JPH10186124A - Resist composition for color filter and color filter - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To stably produce color filters having high developability, definition and adhesion property and excellent reliability and image reproducibility at a low cost, to embody good color reproduction regions and to enable the use in the application fields, such as CRTs and wall hanging televisions, not possible with the conventional liquid crystal display elements. SOLUTION: If this compsn. is constituted to contain resins, monomers cured by the effect of photopolymn. initiators, the photopolymn. initiators, pigments and solvents as the compsn. for forming red, green or blue pixels, the coating films formed by this compsn. are provided with the following CIE standard values in a range of film thicknesses from 0.5 to 2μm: Red: x=0.50 to 0.60, y=0.30 to 0.38, Y=22 to 36, green: x=0.20 to 0.40, y=0.45 to 0.58, Y=40 to 75, blue: x=0.10 to 0.20, y=0.10 to 0.20, Y=15 to 22.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶の表示装置ま
たは固体撮像素子と組み合わせて用いるカラーフィルタ
ーの製造に用いるレジスト組成物及びカラーフィルター
に関する。より詳しくは、赤、緑、青等の着色画像形成
に有用なカラーレジスト組成物に関する。また、このレ
ジスト組成物を用いたカラーフィルターに関する。The present invention relates to a resist composition and a color filter used for producing a color filter used in combination with a liquid crystal display device or a solid-state image sensor. More specifically, the present invention relates to a color resist composition useful for forming a colored image such as red, green, and blue. The invention also relates to a color filter using the resist composition.

【０００２】[0002]

【従来の技術】カラーフィルターは染色法、印刷法、電
着法、顔料分散法などによりガラス基板上に赤、緑、
青、などの微細な画素を形成したものである。これら公
知の方法については以下のような特徴、問題点を有す
る。染色法によるカラーフィルターはゼラチンやポリビ
ニルアルコールなどに感光剤として重クロム酸塩を混合
した感光性樹脂により画像を形成した後、染色して製造
される。多色を同一基板に形成するためには、防染工程
が必須であり、工程が複雑になる問題点がある。また、
染料を使用しているため耐光性が劣る。感光剤として用
いる重クロム酸は公害防止の観点からも問題である。印
刷法によるカラーフィルターはスクリーン印刷またはフ
レキソ印刷などの方法で、熱硬化または光硬化インキを
ガラス基板に転写させる。画像形成、染色が不要である
ため工程が簡略である反面、高精細な画像が得られず、
インキの平滑性にも問題がある。電着法によるカラーフ
ィルターは、顔料または染料を含んだ浴に電極をもうけ
たガラス基板を浸し電気泳動により色相を付着させるも
のである。平滑性に優れるが、あらかじめ、ガラス基板
に電極が必要なため、複雑なパターンを形成させるのが
困難である。顔料分散法は光硬化性樹脂に顔料を分散さ
せたカラーレジストにより画像を形成する。高耐熱性、
染色がいらないなどの利点があり、また、高精度な画像
形成が可能である。品質、製造コストの点から上記製造
法に比較し顔料分散法は優れ、現在カラーフィルター製
造の主流となっている。2. Description of the Related Art A color filter is formed on a glass substrate by a dyeing method, a printing method, an electrodeposition method, a pigment dispersion method, or the like.
This is one in which fine pixels such as blue are formed. These known methods have the following features and problems. A color filter by a dyeing method is manufactured by forming an image with a photosensitive resin obtained by mixing a dichromate as a photosensitive agent in gelatin, polyvinyl alcohol, or the like, and then dyeing the resultant. In order to form multiple colors on the same substrate, an anti-staining process is indispensable, and there is a problem that the process becomes complicated. Also,
Light resistance is poor due to the use of dyes. Bichromic acid used as a photosensitive agent is also a problem from the viewpoint of preventing pollution. A color filter formed by a printing method transfers thermosetting or photocurable ink to a glass substrate by a method such as screen printing or flexographic printing. The process is simple because image formation and dyeing are unnecessary, but high-definition images cannot be obtained.
There is also a problem with the smoothness of the ink. A color filter by an electrodeposition method is a method in which a glass substrate provided with electrodes is immersed in a bath containing a pigment or a dye, and a color is attached by electrophoresis. Although excellent in smoothness, it is difficult to form a complicated pattern because an electrode is required on the glass substrate in advance. In the pigment dispersion method, an image is formed using a color resist in which a pigment is dispersed in a photocurable resin. High heat resistance,
There are advantages such as no need for dyeing, and high-precision image formation is possible. The pigment dispersion method is superior to the above-mentioned production methods in terms of quality and production cost, and is currently the mainstream of color filter production.

【０００３】カラー液晶ディスプレーは薄型、軽量、低
電力である特徴を有することから年々応用範囲を広げ、
現在ＣＲＴ代替や壁掛けテレビなども視野にいれ開発が
進められている。このような用途に適合したカラーフィ
ルターは従来よりも色再現領域を広げる必要があり、ま
た同時に光透過性、つまり明るさの向上も求められてい
る。従来のカラーレジストでは感度、解像性、密着性、
現像性などの制約から上記用途に適するカラーフィルタ
ーを顔料分散法で作ることは著しく困難であった。[0003] The color liquid crystal display is characterized by being thin, light and low power, so its application range is expanded year by year.
At present, the development of alternatives to CRTs and wall-mounted televisions is being pursued in view. A color filter suitable for such an application needs to have a wider color reproduction area than before, and at the same time, is required to have improved light transmittance, that is, improved brightness. With conventional color resists, sensitivity, resolution, adhesion,
It was extremely difficult to produce a color filter suitable for the above application by a pigment dispersion method due to restrictions such as developability.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は光透過性、色
再現性に優れたカラーレジスト組成物を提供することに
より、顔料分散法で高品質、低コストで高表示品位のカ
ラーフィルターを実現することを目的とするものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a color resist composition excellent in light transmittance and color reproducibility, thereby realizing a color filter of high quality, low cost and high display quality by a pigment dispersion method. It is intended to do so.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意研究
を進めた結果、特定の範囲の膜厚で特定の範囲の色相、
彩度、明度を有する架橋型のカラーレジスト組成物が感
度、解像性、密着性、現像性を損なうこと無く、カラー
フィルターに必要な色再現性、光透過性を有することを
見いだし本発明分を完成するに至った。すなわち、本発
明は、樹脂、光重合開始剤の作用により硬化するモノマ
ー、光重合開始剤、顔料及び溶剤を含むレジスト組成物
であって、該レジスト組成物により形成される塗布膜が
０．５〜２μｍの膜厚の範囲で下記のＣＩＥ標色値を有
することを特徴とする赤、緑又は青色画素形成用カラー
フィルター用レジスト組成物及びかかるカラーフィルタ
ー用レジスト組成物により形成されてなる着色画素を有
するカラーフィルターに存する。 赤：ｘ＝０．５０〜０．６０、ｙ＝０．３０〜０．３
８、Ｙ＝２２〜３６ 緑：ｘ＝０．２０〜０．４０、ｙ＝０．４５〜０．５
８、Ｙ＝４０〜７５ 青：ｘ＝０．１０〜０．２０、ｙ＝０．１０〜０．２
０、Ｙ＝１５〜２２Means for Solving the Problems As a result of intensive studies, the present inventors have found that a specific range of hue,
It has been found that a crosslinked color resist composition having chroma and lightness has color reproducibility and light transmittance required for a color filter without impairing sensitivity, resolution, adhesion, and developability. Was completed. That is, the present invention relates to a resist composition containing a resin, a monomer which is cured by the action of a photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator, a pigment and a solvent, wherein a coating film formed by the resist composition is 0.5%. A resist composition for a color filter for forming a red, green or blue pixel, and a colored pixel formed by the resist composition for a color filter, characterized in that the film has the following CIE standard value within a thickness range of 2 μm: A color filter having Red: x = 0.50 to 0.60, y = 0.30 to 0.3
8, Y = 22 to 36 green: x = 0.20 to 0.40, y = 0.45 to 0.5
8, Y = 40-75 Blue: x = 0.10-0.20, y = 0.10-0.2
0, Y = 15-22

【０００６】[0006]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明組成物に使用される（ａ）樹脂、（ｂ）光重合開
始剤の作用により硬化するモノマー及び（ｃ）光重合開
始剤は一般にこの種レジストに使用される広い範囲から
選ぶことができる。 （ａ）樹脂としては塗膜形成能を有する高分子化合物で
あれば特に制限は無く、具体的な例としては例えば下記
の化合物が挙げられる。 １）ポリオレフィン系ポリマー ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン等 ２）ジエン系ポリマー ポリブタジエン、ポリイソプレン等 ３）共役ポリエン構造を有するポリマー ポリアセチレン系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー
等 ４）ビニルポリマー ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、酢酸ビニル、ポリビニ
ルアルコール、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリ
ビニルフェノール等 ５）ポリエーテル ポリフェニレンエーテル、ポリオキシラン、ポリオキセ
タン、ポリテトラヒドロフラン、ポリエーテルケトン、
ポリエーテルエーテルケトン、ポリアセタール等 ６）フェノール樹脂 ノボラック樹脂、レゾール樹脂等 ７）ポリエスエル ポリエチレンテレフタレート、ポリフェノールフタレイ
ンテレフタレート、ポリカーボネート、アルキッド樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂等 ８）ポリアミド ナイロン−６、ナイロン６６、水溶性ナイロン、ポリフ
ェニレンアミド等 ９）ポリペプチド ゼラチン、カゼイン等 １０）エポキシ樹脂及びその変性物 ノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールエポキシ樹
脂、ノボラックエポキシアクリレート及び酸無水物によ
る変性樹脂等 １１）その他 ポリウレタン、ポリイミド、メラミン樹脂、尿素樹脂、
ポリイミダゾール、ポリオキサゾール、ポリピロール、
ポリアニリン、ポリスルフィド、ポリスルホン、セルロ
ース類等BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The resin (a), the monomer (b) which is cured by the action of a photopolymerization initiator, and the photopolymerization initiator (c) used in the composition of the present invention can be selected from a wide range generally used for this type of resist. . (A) The resin is not particularly limited as long as it is a polymer compound having a coating film forming ability, and specific examples include the following compounds. 1) Polyolefin-based polymer Polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, etc. 2) Diene-based polymer Polybutadiene, polyisoprene, etc. 3) Polymer having conjugated polyene structure Polyacetylene-based polymer, polyphenylene-based polymer, etc. 4) Vinyl polymer polyvinyl chloride, polystyrene, vinyl acetate , Polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyacrylamide, polyacrylonitrile, polyvinyl phenol, etc. 5) polyether polyphenylene ether, polyoxirane, polyoxetane, polytetrahydrofuran, polyether ketone,
6) Phenol resin, novolak resin, resol resin, etc. 7) Polyester polyethylene terephthalate, polyphenolphthalein terephthalate, polycarbonate, alkyd resin, unsaturated polyester resin, etc. 8) Polyamide nylon-6, nylon 66, water-soluble Nylon, polyphenylene amide, etc. 9) Polypeptide gelatin, casein, etc. 10) Epoxy resin and modified products thereof Novolak epoxy resin, bisphenol epoxy resin, modified resin with novolak epoxy acrylate and acid anhydride, etc. 11) Other polyurethane, polyimide, melamine resin, Urea resin,
Polyimidazole, polyoxazole, polypyrrole,
Polyaniline, polysulfide, polysulfone, celluloses, etc.

【０００７】これらの樹脂の中では樹脂側鎖または主鎖
にカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基等を有す
る樹脂を含有するカラーフィルター用レジスト組成物が
アルカリ現像可能なため、公害防止の観点から好まし
い。特にカルボキシル基を有する樹脂、例えば、アクリ
ル酸（共）重合体、スチレン／無水マレイン酸樹脂、ノ
ボラックエポキシアクリレートの酸無水物変性樹脂等は
高アルカリ現像性なので好ましい。さらに、アクリル系
樹脂は現像性に優れているので好ましく、様々なモノマ
ーを選択して種々の共重合体を得ることが可能なため、
性能および製造制御の観点からより好ましい。[0007] Among these resins, a resist composition for a color filter containing a resin having a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group in the resin side chain or main chain can be alkali-developed, and is therefore preferable from the viewpoint of preventing pollution. In particular, a resin having a carboxyl group, for example, an acrylic acid (co) polymer, a styrene / maleic anhydride resin, an acid anhydride-modified resin of novolak epoxy acrylate, and the like are preferable because of high alkali developability. Further, acrylic resins are preferable because of their excellent developability, and various copolymers can be obtained by selecting various monomers.
It is more preferable from the viewpoint of performance and production control.

【０００８】より具体的にはカルボキシル基を含有する
アクリル樹脂は、例えば、（メタ）アクリル酸、（無
水）マレイン酸、クロトン酸、イタコン酸、フマル酸、
などのカルボキシル基を有するモノマーとスチレン、α
−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸メチル、（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、
（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸
ブチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、（メタ）アク
リルアミド、グリシジル（メタ）アクリレート、アリル
グリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、ク
ロトン酸グリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸クロ
ライド、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエ
チル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メタクリ
ロイルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メ
タ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアク
リルアミド、などのコモノマーを共重合させたポリマー
が挙げられる。中でも好ましいのは構成モノマーとして
少なくとも（メタ）アクリル酸あるいは（メタ）アクリ
ル酸アルキルエーテルを含有するアクリル樹脂であり、
さらに好ましくは（メタ）アクリル酸およびスチレンを
含有するアクリル樹脂である。More specifically, acrylic resins containing a carboxyl group include, for example, (meth) acrylic acid, (anhydride) maleic acid, crotonic acid, itaconic acid, fumaric acid,
Monomers having a carboxyl group such as styrene, α
-Methylstyrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate,
Isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, vinyl acetate, acrylonitrile, (meth) acrylamide, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, glycidyl crotonate, (meth) acrylic chloride Benzyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, N-methylolacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, N-methacryloylmorpholine, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl A polymer obtained by copolymerizing a comonomer such as acrylamide is exemplified. Among them, preferred is an acrylic resin containing at least (meth) acrylic acid or (meth) acrylic acid alkyl ether as a constituent monomer,
More preferred is an acrylic resin containing (meth) acrylic acid and styrene.

【０００９】また、これらの樹脂は側鎖にエチレン性二
重結合を付加させることもできる。樹脂側鎖に二重結合
を付与することにより光硬化性が高まるため、解像性、
密着性をさらに向上させることができ好ましい。エチレ
ン性二重結合を導入する合成手段として、例えば、特公
昭５０−３４４４３、特公昭５０−３４４４４などに記
載の方法等が挙げられる。具体的には、カルボキシル基
や水酸基にグリシジル基、エポキシシクロヘキシル基お
よび（メタ）アクリロイル基を併せ持つ化合物やアクリ
ル酸クロライドなどを反応させる方法が挙げられる。例
えば、（メタ）アクリル酸グリシジル、アリルグリシジ
ルエーテル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロト
ニルグリシジルエーテル、（イソ）クロトン酸グリシジ
ルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチ
ル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸クロライ
ド、（メタ）アリルクロライドなどの化合物を使用し、
カルボキシル基や水酸基を有する樹脂に反応させること
により側鎖に重合基を有する樹脂を得ることができる。
特に、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メ
タ）アクリレートのような脂環式エポキシ化合物を反応
させた樹脂が好ましい。[0009] These resins can also have an ethylenic double bond added to the side chain. By giving a double bond to the resin side chain, photocurability is increased, so that resolution,
This is preferable because the adhesion can be further improved. As a synthetic means for introducing an ethylenic double bond, for example, the methods described in JP-B-50-34443, JP-B-50-34444 and the like can be mentioned. Specific examples include a method of reacting a compound having a glycidyl group, an epoxycyclohexyl group, and a (meth) acryloyl group with a carboxyl group or a hydroxyl group, acrylic acid chloride, or the like. For example, glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl α-ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl ether (iso) crotonate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, (meth) Using compounds such as acrylic acid chloride and (meth) allyl chloride,
By reacting with a resin having a carboxyl group or a hydroxyl group, a resin having a polymerizable group in a side chain can be obtained.
In particular, a resin obtained by reacting an alicyclic epoxy compound such as (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate is preferable.

【００１０】なお、本明細書において、「（メタ）アク
リル〜」、「（メタ）アクリレート」等は、「アクリル
〜またはメタクリル〜」、「アクリレートまたはメタク
リレート」等を意味するものとし、例えば「（メタ）ア
クリル酸」は「アクリル酸またはメタクリル酸」を意味
するものとする。これらのアクリル樹脂のＧＰＣで測定
した重量平均分子量の好ましい範囲は１０００〜１０
０，０００である。重量平均分子量が１０００以下であ
ると均一な塗膜をえるのが難しく、また、１００，００
０を超えると現像性が低下する傾向がある。また、カル
ボキシル基の好ましい含有量の範囲は酸価で５〜２００
である。酸価が５以下であるとアルカリ現像液に不溶と
なり、また、２００を超えると感度が低下することがあ
る。In the present specification, "(meth) acryl-", "(meth) acrylate" and the like mean "acryl- or methacryl-", "acrylate or methacrylate" and the like. “Meth) acrylic acid” means “acrylic acid or methacrylic acid”. The preferred range of the weight average molecular weight of these acrylic resins measured by GPC is 1000 to 10
It is 0000. When the weight average molecular weight is less than 1,000, it is difficult to obtain a uniform coating film.
If it exceeds 0, the developability tends to decrease. The preferred range of the content of the carboxyl group is 5 to 200 in terms of acid value.
It is. When the acid value is 5 or less, it becomes insoluble in an alkali developing solution, and when it exceeds 200, the sensitivity may decrease.

【００１１】（ｂ）光重合開始剤の作用により硬化する
モノマーとしては、光重合開始剤の発生するラジカルの
作用によりラジカル重合するモノマーおよび光重合開始
剤から発生する酸の作用で付加縮合するモノマー等公知
のいずれのものも用い得る。前者の代表的例としては、
エチレン性二重結合を有するモノマーが挙げられ、より
具体的には、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアク
リレート、ラウリルアクリレート、セチルアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、イソボニルアクリレート、ベンジルアクリレー
ト、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキシブ
チルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフリルア
クリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリ
レート、メトキシプロピレングリコールアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハ
イドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプロピ
ルハイドロゲンフタレート、２−アクリロイルオキシプ
ロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、モルホリ
ノエチルメタクリレート、トリフルオロエチルアクリレ
ート、トリフルオロエチルメタクリレート、テトラフル
オロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプ
ロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル
（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロドデシルア
クリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ト
リプロピレングリコールジアクリレート、プロピレング
リコールジアクリレート、グリセリンメタクリレートア
クリレート、ビスフェノールＡ，エチレンオキサイド付
加物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロー
ルプロパンエチレンオキサイド付加トリアクリレート、
グリセリンプロピレンオキサイド付加トリアクリレー
ト、トリスアクリロイルオキシエチレンフォスフェー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ノボ
ラックエポキシのアクリル酸変性物、ノボラックエポキ
シのアクリル酸および酸無水物の変性物、Ｎ−ビニルピ
ロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、アクリル化イソ
シアヌレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシ
ペンタアクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポ
リエステルアクリレートなどが挙げられる。これらのモ
ノマーのなかではアクリルモノマー、特に３個以上のエ
チレン性二重結合を有するアクリルモノマーが好まし
い。これらのモノマーは単独または複数組み合わせて使
用される。(B) The monomer which is cured by the action of the photopolymerization initiator includes a monomer which undergoes radical polymerization by the action of a radical generated by the photopolymerization initiator and a monomer which undergoes addition condensation by the action of an acid generated from the photopolymerization initiator. Any known one can be used. As a typical example of the former,
Examples thereof include a monomer having an ethylenic double bond. More specifically, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, lauryl acrylate, cetyl acrylate, stearyl acrylate, cyclohexyl acrylate, isobonyl acrylate, benzyl acrylate, and 2-methoxyethyl acrylate , 3-methoxybutyl acrylate, ethyl carbitol acrylate,
Phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofuryl acrylate, phenoxy polyethylene glycol acrylate, methoxypropylene glycol acrylate,
2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2-acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, 2-acryloyloxypropyl tetrahydrohydrogen phthalate, morpholinoethyl methacrylate, trifluoroethyl acrylate, trifluoroethyl methacrylate , Tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorododecyl acrylate, trimethylsiloxyethyl methacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-
Hexanediol diacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, glycerin methacrylate acrylate, bisphenol A, ethylene oxide adduct diacrylate , Trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-added triacrylate,
Glycerin propylene oxide addition triacrylate, trisacryloyloxyethylene phosphate, dipentaerythritol hexaacrylate, modified acrylic acid of novolak epoxy, modified acrylic acid and anhydride of novolak epoxy, N-vinylpyrrolidone, N-vinylcaprolactam Acrylated isocyanurate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester acrylate and the like. Among these monomers, acrylic monomers, particularly acrylic monomers having three or more ethylenic double bonds are preferred. These monomers are used alone or in combination.

【００１２】一方、光重合開始剤から発生する酸の作用
で付加縮合するモノマーとしては、メラミン、ベンゾグ
アナミン、グリコールウリルもしくは尿素にホルムアル
デヒドを作用させた化合物またはそれらのアルキル変性
化合物、エポキシ化合物およびレゾール化合物等の架橋
作用を有する化合物が挙げられる。具体的には、三井サ
イアナミド社のサイメル（登録商標）３００、３０１、
３０３、３５０、７３６、７３８、３７０、７７１、３
２５、３２７、７０３、７０１、２６６、２６７、２８
５、２３２、２３５、２３８、１１４１、２７２、２５
４、２０２、１１５６、１１５８は、メラミンにホルム
アルデヒドを作用させた化合物またはそのアルキル変性
物の例である。サイメル（登録商標）１１２３、１１２
５、１１２８は、ベンゾグアナミンにホルムアルデヒド
を作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。サイメル（登録商標）１１７０、１１７１、１１７
４、１１７２はグリコールウリルにホルムアルデヒドを
作用させた化合物またはそのアルキル変性物の例であ
る。尿素にホルムアルデヒドを作用させた化合物または
そのアルキル変性物の例として三井サイアナミド社のＵ
ＦＲ（登録商標）６５、３００を挙げることができる。On the other hand, as a monomer which is addition-condensed by the action of an acid generated from a photopolymerization initiator, a compound obtained by reacting melamine, benzoguanamine, glycoluril or urea with formaldehyde or an alkyl-modified compound thereof, an epoxy compound and a resol compound And other compounds having a cross-linking action. Specifically, Cymel (registered trademark) 300, 301 of Mitsui Cyanamid Co., Ltd.
303, 350, 736, 738, 370, 771, 3
25, 327, 703, 701, 266, 267, 28
5,232,235,238,1141,272,25
4, 202, 1156, 1158 are examples of a compound obtained by reacting melamine with formaldehyde or an alkyl-modified product thereof. Cymel (registered trademark) 1123, 112
5, 1128 are examples of a compound obtained by reacting formaldehyde with benzoguanamine or an alkyl-modified product thereof. Cymel (registered trademark) 1170, 1171, 117
No. 4,1172 is an example of a compound obtained by reacting glycoluril with formaldehyde or an alkyl-modified product thereof. Examples of a compound obtained by reacting urea with formaldehyde or an alkyl-modified product thereof include U.S.A.
FR (registered trademark) 65, 300 can be mentioned.

【００１３】エポキシ化合物の例として、トリグリシジ
ルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、アリルグ
リシジルエーテル、エチルヘキシルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、フェノールグリシジ
ルエーテル、ラウリルアルコールグリシジルエーテル、
アジピン酸グリシジルエーテル、フタル酸グリシジルエ
ーテル、ジブロモフェニルグリシジルエーテル、ジブロ
モネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、グリ
シジルフタルイミド、（ポリ）エチレングリコールグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、グリセリンポリグリシジルエーテル、トリメチロ
ールプロパンポリグリシジルエーテル、ブチルグリシジ
ルエーテル等を挙げることができる。Examples of epoxy compounds include triglycidyl trishydroxyethyl isocyanurate, allyl glycidyl ether, ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, phenol glycidyl ether, lauryl alcohol glycidyl ether,
Glycidyl adipate, glycidyl phthalate, dibromophenyl glycidyl ether, dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, glycidyl phthalimide, (poly) ethylene glycol glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, glycerin polyglycidyl Examples thereof include ether, trimethylolpropane polyglycidyl ether, and butyl glycidyl ether.

【００１４】この中で特に好ましい化合物として、分子
中に−Ｎ（ＣＨ₂ ＯＲ）₂ 基を有する化合物（式中、Ｒ
は水素原子またはアルキル基を示す）が挙げられる。詳
しくは、尿素あるいはメラミンにホルムアルデヒドを作
用させた化合物またはそのアルキル変性物が特に好まし
い。レゾール化合物の例として、群栄化学社製のＰＰ−
３０００ｓ、ＰＰ−３０００Ａ、ＲＰ−２９７８、ＳＰ
−１９７４、ＳＰ−１９７５、ＳＰ−１９７６、ＳＰ−
１９７７、ＲＰ−３９７３等が挙げられる。これらのバ
インダー樹脂およびモノマーの中では、カラーフィルタ
ー用レジスト組成物がアルカリ現像可能である点に於て
特に前記のカルボキシル基を含有するアクリル樹脂とア
クリルモノマーとの組合せが最も好ましい。Among them, a compound having a —N (CH ₂ OR) ₂ group in the molecule (wherein R is
Represents a hydrogen atom or an alkyl group). Specifically, a compound obtained by reacting urea or melamine with formaldehyde or an alkyl-modified product thereof is particularly preferred. Examples of resole compounds include PP- manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.
3000s, PP-3000A, RP-2978, SP
-1974, SP-1975, SP-1976, SP-
1977, RP-3993 and the like. Among these binder resins and monomers, the combination of the above-mentioned carboxyl group-containing acrylic resin and acrylic monomer is most preferable in that the resist composition for a color filter can be alkali-developed.

【００１５】（ｃ）光重合開始剤としては、公知のいず
れのものも用いることができ、紫外線によりエチレン性
不飽和基を重合させるラジカルを発生させることのでき
る化合物および紫外線により酸を発生させる化合物が挙
げられる。具体的には２−（４−メトキシフェニル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナ
フチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−ト
リアジン、２−（４−エトキシカルボニルナフチル）−
４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
などのハロメチル化トリアジン誘導体、ハロメチル化オ
キサジアゾール誘導体、２−（２’−クロロフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（２’
−クロロフェニル）−４，５−ビス（３’−メトキシフ
ェニル）イミダゾール２量体、２−（２’−フルオロフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２
−（２’−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール２量体、（４’−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール２量体などのイミダゾール
誘導体、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニ
ルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイ
ンイソプロピルエーテルなどのベンゾイン、ベンゾイン
アルキルエーテル類、２−メチルアントラキノン、２−
エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノ
ン、１−クロロアントラキノンなどのアントラキノン誘
導体、ベンズアンスロン誘導体、ベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベ
ンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２−クロロ
ベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カル
ボキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン誘導体、
２，２，−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、
２，２−ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシ
クロヘキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−２−メ
チルフェニルプロパノン、１−ヒドロキシ−１−メチル
エチル−（ｐ−イソプロピルフェニル）ケトン、１−ヒ
ドロキシ−１−（ｐ−ドデシルフェニル）ケトン、２−
メチル−（４’−（メチルチオ）フェニル）−２−モル
ホリノ−１−プロパノン、１，１，１，−トリクロロメ
チル−（ｐ−ブチルフェニル）ケトンなどのアセトフェ
ノン誘導体、チオキサントン、２−エチルチオキサント
ン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオ
キサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４
−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチ
オキサントンなどのチオキサントン誘導体、ｐ−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸
エチルなどの安息香酸エステル誘導体、９−フェニルア
クリジン、９−（ｐ−メトキシフェニル）アクリジンな
どのアクリジン誘導体、９，１０−ジメチルベンズフェ
ナジンなどのフェナジン誘導体、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，
６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，４−ジ−フ
ルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオ
ロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジ−フ
ルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イルな
どのチタノセン誘導体等が挙げられる。これらの光重合
開始剤は単独または複数組み合わせて使用される。例え
ば、特公昭５３−１２８０２、特開平１−２７９９０
３、特開平２−４８６６４、特開平４−１６４９０２、
特開平６−７５３７３などに記載の開始剤の組み合わせ
などが挙げられる。感度、安定性、溶解性などの観点か
ら特にトリアジン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ビ
イミダゾール誘導体、チタノセン誘導体等が特に好まし
い開始剤である。(C) As a photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used, and a compound capable of generating a radical for polymerizing an ethylenically unsaturated group by ultraviolet light and a compound capable of generating an acid by ultraviolet light Is mentioned. Specifically, 2- (4-methoxyphenyl)-
4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,
2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -Ethoxycarbonylnaphthyl)-
4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,
Halomethylated triazine derivatives, halomethylated oxadiazole derivatives, 2- (2'-chlorophenyl)
-4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2 ′
-Chlorophenyl) -4,5-bis (3′-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (2′-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer,
-(2'-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, (4'-methoxyphenyl) -4,
Imidazole derivatives such as 5-diphenylimidazole dimer, benzoin such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzoin isopropyl ether; benzoin alkyl ethers; 2-methylanthraquinone;
Anthraquinone derivatives such as ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone, benzuanthrone derivatives, benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone and 4-bromo Benzophenone, benzophenone derivatives such as 2-carboxybenzophenone,
2,2, -dimethoxy-2-phenylacetophenone,
2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- ( p-dodecylphenyl) ketone, 2-
Acetophenone derivatives such as methyl- (4 ′-(methylthio) phenyl) -2-morpholino-1-propanone, 1,1,1, -trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone, thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, -Isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4
Thioxanthone derivatives such as -diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone, benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 9- (p-methoxyphenyl) acridine Phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl- Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, -Cyclopentadienyl-Ti-bis-2,4,
6-trifluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-difluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-2,4-di-fluorophenyl 1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,6- Titanocene derivatives such as di-fluorophenyl-1-yl and di-cyclopentadienyl-Ti-2,6-di-fluoro-3- (pyr-1-yl) -phenyl-1-yl are exemplified. These photopolymerization initiators are used alone or in combination. For example, JP-B-53-12802, JP-A-1-27990
3, JP-A-2-48664, JP-A-4-164902,
Examples include combinations of initiators described in JP-A-6-75373. From the viewpoints of sensitivity, stability, solubility and the like, particularly preferred are triazine derivatives, oxadiazole derivatives, biimidazole derivatives, titanocene derivatives and the like.

【００１６】本発明で使用される顔料としては、特に限
定されるものではなく一般的な無機顔料、有機顔料のな
かから選択することができる。例えば、硫酸バリウム、
硫酸鉛、酸化チタン、黄色鉛、ベンガラ、酸化クロム、
カーボンブラック、などの無機顔料、アントラキノン系
顔料、ベリレン系顔料、ジスアゾ顔料、フタロシアニン
顔料、イソインドリン顔料、ジオキサジン顔料、キナク
リドン顔料、ベリノン系顔料、トリフェニルメタン系顔
料、チオインジゴ顔料などの有機顔料などが挙げられ
る。これらは単独または複数混合して用いることができ
る。これらの顔料のなかでは有機顔料が分散安定性、色
再現性、耐候性、耐熱性の点で好ましく、特にフタロシ
アニン顔料、ジオキサジン顔料、アントラキノン系顔
料、ジスアゾ顔料、イソインドリン顔料、イソインドリ
ノン顔料が好ましい。なお、具体的にカラーインデック
ス（Ｃ．Ｉ）ナンバーで示す。The pigment used in the present invention is not particularly limited, and can be selected from general inorganic pigments and organic pigments. For example, barium sulfate,
Lead sulfate, titanium oxide, yellow lead, red iron oxide, chromium oxide,
Organic pigments such as inorganic pigments such as carbon black, anthraquinone pigments, berylen pigments, disazo pigments, phthalocyanine pigments, isoindoline pigments, dioxazine pigments, quinacridone pigments, verinone pigments, triphenylmethane pigments, and thioindigo pigments. No. These can be used alone or in combination. Among these pigments, organic pigments are preferred in terms of dispersion stability, color reproducibility, weather resistance, and heat resistance, and phthalocyanine pigments, dioxazine pigments, anthraquinone pigments, disazo pigments, isoindoline pigments, and isoindolinone pigments are particularly preferred. preferable. It is specifically shown by a color index (CI) number.

【００１７】Ｃ．Ｉ．赤；９、９７、１２２、１２３、
１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２
１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２
７、２２８、２４０ Ｃ．Ｉ．青；１５、１５；６、２２、６０、６４ Ｃ．Ｉ．緑；７、３６ Ｃ．Ｉ．黒；７ Ｃ．Ｉ．黄色；２０、２４、８６、９３、１０９、１１
０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４
７、１４８、１５３、１５４、１６６、１６８ Ｃ．Ｉ．オレンジ；３６、４３、５１、５５、５９、６
１ Ｃ．Ｉ．バイオレット；１９、２３、２９、３０、３
７、４０、５０ Ｃ．Ｉ．茶；２３、２５、２６C. I. Red; 9, 97, 122, 123,
149, 168, 177, 180, 192, 215, 2
16, 217, 220, 223, 224, 226, 22
7, 228, 240 C.I. I. Blue; 15, 15; 6, 22, 60, 64 C.I. I. Green; 7, 36 C.I. I. Black; 7 C.I. I. Yellow; 20, 24, 86, 93, 109, 11
0, 117, 125, 137, 138, 139, 14
7, 148, 153, 154, 166, 168 C.I. I. Orange; 36, 43, 51, 55, 59, 6
1 C. I. Violet; 19, 23, 29, 30, 3
7, 40, 50 C.I. I. Tea; 23, 25, 26

【００１８】本発明の色相、彩度、明度を得るために
は、顔料の選択、混合比率、顔料の粒度、レジスト固形
分中の顔料配合比率の制御により達成することができ
る。驚くべきことにこのような色度範囲に制御すること
によりレジストの感度、解像性、現像性、密着性等の画
像特性を充分確保することができカラーフィルターの品
質、工業的生産性を十二分に確保することができる。な
お、良好な色度範囲に制御する詳細な手法については各
色により異なる。赤については赤色顔料と黄色顔料また
は赤色顔料とオレンジ顔料の混合が好ましく、緑は緑色
顔料と黄色顔料が好ましい。青色は青色単独または青色
顔料と紫色顔料の混合が好ましい。具体的に例示するな
らば、赤はアントラキノン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｒｅｄ１７７
とイソインドリン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９ま
たはアゾ系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ８３を重量で１０
０：３０〜６０の比率で混合し、顔料粒径は０．２μ以
下の粒子径が全粒子の９０ｗｔ％以上となるように分散
処理を行い、レジスト固形分中の顔料配合比率が３０〜
５０ｗｔ％となるように制御するのが好ましい。緑につ
いては例えば、緑はフタロシアニン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｇｒ
ｅｅｎ６またはＣ．Ｉ．Ｇｒｅｅｎ３６とイソインドリ
ン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９、イソインドリノ
ン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１０９、Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌ
ｌｏｗ１１０、またはアゾ系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ
８３を重量で１００：１５〜３０の比率で混合し、顔料
粒径は０．２μ以下の粒子径が全粒子の９０ｗｔ％以上
となるように分散処理を行い、レジスト固形分中の顔料
配合比率が２０〜４５ｗｔ％となるように制御するのが
好ましい。青についてはフタロシアニン系顔料Ｃ．Ｉ．
Ｂｌｕｅ１５；３またはＣ．Ｉ．Ｂｌｕｅ１５；６を単
独もしくはアントラキノン系顔料Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ６０
あるいはジオキサジンＣ．Ｉ．Ｖｉｏｌｅｔ２３を重量
で１００：０〜５０の比率で混合し、顔料粒径は０．２
μ以下の粒子径が全粒子の９０ｗｔ％以上となるように
分散処理を行い、レジスト固形分中の顔料配合比率が１
５〜４０ｗｔ％となるように制御するのが好ましい。The hue, saturation, and lightness of the present invention can be achieved by controlling the selection of the pigment, the mixing ratio, the particle size of the pigment, and the mixing ratio of the pigment in the resist solids. Surprisingly, by controlling the chromaticity within such a range, the image characteristics such as sensitivity, resolution, developability, and adhesion of the resist can be sufficiently ensured, and the quality of the color filter and industrial productivity can be sufficiently improved. Can be secured in two minutes. Note that a detailed method of controlling the color to be in a favorable chromaticity range differs for each color. Red is preferably a mixture of a red pigment and a yellow pigment or a red pigment and an orange pigment, and green is preferably a green pigment and a yellow pigment. Blue is preferably blue alone or a mixture of a blue pigment and a violet pigment. Specifically, red is an anthraquinone pigment C.I. I. Red177
And isoindoline pigments C.I. I. Yellow 139 or an azo pigment C.I. I. Yellow 83 by weight 10
The mixture is mixed at a ratio of 0:30 to 60, and a dispersion process is performed so that the particle size of the pigment is 0.2 μm or less and 90 wt% or more of all the particles.
It is preferable to control so as to be 50 wt%. For green, for example, green is a phthalocyanine pigment C.I. I. Gr
een6 or C.I. I. Green 36 and an isoindoline pigment C.I. I. Yellow 139, isoindolinone pigment C.I. I. Yellow 109, C.I. I. Yel
low110 or an azo pigment C.I. I. Yellow
83 in a ratio of 100: 15 to 30 by weight, and a dispersion treatment is performed so that the particle diameter of the pigment is 0.2 μm or less and 90 wt% or more of all the particles. Is preferably controlled to be 20 to 45 wt%. For blue, the phthalocyanine pigment C.I. I.
Blue 15; 3 or C.I. I. Blue 15; 6 alone or an anthraquinone pigment C.I. I. Blue60
Alternatively, dioxazine C.I. I. Violet 23 was mixed in a ratio of 100: 0 to 50 by weight, and the pigment particle size was 0.2.
The dispersion treatment is performed so that the particle diameter of μ or less becomes 90 wt% or more of all the particles, and the compounding ratio of the pigment in the resist solid content is 1
It is preferable to control so as to be 5 to 40 wt%.

【００１９】上記の如く超微粒子まで顔料を分散するた
めには分散剤を使用するのが望ましい。顔料のみで分散
処理を行った場合には再凝集が起こりやすく目標の粒度
まで達するのは極めて困難である。上記分散に使用する
分散剤としてはアニオン、カチオン、ノニオン等の界面
活性剤、顔料誘導体、高分子分散剤等が使用可能である
が、なかでも塩基性官能基を有する高分子分散剤が好適
である。塩基性官能基はアミン価で１〜１００ｍｇＫＯ
Ｈ／ｇの範囲のものが好ましい。アミン価がこの範囲以
下であると分散安定性が低下し、逆に超えると現像性、
解像性が低下する。なお、アミン価は、塩基性アミノ基
を酸により中和滴定し、酸価に対応させてＫＯＨのｍｇ
数で表した値である。これらの条件を満たした高分子分
散剤として具体的にはビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒ
ｂｙｋ１６０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６１、Ｄｉｓｐｅ
ｒｂｙｋ１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６３、Ｄｉｓｐ
ｅｒｂｙｋ１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１６６；ゼネカ
社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２００００、ＳＯＬＳＰＥＲ
ＳＥ２４０００、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ２７０００、ＳＯ
ＬＳＰＥＲＳＥ２８０００等（いずれも商品名）の市販
品が挙げられる。これらの高分子分散剤は顔料に対し５
〜５０ｗｔ％の範囲で添加するのが好ましい。添加量が
上記範囲以下であると充分な分散性が得られず、逆に多
すぎると解像性、現像性、密着性等の画像特性に悪影響
を及ぼしやすい。In order to disperse the pigment to ultrafine particles as described above, it is desirable to use a dispersant. When the dispersion treatment is performed only with the pigment, reagglomeration easily occurs and it is extremely difficult to reach the target particle size. As the dispersant used for the dispersion, anionic, cationic, surfactants such as nonionics, pigment derivatives, polymer dispersants and the like can be used, among which polymer dispersants having a basic functional group are preferred. is there. The basic functional group has an amine value of 1 to 100 mg KO.
Those in the range of H / g are preferred. When the amine value is below this range, the dispersion stability decreases, and when the amine value exceeds this range, the developability,
The resolution decreases. The amine value was determined by neutralizing and titrating a basic amino group with an acid, and corresponding to the acid value in mg of KOH.
It is a numerical value. As a polymer dispersant satisfying these conditions, specifically, Disper manufactured by Big Chemie, Inc.
byk160, Disperbyk161, Dispe
rbyk162, Disperbyk163, Disp
erbyk 164, Disperbyk 166; SOLSPERSE 20000, SOLSPER manufactured by Zeneca Corporation
SE24000, SOLSPERSE27000, SO
Commercial products such as LSPERSE28000 (all of which are trade names) can be mentioned. These polymer dispersants are used in pigments in an amount of 5%.
It is preferable to add in the range of 50 wt%. When the amount is less than the above range, sufficient dispersibility cannot be obtained, and when the amount is too large, image characteristics such as resolution, developability and adhesion tend to be adversely affected.

【００２０】高分子分散剤及び顔料はレジスト液へ配合
する前に通常分散処理が行われる。レジスト調合時に分
散処理を行うと反応性の高い樹脂、モノマー、開始剤な
どが分散時に生じる熱のために変質しやすく実際的では
ない。分散は顔料と高分子分散剤及び溶剤、場合によっ
ては樹脂も加えてミルベースをつくり、それをボールミ
ル、サンドミル、ビーズミル、３本ロール、ペイントシ
ェーカー、超音波、バブルホモジナイザーなどの方法に
より処理される。これらの処理方法は２つ以上組み合わ
せることも可能である。分散処理によって得られる好ま
しい顔料の粒径は、０．００５〜０．２μ、より好まし
くは０．０１〜０．１５μの範囲である。なお、顔料粒
径はレーザードップラー式の粒度測定器により測定され
る。粒径が上記範囲の上限を超えると現像性、解像性、
安定性の低下が起こる。また、下限以下にするためには
顔料の１次粒子あるいはそれ以上に顔料粒子を細かくし
なければならないため、製造が著しく困難である。The polymer dispersant and the pigment are usually subjected to a dispersion treatment before being blended into the resist solution. If a dispersion treatment is performed during the preparation of the resist, highly reactive resins, monomers, initiators, and the like are likely to deteriorate due to heat generated during dispersion, which is not practical. Dispersion is performed by adding a pigment, a polymer dispersant and a solvent, and optionally a resin to form a mill base, which is treated by a method such as a ball mill, a sand mill, a bead mill, a three-roll, a paint shaker, an ultrasonic wave, and a bubble homogenizer. Two or more of these processing methods can be combined. The preferred particle size of the pigment obtained by the dispersion treatment is in the range of 0.005 to 0.2 µ, more preferably 0.01 to 0.15 µ. The pigment particle size is measured by a laser Doppler type particle size measuring device. If the particle size exceeds the upper limit of the above range, developability, resolution,
A decrease in stability occurs. Further, in order to make the pigment particle size less than the lower limit, the pigment particles must be made finer than the primary particles of the pigment or more, so that the production is extremely difficult.

【００２１】本発明で使用される溶剤としては具体的
に、ジイソプロピルエーテル、ミネラルスピリット、ｎ
−ペンタン、アミルエーテル、エチルカプリレート、ｎ
−ヘキサン、ジエチルエーテル、イソプレン、エチルイ
ソブチルエーテル、ブチルステアレート、ｎ−オクタ
ン、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、ジイソブ
チレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、アプコ
シンナー、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチ
ルシクロヘキセン、メチルノニルケトン、プロピルエー
テル、ドデカン、Ｓｏｃａｌ ｓｏｌｖｅｎｔ Ｎｏ．
１およびＮｏ．２、アミルホルメート、ジヘキシルエー
テル、ジイソプロピルケトン、ソルベッソ＃１５０、酢
酸ブチル（ｎ，ｓｅｃ，ｔ）、ヘキセン、シェル ＴＳ
２８ ソルベント、ブチルクロライド、エチルアミルケ
トン、エチルベンゾネート、アミルクロライド、エチレ
ングリコールジエチルエーテル、エチルオルソホルメー
ト、メトキシメチルペンタノン、メチルブチルケトン、
メチルヘキシルケトン、メチルイソブチレート、ベンゾ
ニトリル、エチルプロピオネート、メチルセロソルブア
セテート、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチル
ケトン、プロピルアセテート、アミルアセテート、アミ
ルホルメート、ビシクロヘキシル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、ジペンテン、メトキ
シメチルペンタノール、メチルアミルケトン、メチルイ
ソプロピルケトン、プロピルプロピオネート、プロピレ
ングリコール−ｔ−ブチルエーテル、メチルエチルケト
ン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブアセテート、カルビトール、シクロヘキサノン、
酢酸エチル、プロピレングリコール、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエー
テル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
３−メトキシプロピオン酸、３−エトキシプロピオン
酸、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、
３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロ
ピオン酸ブチル、ジグライム、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレングリコールアセテート、
エチルカルビトール、ブチルカルビトール、エチレング
リコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール−
ｔ−ブチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノ
ール、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−
メチル−３−メトキシブチルアセテートなどの有機溶剤
が挙げられる。溶剤は沸点が１００℃から２００℃の範
囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは１２
０℃〜１７０℃の沸点をもつものである。これらの溶剤
は単独もしくは混合して使用される。Examples of the solvent used in the present invention include diisopropyl ether, mineral spirit, n
-Pentane, amyl ether, ethyl caprylate, n
Hexane, diethyl ether, isoprene, ethyl isobutyl ether, butyl stearate, n-octane, valsol # 2, Apco # 18 solvent, diisobutylene, amyl acetate, butyl butyrate, apco thinner, butyl ether, diisobutyl ketone, methylcyclohexene, Methyl nonyl ketone, propyl ether, dodecane, Socal solvent No.
1 and No. 2, amyl formate, dihexyl ether, diisopropyl ketone, Solvesso # 150, butyl acetate (n, sec, t), hexene, shell TS
28 Solvent, butyl chloride, ethyl amyl ketone, ethyl benzoate, amyl chloride, ethylene glycol diethyl ether, ethyl orthoformate, methoxymethyl pentanone, methyl butyl ketone,
Methylhexyl ketone, methyl isobutyrate, benzonitrile, ethyl propionate, methyl cellosolve acetate, methyl isoamyl ketone, methyl isobutyl ketone, propyl acetate, amyl acetate, amyl formate, bicyclohexyl, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipentene, Methoxy methyl pentanol, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, propyl propionate, propylene glycol-t-butyl ether, methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, carbitol, cyclohexanone,
Ethyl acetate, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, Dipropylene glycol monomethyl ether acetate,
3-methoxypropionic acid, 3-ethoxypropionic acid, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate,
Propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate, diglyme, dipropylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol acetate,
Ethyl carbitol, butyl carbitol, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol
t-butyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, tripropylene glycol methyl ether, 3-
Organic solvents such as methyl-3-methoxybutyl acetate are exemplified. It is preferable to select a solvent having a boiling point in the range of 100 ° C to 200 ° C. More preferably 12
It has a boiling point of 0 ° C to 170 ° C. These solvents are used alone or as a mixture.

【００２２】本発明の組成物は（ａ）樹脂１００重量部
に対し（ｂ）モノマーは５重量部〜１００重量部（ｃ）
開始剤は０．０１〜３０重量部、の範囲で含有される。
ｄ）顔料については前記したように溶剤を除いたレジス
ト固形分中で１５〜５０ｗｔ％の範囲で含有される。
ｆ）溶剤はレジスト固形分の濃度が１５〜３５ｗｔ％の
範囲となるよう添加される。 （ｂ）モノマーが上記範囲以下であると像露光された画
線部の架橋密度が十分でなくなり良好な画像が得られに
くく、また、上記範囲を超えると乾燥後のレジスト膜の
ベタつきが大きくなり作業性に劣るようになる。（ｃ）
光重合開始剤の添加量が上記範囲以下であると十分な感
度がえられず、また、上記範囲を超えると、ときに開始
剤が感光液から析出することがある。（ｆ）溶剤の添加
量が上記範囲以下であると塗布むらがでやすく膜厚の均
一性に欠け、上記範囲を超えると十分な膜厚を得ること
ができず、また、ピンホールなどの塗布欠陥がでやすく
なる。尚、全固形分中の顔料濃度は２５〜７０％である
のが好ましい。 本発明にはこれら、必須成分以外に増
感剤、塗布性改良剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤、な
どを好適に添加することができる。これらは単独もしく
は数種併用することも可能である。本発明のカラーフィ
ルター用レジスト組成物は、上記閣成分、条件を適宜選
択し、調製することができる。The composition of the present invention comprises (a) 100 parts by weight of resin and (b) monomer in 5 to 100 parts by weight (c).
The initiator is contained in the range of 0.01 to 30 parts by weight.
d) The pigment is contained in the range of 15 to 50% by weight in the resist solid content excluding the solvent as described above.
f) The solvent is added so that the concentration of the resist solids is in the range of 15 to 35 wt%. (B) When the amount of the monomer is less than the above range, the cross-linking density of the image-exposed image area is not sufficient, so that it is difficult to obtain a good image, and when the amount exceeds the above range, the tackiness of the dried resist film becomes large. Workability becomes poor. (C)
If the amount of the photopolymerization initiator is less than the above range, sufficient sensitivity cannot be obtained, and if it exceeds the above range, the initiator may sometimes precipitate from the photosensitive solution. (F) If the amount of the solvent is less than the above range, coating unevenness is likely to occur, resulting in lack of uniformity of the film. If the amount exceeds the above range, a sufficient film thickness cannot be obtained. Defects are more likely to occur. The pigment concentration in the total solid content is preferably 25 to 70%. In addition to these essential components, a sensitizer, a coating improver, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a flame retardant, and the like can be suitably added to the present invention. These can be used alone or in combination of several kinds. The resist composition for a color filter of the present invention can be prepared by appropriately selecting the above components and conditions.

【００２３】本発明の組成物はスピンコーター、ロール
コーター、カーテンコーター、スクリーン印刷などの公
知の方法で透明基板に塗布される。カラーフィルターに
使用される透明基板としては、ソーダガラス、無アルカ
リガラス等のガラスの他、ＰＥＴ、アクリル、ポリカー
ボネートなどのプラスチック基板なども使用可能であ
る。熱膨張率、耐薬品性、耐熱性等の観点からガラス基
板の方がカラーフィルターの製造は容易であるが、耐衝
撃性、軽量化の観点からはプラスチック基板の方が優れ
る。塗布膜厚は０．５μｍ〜２μｍの範囲が好ましい。
より好ましくは０．６から１．８μｍである。上記膜厚
より薄く塗布するとピンホール等の塗布欠陥が発生しや
すく現像の制御も困難となりやすい。逆に厚くすると平
坦性が損なわれたり、地汚れが発生しやすくなる。塗布
膜を乾燥させるためにコンベクションオーブンまたはホ
ットプレートが好適に使用できる。乾燥温度は５０℃〜
１５０℃、乾燥時間は３０秒〜６０分が好適である。露
光には高圧水銀燈、超高圧水銀燈、キセノンランプ、カ
ーボンアーク燈等の紫外線を発する光源が使用でき、マ
スクを通して露光することによりレジスト膜に潜像が形
成される。その後、未露光部分を溶解させる溶剤で現像
することにより画像が形成される。現像液はアセトン、
トルエン、ＭＥＫなどの有機溶剤も使用可能であるが、
環境問題からアルカリ現像液の方が好ましい。一例をあ
げるならば水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水
溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム、アンモニ
ア水、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水
溶液、などが用いられる。アルカリ現像液には界面活性
剤、消泡剤などが添加されていてもよい。現像方法とし
ては、特に制限はなく、パドル法、ディッピング法、ス
プレー法など公知の方法でおこなうことができる。また
プリウエットを採用してもよい。画像形成後現像液の乾
燥、レジスト膜の硬化を高める目的でポストベーク、後
光硬化などを採用してもよい。The composition of the present invention is applied to a transparent substrate by a known method such as a spin coater, a roll coater, a curtain coater, and screen printing. As the transparent substrate used for the color filter, besides glass such as soda glass and non-alkali glass, a plastic substrate such as PET, acrylic and polycarbonate can be used. A glass substrate is easier to produce a color filter from the viewpoints of thermal expansion coefficient, chemical resistance, heat resistance and the like, but a plastic substrate is superior from the viewpoint of impact resistance and weight reduction. The coating thickness is preferably in the range of 0.5 μm to 2 μm.
More preferably, it is 0.6 to 1.8 μm. If the coating is thinner than the above film thickness, coating defects such as pinholes are likely to occur and control of development tends to be difficult. Conversely, when the thickness is large, the flatness is impaired, and soiling tends to occur. In order to dry the coating film, a convection oven or a hot plate can be suitably used. Drying temperature is 50 ℃ ~
The drying time at 150 ° C. and the drying time is preferably 30 seconds to 60 minutes. A light source that emits ultraviolet light such as a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, and a carbon arc lamp can be used for exposure, and a latent image is formed on a resist film by exposing through a mask. Thereafter, an image is formed by developing with a solvent that dissolves the unexposed portion. The developer is acetone,
Organic solvents such as toluene and MEK can also be used,
Alkaline developers are preferred from the environmental point of view. For example, an aqueous solution of sodium hydroxide, an aqueous solution of potassium hydroxide, an aqueous solution of sodium carbonate, potassium carbonate, aqueous ammonia, an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide and the like are used. A surfactant, an antifoaming agent and the like may be added to the alkali developer. The developing method is not particularly limited, and can be performed by a known method such as a paddle method, a dipping method, and a spray method. Further, a pre-wet may be employed. Post-baking, after-light curing, or the like may be employed for the purpose of drying the developer after image formation and increasing the curing of the resist film.

【００２４】[0024]

【実施例】次に、実施例を用いて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実
施例に限定されるものではない。EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

【００２５】顔料の分散 １． 赤色インキ−１ アントラキノン系の赤顔料、Ｃ．Ｉ．Ｒｅｄ１７７（チ
バガイギー社製）１０ｇ、イソインドリン系顔料Ｃ．
Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９（ＢＡＳＦ社製）４ｇ、高分子
分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキ
シングをおこなった。これをペイントシェーカーにより
６時間分散処理をおこなった。ビーズはインキ液に対し
重量で３倍量の０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用い
た。このようにして得られた分散処理インキを下記のよ
うにして顔料粒度を測定した。分散処理インキをＰＧＭ
ＥＡで４００倍に希釈した後、５分間超音波処理（ＢＲ
ＡＮＳＯＮ社製）を行いレーザードップラー式の粒度測
定器マイクロトラップＵＰＡ（リーズ＆ノースラップ社
製）により測定したところ顔料粒径０．２μ以下の粒子
は全粒子の９０％以上であった。 Dispersion of pigment Red ink-1 Anthraquinone red pigment, C.I. I. Red177 (manufactured by Ciba Geigy) 10 g, isoindoline pigment C.I.
I. 4 g of Yellow 139 (manufactured by BASF), 5 g of a polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK-Chemie), and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, followed by premixing with a stirrer. This was dispersed for 6 hours by a paint shaker. As the beads, zirconia beads having a diameter of 0.5 mmφ three times the weight of the ink liquid were used. The pigment particle size of the dispersion-treated ink thus obtained was measured as described below. PGM dispersing ink
After dilution 400 times with EA, sonication for 5 minutes (BR
(Manufactured by ANSON Co., Ltd.), and the particles were measured with a laser Doppler type particle size analyzer MicroTrap UPA (manufactured by Leeds & Northrup Co.) to find that particles having a pigment particle size of 0.2 μm or less accounted for 90% or more of all particles.

【００２６】赤色インキ−２ アントラキノン系の赤顔料、Ｃ．Ｉ．Ｒｅｄ１７７（チ
バガイギー社製）１０ｇ、イソインドリン系顔料Ｃ．
Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９（ＢＡＳＦ社製）５ｇ、高分子
分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキ
シングをおこなった。赤色インキ−１と同様の分散処理
を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．２μ
以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。Red ink-2 Anthraquinone red pigment, C.I. I. Red177 (manufactured by Ciba Geigy) 10 g, isoindoline pigment C.I.
I. 5 g of Yellow 139 (manufactured by BASF), 5 g of a polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK Chemie), and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, and premixing was performed using a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for Red Ink-1, the pigment particle size was measured.
The following particles accounted for over 90% of all particles.

【００２７】赤色インキ−３ キナクリドン系の赤顔料、ブリリアントレッドＲＴ−３
８０−Ｄ（チバガイギー社製）１０ｇ、イソインドリン
系顔料Ｃ．Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９（ＢＡＳＦ社製）５
ｇ、高分子分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）
５ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によ
りプレミキシングをおこなった。赤色インキ−１と同様
の分散処理を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒
径０．２μ以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。Red ink-3 Quinacridone red pigment, Brilliant Red RT-3
80-D (manufactured by Ciba Geigy), 10 g of isoindoline pigment C.I. I. Yellow139 (manufactured by BASF) 5
g, polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK-Chemie)
5 g and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, and premixing was performed with a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for Red Ink-1, the pigment particle size was measured. As a result, particles having a pigment particle size of 0.2 μm or less accounted for 90% or more of all the particles.

【００２８】２． 緑色インキ−１ フタロシアニン系の緑顔料Ｃ．Ｉ．Ｇｒｅｅｎ３６（大
日本インキ社製）１０ｇ、イソインドリン系顔料Ｃ．
Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１３９（ＢＡＳＦ社製）２ｇ、高分子
分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキ
シングをおこなった。赤色インキ−１と同様の分散処理
を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．２μ
以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。2. Green ink-1 phthalocyanine-based green pigment C.I. I. Green 36 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10 g, isoindoline pigment C.I.
I. 2 g of Yellow 139 (manufactured by BASF), 5 g of a polymer dispersant BYK-161 (manufactured by Big Chemie), and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, and premixing was performed using a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for Red Ink-1, the pigment particle size was measured.
The following particles accounted for over 90% of all particles.

【００２９】緑インキ−２ フタロシアニン系の緑顔料Ｃ．Ｉ．Ｇｒｅｅｎ６（大日
本インキ社製）１０ｇ、イソインドリン系顔料Ｃ．Ｉ．
Ｙｅｌｌｏｗ１３９（ＢＡＳＦ社製）２．５ｇ、高分子
分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶剤
としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミキ
シングをおこなった。赤色インキ−１と同様の分散処理
を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．２μ
以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。Green ink-2 phthalocyanine green pigment C.I. I. Green 6 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10 g, isoindoline pigment C.I. I.
2.5 g of Yellow 139 (manufactured by BASF), 5 g of a polymer dispersant BYK-161 (manufactured by Big Chemie), and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, and premixing was performed by a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for Red Ink-1, the pigment particle size was measured.
The following particles accounted for over 90% of all particles.

【００３０】緑インキ−３ フタロシアニン系の緑顔料Ｃ．Ｉ．Ｇｒｅｅｎ６（大日
本インキ社製）１０ｇ、イソインドリノン系顔料Ｃ．
Ｉ．Ｙｅｌｌｏｗ１０９（ＢＡＳＦ社製）２．５ｇ、高
分子分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、
溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレ
ミキシングをおこなった。赤色インキ−１と同様の分散
処理を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．
２μ以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。Green Ink-3 Phthalocyanine-based green pigment C.I. I. Green 6 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 10 g, isoindolinone pigment C.I.
I. 2.5 g of Yellow109 (manufactured by BASF), 5 g of polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK Chemie),
80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) was added as a solvent, and premixing was performed with a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for Red Ink-1, the pigment particle size was measured.
Particles of 2 μ or less accounted for 90% or more of all particles.

【００３１】３． 青色インキ−１ フタロシアニン系の青顔料Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ１５；３
（大日本インキ社製）１０ｇ、アントラキノン系青顔料
Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ６０（大日本インキ社製）４．５ｇ、
高分子分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５
ｇ、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機により
プレミキシングをおこなった。赤色インキと同様の分散
処理を行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．
２μ以下の粒子は全粒子の９０％以上であった。3. Blue ink-1 Phthalocyanine-based blue pigment C.I. I. Blue15; 3
10 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), an anthraquinone blue pigment C.I. I. 4.5 g of Blue 60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals),
Polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK-Chemie) 5
g, and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent, and premixing was performed with a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for the red ink, the pigment particle size was measured.
Particles of 2 μ or less accounted for 90% or more of all particles.

【００３２】青色インキ−２ フタロシアニン系の青顔料Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ１５；６
（大日本インキ社製）１０ｇ、アントラキノン系青顔料
Ｃ．Ｉ．Ｂｌｕｅ６０（大日本インキ社製）４ｇ、高分
子分散剤ＢＹＫ−１６１（ビックケミー社製）５ｇ、溶
剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセ
テート（ＰＧＭＥＡ）８０ｇを加え攪拌機によりプレミ
キシングをおこなった。赤色インキと同様の分散処理を
行った後顔料粒径を測定したところ顔料粒径０．２μ以
下の粒子は全粒子の９０％以上であった。Blue ink-2 Phthalocyanine-based blue pigment C.I. I. Blue15; 6
10 g (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), an anthraquinone blue pigment C.I. I. 4 g of Blue 60 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals), 5 g of a polymer dispersant BYK-161 (manufactured by BYK Chemie), and 80 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) as a solvent were added, followed by premixing with a stirrer. After performing the same dispersion treatment as for the red ink, the pigment particle size was measured. As a result, particles having a pigment particle size of 0.2 μ or less accounted for 90% or more of all the particles.

【００３３】１）カラーレジスト液の調合 下記の割合でカラーレジストのベースとなる感光液を調
合した。 ａ）アクリル樹脂（合成例−１で合成） ２５ｇ ｂ）アクリルモノマー；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１５ｇ ｃ）開始剤（３種併用） ｃ−１．２−（２−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール ２量体 ２ｇ ｃ−２．４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン １．０ｇ ｃ−３．２−メルカプトベンゾチアゾール １ｇ ｄ）溶剤 プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ５０ｇ この液に赤、緑、青のインキを表−１の量をそれぞれ加
え、ＰＧＭＥＡで希釈することにより固形分濃度が２５
ｗｔ％となるよう調整した。さらに、１μのメンブレン
フィルター（ミリポア社製）で濾過した。1) Preparation of color resist solution A photosensitive solution serving as a base of a color resist was prepared in the following ratio. a) Acrylic resin (synthesized in Synthesis Example-1) 25 g b) Acrylic monomer; 15 g of dipentaerythritol hexaacrylate c) Initiator (combined use of three) c-1.2- (2-chlorophenyl) -4,5-diphenyl Imidazole dimer 2 g c-2.4,4'-bis (diethylamino) benzophenone 1.0 g c-3.2-mercaptobenzothiazole 1 g d) solvent propylene glycol monomethyl ether acetate 50 g red, green and blue The ink was added to each of the amounts shown in Table 1 and diluted with PGMEA to obtain a solid content of 25%.
It adjusted so that it might be wt%. Further, the solution was filtered through a 1 μm membrane filter (manufactured by Millipore).

【００３４】３）レジストの評価 カラーレジスト感光液をスピンコーターにて１．１ｍｍ
厚のガラス基板（コーニング社製７０５９）に塗布し、
ホットプレートで８０℃、１分間乾燥した。触針式の膜
厚計αステップ（テンコール社製）により乾燥後のレジ
ストの膜厚を測定したところ１．３μであった。このサ
ンプルのＣ光源、２度視野のＣＩＥ色度（ｘ，ｙ，Ｙ）
を分光光度計Ｕ−３０００（日立製作所製）により測定
した。次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯
で１００ｍｊ／ｃｍ2 像露光した。温度２５℃、濃度
０．０５％の水酸化カリウム水溶液に浸漬現像してレジ
ストパターンを得た。このとき、非画線部の溶解のしか
たを目視観察した。非画線部が現像液に均一に溶解する
タイプと非画線部が膜状に剥離されるタイプの２種に大
別し現像性の善し悪しを判定した。すなわち、非画線部
が膜状に剥離するタイプは現像液にレジストの剥離片が
残りパーティクルとして汚染するため、剥離現像タイプ
のものを現像性×とした。また、形成できる最小レジス
トパターン及びガラス基板に完全密着している最小レジ
ストパターンを４００倍の顕微鏡で観察し解像力、密着
性を評価した。解像力評価のパターンは線幅が等間隔に
形成されたいわゆるライン＆スペースパターンで、ま
た、密着性は１ｍｍの長さを有する孤立パターンで評価
した。解像力及び密着性とも１０μ以下のパターンが形
成もしくは密着しているものをを○、１０μを超えるも
のを×とした。3) Evaluation of resist A color resist photosensitive liquid was applied to a spin coater at 1.1 mm.
Applied to a thick glass substrate (Corning 7059)
It was dried at 80 ° C. for 1 minute on a hot plate. The film thickness of the dried resist was measured by a stylus type film thickness meter α step (manufactured by Tencor Corporation) to be 1.3 μm. C light source of this sample, CIE chromaticity of 2 degree field of view (x, y, Y)
Was measured with a spectrophotometer U-3000 (manufactured by Hitachi, Ltd.). Next, the sample was exposed through a mask with a high-pressure mercury lamp at 100 mj / cm2. The resist pattern was obtained by immersion development in a potassium hydroxide aqueous solution having a temperature of 25 ° C. and a concentration of 0.05%. At this time, the dissolution of the non-image area was visually observed. The type of the non-image area was uniformly dissolved in the developer and the type where the non-image area was peeled off in a film form were roughly classified into two types, and the quality of the developability was determined. That is, in the type in which the non-image area is peeled off in the form of a film, the peeled off pieces of the resist remain in the developing solution and are contaminated as particles. Further, the minimum resist pattern that can be formed and the minimum resist pattern that is completely adhered to the glass substrate were observed with a microscope of 400 times, and the resolution and adhesion were evaluated. The resolution evaluation pattern was a so-called line & space pattern in which line widths were formed at equal intervals, and the adhesion was evaluated as an isolated pattern having a length of 1 mm. When a pattern having a resolution and adhesion of 10 μm or less was formed or adhered, ○ was given when the pattern exceeded 10 μ.

【００３５】なお、アクリル樹脂は以下の合成例１に従
って製造して用いた。 合成例−１ 酸価２００、分子量５０００のスチレン・アクリル酸樹
脂２０ｇ、ｐ−メトキシフェノール０．２ｇ、ドデシル
トリメチルアンモニウムクロリド０．２ｇ、プロピレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート４０ｇをフラ
スコに仕込み、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メ
チルアクリレート７．６ｇを滴下し１００℃の温度で３
０時間反応させた。反応液を水に再沈殿、乾燥させて樹
脂を得た。ＫＯＨによる中和滴定をおこなったところ樹
脂の酸価は８０であった。The acrylic resin was manufactured and used according to Synthesis Example 1 below. Synthesis Example-1 A flask was charged with 20 g of a styrene / acrylic acid resin having an acid value of 200 and a molecular weight of 5,000, 0.2 g of p-methoxyphenol, 0.2 g of dodecyltrimethylammonium chloride, and 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate. 7.6 g of epoxycyclohexyl) methyl acrylate was added dropwise at a temperature of 100 ° C.
The reaction was performed for 0 hours. The reaction solution was reprecipitated in water and dried to obtain a resin. When the neutralization titration with KOH was performed, the acid value of the resin was 80.

【表１】 [Table 1]

【発明の効果】本発明により得られたカラーレジスト組
成物は現像性、解像性、密着性が高く、信頼性、画像再
現性に優れたカラーフィルターを安定的に低コストで製
造することができる。さらに、本発明のカラーレジスト
組成物は色再現領域、明るさの点でも良好なため、ＣＲ
Ｔや壁かけテレビなど従来の液晶表示素子では実現でき
なかった応用分野までの使用を可能とするものである。The color resist composition obtained according to the present invention has high developability, resolution, and adhesion, and can stably produce a color filter excellent in reliability and image reproducibility at low cost. it can. Further, since the color resist composition of the present invention is also excellent in color reproduction area and brightness,
This enables use up to application fields that cannot be realized with conventional liquid crystal display devices such as T and wall-mounted televisions.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 樹脂、光重合開始剤の作用により硬化す
るモノマー、光重合開始剤、顔料及び溶剤を含むレジス
ト組成物であって、該レジスト組成物により形成される
塗布膜が０．５〜２μｍの膜厚の範囲で下記のＣＩＥ標
色値を有することを特徴とする赤、緑又は青色画素形成
用カラーフィルター用レジスト組成物。 赤：ｘ＝０．５０〜０．６０、ｙ＝０．３０〜０．３
８、Ｙ＝２２〜３６ 緑：ｘ＝０．２０〜０．４０、ｙ＝０．４５〜０．５
８、Ｙ＝４０〜７５ 青：ｘ＝０．１０〜０．２０、ｙ＝０．１０〜０．２
０、Ｙ＝１５〜２２Claims: 1. A resist composition comprising a resin, a monomer which is cured by the action of a photopolymerization initiator, a photopolymerization initiator, a pigment and a solvent, wherein a coating film formed by the resist composition is from 0.5 to A resist composition for a color filter for forming red, green or blue pixels, which has the following CIE standard color value in a thickness range of 2 μm. Red: x = 0.50 to 0.60, y = 0.30 to 0.3
8, Y = 22 to 36 green: x = 0.20 to 0.40, y = 0.45 to 0.5
8, Y = 40-75 Blue: x = 0.10-0.20, y = 0.10-0.2
0, Y = 15-22 【請求項２】 樹脂が、少なくともその構成単位の１部
にカルボキシル基を有するアクリル系樹脂を含有するこ
とを特徴とする請求項１記載のカラーフィルター用レジ
スト組成物。2. The color filter resist composition according to claim 1, wherein the resin contains an acrylic resin having a carboxyl group in at least a part of its structural unit. 【請求項３】 アクリル系樹脂が、構成単位として少な
くともスチレン及び（メタ）アクリル酸を含むことを特
徴とする請求項１又は２記載のカラーフィルター用レジ
スト組成物。3. The resist composition for a color filter according to claim 1, wherein the acrylic resin contains at least styrene and (meth) acrylic acid as constituent units. 【請求項４】 アクリル系樹脂が、樹脂側鎖にエチレン
性二重結合を有することを特徴とする請求項１〜３のい
ずれかに記載のカラーフィルター用レジスト組成物。4. The resist composition for a color filter according to claim 1, wherein the acrylic resin has an ethylenic double bond in a side chain of the resin. 【請求項５】 光重合開始剤の作用により硬化するモノ
マーが３官能以上のアクリルモノマーである請求項１〜
４のいずれかに記載のカラーフィルター用レジスト組成
物。5. A monomer which is cured by the action of a photopolymerization initiator is an acrylic monomer having three or more functional groups.
5. The resist composition for a color filter according to any one of 4. 【請求項６】 光重合開始剤がトリアジン、オキサジア
ゾール、チタノセン、イミダゾール化合物のなかから選
ばれた少なくとも１種の化合物である請求項１〜５のい
ずれかに記載のカラーフィルター用レジスト組成物。6. The resist composition for a color filter according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is at least one compound selected from triazine, oxadiazole, titanocene, and imidazole compounds. . 【請求項７】 顔料がアントラキノン、キナクリドン、
イソインドリン、イソインドリノン、フタロシアニン、
アゾ、ジオキサジン系の有機顔料である請求項１〜６の
いずれかに記載のカラーフィルター用レジスト組成物。7. The pigment according to claim 1, wherein the pigment is anthraquinone, quinacridone,
Isoindoline, isoindolinone, phthalocyanine,
The resist composition for a color filter according to any one of claims 1 to 6, which is an azo or dioxazine-based organic pigment. 【請求項８】 全固形分中の顔料濃度が２０〜６０ｗｔ
％であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記
載のカラーフィルター用レジスト組成物。8. The pigment concentration in the total solid content is 20 to 60 wt.
%. The resist composition for a color filter according to any one of claims 1 to 7, wherein 【請求項９】 固形分の含有率が１５〜３５ｗｔ％であ
る請求項１〜８のいずれかに記載のカラーフィルター用
レジスト組成物。9. The resist composition for a color filter according to claim 1, wherein the solid content is 15 to 35 wt%. 【請求項１０】 透明基板上に、請求項１〜９のいずれ
かに記載のカラーフィルター用レジスト組成物により形
成されてなる着色画素を有するカラーフィルター。10. A color filter having colored pixels formed on a transparent substrate by using the color filter resist composition according to claim 1. Description: