JPH10148619A - 検査基体の面欠陥検査方法及び装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 検査基体の面に存在するヘヤーライン状のキ
ズ欠陥のように比較的光量変化の少ない微細な欠陥をも
検出する。 【解決手段】 検査基体１１を所定速度で連続的に搬送
する搬送手段２１と、搬送される検査基体１１の表裏両
面１２、１３の各特定位置に光源３１ａ、３１ｂからの
直線帯状の照射光３２ａ、３２ｂを所定入射角度で照射
する照射手段と、各被照射面の面欠陥によって発生する
散乱光３４ａ、３４ｂを捉えて電気信号に変換する一次
元ＣＣＤカメラ４１ａ、４１ｂと、各面欠陥検出信号を
処理する欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂと、表面側面欠
陥検出信号の特徴量と裏面側面欠陥検出信号の特徴量と
を比較して検査基体１１の表面側１２と裏面側１３とを
判別するマイクロコンピュータ４３とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、検査基体の面欠陥
検査方法及び装置に関し、さらに詳しくは、例えば、液
晶表示素子に適用されるガラス基板や、表面に酸化膜
（ＳｉＯ₂ ）あるいは透明導電膜（ＩＴＯ）を被着させ
たガラス基板等の面欠陥（特に、ヘヤーラインと呼ばれ
るキズ欠陥）検査をなすための一次元ＣＣＤ(Charge Co
upled Device) カメラによる面欠陥検査方法及び装置の
改良に係るものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、この種の各種製品に対する面欠
陥検査については、従来から目視によって行われてきた
が、ＣＣＤカメラの性能向上に伴い、各種の産業分野に
おいて広くＣＣＤカメラを用いた自動検査に置き換えら
れつつあり、特に、液晶表示技術分野では、目視によっ
ては必ずしも達成し得ない微細なヘヤーラインの確認に
合わせて、より厳しく且つ高速な製品検査、つまり、こ
こでは液晶表示面を形成する基板材料としてのガラス基
板や、表面にＳｉＯ₂ 膜あるいはＩＴＯ膜を被着させた
ガラス基板の面検査を行う必要上、一次元ＣＣＤカメラ
による面欠陥検査が望まれており、一部においては既に
利用され始めている。

【０００３】図３ないし図５に従来の一次元ＣＣＤカメ
ラを用いた一般的な面欠陥検査装置の概要を模式的に示
す。

【０００４】ここで、通常の欠陥としては、先に述べた
ヘヤーラインのような微細なキズの他にも、例えば、異
物の付着、ピンホール、その他のキズ等が挙げられる
が、検査対象物（検査基体）が光透過性である場合に
は、図３に示すように、暗視野下で光源１からの直線帯
状の照射光、例えば、蛍光灯やハロゲンランプを用いた
伝送ライトによって得られる直線帯状の照射光１ａを矢
印方向に搬送される検査対象物（この場合、ガラス基板
に相当）２に照射して透過させ、該透過光１ｂを搬送方
向に直交して直線的に配した一次元ＣＣＤカメラ３に捉
えて電気信号に変換するようにしたもので、この図３の
従来例では、照射光１ａが検査対象物２を透過する際
に、該検査対象物２の該当透過面部分に欠陥が存在する
と、該欠陥によって透過光量が変化することから、その
透過光量の変化を一次元ＣＣＤカメラ３で検出するので
ある。

【０００５】また、検査対象物２が光透過性でない場合
には、図４に示すように、光源４からの同様な直線帯状
の照射光４ａを同様に矢印方向に搬送される検査対象物
（この場合、表面にＳｉＯ₂ 膜あるいはＩＴＯ膜を被着
させたガラス基板に相当）５に所定の入射角度で照射し
て反射させ、該反射光４ｂを同様に一次元ＣＣＤカメラ
６に捉えるようにしたもので、この図４の従来例では、
照射光４ａが検査対象物５の面で反射される際に、該検
査対象物５の該当反射面部分に欠陥が存在すると、該欠
陥によって反射光量が変化することから、その反射光量
の変化を一次元ＣＣＤカメラ６で検出するのである。

【０００６】ところが、これらの図３及び図４に示す従
来の各手段では、その何れもが一次元ＣＣＤカメラ３、
６のベース信号に透過光１ｂないしは反射光４ｂが重畳
されるために、先に述べたヘヤーラインのような微細な
キズ欠陥に伴う光量変化の少ない欠陥を検出し得ないも
のであった。

【０００７】この対応策として、図５に示すように、光
源７からの同様な直線帯状の照射光７ａを同様に矢印方
向に搬送される検査対象物（この場合、ガラス基板に相
当）８に所定の入射角度で照射して反射させ、該照射光
７ａによる直接光あるいは反射光以外に、被照射面の面
欠陥によって発生する散乱光７ｂを同様に一次元ＣＣＤ
カメラ９に捉えるようにしたもので、この図５の従来例
では、照射光７ａが検査対象物８の面で反射される際
に、該検査対象物８の該当反射面部分に欠陥が存在する
と、該欠陥によって散乱されるが、このときの散乱光量
のみを一次元ＣＣＤカメラ９で検出するのである。

【０００８】即ち、この図５に示す従来の手段において
は、透過光ないしは反射光の何れもが一次元ＣＣＤカメ
ラ９のベース信号には重畳されず、散乱光７ｂのみが重
畳されるために、ヘヤーラインのような光量変化の少な
い微細なキズ欠陥、例えば、１μｍ程度の幅をもつキズ
欠陥や、同様に１μｍ程度の微小な密集欠陥の検出が可
能であって、液晶表示技術分野での厳しい検査基準によ
る製品検査を高速で行う目的のために実用化されてい
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ここで、液晶表示技術
分野をはじめとする各種技術分野での機能性材料として
の検査基体に対する表面側の検査基準は、その裏面側と
は異なって、該表面側に膜付け等の後処理がなされるの
が必須であることから、該当検査基準がますます厳しく
なる傾向にある。

【００１０】先に述べた従来の各検査手段の場合には、
検査基体のそれ自体が、例えば、ガラス基板のように表
裏両面の態様がほぼ同様で、該表裏を比較的判断し難い
ものであると、検出される検査基体の欠陥が表面側に存
在するのか裏面側に存在するのかが容易には区別でき
ず、それほど厳しい検査基準を必要としない裏面側に対
しても、表面側と全く同様な厳しい検査基準のもとに検
査を行なわざるを得ないため、該裏面側での検査基準が
厳し過ぎることになり、たとえ裏面側としては良品であ
っても、これを不良品として判別する場合が多く、この
結果、製品全体の製造歩留り低下を招く惧れがあった。

【００１１】従って、最近では、この種の検査基体に対
する検査として、欠陥が検出された場合、特に、該欠陥
が表面側の欠陥であるか、あるいは裏面側の欠陥である
かを容易に判別して検査し得る手段の提案が望まれてい
る。

【００１２】そこで、このような検査基体の表裏を明確
に区分するという要望に応えるために、搬送移動する検
査基体の被検出面に対して非常に浅い入射角度で直線帯
状の照射光を照射し、且つその反射光のみを一次元ＣＣ
Ｄカメラに捉えて検出する手段も提案されてはいるが、
この場合には、照射角度が浅いので、該対象となる検査
基体の反りとか搬送に伴う上下振動によって検出感度が
大きく影響されることになり、ここでの液晶表示技術分
野でのように、ガラス基板のように比較的大きな検査基
体が対象であると、該手段を実質的には採用できないも
のであった。

【００１３】本発明は、このような従来の問題点を解消
するためになされたもので、その目的とするところは、
たとえヘヤーライン状のキズ欠陥のように比較的光量変
化の少ない微細な欠陥をも検出できて、しかも該検出さ
れる欠陥が表面側であるか裏面側であるかを容易に判別
可能にすると共に、該表面側と裏面側とに対してそれぞ
れに相応する異なった検査基準を適用して製造歩留りの
よい製品検査を高速且つ能率的になし得るようにした検
査基体の面欠陥検査方法及び装置を提供することであ
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る請求項１に記載の検査基体の面欠陥検
査方法は、表裏両面を有する検査基体の面に直線帯状の
照射光を照射した状態で、該照射光による直接光あるい
は反射光以外に、被照射面の面欠陥によって発生する散
乱光を一次元ＣＣＤカメラで採光して検出し、該被照射
面の面欠陥の有無を検出する検査方法において、前記検
査基体の表裏双方の面にそれぞれ直線帯状の照射光を照
射した状態で、該表裏双方の被照射面の各面欠陥によっ
て発生する散乱光をそれぞれに各別の一次元ＣＣＤカメ
ラで採光して表裏それぞれの面欠陥検出信号を得ると共
に、表面側一次元ＣＣＤカメラによって得た表面側面欠
陥検出信号の特徴量と裏面側一次元ＣＣＤカメラによっ
て得た裏面側面欠陥検出信号の特徴量とを比較し、検出
された面欠陥が表面側の面欠陥であるか裏面側の面欠陥
であるかを判断することを特徴とするものである。

【００１５】本発明に係る請求項２に記載の検査基体の
面欠陥検査方法は、請求項１の面欠陥検査方法におい
て、面欠陥検出信号特徴量の少なくとも二つ以上を用い
て面欠陥が表面側の面欠陥であるか裏面側の面欠陥であ
るかを判断することを特徴とするものである。

【００１６】本発明に係る請求項３に記載の検査基体の
面欠陥検査方法は、請求項１または２の何れかの面欠陥
検査方法において、前記検査基体が、光透過性検査基体
であることを特徴とするものである。

【００１７】また、本発明に係る請求項４に記載の検査
基体の面欠陥検査装置は、表裏両面を有する検査基体の
面に直線帯状の照射光を照射した状態で、該照射光によ
る直接光あるいは反射光以外に、被照射面の面欠陥によ
って発生する散乱光を一次元ＣＣＤカメラで採光して検
出し、該被照射面の面欠陥の有無を検出する検査装置に
おいて、前記検査基体を所定速度で連続的に搬送する搬
送手段と、該搬送される検査基体の表裏両面の各特定位
置にそれぞれ光源からの直線帯状の照射光を所定入射角
度で照射する各照射手段と、該各照射光による直接光あ
るいは反射光以外に、各被照射面の面欠陥によって発生
する散乱光をそれぞれに捉えて電気信号に変換する各一
次元ＣＣＤカメラと、該各一次元ＣＣＤカメラによって
検出されたそれぞれの各面欠陥検出信号を処理する各欠
陥信号処理器と、該各欠陥信号処理器で処理されたそれ
ぞれの各信号を処理して面欠陥検出信号の特徴量を得た
上で、表面側面欠陥検出信号の特徴量と裏面側面欠陥検
出信号の特徴量とを比較して前記検査基体の表面側と裏
面側とを判別するマイクロコンピュータとを備えること
を特徴とするものである。

【００１８】本発明に係る請求項５に記載の検査基体の
面欠陥検査装置は、請求項４の面欠陥検査装置におい
て、前記検査基体が、光透過性検査基体であることを特
徴とするものである。

【００１９】本発明の検査方法及び装置では、搬送機構
によって搬送される検査基体での表裏の被検出面に直線
帯状の照射光を照射し、該表裏両面の欠陥に基づくそれ
ぞれの散乱光を一次元ＣＣＤカメラに捉えて電気信号に
変換した上で、対応する各欠陥信号処理器によって信号
処理すると共に、マイクロコンピュータによってそれぞ
れの各欠陥検出信号の特徴量を相互に比較することによ
り、検査基体の欠陥が表面側であるか裏面側であるかの
判断を容易になし得る。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る検査基体の面
欠陥検査方法及び装置の各別による夫々の実施形態例に
つき、図１及び図２を参照して詳細に説明する。

【００２１】

【実施例１】図１は、本発明方法の実施例１を適用した
面欠陥検査装置の概要を模式的に示す説明図である。

【００２２】この図１に示す実施例１の装置構成におい
て、検査対象となる検査基体、この場合、表面にＳｉＯ
₂ 膜あるいはＩＴＯ膜１１ａを被着させた液晶表示用の
ガラス基板１１は、搬送機構２１を構成する各搬送ロー
ラー２２によって矢印ａに示す搬送方向へ所定の搬送速
度で搬送移動される。ここで、前記ガラス基板１１につ
いては、説明の便宜上、ＳｉＯ₂ 膜あるいはＩＴＯ膜１
１ａを被着させた側を表面側１２とし、且つその反対側
を裏面側１３とする。また、本実施例１の場合、前記搬
送機構２１については、矢印ｂに示す逆方向への同一搬
送速度による搬送も可能にされている。

【００２３】前記搬送機構２１の各搬送ローラー２２に
よって任意の面を上向きまたは下向きにして搬送される
ガラス基板１１には、暗視野のもとで、搬送移動する上
方面の特定位置に対して、例えば、ハロゲンやメタルハ
ライド等のランプを用いた光源３１からの直線帯状の照
射光３２を比較的深い入射角度で照射可能にすると共
に、該照射される照射光３２の反射光３３を直接的には
捉えることのない上方位置にあって、搬送方向に直交し
て配置される一次元ＣＣＤカメラ４１により、該照射さ
れている上方面に存在する可能性のあるキズ欠陥１４に
よる散乱光３４のみを捉えて電気信号に変換するように
し、さらに、変換された電気信号を処理して面欠陥検出
信号を出力する欠陥信号処理器４２と、各入力信号を判
別する演算処理装置としてのマイクロコンピュータ４３
とを設けたものである。なお、図中１５は下方面に存在
する可能性のあるキズ欠陥であり、また、前記直線帯状
の照射光３２を得る光源１２の形態としては、ライン状
の光源であっても、例えば、点状光源からの光束を入射
する側で集束され、出射する側でライン状に展開された
光ファイバーを導光に用い、且つ出射側にロッドレンズ
を配した構成であってもよい。

【００２４】従って、本実施例１による装置構成では、
次のように検査基体としてのガラス基板１１の欠陥検査
が行われる。

【００２５】まず最初に、搬送機構２１の各搬送ローラ
ー２２によってガラス基板１１を矢印ａの搬送方向へ所
定の搬送速度で搬送移動させると共に、暗視野のもとで
該ガラス基板１１の上向きにされている一方のガラス面
の特定位置、例えば、この場合には表面側１２の特定位
置を光源３１からの直線帯状の照射光３２で連続的に照
射する。このとき、上向き面である表面側１２にキズ欠
陥が存在しない場合には、照射光３２がそのまま反射さ
れて反射光３３となり、該キズ欠陥が存在する場合に
は、散乱光３４となる。ここで、一次元ＣＣＤカメラ４
１は、反射光３２以外の散乱光３４を捉えて電気信号に
変換し、該変換された信号が欠陥信号処理器４２で処理
され、その面欠陥検出信号、ここでは表面側１２の欠陥
存在位置データを含む面欠陥検出信号の特徴量が検出さ
れてマイクロコンピュータ４３に入力される。

【００２６】引続き、前記一方の面である表面側１２が
検査されたガラス基板１１を手動もしくはハンドリング
ロボット等で反転する、つまり、今度は裏面側１３を上
向きにして矢印ｂの逆方向に搬送移動させることで同様
な検査をなし、同様に裏面側１３の欠陥存在位置データ
を含む面欠陥検出信号の特徴量が検出されてマイクロコ
ンピュータ４３に入力される。

【００２７】マイクロコンピュータ４３では、これらの
入力される各信号データから、表面側１２と裏面側１３
とのそれぞれの各面欠陥検出信号の特徴量を比較するこ
とにより、検出されたキズ欠陥が表面側１２の欠陥であ
るかあるいは裏面側１３の欠陥であるかが判別され、そ
の後、該判別結果に対応して表面側１２ないしは裏面側
１３の各検査基準に合わせてガラス基板１１の良・不良
を判断するもので、この判断によれば、表面側１２に対
しては表面側検査基準を裏面側１３に対しては裏面側検
査基準をそれぞれに適用し得るので、上記従来の手法の
ような不利が容易に解消されるのである。

【００２８】ちなみに、光源３１としてハロゲンランプ
を用い、３６０ｍｍ×４６０ｍｍサイズのガラス基板１
１で代表的な欠陥であるサンプルにより、検出閾値を４
０ｍＶとし、且つ他の検出条件を種々に変えて検査し、
面欠陥信号の特徴量の一つであるピーク信号強度を測定
したところ、次の表１に示す結果が得られた。即ち、こ
の結果から、表面側１２の欠陥では、その何れも表面側
ピーク信号強度が大きく、裏面側１３の欠陥は、裏面側
ピーク信号強度が何れも大きくなっており、このピーク
信号強度によって表裏の判別が可能となることが確認さ
れた。

【００２９】

【表１】

【００３０】

【実施例２】図２は、本発明方法の実施例２を適用した
面欠陥検査装置の概要を模式的に示す説明図である。

【００３１】この図２に示す実施例２の装置構成におい
ても、検査対象となる検査基体である表面にＳｉＯ₂ 膜
あるいはＩＴＯ膜１１ａを被着させたガラス基板１１
は、搬送機構２１の各搬送ローラー２２によって矢印ａ
に示す搬送方向へのみ所定の搬送速度で搬送移動され
る。この各搬送ローラー２２によって搬送されるガラス
基板１１には、暗視野のもとで、搬送移動する表面側１
２及び裏面側１３の各面（ここでは、説明の便宜上、表
面側１２を上面とし、裏面側１３を下面とする）の特定
位置に対して、それぞれ上方及び下方の各光源３１ａ、
３１ｂからの直線帯状の照射光３２ａ、３２ｂを比較的
深い入射角度で照射可能にすると共に、該各照射光３２
ａ、３２ｂの反射光３３ａ、３３ｂを直接的には捉える
ことのない上方及び下方の各位置に配置されるそれぞれ
の各一次元ＣＣＤカメラ４１ａ、４１ｂにより、該照射
されている表面側１２及び裏面側１３に存在する可能性
のあるキズ欠陥１４及び１５による各散乱光３４ａ、３
４ｂのみを捉えて電気信号に変換するようにし、さら
に、変換された電気信号を処理して面欠陥検出信号を出
力する各欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂと、これらの各
欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂからの入力信号の相互を
判別する演算処理装置としてのマイクロコンピュータ４
３とを設けたものである。

【００３２】従って、本実施例２による装置構成では、
次のように検査基体としてのガラス基板１１の欠陥検査
が行われる。

【００３３】まず最初に、搬送機構２１の各搬送ローラ
ー２２によってガラス基板１１を矢印ａの搬送方向へ所
定の搬送速度で搬送移動させると共に、暗視野のもとで
該ガラス基板１１の上向きにされた表面側１２と下向き
にされた裏面側１３との各ガラス面の特定位置を光源３
１ａ及び３１ｂからの直線帯状の各照射光３２ａ、３２
ｂでそれぞれ連続的に照射する。この場合、これらの各
照射光３２ａ、３２ｂによる照射は、必ずしもガラス基
板１１の上下同一の特定位置領域に対してなされる必要
はなく、両者相互の干渉を避けるために、各照射領域及
び各一次元ＣＣＤカメラ４１ａ、４１ｂの検査領域をそ
れぞれ相互にずらして設定することも好ましい一つの手
段である。

【００３４】ついで、前記各一次元ＣＣＤカメラ４１
ａ、４１ｂで捉えられたそれぞれの欠陥検出信号は、対
応する各欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂによってそれぞ
れに処理された後、共通のマイクロコンピュータ４３に
入力され、各面欠陥信号の特徴量（例えば、ピーク信号
強度、面積、積算信号強度等）として処理された上で、
欠陥検出位置データと合わせて比較され、ここでも前例
の場合と同様に、検出されたキズ欠陥が表面側１２の欠
陥であるかあるいは裏面側１３の欠陥であるかが判別さ
れ、その後、該判別結果に対応して表面側１２ないしは
裏面側１３の各検査基準に合わせてガラス基板１１の良
・不良を判断するもので、この判断によれば、表面側１
２に対しては表面側検査基準を裏面側１３に対しては裏
面側検査基準をそれぞれに適用し得るので、上記従来の
手法のような不利が容易に解消されるのである。なお、
前記各欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂによるそれぞれの
各欠陥信号検出条件については、必ずしも同一である必
要ななく、表面側１２と裏面側１３とのそれぞれの各検
査基準をもとに異なる検出条件を採用してもよい。

【００３５】ここでも、前記各光源３１ａ、３１ｂとし
てハロゲンランプを用い、３６０ｍｍ×４６０ｍｍサイ
ズのガラス基板１１につき、検出閾値を４０ｍＶ、搬送
速度を１ｍ／分、各欠陥信号処理器４２ａ、４２ｂの信
号増幅度であるゲインを１倍と２倍にして検査した。こ
の結果、ヘアーライン状キズ欠陥の代表的なものとし
て、表面側１２での限界欠陥サンプルである約１μｍ
幅, 表面側１２での通常欠陥サンプルである約４９μｍ
幅, 及び裏面側１３での通常欠陥サンプルである約１０
０μｍ幅の各キズ欠陥によって、次の表２に示す結果が
得られた。即ち、この結果から、ゲインが１倍であれ
ば、ピーク信号強度の比較によって表裏の判別が可能と
なるが、限界サンプルまで検出可能なゲインが２倍で
は、各一次元ＣＣＤカメラ４１ａ、４１ｂのダイナミッ
クレンジが約１Ｖ程度であるために、裏面側１３の通常
欠陥の場合、そのピーク信号強度が飽和してしまって差
がなくなり、表裏の判別が困難になる。ところが、一方
で面欠陥信号特徴量として欠陥検出画素数を用いること
により、このようにピーク信号強度の飽和時でも表裏の
判断が可能になる。即ち、表裏判断の基礎となる面欠陥
信号特徴量は、単にピーク信号強度にのみ限定されるも
のではなく、目的に応じて適当に選択採用できるのであ
る。

【００３６】

【表２】

【００３７】さらに、前記実施例２の検査装置によっ
て、表面側１２での通常欠陥サンプルである約４９μｍ
幅のキズ欠陥をゲイン１倍に維持して搬送速度２ｍ／分
で検査したところ、次の表３に示す結果が得られた。即
ち、この結果によれば、検出信号が小さくなれば面欠陥
検出画素数の差がなくなることから、より広い範囲の欠
陥サイズで高信頼性の表裏判断をなすのには、例えば、
小さいキズ欠陥の場合、ピーク信号強度を用い、一定以
上のピーク信号強度をもつ大きな欠陥の場合、面欠陥検
出画素数を用いる等の少なくとも二つ以上の面欠陥検出
信号特徴量を組み合わせることが望ましい。

【００３８】

【表３】

【００３９】なお、上記実施例２による検査装置は、表
面側と裏面側とにそれぞれ配置された二つの一次元ＣＣ
Ｄカメラ系で得られる面欠陥検出信号特徴量を相互に比
較することで、面欠陥に関して何らかの判断を行う任意
の検査手段にも適用可能であり、上記液晶技術分野での
ガラス基板やＳｉＯ₂ あるいはＩＴＯ等の膜付きガラス
基板の面検査をはじめとして、その他のプラズマディス
プレイ等の各種表示装置に用いられる基板もしくは任意
の膜付き基板等の面検査に極めて有用である。

【００４０】

【発明の効果】以上、各実施の態様によって詳述したよ
うに、本発明によれば、搬送機構によって搬送される検
査基体での表裏の被検出面に直線帯状の照射光を照射
し、該表裏両面の欠陥に基づくそれぞれの散乱光を一次
元ＣＣＤカメラに捉えて電気信号に変換した上で、対応
する各欠陥信号処理器によって信号処理すると共に、マ
イクロコンピュータによってそれぞれの各欠陥検出信号
の特徴量を相互に比較するようにしたから、従来の手法
とは異なって基体自体の反りや搬送の際の上下振動等に
全く影響されずに、検査基体の欠陥が表面側であるか裏
面側であるかの判断を高い信頼性のもとで容易になし得
るのであり、この結果、表面側と裏面側とで相互に異な
る検査基準を対応させての検査基体の欠陥検査を行うこ
とができるという優れた利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１を適用した面欠陥検査装置の
概要を模式的に示す説明図である。

【図２】本発明の実施例２を適用した面欠陥検査装置の
概要を模式的に示す説明図である。

【図３】従来の光透過型面欠陥検査装置の概要を模式的
に示す説明図である。

【図４】従来の光反射型面欠陥検査装置の概要を模式的
に示す説明図である。

【図５】従来の散乱光検出型面欠陥検査装置の概要を模
式的に示す説明図である。

【符号の説明】

１１ ガラス基板（検査基体） １１ａ ガラス基板表面側のＳｉＯ₂ 膜あるいはＩＴＯ
膜 １２ ガラス基板の表面側 １３ ガラス基板の裏面側 １４ 表面側のキズ欠陥 １５ 裏面側のキズ欠陥 ２１ 搬送機構 ２２ 搬送機構の搬送ローラー ３１、３１ａ、３１ｂ 光源 ３２、３２ａ、３２ｂ 照射光 ３３、３３ａ、３３ｂ 反射光 ３４、３４ａ、３４ｂ 散乱光 ４１、４１ａ、４１ｂ 一次元ＣＣＤカメラ ４２、４２ａ、４２ｂ 欠陥信号処理器 ４３ マイクロコンピュータ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表裏両面を有する検査基体の面に直線帯
   状の照射光を照射した状態で、該照射光による直接光あ
   るいは反射光以外に、被照射面の面欠陥によって発生す
   る散乱光を一次元ＣＣＤカメラで採光して検出し、該被
   照射面の面欠陥の有無を検出する検査方法において、 前記検査基体の表裏双方の面にそれぞれ直線帯状の照射
   光を照射した状態で、該表裏双方の被照射面の各面欠陥
   によって発生する散乱光をそれぞれに各別の一次元ＣＣ
   Ｄカメラで採光して表裏それぞれの面欠陥検出信号を得
   ると共に、表面側一次元ＣＣＤカメラによって得た表面
   側面欠陥検出信号の特徴量と裏面側一次元ＣＣＤカメラ
   によって得た裏面側面欠陥検出信号の特徴量とを比較
   し、検出された面欠陥が表面側の面欠陥であるか裏面側
   の面欠陥であるかを判断することを特徴とする検査基体
   の面欠陥検査方法。
2. 【請求項２】 面欠陥検出信号特徴量の少なくとも二つ
   以上を用いて面欠陥が表面側の面欠陥であるか裏面側の
   面欠陥であるかを判断することを特徴とする請求項１に
   記載の検査基体の面欠陥検査方法。
3. 【請求項３】 前記検査基体が、光透過性検査基体であ
   ることを特徴とする請求項１または２の何れかに記載の
   検査基体の面欠陥検査方法。
4. 【請求項４】 表裏両面を有する検査基体の面に直線帯
   状の照射光を照射した状態で、該照射光による直接光あ
   るいは反射光以外に、被照射面の面欠陥によって発生す
   る散乱光を一次元ＣＣＤカメラで採光して検出し、該被
   照射面の面欠陥の有無を検出する検査装置において、 前記検査基体を所定速度で連続的に搬送する搬送手段
   と、該搬送される検査基体の表裏両面の各特定位置にそ
   れぞれ光源からの直線帯状の照射光を所定入射角度で照
   射する各照射手段と、該各照射光による直接光あるいは
   反射光以外に、各被照射面の面欠陥によって発生する散
   乱光をそれぞれに捉えて電気信号に変換する各一次元Ｃ
   ＣＤカメラと、該各一次元ＣＣＤカメラによって検出さ
   れたそれぞれの各面欠陥検出信号を処理する各欠陥信号
   処理器と、該各欠陥信号処理器で処理されたそれぞれの
   各信号を処理して面欠陥検出信号の特徴量を得た上で、
   表面側面欠陥検出信号の特徴量と裏面側面欠陥検出信号
   の特徴量とを比較して前記検査基体の表面側と裏面側と
   を判別するマイクロコンピュータとを備えることを特徴
   とする検査基体の面欠陥検査装置。
5. 【請求項５】 前記検査基体が、光透過性検査基体であ
   ることを特徴とする請求項４に記載の検査基体の面欠陥
   検査装置。