JPH10139155A - Substrate treatment device - Google Patents
Substrate treatment deviceInfo
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- JPH10139155A JPH10139155A JP29230496A JP29230496A JPH10139155A JP H10139155 A JPH10139155 A JP H10139155A JP 29230496 A JP29230496 A JP 29230496A JP 29230496 A JP29230496 A JP 29230496A JP H10139155 A JPH10139155 A JP H10139155A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示器用のガラス基
板、光ディスク用の基板、等の各種の基板に種々の処理
を施す処理部を備えた基板処理装置に係り、特には、基
板を収納したカセットを搬入および搬出するためのステ
ージに備えたシャッタ構造に特徴を有する基板処理装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate having a processing unit for performing various processes on various substrates such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display, and a substrate for an optical disk. The present invention relates to a processing apparatus, and more particularly to a substrate processing apparatus characterized by a shutter structure provided on a stage for loading and unloading a cassette containing substrates.
【０００２】[0002]
【従来の技術】この種の基板処理装置においては、外部
雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲
気への薬液雰囲気の流出を防止するために、基板が収納
されたカセットを搬入および搬出するステージにシャッ
タ構造が備えられている。従来のシャッタ構造として
は、図７（ａ）に示すように、偏平板状の２枚のシャッ
タ本体３１を引き違い状に左右に開閉する構造の引き戸
タイプや、図７（ｂ）に示すように、偏平板状のシャ
ッタ本体３１を上下に開閉する構造の上下スライドタイ
プが知られている。2. Description of the Related Art In a substrate processing apparatus of this type, a cassette in which substrates are stored is carried in to prevent dust from entering the apparatus from the external atmosphere and flowing out of a chemical solution from the apparatus to the external atmosphere. Also, a shutter structure is provided on the stage to be carried out. As a conventional shutter structure, as shown in FIG. 7 (a), a sliding door type having a structure in which two flat plate-shaped shutter bodies 31 are opened and closed right and left in a sliding manner, or as shown in FIG. 7 (b). In addition, a vertical slide type having a structure in which a flat plate-shaped shutter main body 31 is opened and closed vertically is known.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
あった。上記引き戸タイプは、ステージ３０の前面開
口部、つまり基板を収納したカセットＣが出入りする経
路の上方箇所にシャッタ本体３１をスライド案内するガ
イドレール３２が存在するために、このスライド案内に
伴って発生した塵埃が基板上に落下して基板を汚損する
おそれがあった。また、この引き戸タイプではステージ
３０の前面開口部の左右片側部分しか開放されないの
で、カセットＣの搬入搬出に不便なものとなっていた。However, the prior art having such a configuration has the following problems. In the sliding door type, a guide rail 32 for slidingly guiding the shutter body 31 is provided at an opening on the front surface of the stage 30, that is, above the path through which the cassette C containing the substrate enters and exits. Dust may fall on the substrate and contaminate the substrate. In addition, in this sliding door type, only the left and right sides of the front opening of the stage 30 are opened, which is inconvenient for loading and unloading the cassette C.
【０００４】これに対して、上記上下スライドタイプ
においては、ステージ２の前面開口部を全体的に大きく
開閉できる利点はあるが、シャッタ本体３１を左右から
案内するガイドレール３３がステージ３０の前面開口部
の上部にまで配備される関係から、スライド案内に伴っ
て発生した塵埃が基板上に落下して基板を汚損するおそ
れがあった。On the other hand, the vertical slide type has an advantage that the front opening of the stage 2 can be largely opened and closed as a whole, but the guide rail 33 for guiding the shutter body 31 from the left and right is provided with the front opening of the stage 30. There is a possibility that dust generated due to the slide guide may fall on the substrate and contaminate the substrate due to the arrangement up to the upper portion of the substrate.
【０００５】また、上記引き戸タイプおよび上下スラ
イドタイプのいずれにおいても、シャッタ本体３１を
開放してカセットＣを搬入および搬出する間は、外部雰
囲気から装置内への塵埃の侵入や、装置内に残留してい
る薬液雰囲気が外部雰囲気へ流出することを防止するこ
とができず、これを防止するためには、ステージ３０の
前後にシャッタ構造を配備して、それぞれを背反的に開
閉作動させる必要があり、構造が複雑で高価になるもの
であった。In both the sliding door type and the vertical sliding type, while the shutter body 31 is opened and the cassette C is loaded and unloaded, dust enters the device from the outside atmosphere and remains inside the device. It is not possible to prevent the chemical solution atmosphere from flowing out to the outside atmosphere, and in order to prevent this, it is necessary to dispose a shutter structure before and after the stage 30 and open and close each one reciprocally. However, the structure is complicated and expensive.
【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板への塵埃の付着させることなく、
ステージを大きく開閉してカセットの搬入および搬出を
容易に行うことができ、しかも、シャッタ閉じ状態はも
ちろんのこと、シャッタ開放状態でも外部雰囲気から装
置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲気への薬液雰
囲気の流出を確実に防止することができるシャッタ構造
を備えた基板処理装置を、構造簡単かつ安価に製作でき
るものとして提供することを目的とする。[0006] The present invention has been made in view of such circumstances, and without adhering dust to the substrate,
The cassette can be easily loaded and unloaded by opening and closing the stage widely. In addition to the shutter closed state, even when the shutter is open, dust can enter the apparatus from the outside atmosphere, and from the apparatus to the outside atmosphere. It is an object of the present invention to provide a substrate processing apparatus having a shutter structure capable of reliably preventing the outflow of the chemical solution atmosphere as a simple and inexpensive structure.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために次のような構成をとる。すなわち、請求項
１に係る発明は、基板を収納したカセットを搬入および
搬出するためのステージに、装置内雰囲気と外部雰囲気
とを遮断するためのシャッタ構造を備えた基板処理装置
において、略１／４円筒状に形成されたシャッタ本体を
横向き姿勢に配備するとともに、両側の側壁を横軸心周
りに回動可能に支持して、シャッタ本体を内外に回動し
て開閉するシャッタ構造を構成し、シャッタ本体を前方
外側に回動したシャッタ閉じ状態では、ステージを前方
および上方からシャッタ本体で覆って、装置内雰囲気と
外部雰囲気とを遮断し、シャッタ本体を後方内側に回動
したシャッタ開放状態では、ステージの前方および上方
に開放するとともに、内側に回し込み回動した開放状態
のシャッタ本体によって、ステージ上と装置内部とを遮
断するよう構成したものである。The present invention has the following configuration to achieve the above object. In other words, the invention according to claim 1 is a substrate processing apparatus having a shutter structure for shutting off an atmosphere inside and outside of an apparatus, on a stage for loading and unloading a cassette containing substrates. (4) A shutter structure is provided in which a shutter body formed in a cylindrical shape is disposed in a horizontal position, and both side walls are rotatably supported around a horizontal axis, and the shutter body is rotated in and out to open and close. In the shutter closed state in which the shutter body is rotated forward and outward, the stage is covered with the shutter body from the front and upper sides to shut off the atmosphere inside the apparatus and the outside atmosphere, and the shutter body is opened in a state where the shutter body is rotated backward and inward. In this case, the shutter is opened in front of and above the stage, and is inwardly turned and rotated to block the stage and the inside of the device by an open shutter body. Those configured to.
【０００８】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係る発明において、前記ステージ上にエアーを供給する
エアー供給手段と、前記ステージ上に供給されたエアー
を排出するエアー排出手段と、を備えるものである。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, there is provided an air supply means for supplying air to the stage, an air discharge means for discharging air supplied to the stage, It is provided with.
【０００９】[0009]
【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項１に
係る発明の構成によると、シャッタ本体の回動支持部が
シャッタ本体の左右外側部にあるので、例え回動支持部
から塵埃が発生したとしても、ステージ内にまで飛散す
るおそれがない。また、シャッタ閉じ状態で装置内雰囲
気と外部雰囲気とが遮断されるのは当然であるが、シャ
ッタ開放状態でも、内方に回し込んだ閉じ状態のシャッ
タ本体によってステージと装置内処理部とを連通する基
板搬送通路が塞がれて、カセットの搬入および搬出中で
も装置内雰囲気と外部雰囲気とが遮断される。The operation of the present invention is as follows. According to the configuration of the first aspect of the present invention, since the rotation support portion of the shutter main body is located on the left and right outer portions of the shutter main body, even if dust is generated from the rotation support portion, there is a possibility that the dust will scatter into the stage. Absent. It is natural that the atmosphere inside the apparatus and the outside atmosphere are shut off when the shutter is closed. However, even when the shutter is open, the stage and the processing section inside the apparatus are communicated by the closed shutter body that is turned inward. The substrate transfer path is closed, and the atmosphere inside the apparatus and the outside atmosphere are shut off even during loading and unloading of the cassette.
【００１０】また、請求項２に係る発明の構成による
と、エアー供給手段によりステージ上にエアーを供給
し、供給されたエアーをエアー排出手段によりステージ
上から排出しているので、ステージ上にエアーだまりが
生じない。According to the second aspect of the present invention, air is supplied onto the stage by the air supply means, and the supplied air is discharged from the stage by the air discharge means. No drips.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。図１は本発明に係る基板処理装置の
基板搬入搬出側の一部を示す斜視図、図２はその側面
図、図３はその縦断側面図、図４はその正面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 is a perspective view showing a part of a substrate loading / unloading side of a substrate processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a side view thereof, FIG. 3 is a longitudinal side view thereof, and FIG. 4 is a front view thereof.
【００１２】搬入された基板に所定の薬液処理を施す処
理部１の前部には、多数枚の基板を上下多段に差込み収
納したカセットＣを搬入および搬出するためのステージ
２が設けられている。このステージ２にシャッタ構造３
が備えられている。A stage 2 for loading and unloading a cassette C in which a large number of substrates are inserted and stored in multiple stages is provided in front of a processing section 1 for performing a predetermined chemical treatment on the loaded substrates. . This stage 2 has a shutter structure 3
Is provided.
【００１３】ステージ２は、そのテーブル４の奥側半分
が処理部１に入り込む状態で設けられている。このテー
ブル４上に２個のカセットＣを左右に並べて位置決めセ
ットすることができるようになっている。なお、カセッ
トＣからの基板の取り出し、および処理済み基板のカセ
ットＣへの戻しは、図示しない搬送ロボットによって行
われる。The stage 2 is provided so that the rear half of the table 4 enters the processing section 1. On the table 4, two cassettes C can be positioned and set side by side. The removal of the substrate from the cassette C and the return of the processed substrate to the cassette C are performed by a transfer robot (not shown).
【００１４】シャッタ構造３は、略１／４円筒状に形成
されたシャッタ本体５を横向き姿勢にして、その左右側
壁部の外側部に備えた回転支持部を介して水平な横軸心
Ｐ周りに開閉回動可能に支持して構成されている。詳述
すると、シャッタ本体５は、厚い樹脂板からなる左右一
対の側壁５ａの外端縁に亘って透明樹脂材板５ｂを接続
して略１／４円筒状に形成されたものである。両側壁５
ａの外側面に取り付けた軸受けプレート６が、ステージ
枠７の左右に立設した軸受けブラケット８に亘って横軸
心Ｐ周りに回動自在に軸支されている。The shutter structure 3 is configured such that the shutter main body 5 formed in a substantially quarter-cylindrical shape is placed in a horizontal position, and is rotated about a horizontal axis P through rotation supporting portions provided on the outer portions of the left and right side walls. It is constructed so as to be openable and closable. More specifically, the shutter main body 5 is formed in a substantially quarter-cylindrical shape by connecting the transparent resin material plates 5b over the outer edges of a pair of left and right side walls 5a made of a thick resin plate. Side walls 5
The bearing plate 6 attached to the outer surface of the stage a is rotatably supported around the horizontal axis P over bearing brackets 8 erected on the left and right sides of the stage frame 7.
【００１５】なお、シャッタ本体５を形成する樹脂板
は、例えばアクリル樹脂や塩化ビニール樹脂製である。
また、半導体ウエハを処理する場合には、このような樹
脂板として、静電防止処理が施されたものが好ましい。The resin plate forming the shutter body 5 is made of, for example, acrylic resin or vinyl chloride resin.
When a semiconductor wafer is processed, such a resin plate that has been subjected to an antistatic treatment is preferable.
【００１６】ステージ枠７の下部左右には、軸受けブラ
ケット９を介して操作軸１０が水平に設けられている。
この操作軸１０の両端近くに取り付けられた操作アーム
１１の両端と、軸受けプレート６とが一対づつのロッド
１２で平行四連リンク状に連動連結されている。また、
フレームの左右中間部に取り付けたエアーシリンダ１３
と、操作軸１０の中間部に固着したアーム１４とが連結
され、エアーシリンダ１３の伸縮によって操作軸が約９
０度の範囲で正逆に回動駆動されるようになっている。An operation shaft 10 is horizontally provided on the lower left and right sides of the stage frame 7 via bearing brackets 9.
Both ends of an operation arm 11 mounted near both ends of the operation shaft 10 and the bearing plate 6 are linked to each other by a pair of rods 12 in a parallel quadruple link shape. Also,
Air cylinder 13 attached to the left and right middle part of the frame
And an arm 14 fixed to an intermediate portion of the operation shaft 10.
It is designed to be driven to rotate forward and backward in the range of 0 degrees.
【００１７】図２および図３に示すように、エアーシリ
ンダ１３が収縮すると、シャッタ本体５がステージ２の
前半部を前方および上方から覆うシャッタ閉じ状態にな
る。この状態では、装置内とステージ内とが連通して、
図示しない搬送ロボットが装置内とステージ内とを自由
に移動可能となり、カセットＣと処理部１との間での基
板の搬送が行える。また、この状態では、装置内雰囲気
と外部雰囲気とがシャッタ本体５によって遮断され、外
部雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰
囲気への薬液雰囲気の流出が防止される。As shown in FIGS. 2 and 3, when the air cylinder 13 contracts, the shutter body 5 enters a shutter closed state in which the front half of the stage 2 is covered from the front and the upper side. In this state, the inside of the device communicates with the inside of the stage,
A transfer robot (not shown) can freely move between the inside of the apparatus and the inside of the stage, and the transfer of the substrate between the cassette C and the processing section 1 can be performed. Further, in this state, the atmosphere inside the apparatus and the outside atmosphere are shut off by the shutter main body 5, so that the intrusion of dust from the outside atmosphere into the apparatus and the outflow of the chemical solution atmosphere from the inside of the apparatus to the outside atmosphere are prevented.
【００１８】なお、シャッタ本体５の外周面には、ステ
ージ２における開口部上縁１５に内方から近接する障壁
５ｃが突設されており、開口部上縁１５と障壁５ｂとの
重複によって開口部上縁１５とシャッタ本体５との隙間
でのシールがなされている。また、シャッタ本体５にお
ける左右側壁５ａの各前端下部には一対の突片１６がス
テージ内方に向けてそれぞれ突設されており、各突片１
６に備えたピン１７がテーブル４に受け止め支持され
て、シャッタ本体５の閉じ方向への回動限界が規制され
ている。A barrier 5c is provided on the outer peripheral surface of the shutter main body 5 so as to approach the upper edge 15 of the opening of the stage 2 from the inside, and the upper edge 15 of the opening overlaps the barrier 5b. Sealing is provided in the gap between the upper edge 15 and the shutter body 5. Further, a pair of projecting pieces 16 are respectively provided below the front ends of the left and right side walls 5a of the shutter body 5 so as to project inward of the stage.
The pin 17 provided on the shutter 6 is received and supported by the table 4, and the rotation limit of the shutter body 5 in the closing direction is restricted.
【００１９】図５に示すように、エアーシリンダ１３が
伸長すると、シャッタ本体５が上方内方に向けて略９０
度回動され、ステージ２の前半部を前方および上方に開
放するシャッタ開放状態となる。この状態では、テーブ
ル４上が全幅に亘って大きく開放され、カセットＣの搬
入および搬出が可能となる。また、この状態では、ステ
ージ２の内奥において、内方に回り込み回動されたシャ
ッタ本体５によって装置内雰囲気と外部雰囲気とが遮断
され、外部雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内か
ら外部雰囲気への薬液雰囲気の流出が防止される。As shown in FIG. 5, when the air cylinder 13 is extended, the shutter body 5 is moved upward by approximately 90 degrees.
The stage 2 is rotated by an angle to open the shutter, in which the first half of the stage 2 is opened forward and upward. In this state, the table 4 is largely opened over the entire width, so that the cassette C can be loaded and unloaded. Further, in this state, the inside of the apparatus and the outside atmosphere are shut off by the shutter body 5 that is turned inward and rotated inside the stage 2, so that dust enters the inside of the apparatus from the outside atmosphere, and The outflow of the chemical solution atmosphere to the external atmosphere is prevented.
【００２０】なお、シャッタ本体５における左右側壁５
ａの各後端下部には一対の突片１８がステージ内方に向
けてそれぞれ突設されており、各突片１８に備えたピン
１９がテーブル４に受け止め支持されて、シャッタ本体
５の開放方向への回動限界が規制されている。The left and right side walls 5 of the shutter body 5
A pair of protruding pieces 18 project from the lower part of each rear end toward the inside of the stage, and pins 19 provided on each protruding piece 18 are received and supported by the table 4 to open the shutter body 5. The rotation limit in the direction is regulated.
【００２１】また、テーブル４の上方でシャッタ本体５
の回動範囲外に、エアー吹き出し機構２０が設けられて
おり、シャッタ閉じ状態で、このエアー吹き出し機構２
０がステージ２上にエアーを吹き出し、このエアーはテ
ーブル４の前側のエアー排出口２１から排出される。こ
れにより、ステージ２上にはエアーだまりが生じないの
で、テーブル４上に位置決めされたカセットＣにはクリ
ーンなエアーを常に供給できる。Further, a shutter body 5 is provided above the table 4.
The air blowing mechanism 20 is provided outside the rotation range of the air blowing mechanism 2.
0 blows air onto the stage 2, and this air is discharged from the air discharge port 21 on the front side of the table 4. As a result, no air accumulation occurs on the stage 2, so that clean air can always be supplied to the cassette C positioned on the table 4.
【００２２】なお、上述の実施例では、エアーシリンダ
１３によってシャッタ本体５を開閉するようにしたが、
シャッタ本体５はモータで開閉してもよい。また、シャ
ッタ本体５をアクチュエータによらず、人手によって開
閉するようにしてもよい。In the above-described embodiment, the shutter body 5 is opened and closed by the air cylinder 13.
The shutter body 5 may be opened and closed by a motor. Further, the shutter body 5 may be manually opened and closed without using the actuator.
【００２３】[0023]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次のような効果を奏する。請求項１に係る発明
の基板処理装置によれば、シャッタ本体を、その両側に
おいて横軸心周りに開閉回動可能に支持したので、回転
支持部で塵埃が発生してもステージ内に飛散流入するこ
とがなく、基板が塵埃で汚染されることことなく、ステ
ージを全幅に亘って大きく開閉してカセットの搬入およ
び搬出を容易に行うことができる。As is apparent from the above description, the present invention has the following effects. According to the substrate processing apparatus of the first aspect of the invention, the shutter body is supported on both sides thereof so as to be openable and closable about the horizontal axis, so that even if dust is generated at the rotation support portion, the shutter body scatters and flows into the stage. The stage can be widely opened and closed over the entire width, and the loading and unloading of the cassette can be easily performed without the substrate being contaminated with dust.
【００２４】しかも、シャッタ開放状態でもシャッタ本
体がステージ内奥と装置内部との連通を遮断するので、
ステージでのカセットの搬入および搬出中における外部
雰囲気から装置内への塵埃の侵入、装置内から外部雰囲
気への薬液雰囲気の流出を確実に防止することができ
る。In addition, even when the shutter is open, the shutter body blocks the communication between the inside of the stage and the inside of the apparatus.
It is possible to reliably prevent the intrusion of dust from the external atmosphere into the apparatus during the loading and unloading of the cassette on the stage, and the outflow of the chemical solution atmosphere from the apparatus to the external atmosphere.
【００２５】一軸心周りで回動するシャッタ本体で、閉
じ状態および開放状態にかかわらず外部雰囲気と装置内
部とを遮断することができるので、内外二重のシャッタ
構造などを採用する必要がなく防塵機能に優れたシャッ
タ構造を構成することができ、構造簡単かつ安価に実施
できる。Since the shutter main body rotates about one axis and can shut off the external atmosphere and the inside of the apparatus regardless of the closed state and the open state, it is not necessary to adopt a double internal / external shutter structure. A shutter structure having an excellent dustproof function can be constructed, and the structure can be implemented simply and at low cost.
【００２６】また、請求項２に係る発明の基板処理装置
によれば、エアー供給手段によりステージ上にエアーを
供給し、供給されたエアーをエアー排出手段により排出
しているので、ステージ上にエアーだまりが生じず、ス
テージ上にクリーンなエアーを常に供給できる。According to the substrate processing apparatus of the present invention, air is supplied to the stage by the air supply means and the supplied air is discharged by the air discharge means. There is no accumulation, and clean air can always be supplied on the stage.
【図１】基板処理装置のカセット搬入搬出部位の一部を
切り欠いた斜視図である。FIG. 1 is a perspective view in which a part of a cassette loading / unloading portion of a substrate processing apparatus is partially cut away.
【図２】カセット搬入搬出部位のシャッタ閉じ状態にお
ける側面図である。FIG. 2 is a side view of a cassette loading / unloading portion in a shutter closed state.
【図３】カセット搬入搬出部位のシャッタ閉じ状態にお
ける縦断側面図である。FIG. 3 is a vertical sectional side view of a cassette loading / unloading portion in a shutter closed state.
【図４】カセット搬入搬出部位の一部を切り欠いた正面
図である。FIG. 4 is a front view in which a part of a cassette loading / unloading site is partially cut away.
【図５】カセット搬入搬出部位のシャッタ開放状態にお
ける縦断側面図である。FIG. 5 is a vertical sectional side view of a cassette loading / unloading portion in a shutter open state.
【図６】シャッタ本体の一部を切り欠いた斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view in which a part of a shutter body is cut away.
【図７】従来例の概略斜視図である。FIG. 7 is a schematic perspective view of a conventional example.
２ … ステージ ３ … シャッタ構造 ５ … シャッタ本体 ５ａ… 側壁 ２０… エアー吹き出し機構 ２１… エアー排出口 Ｃ … カセット Ｐ … 横軸心 2 stage 3 shutter structure 5 shutter body 5a side wall 20 air blowing mechanism 21 air discharge port C cassette P horizontal axis
Claims (2)
出するためのステージに、装置内雰囲気と外部雰囲気と
を遮断するためのシャッタ構造を備えた基板処理装置に
おいて、 略１／４円筒状に形成されたシャッタ本体を横向き姿勢
に配備するとともに、両側の側壁を横軸心周りに回動可
能に支持して、シャッタ本体を内外に回動して開閉する
シャッタ構造を構成し、 シャッタ本体を前方外側に回動したシャッタ閉じ状態で
は、ステージを前方および上方からシャッタ本体で覆っ
て、装置内雰囲気と外部雰囲気とを遮断し、 シャッタ本体を後方内側に回動したシャッタ開放状態で
は、ステージの前方および上方に開放するとともに、内
側に回し込み回動した開放状態のシャッタ本体によっ
て、ステージ上と装置内部とを遮断するよう構成してあ
ることを特徴とする基板処理装置。1. A substrate processing apparatus having a shutter structure for shutting off an atmosphere inside and outside of an apparatus on a stage for loading and unloading a cassette containing substrates, wherein the substrate processing apparatus has a substantially 1/4 cylindrical shape. The shutter body is arranged in a horizontal position, and the side walls on both sides are rotatably supported around a horizontal axis to constitute a shutter structure that opens and closes by rotating the shutter body in and out. When the shutter is turned outward, the stage is covered with the shutter body from the front and above to shut off the atmosphere inside and outside of the apparatus. When the shutter body is turned backward and inside the shutter is opened, the front of the stage is opened. And the shutter body in the open state, which is opened upward while being turned inward and turned, shuts off the stage and the inside of the apparatus. A substrate processing apparatus, comprising:
て、前記ステージ上にエアーを供給するエアー供給手段
と、前記ステージ上に供給されたエアーを排出するエア
ー排出手段と、を備える基板処理装置。2. The substrate processing apparatus according to claim 1, further comprising: an air supply unit that supplies air onto the stage; and an air discharge unit that discharges air supplied onto the stage. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29230496A JPH10139155A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Substrate treatment device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29230496A JPH10139155A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Substrate treatment device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10139155A true JPH10139155A (en) | 1998-05-26 |
Family
ID=17780035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29230496A Pending JPH10139155A (en) | 1996-11-05 | 1996-11-05 | Substrate treatment device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10139155A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003071598A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Tokyo Electron Limited | Port structure in semiconductor processing system |
| JP2008182272A (en) * | 2008-04-17 | 2008-08-07 | Mitsubishi Electric Corp | Opening-closing member of goods storage |
-
1996
- 1996-11-05 JP JP29230496A patent/JPH10139155A/en active Pending
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