JPH10161553A - Electromagnetic wave shielding optical filter and its production - Google Patents
Electromagnetic wave shielding optical filter and its productionInfo
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- JPH10161553A JPH10161553A JP8320551A JP32055196A JPH10161553A JP H10161553 A JPH10161553 A JP H10161553A JP 8320551 A JP8320551 A JP 8320551A JP 32055196 A JP32055196 A JP 32055196A JP H10161553 A JPH10161553 A JP H10161553A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド機能
を有する光学フィルターおよびその製造方法に関し、特
にカラープラズマディスプレイパネルに用いられる電磁
波シールド光学フィルターおよびその製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical filter having an electromagnetic wave shielding function and a method for manufacturing the same, and more particularly, to an electromagnetic filter used for a color plasma display panel and a method for manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、カラープラズマディスプレイパネ
ルに用いられる光学フィルターとしてさまざまな種類の
ものが提案されている。このような光学フィルターに
は、画面の濃度を調整するフィルター機能、画面を見や
すくするための表面反射防止機能、さらに近赤外光（Ｎ
ＩＲ）吸収機能、ディスプレイの画面を保護する機能等
が要求される。これらの機能に加えて近年は電磁波を遮
断する電磁波シールド機能が強く要求されている。例え
ば特公平７−１９５５１号公報に記載されている「電磁
波シールド性を有する光学フィルター」を図４に示す。2. Description of the Related Art Various types of optical filters used in color plasma display panels have been proposed. Such an optical filter includes a filter function for adjusting the density of the screen, a surface reflection preventing function for making the screen easier to see, and a near infrared light (N
IR) absorption function, function to protect the screen of the display, etc. are required. In addition to these functions, in recent years, an electromagnetic wave shielding function of blocking electromagnetic waves has been strongly demanded. For example, FIG. 4 shows an “optical filter having electromagnetic wave shielding properties” described in Japanese Patent Publication No. Hei 7-19551.
【０００３】この電磁波シールド性を有する光学フィル
ターは、透明又は着色プラスチック基板４１の両面にハ
ードコート層４２、４２’を形成し、ハードコート層４
２上に酸化インジウムと酸化スズの混合物（以下、ＩＴ
Ｏと言う。）により導電層４３を形成し、導電層４３、
ハードコート層４２’上にそれぞれ低屈折率層４４及び
４４’を形成している。In an optical filter having electromagnetic wave shielding properties, hard coat layers 42 and 42 ′ are formed on both sides of a transparent or colored plastic substrate 41, and a hard coat layer 4 is formed.
2 is a mixture of indium oxide and tin oxide (hereinafter referred to as IT
Say O. ) To form a conductive layer 43,
Low refractive index layers 44 and 44 'are formed on the hard coat layer 42', respectively.
【０００４】従って、この電磁波シールド性を有する光
学フィルターを用いれば、導電層４３によりカラープラ
ズマディスプレイパネルからの電磁波をシールドするこ
とができる。また、ハードコート層を透明又は着色プラ
スチック基板の表面に形成することにより、それまで問
題であったプラスチックの表面硬度の低さによる傷のつ
き易さも解決し、着色基板により画面のコントラストも
向上し、低屈折率層により反射防止機能も具備すること
ができるとしている。Therefore, if the optical filter having the electromagnetic wave shielding property is used, the electromagnetic wave from the color plasma display panel can be shielded by the conductive layer 43. Also, by forming the hard coat layer on the surface of the transparent or colored plastic substrate, the problem of scratches due to the low surface hardness of the plastic, which had been a problem before, is solved, and the contrast of the screen is improved by the colored substrate. It is stated that the antireflection function can be provided by the low refractive index layer.
【０００５】また、特公平７−４６５７０号公報に記載
の「電磁波シールド性を有する光透過板」を図５に示
す。[0005] Fig. 5 shows an "light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties" described in Japanese Patent Publication No. 7-46570.
【０００６】この電磁波シールド性を有する光透過板を
用いれば、図４のフィルターの効果に加えて導電層が露
出していることにより導電層の接地も容易になる。When the light transmitting plate having the electromagnetic wave shielding property is used, in addition to the effect of the filter shown in FIG. 4, since the conductive layer is exposed, grounding of the conductive layer becomes easy.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
フィルターにおいては、基板を着色して画面のコントラ
ストを上昇させるため、透明基板として着色が容易なプ
ラスチックを用いている。従って、カラープラズマディ
スプレイパネルからの放熱によりこのプラスチックの透
明基板にソリ及び熱伸縮が発生するという問題点を有す
る。However, in the above-described filter, a plastic that is easily colored is used as the transparent substrate in order to increase the contrast of the screen by coloring the substrate. Therefore, there is a problem that warpage and thermal expansion and contraction occur on the plastic transparent substrate due to heat radiation from the color plasma display panel.
【０００８】また、透明基板としてガラスを用いれば、
ガラスの耐熱性によりソリ及び熱伸縮は防止できるが、
一般にガラスを着色することは非常に難しく、従って透
明基板としてガラスを用いると画面のコントラストを上
昇させることが困難であるという問題点を有し、さらに
光学フィルターの破損時のガラス飛散による危険を伴う
という問題点を有する。When glass is used as the transparent substrate,
Although warpage and thermal expansion and contraction can be prevented by the heat resistance of glass,
In general, it is very difficult to color glass, and thus it is difficult to increase the contrast of a screen when glass is used as a transparent substrate, and furthermore, there is a risk of glass scattering when the optical filter is damaged. There is a problem that.
【０００９】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、カラープラズマディスプレイパネルからの電磁波を
遮断し、画面のコントラストを上昇させ、カラープラズ
マディスプレイパネルからの熱による基板のソリ及び熱
伸縮を防止し、光学フィルターの破損時のガラス飛散に
よる危険を除去することのできる電磁波シールド光学フ
ィルターおよびその製造方法を提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of the above problems, and blocks electromagnetic waves from a color plasma display panel, increases the contrast of a screen, and reduces warpage and thermal expansion and contraction of a substrate due to heat from the color plasma display panel. It is an object of the present invention to provide an electromagnetic wave shielding optical filter capable of preventing and eliminating a danger caused by glass scattering when the optical filter is broken, and a method of manufacturing the same.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
片面に第１の反射防止層を形成し、他方の面に電磁波遮
断層を形成したガラス基板と、片面に第２の反射防止層
を形成した着色プラスチック層とを有し、前記ガラス基
板の前記電磁波遮断層と前記着色プラスチック層の前記
第２の反射防止層と反対の面とを貼合わせたことを特徴
とする。According to the first aspect of the present invention,
A glass substrate having a first antireflection layer formed on one surface and an electromagnetic wave shielding layer formed on the other surface, and a colored plastic layer having a second antireflection layer formed on one surface; The electromagnetic wave shielding layer and the surface of the colored plastic layer opposite to the second antireflection layer are bonded to each other.
【００１１】請求項２記載の発明は、片面に第１の反射
防止層を形成し、他方の面に電磁波遮断層を形成したガ
ラス基板と、片面に第２の反射防止層を形成した着色フ
ィルムとを有し、前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と
前記着色フィルムの前記第２の反射防止層と反対の面と
を接着剤により貼合わせたことを特徴とする。A second aspect of the present invention is a glass substrate having a first antireflection layer formed on one side and an electromagnetic wave shielding layer formed on the other side, and a colored film having a second antireflection layer formed on one side. Wherein the electromagnetic wave shielding layer of the glass substrate and the surface of the colored film opposite to the second antireflection layer are bonded with an adhesive.
【００１２】請求項３記載の発明は、請求項１又は２に
記載の発明において、前記第１及び第２の反射防止層
は、基板にスパッタリング法により形成した一酸化ケイ
素層と、スパッタリング法により形成した酸化マグネシ
ウム層と、スパッタリング法により形成した沸化マグネ
シウム層とを有することを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the first and second antireflection layers are formed by sputtering a silicon monoxide layer formed on a substrate by a sputtering method. It has a magnesium oxide layer formed and a magnesium boride layer formed by a sputtering method.
【００１３】請求項４記載の発明は、請求項２記載の発
明において、前記フィルムがポリウレタンフィルムであ
ることを特徴とする。According to a fourth aspect of the present invention, in the second aspect, the film is a polyurethane film.
【００１４】請求項５記載の発明は、請求項１から４の
いずれかに記載の発明において、前記電磁波遮断層が酸
化インジウムと酸化スズとを含む材料により形成される
ことを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer is formed of a material containing indium oxide and tin oxide.
【００１５】請求項６記載の発明は、請求項１から５の
いずれかに記載の発明において、前記電磁波遮断層が金
属メッシュパターンにより形成されることを特徴とす
る。According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the electromagnetic wave shielding layer is formed by a metal mesh pattern.
【００１６】請求項７記載の発明は、ガラス基板の片面
に第１の反射防止層を形成する工程と、前記ガラス基板
の他方の面に電磁波遮断層を形成する工程と、着色プラ
スチック層の片面に第２の反射防止層を形成する工程
と、前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と、前記着色プ
ラスチック層の前記第２の反射防止層と反対の面とを貼
合わせる工程とを有することを特徴とする。The invention according to claim 7 is a step of forming a first antireflection layer on one side of a glass substrate, a step of forming an electromagnetic wave shielding layer on the other side of the glass substrate, and a step of forming one side of the colored plastic layer. Forming a second anti-reflection layer, and bonding the electromagnetic wave blocking layer of the glass substrate to a surface of the colored plastic layer opposite to the second anti-reflection layer. And
【００１７】請求項８記載の発明は、ガラス基板の片面
に第１の反射防止層を形成する工程と、前記ガラス基板
の他方の面に電磁波遮断層を形成する工程と、着色フィ
ルムの片面に第２の反射防止層を形成する工程と、前記
ガラス基板の前記電磁波遮断層と、前記着色フィルム層
の前記第２の反射防止層と反対の面とを貼合わせる工程
とを有することを特徴とする。The invention according to claim 8 is a step of forming a first antireflection layer on one side of a glass substrate, a step of forming an electromagnetic wave shielding layer on the other side of the glass substrate, Forming a second anti-reflection layer, and bonding the electromagnetic wave blocking layer of the glass substrate to a surface of the colored film layer opposite to the second anti-reflection layer. I do.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
る電磁波シールド光学フィルターの実施形態を説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, an embodiment of an electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention will be described with reference to the drawings.
【００１９】図１に、本発明に係る電磁波シールド光学
フィルターの第１の実施例の構造を示す。FIG. 1 shows the structure of a first embodiment of the electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention.
【００２０】この電磁波シールド光学フィルターは、た
とえばソーダガラスのガラス板１を有し、ガラス板１の
片面に反射防止層３を形成し、他方の面に電磁波遮断層
５を形成している。また、着色プラスチック層９の片方
の面に反射防止層３を形成し、他方の面とガラス板１の
片面に形成された電磁波遮断層５とを接着剤層７を介し
て貼合わせている。This electromagnetic wave shielding optical filter has, for example, a glass plate 1 of soda glass, an antireflection layer 3 is formed on one surface of the glass plate 1, and an electromagnetic wave shielding layer 5 is formed on the other surface. Further, the antireflection layer 3 is formed on one surface of the colored plastic layer 9, and the other surface and the electromagnetic wave shielding layer 5 formed on one surface of the glass plate 1 are bonded via an adhesive layer 7.
【００２１】反射防止層３は、ガラス板１及び着色プラ
スチック層９上に形成され、例えば７００ｎｍ程度の膜
厚で一酸化ケイ素がスパッタリング法により形成され、
その上に３５００ｎｍ程度の膜厚で酸化マグネシウムが
スパッタリング法により形成され、その上に２０００ｎ
ｍ程度の膜厚で沸化マグネシウムがスパッタリング法に
より形成されている。The anti-reflection layer 3 is formed on the glass plate 1 and the colored plastic layer 9. For example, silicon monoxide is formed to a thickness of about 700 nm by a sputtering method.
Magnesium oxide is formed thereon with a thickness of about 3500 nm by a sputtering method.
Magnesium boride having a thickness of about m is formed by a sputtering method.
【００２２】電磁波遮断層５は、ニッケルの金属メッシ
ュパターンをガラス板１上に形成するか又は、ＩＴＯ層
をガラス板１上にスパッタリング法により形成する。ニ
ッケルの金属メッシュパターンはフォトレジスト法によ
り形成する。この形成方法としては、ガラス板１上に感
光剤を塗着し、後にニッケルの導電パターンとなる部分
を覆うようにマスクをして光照射を行い、水洗を行な
う。この際、導電パターンを覆うようなマスクは、好ま
しくは導電パターンが１５μｍ幅程度でかつ格子パター
ンとなるようなマスクを用いる。上記水洗を行うと、導
電パターンに対応するレジストの未感光部は溶解し、感
光部のみがガラス板１上に残る。その後、感光部が残っ
ている透光性基板１上の全面にニッケルを蒸着法により
１〜３μｍ程度形成する。次に、リフトオフ処理を行
い、レジストをその表面のニッケルとともに除去するこ
とによりニッケルによるたとえば格子状の導電パターン
が形成される。The electromagnetic wave shielding layer 5 is formed by forming a nickel metal mesh pattern on the glass plate 1 or forming an ITO layer on the glass plate 1 by a sputtering method. The nickel metal mesh pattern is formed by a photoresist method. As a forming method, a photosensitive agent is applied onto the glass plate 1, a mask is applied so as to cover a portion to be a conductive pattern of nickel later, light irradiation is performed, and water washing is performed. At this time, as the mask that covers the conductive pattern, a mask that preferably has a width of about 15 μm and has a grid pattern is used. When the above washing is performed, the unexposed portions of the resist corresponding to the conductive pattern are dissolved, and only the exposed portions remain on the glass plate 1. Thereafter, nickel is formed on the entire surface of the light-transmitting substrate 1 where the photosensitive portion remains by about 1 to 3 μm by an evaporation method. Next, a lift-off process is performed, and the resist is removed together with the nickel on the surface, thereby forming a grid-like conductive pattern of nickel, for example.
【００２３】着色プラスチック層９は、耐熱アクリル基
板に着色剤を添加したものを用いる。着色剤としては、
たとえば三井東圧染料株式会社製、商品名「PS Black M
E-3」を０．０１％程度添加して用いる。The coloring plastic layer 9 is formed by adding a coloring agent to a heat-resistant acrylic substrate. As a coloring agent,
For example, Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd., brand name "PS Black M
E-3 "is used by adding about 0.01%.
【００２４】接着剤層７としては、たとえば総研化学株
式会社製、商品名「ＳＫダイン１８３１」を用いる。こ
の接着剤をガラス板１上に形成された電磁波遮断層５と
しての導電パターン上にバーコーターでたとえば２５μ
ｍ程度塗布し、図１に示すように着色プラスチック層９
と貼合わせる。As the adhesive layer 7, for example, "SK Dyne 1831" manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. is used. This adhesive is applied on a conductive pattern as an electromagnetic wave shielding layer 5 formed on the glass plate 1 with a bar coater, for example, to a thickness of 25 μm.
m, and as shown in FIG.
And stick it together.
【００２５】ただし、図１にも示すように接着剤層７、
着色プラスチック層９及び着色プラスチック層９上に形
成される反射防止層３は電磁波遮断層５が露出部２を有
するように形成されるのが好ましい。露出部２は電磁波
遮断層５が露出している部分で、より具体的には、導電
パターンが露出している部分である。この露出部２は電
磁波遮断層５内の導電パターンの電位を接地し易くする
ために設ける。従って、接着剤層７、着色プラスチック
層９及び着色プラスチック層９上に形成される反射防止
層３の面積は電磁波遮断層５よりも小さくすることが好
ましい。However, as shown in FIG.
The colored plastic layer 9 and the antireflection layer 3 formed on the colored plastic layer 9 are preferably formed so that the electromagnetic wave shielding layer 5 has the exposed portion 2. The exposed part 2 is a part where the electromagnetic wave shielding layer 5 is exposed, more specifically, a part where the conductive pattern is exposed. The exposed portion 2 is provided to make the potential of the conductive pattern in the electromagnetic wave shielding layer 5 easy to ground. Therefore, it is preferable that the areas of the adhesive layer 7, the colored plastic layer 9, and the antireflection layer 3 formed on the colored plastic layer 9 be smaller than those of the electromagnetic wave shielding layer 5.
【００２６】本実施例によれば、ニッケルの金属メッシ
ュパターンをガラス板１上に形成するか又はＩＴＯ層を
ガラス板１上に形成することにより導電性が付与された
電磁波遮断層５がカラープラズマディスプレイパネルか
らの電磁波を遮断し、着色プラスチック層９が画面のコ
ントラストを上昇させるとともに、ガラス板１の耐熱性
によってカラープラズマディスプレイパネルからの熱に
よる基板のソリ及び熱伸縮を防止することができる。According to this embodiment, the electromagnetic wave shielding layer 5 provided with conductivity by forming a nickel metal mesh pattern on the glass plate 1 or forming an ITO layer on the glass plate 1 allows the color plasma to be formed. Electromagnetic waves from the display panel are blocked, the colored plastic layer 9 increases the contrast of the screen, and the heat resistance of the glass plate 1 prevents warpage and thermal expansion and contraction of the substrate due to heat from the color plasma display panel.
【００２７】以上の各層からなる電磁波シールド光学フ
ィルターの製造工程を図２に示す。FIG. 2 shows a manufacturing process of the electromagnetic wave shielding optical filter including the above-described respective layers.
【００２８】まず、図２の（ａ）に示すように、ガラス
板１上に導電パターン４を形成する。次に図２の（ｂ）
に示すように、ガラス板１上の導電パターン４が形成さ
れていない面に、反射防止層３を形成する。一方、図２
の（ｃ）に示すような着色プラスチック層９に、図２の
（ｄ）に示すように、反射防止層３を形成する。さら
に、図２の（ｅ）に示すように、接着剤層７を用いて図
２の（ｂ）に示すガラス板１及び図２の（ｄ）に示すプ
ラスチック基板９を貼合わせて電磁波シールド光学フィ
ルターを得る。First, a conductive pattern 4 is formed on a glass plate 1 as shown in FIG. Next, FIG.
As shown in FIG. 1, the antireflection layer 3 is formed on the surface of the glass plate 1 on which the conductive patterns 4 are not formed. On the other hand, FIG.
The anti-reflection layer 3 is formed on the colored plastic layer 9 as shown in FIG. 2C, as shown in FIG. Further, as shown in (e) of FIG. 2, the glass plate 1 shown in (b) of FIG. 2 and the plastic substrate 9 shown in (d) of FIG. Get the filter.
【００２９】図３に、本発明に係る電磁波シールド光学
フィルターの第２の実施例の構造を示す。FIG. 3 shows the structure of a second embodiment of the electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention.
【００３０】この第２の実施例が図１の第１の実施例と
異なる部分は、第１の実施例における着色プラスチック
層９及び反射防止層３を反射防止機能付き着色フィルム
層１１に置き換えている点及び、導電パターン４をＩＴ
Ｏ層に置き換えている点である。The second embodiment differs from the first embodiment in FIG. 1 in that the colored plastic layer 9 and the antireflection layer 3 in the first embodiment are replaced with a colored film layer 11 having an antireflection function. Point and conductive pattern 4
The point is that the O layer is replaced.
【００３１】反射防止機能付き着色フィルム１１は、た
とえば膜厚２００μｍ程度のポリウレタンフィルムの片
方の面に三井東圧染料株式会社製、商品名「PS Black M
E-3」をコートして着色し、さらに他方の面に沸化マグ
ネシウムを数μｍ程度コートすることにより反射防止機
能を具備させて形成される。The colored film 11 having an anti-reflection function is made of, for example, "PS Black M" manufactured by Mitsui Toatsu Dye Co., Ltd. on one surface of a polyurethane film having a thickness of about 200 μm.
E-3 "is coated and colored, and the other surface is coated with magnesium fluoride to a thickness of about several μm to provide an antireflection function.
【００３２】ガラス板１上に形成された導電パターン４
上に実施例１で用いたものと同様の接着剤をバーコータ
ーで３０μｍ程度コートし、反射防止機能付き着色フィ
ルム１１の着色剤がコートされている面と貼合わせる。Conductive pattern 4 formed on glass plate 1
The same adhesive as that used in Example 1 is coated with a bar coater to a thickness of about 30 μm, and is bonded to the surface of the colored film 11 having an antireflection function on which the coloring agent is coated.
【００３３】この実施例によれば第１の実施例と同様
に、ニッケルの金属メッシュパターンをガラス板１上に
形成するか又はＩＴＯ層をガラス板１上に形成すること
により導電性が付与された電磁波遮断層５がカラープラ
ズマディスプレイパネルからの電磁波を遮断し、反射防
止機能付き着色フィルム９が画面のコントラストを上昇
させるとともに、ガラス板１の耐熱性によってカラープ
ラズマディスプレイパネルからの熱による基板のソリ及
び熱伸縮を防止することができ、さらに反射防止機能付
き着色フィルム１１がガラス板１に貼合わせていること
により光学フィルターの破損時のガラス飛散による危険
を除去することができる。According to this embodiment, as in the first embodiment, conductivity is imparted by forming a metal mesh pattern of nickel on the glass plate 1 or forming an ITO layer on the glass plate 1. The electromagnetic wave blocking layer 5 blocks electromagnetic waves from the color plasma display panel, the colored film 9 with an anti-reflection function increases the contrast of the screen, and the heat resistance of the glass plate 1 causes the substrate to be heated by the heat from the color plasma display panel. Warpage and thermal expansion and contraction can be prevented, and the danger due to scattering of glass when the optical filter is broken can be eliminated by attaching the colored film 11 with an antireflection function to the glass plate 1.
【００３４】[0034]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、電磁波シールド光学フィルターは着色層とし
てプラスチック層を用い、透明基板としてのガラス基板
とを貼合わせている。As is apparent from the above description, according to the present invention, the electromagnetic wave shielding optical filter uses a plastic layer as a coloring layer and is bonded to a glass substrate as a transparent substrate.
【００３５】また、着色層として反射防止機能付き着色
フィルムを用い、透明基板としてのガラス基板を貼合わ
せている。したがって、カラープラズマディスプレイパ
ネルからの電磁波を遮断し、画面のコントラストを上昇
させ、カラープラズマディスプレイパネルからの熱によ
るソリ及び熱伸縮を防止し、着色ブラスチック又は着色
フィルムとガラス基板を貼合せているため、光学フィル
ターの破損時のガラス飛散による危険を除去することが
できる。Further, a colored film having an antireflection function is used as a colored layer, and a glass substrate as a transparent substrate is bonded. Therefore, the electromagnetic wave from the color plasma display panel is cut off, the contrast of the screen is increased, the warpage and thermal expansion and contraction due to the heat from the color plasma display panel are prevented, and the colored plastic or the colored film and the glass substrate are bonded together. Therefore, the danger due to glass scattering when the optical filter is damaged can be eliminated.
【図１】本発明に係る電磁波シールド光学フィルターの
一実施例を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention.
【図２】本発明に係る電磁波シールド光学フィルターの
製造工程を示す図である。FIG. 2 is a view showing a manufacturing process of the electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention.
【図３】本発明に係る電磁波シールド光学フィルターの
他の実施例を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the electromagnetic wave shielding optical filter according to the present invention.
【図４】従来の電磁波シールド光学フィルターを示す断
面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional electromagnetic wave shielding optical filter.
【図５】従来の電磁波シールド光学フィルターを示す断
面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a conventional electromagnetic wave shielding optical filter.
１ ガラス板 ２ 露出部 ３ 反射防止層 ５ 電磁波遮断層 ７ 接着剤層 ９ 着色プラスチック層 １１ 反射防止機能付き着色フィルム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass plate 2 Exposed part 3 Antireflection layer 5 Electromagnetic wave shielding layer 7 Adhesive layer 9 Colored plastic layer 11 Colored film with antireflection function
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０５Ｋ 9/00 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (72)発明者 新井 和己 東京都文京区小石川四丁目14番12号 共同 印刷株式会社内──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H05K 9/00 G02B 1/10 Z (72) Inventor Kazumi Arai 4- 14-12 Koishikawa, Bunkyo-ku, Tokyo Kyodo Printing Co., Ltd.
Claims (8)
の面に電磁波遮断層を形成したガラス基板と、 片面に第２の反射防止層を形成した着色プラスチック層
とを有し、 前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と前記着色プラスチ
ック層の前記第２の反射防止層と反対の面とを貼合わせ
たことを特徴とする電磁波シールド光学フィルター。1. A glass substrate having a first antireflection layer formed on one surface and an electromagnetic wave blocking layer formed on the other surface, and a colored plastic layer having a second antireflection layer formed on one surface. An electromagnetic wave shielding optical filter, wherein the electromagnetic wave shielding layer of the glass substrate is bonded to a surface of the colored plastic layer opposite to the second antireflection layer.
の面に電磁波遮断層を形成したガラス基板と、 片面に第２の反射防止層を形成した着色フィルムとを有
し、 前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と前記着色フィルム
の前記第２の反射防止層と反対の面とを接着剤により貼
合わせたことを特徴とする電磁波シールド光学フィルタ
ー。2. A glass substrate having a first antireflection layer formed on one surface and an electromagnetic wave blocking layer formed on the other surface, and a colored film having a second antireflection layer formed on one surface. An electromagnetic wave shielding optical filter, wherein the electromagnetic wave shielding layer of a glass substrate and the surface of the colored film opposite to the second antireflection layer are adhered with an adhesive.
にスパッタリング法により形成した一酸化ケイ素層と、 スパッタリング法により形成した酸化マグネシウム層
と、 スパッタリング法により形成した沸化マグネシウム層と
を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁
波シールド光学フィルター。3. The first and second antireflection layers include a silicon monoxide layer formed on a substrate by a sputtering method, a magnesium oxide layer formed by a sputtering method, and a magnesium boride layer formed by a sputtering method. The electromagnetic wave shielding optical filter according to claim 1 or 2, wherein:
あることを特徴とする請求項２記載の電磁波シールド光
学フィルター。4. The electromagnetic wave shielding optical filter according to claim 2, wherein said film is a polyurethane film.
化スズとを含む材料により形成されることを特徴とする
請求項１から４のいずれかに記載の電磁波シールド光学
フィルター。5. The electromagnetic wave shielding optical filter according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer is formed of a material containing indium oxide and tin oxide.
ンにより形成されることを特徴とする請求項１から５の
いずれかに記載の電磁波シールド光学フィルター。6. The electromagnetic wave shielding optical filter according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer is formed by a metal mesh pattern.
形成する工程と、 前記ガラス基板の他方の面に電磁波遮断層を形成する工
程と、 着色プラスチック層の片面に第２の反射防止層を形成す
る工程と、 前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と、前記着色プラス
チック層の前記第２の反射防止層と反対の面とを貼合わ
せる工程とを有することを特徴とする電磁波シールド光
学フィルターの製造方法。7. A step of forming a first anti-reflection layer on one side of a glass substrate, a step of forming an electromagnetic wave shielding layer on the other side of the glass substrate, and a second anti-reflection layer on one side of the colored plastic layer An electromagnetic wave shielding optical filter, comprising: a step of forming a layer; and a step of bonding the electromagnetic wave blocking layer of the glass substrate to a surface of the colored plastic layer opposite to the second antireflection layer. Manufacturing method.
形成する工程と、 前記ガラス基板の他方の面に電磁波遮断層を形成する工
程と、 着色フィルムの片面に第２の反射防止層を形成する工程
と、 前記ガラス基板の前記電磁波遮断層と、前記着色フィル
ム層の前記第２の反射防止層と反対の面とを貼合わせる
工程とを有することを特徴とする電磁波シールド光学フ
ィルターの製造方法。8. A step of forming a first antireflection layer on one side of a glass substrate, a step of forming an electromagnetic wave shielding layer on the other side of the glass substrate, and a second antireflection layer on one side of a colored film Forming an electromagnetic wave shielding layer of the glass substrate, and bonding the surface of the colored film layer opposite to the second antireflection layer. Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320551A JPH10161553A (en) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | Electromagnetic wave shielding optical filter and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8320551A JPH10161553A (en) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | Electromagnetic wave shielding optical filter and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10161553A true JPH10161553A (en) | 1998-06-19 |
Family
ID=18122699
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8320551A Pending JPH10161553A (en) | 1996-11-29 | 1996-11-29 | Electromagnetic wave shielding optical filter and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10161553A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US9971192B2 (en) | 2014-04-11 | 2018-05-15 | Samsung Display Co., Ltd. | Display panel and display device having the same |
-
1996
- 1996-11-29 JP JP8320551A patent/JPH10161553A/en active Pending
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