６は、Ｉｎを0.1 〜20原子
％、Ａｇを80〜99.9原子％含有する組成の薄膜、好まし
くはＩｎを１〜18原子％、Ａｇを82〜99原子％含有する
組成の薄膜からなる。そして、Ｉｎ−Ａｇ金属酸化膜５
は、Ｉｎ−Ａｇ金属薄膜６と同組成の金属の酸化膜にす
れば、例えば、蒸着法を用い、酸素存在下でＩｎ−Ａｇ
金属酸化膜５を形成した後に、連続してＩｎ−Ａｇ金属
薄膜６を形成することが容易にできる。The reflection layer 4 is composed of an In-Ag metal oxide film 5 and
It is formed by sequentially laminating the n-Ag metal thin film 6. Among these, the In-Ag metal thin film 6 is a thin film having a composition containing 0.1 to 20 atomic% of In and 80 to 99.9 atomic% of Ag, preferably containing 1 to 18 atomic% of In and 82 to 99 atomic% of Ag. It consists of a thin film having the following composition. Then, the In-Ag metal oxide film 5
If an oxide film of a metal having the same composition as the In-Ag metal thin film 6 is used, for example, the In-Ag
After the metal oxide film 5 is formed, the In-Ag metal thin film 6 can be easily formed continuously.

【００１９】反射層４を構成する薄膜の組成は重要であ
り、上記範囲の組成において優れた反射率と共に優れた
耐蝕性の反射層が得られる。Ｉｎの含有量が0.1 原子％
未満の場合あるいはＡｇが99.9原子％を超える場合には
耐蝕性に劣り、経時変化によって反射率が低下し、ＣＤ
−Ｒ読み取り時のエラー発生が増加する。また、Ｉｎ含
有量が20原子％を越える場合あるいはＡｇが80原子％未
満の場合には、作製当初から反射率が低い。The composition of the thin film constituting the reflective layer 4 is important, and a composition in the above range can provide a reflective layer having excellent reflectance and corrosion resistance. In content 0.1 atomic%
If it is less than 9% or Ag exceeds 99.9 atomic%, the corrosion resistance is inferior, and the reflectance decreases with the lapse of time.
-The occurrence of errors during R reading increases. When the In content exceeds 20 atomic% or when Ag is less than 80 atomic%, the reflectance is low from the beginning of the production.

【００２０】また、上記金属薄膜６の組成は、ＩｎとＡ
ｇの含有量の合計量が99.5原子％以上であることが好ま
しい。換言すれば、該薄膜は、ＩｎとＡｇ以外の元素
（Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｖ、お
よびＷ等）を本発明の目的を損なわない範囲で含むこと
ができるが、ＩｎおよびＡｇ以外の元素の合計含有量が
0.5 原子％以下であることが好ましい。The composition of the metal thin film 6 is In and A
It is preferable that the total amount of g is 99.5 atomic% or more. In other words, the thin film can contain elements other than In and Ag (Rh, Pd, Pt, Ti, Mo, Ta, Zr, V, W, etc.) as long as the object of the present invention is not impaired. , In and Ag have a total content of elements other than
It is preferably at most 0.5 atomic%.

【００２１】反射層４を構成する薄膜は、ＩｎとＡｇと
は合金の形態、混合物の形態、あるいはＩｎ薄膜とＡｇ
薄膜とが積層された形態のいずれでもよい。また、それ
らを合併した形態でもよい。また、上記反射層４は、上
記記録層３の色素薄膜上に直接または他の膜を介して、
スパッタリング法、蒸着法等により形成することができ
る。反射率と製造コストとを考慮し、反射層４の膜厚は
合計で50〜150nm とするのが好ましい。The thin film constituting the reflection layer 4 may be made of an alloy of In and Ag, a mixture of them, or a thin film of In and Ag.
Any of the forms in which a thin film and a thin film are stacked may be used. Also, a form in which they are merged may be used. Further, the reflection layer 4 is formed on the dye thin film of the recording layer 3 directly or through another film.
It can be formed by a sputtering method, an evaporation method, or the like. In consideration of the reflectance and the manufacturing cost, the total thickness of the reflective layer 4 is preferably set to 50 to 150 nm.

【００２２】この反射層４上に形成する保護層７として
はアクリル系の紫外線効果樹脂等の硬質性の材料を用い
るのが好適である。通常、反射層上にスピンコート法に
より厚み２〜20μm に塗布した後、紫外線照射により硬
化させて形成することができる。次に、具体的な実験デ
ータを示して、本発明の光ディスクの性能を検証する。 （１）試料および比較試料の作製 〔試料〕透明な基板として、記録可能コンパクトディス
ク（ＣＤ−Ｒ）用に、周期的に蛇行した案内溝を螺旋状
に設けた、直径120mm 、厚さ1.2mm のポリカーボネート
基板を用いた。As the protective layer 7 formed on the reflective layer 4, it is preferable to use a hard material such as an acrylic ultraviolet effect resin. Usually, it can be formed by applying a coating having a thickness of 2 to 20 μm on the reflective layer by a spin coating method, and then curing the coating by irradiation with ultraviolet rays. Next, specific experimental data will be shown to verify the performance of the optical disk of the present invention. (1) Preparation of Samples and Comparative Samples [Sample] A 120 mm diameter, 1.2 mm thick transparent substrate is provided with a periodically meandering guide groove for a recordable compact disc (CD-R). Was used.

【００２３】記録層は、下記構造式（１）で示されるシ
アニン色素をメチルセルソルブ溶媒に、2.2 重量％（対
溶媒重量％）溶解し、濾過した後、上記基板上にスピン
コート法により塗布した。塗布後、色素薄膜中の溶媒を
完全に蒸発させるために、80℃のオーブン中で10分間乾
燥を行い、色素薄膜を形成した。色素薄膜の膜厚は、反
射率を考慮して120nm とした。The recording layer is prepared by dissolving a cyanine dye represented by the following structural formula (1) in a methylcellosolve solvent in an amount of 2.2% by weight (based on the weight of the solvent), filtering, and coating the substrate with the spin coat method. did. After the application, drying was performed in an oven at 80 ° C. for 10 minutes to completely evaporate the solvent in the dye thin film, thereby forming a dye thin film. The thickness of the dye thin film was set to 120 nm in consideration of the reflectance.

【００２４】[0024]

【化１】 Embedded image

【００２５】次いで、蒸着装置のチャンバ内に酸素とＡ
ｒとを供給しながら、記録層としての色素薄膜上にＩｎ
−Ａｇ金属酸化膜を蒸着した。具体的には、チャンバ内
の真空度を７×10^-6Torrにした後、Ａｒと酸素との割合
が８対２の混合気を供給して４×10^-5Torrの真空度を保
ち、成膜後の膜のＩｎとＡｇとの比率（原子％）が14対
86になるように２元蒸着により、膜厚 8.5nmのＩｎ−Ａ
ｇ金属酸化膜を形成した。Next, oxygen and A are introduced into the chamber of the vapor deposition apparatus.
r, while supplying In on the dye thin film as a recording layer.
-Ag metal oxide film was deposited. Specifically, after setting the degree of vacuum in the chamber to 7 × 10 ⁻⁶ Torr, a mixture of Ar and oxygen at a ratio of 8: 2 is supplied to maintain a degree of vacuum of 4 × 10 ⁻⁵ Torr, The ratio (atomic%) of In and Ag of the film after film formation is 14:
In-A with a thickness of 8.5 nm by binary evaporation to 86
g A metal oxide film was formed.

【００２６】続いて、混合気の酸素の割合が 0.1％以下
になるまでＡｒを流したところ、チャンバ内の真空度は
８×10^-5Torrになった。この状態を５分間保持して酸素
の割合をさらに低下させた後、Ａｒの供給を止めた。そ
して、チャンバ内の真空度が１×10^-5Torrに達してか
ら、上述した金属酸化膜を形成したときと同じソースを
用い、２元蒸着により膜厚90nmのＩｎ−Ａｇ金属薄膜を
形成した。Subsequently, when Ar was flowed until the proportion of oxygen in the mixture became 0.1% or less, the degree of vacuum in the chamber became 8 × 10 ⁻⁵ Torr. After maintaining this state for 5 minutes to further reduce the ratio of oxygen, the supply of Ar was stopped. Then, after the degree of vacuum in the chamber reached 1 × 10 ⁻⁵ Torr, a 90 nm-thick In—Ag metal thin film was formed by binary deposition using the same source as that used to form the above-described metal oxide film. .

【００２７】さらに、このようにして形成されたＩｎ−
Ａｇ金属酸化膜とＩｎ−Ａｇ金属薄膜とからなる反射層
上に、紫外線硬化性樹脂 SD-1700（大日本インキ化学社
製）をスピンコート法により３μm の厚さに塗布した。
そして、紫外線照射装置で紫外線を照射して硬化させる
ことにより保護層を形成して、ＣＤ−Ｒを作製した。こ
のＣＤ−Ｒに、光ディスク評価装置ＤＤＵ−１０００
（パルステック社製）を用いてＥＦＭ信号の記録を行
い、試料１とした。Further, the thus formed In-
An ultraviolet curable resin SD-1700 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was applied to a thickness of 3 μm on a reflective layer composed of an Ag metal oxide film and an In-Ag metal thin film by spin coating.
Then, the protective layer was formed by irradiating and curing an ultraviolet ray with an ultraviolet ray irradiating apparatus, thereby producing a CD-R. An optical disk evaluation device DDU-1000 is added to this CD-R.
The EFM signal was recorded using (manufactured by Pulstec Co., Ltd.) to obtain Sample 1.

【００２８】次に、試料１の製造条件に準じて、成膜後
の膜のＩｎとＡｇとの比率（原子％）が６対94となるよ
うにして試料２を作製した。 〔比較試料〕本発明の光ディスクと比較するために、比
較試料を作成した。まず、反射層を厚さ 100nmのＩｎ−
Ａｇ金属薄膜のみで形成した他は試料１と同様の条件で
作製したものを、比較試料１とした。Next, Sample 2 was manufactured according to the manufacturing conditions of Sample 1 such that the ratio (atomic%) of In and Ag of the formed film was 6:94. [Comparative Sample] A comparative sample was prepared for comparison with the optical disk of the present invention. First, a reflective layer was formed of a 100 nm thick In-
A sample manufactured under the same conditions as Sample 1 except that the sample was formed using only the Ag metal thin film was used as Comparative Sample 1.

【００２９】次に、比較試料１の製造条件に準じて、成
膜後の膜のＩｎとＡｇとの比率（原子％）が６対94とな
るようにして比較試料２を作製した。さらに、反射層を
厚さ 100nmのＡｇ薄膜のみで形成した他は試料１と同様
の条件で作製したものを、比較試料３とした。 （２）評価 上述のようにして作製した試料および比較試料につい
て、600 時間の高温高湿試験（温度85℃、湿度85％RH）
の前後における、反射率およびＣ1 エラー（１秒当たり
の平均エラー発生個数）の変化を調べた。結果を表１に
示す。Next, Comparative Sample 2 was prepared according to the manufacturing conditions of Comparative Sample 1 such that the ratio (atomic%) of In and Ag of the formed film was 6:94. Further, Comparative Sample 3 was prepared under the same conditions as Sample 1 except that the reflective layer was formed only of a 100-nm-thick Ag thin film. (2) Evaluation A 600-hour high-temperature and high-humidity test (temperature 85 ° C, humidity 85% RH) for the sample and the comparative sample prepared as described above.
Before and after the change in reflectance and C1 error (average number of errors per second) were examined. Table 1 shows the results.

【００３０】[0030]

【表１】 [Table 1]

【００３１】作製当初、本発明の試料はいずれも、74％
の高い反射率を有し、高温高湿試験の後もほとんど低下
していない。これに対し、比較試料ではいずれも高温高
湿試験後の反射率が70％を下回っており、劣化が著しい
ことがわかる。このことは、Ｃ１エラーの変化にも反映
されており、本発明の試料では高温高湿試験の前後でほ
とんど変化していないのに対し、比較試料ではいずれも
大きく増加している。Initially, the samples of the present invention were all 74%
, And hardly decreases even after the high temperature and high humidity test. On the other hand, in all the comparative samples, the reflectance after the high-temperature and high-humidity test was less than 70%, indicating that the deterioration was remarkable. This is also reflected in the change in the C1 error. The sample of the present invention hardly changed before and after the high-temperature and high-humidity test, whereas the comparison sample greatly increased in all cases.

【００３２】この実験結果より、本発明の光ディスクの
反射層が、高い反射率と耐蝕性とを併せ持つことは明ら
かである。From the experimental results, it is clear that the reflective layer of the optical disk of the present invention has both high reflectivity and corrosion resistance.

【００３３】[0033]

【発明の効果】以上説明したように、請求項１および請
求項７に係る発明によれば、高反射率の反射層を有する
低コストの光ディスクを得ることができるという効果が
ある。また、耐蝕性にも優れるので、時間の経過に伴う
反射率の低下および読み取りエラー発生が抑制されると
いう効果もある。As described above, according to the first and seventh aspects of the present invention, there is an effect that a low-cost optical disk having a reflective layer having a high reflectance can be obtained. Further, since it is excellent in corrosion resistance, there is also an effect that a decrease in reflectance with the passage of time and occurrence of a reading error are suppressed.

【００３４】また、請求項２および請求項８に係る発明
によれば、ＣＤ−Ｒの規格を満たす十分に高い反射率の
光ディスクを得ることができ、情報の読み取り時におい
て高い出力が得られるため、エラーの発生を抑制するこ
とができるという効果がある。このことによって、光デ
ィスクを設計する上で、例えばＣＤ−Ｒの場合、色素の
選択の幅が広がるという利点もある。According to the second and eighth aspects of the present invention, it is possible to obtain an optical disk having a sufficiently high reflectance that satisfies the CD-R standard, and to obtain a high output when reading information. This has the effect of suppressing the occurrence of errors. Thus, when designing an optical disc, for example, in the case of a CD-R, there is also an advantage that the range of choice of dyes is widened.

【００３５】また、請求項３に係る発明によれば、例え
ば蒸着法を用いる場合、同じ蒸着ソースを用い、連続し
て金属酸化膜と金属薄膜とを形成することができ、工程
を簡素にして、安価な光ディスクを得ることができると
いう効果がある。また、請求項４〜請求項６に係る発明
によれば、確実に高い反射率と耐蝕性とを得ることがで
き、均質な製品を安定して供給することができるという
効果がある。According to the third aspect of the present invention, for example, when using a vapor deposition method, a metal oxide film and a metal thin film can be continuously formed using the same vapor deposition source, and the process is simplified. Thus, there is an effect that an inexpensive optical disk can be obtained. Further, according to the inventions according to claims 4 to 6, it is possible to reliably obtain high reflectance and corrosion resistance, and to provide an effect of stably supplying a homogeneous product.

【００３６】また、請求項９に係る発明によれば、反射
層の金属酸化膜を、簡単な工程で安価に形成することが
できるという効果がある。According to the ninth aspect of the present invention, there is an effect that the metal oxide film of the reflection layer can be formed in a simple process at a low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 本発明の光ディスクの一態様を示す模式断面
図FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of an optical disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 光ディスク（ＣＤ−Ｒ） ２ 基板 ３ 記録層 ４ 反射層 ５ 金属酸化膜 ６ 金属薄膜 ７ 保護層 ８ 溝 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical disk (CD-R) 2 Substrate 3 Recording layer 4 Reflection layer 5 Metal oxide film 6 Metal thin film 7 Protective layer 8 Groove

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】円板状の透明な基板と、 該基板上に、ＩｎとＡｇとを含む金属酸化膜と、Ｉｎと
Ａｇとを含む金属薄膜とを、順次積層した反射層と、 を含んで構成されることを特徴とする光ディスク。1. A disk-shaped transparent substrate, a reflective layer formed by sequentially laminating a metal oxide film containing In and Ag and a metal thin film containing In and Ag on the substrate. An optical disc, comprising: 【請求項２】前記基板と前記反射層との間に、色素薄膜
からなる記録層を設けたことを特徴とする請求項１に記
載の光ディスク。2. The optical disk according to claim 1, wherein a recording layer made of a dye thin film is provided between said substrate and said reflection layer. 【請求項３】前記金属酸化膜は、前記金属薄膜と同組成
の金属の酸化膜であることを特徴とする請求項１または
請求項２に記載の光ディスク。3. The optical disk according to claim 1, wherein the metal oxide film is a metal oxide film having the same composition as the metal thin film. 【請求項４】前記金属薄膜は、0.1 〜20原子％のＩｎお
よび80〜99.9原子％のＡｇを含んで構成されることを特
徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載の光
ディスク。4. The metal thin film according to claim 1, wherein said metal thin film contains 0.1-20 atomic% of In and 80-99.9 atomic% of Ag. Optical disk. 【請求項５】前記金属薄膜は、１〜18原子％のＩｎおよ
び72〜99原子％のＡｇを含んで構成されることを特徴と
する請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載の光ディ
スク。5. The metal thin film according to claim 1, wherein the metal thin film contains 1 to 18 atomic% of In and 72 to 99 atomic% of Ag. Optical disk. 【請求項６】前記金属薄膜は、ＩｎとＡｇとの合計含有
量が99.5原子％以上であることを特徴とする請求項１〜
請求項５のいずれか１つに記載の光ディスク。6. The metal thin film according to claim 1, wherein the total content of In and Ag is 99.5 atomic% or more.
The optical disc according to claim 5. 【請求項７】円板状の透明な基板上に、少なくとも、Ｉ
ｎとＡｇとを含む金属酸化膜と、ＩｎとＡｇとを含む金
属薄膜とを、順次積層して反射層を形成することを特徴
とする光ディスクの製造方法。7. At least I
A method for manufacturing an optical disk, comprising sequentially laminating a metal oxide film containing n and Ag and a metal thin film containing In and Ag to form a reflective layer. 【請求項８】前記基板上に色素薄膜からなる記録層を積
層した後に、前記反射層を積層することを特徴とする請
求項７に記載の光ディスクの製造方法。8. The method for manufacturing an optical disk according to claim 7, wherein the reflective layer is laminated after a recording layer made of a dye thin film is laminated on the substrate. 【請求項９】前記金属酸化膜は、酸素を含む雰囲気中で
蒸着法により形成することを特徴とする請求項７または
請求項８に記載の光ディスクの製造方法。9. The method according to claim 7, wherein the metal oxide film is formed by an evaporation method in an atmosphere containing oxygen.