JPH10125759A - ウェーハ取出装置 - Google Patents

ウェーハ取出装置

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JPH10125759A
JPH10125759A JP27606096A JP27606096A JPH10125759A JP H10125759 A JPH10125759 A JP H10125759A JP 27606096 A JP27606096 A JP 27606096A JP 27606096 A JP27606096 A JP 27606096A JP H10125759 A JPH10125759 A JP H10125759A
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wafer
wafers
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cassette
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JP27606096A
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Kenichi Nakaura
健一 中浦
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】悪環境下で使用しても取り出したウェーハの重
複取出を確実に検出するとができるウェーハ取出装置の
提供。 【解決手段】カセットから取り出されたウェーハWa
は、受台84上に載置される。受台84は、前記ウェー
ハWaが載置されることにより、重力方向に荷重を受け
る。この受台84にかかる荷重は荷重センサ83によっ
て検出され、その検出値はCPU87に出力される。C
PU87では、その検出値と予め入力された基準値とを
比較し、重複取り出しを判断する。すなわち、ウェーハ
1枚分の荷重を基準値として入力しておけば、該基準値
を上回る荷重が検出されれば、重複取り出しと判断する
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェーハ取出装置
に係り、特にウェーハが多数積み重ねられた状態で格納
されたカセットからウェーハを1枚ずつ取り出すウェー
ハ取出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
で切り出された後、スライスベースの剥離、面取り、研
磨等の各製造工程を経て製品として完成する。そして、
この各ウェーハ製造装置間をウェーハはカセットに格納
された状態で搬送され、連続的に処理されてゆく。
【0003】ところで、前記ウェーハを格納して搬送す
るカセットには、ウェーハを1枚ずつ分離して格納する
タイプのもの(枚葉方式)と、ウェーハを積み重ねて格
納するタイプのもの(コインスタック方式)があるが、
製造装置の処理速度が向上している今日では、一度に大
量のウェーハを格納することができるコインスタック方
式のカセットを用いる装置が増えている。
【0004】しかしながら、コインスタック方式のカセ
ットは、ウェーハを重ねて格納するため、ウェーハ同士
が密着しやすくなり、ウェーハ取出装置で取り出す際
に、2枚あるいは3枚同時に取り出されることがある。
このように、ウェーハ取出装置で取り出したウェーハ
が、2枚あるいは3枚重複して取り出されていることを
検出する装置として、本願出願人が特願平7−2945
37号で、次のような装置を開示している。
【0005】この装置は、ウェーハ取出装置で取り出し
たウェーハを次工程に搬送するベルトコンベアの上方に
光電センサーあるいは超音波センサーを設け、その検出
センサーで、取り出されたウェーハの厚さを測定するこ
とにより、重複取出を検出する(非接触式検出装置)。
また、この他の検出装置として、ベルトコンベアの上方
に上下動自在なローラを設け、該ベルトコンベア上を搬
送されるウェーハを前記ローラで挟み込み、その時の前
記ローラの移動量から前記ウェーハの厚さを測定し、ウ
ェーハの重複取出を検出する装置もある(接触式検出装
置)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記非
接触式の検出装置では、水槽内に浸漬されたウェーハを
取り出した場合等、ウェーハに水分や汚れが付着してい
ると、検出センサーにその水分や汚れ等が付着し、誤動
作を起こしやすいという欠点がある。また同様に、接触
式の検出装置の場合も、ウェーハに水分や汚れが付着し
ていると、その水分や汚れがローラに付着し、ローラの
回転が妨げられたり、上下動のスライドが円滑に動作し
なくなったりし、誤動作を起こしやすいという欠点があ
る。
【0007】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、悪環境下で使用しても取り出したウェーハの重
複取出を確実に検出するとができるウェーハ取出装置を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ウェーハが多数積み重ねられた状態で格
納されたカセットからウェーハを1枚ずつ吸着パッドで
吸着して取り出すウェーハ取出装置において、前記カセ
ットから吸着パッドで吸着して取り出したウェーハを受
け取る受台と、前記受台にかかる荷重を検出する荷重セ
ンサと、前記荷重センサの検出値と予め入力された基準
値とを比較して、前記ウェーハの重複取出を判断する演
算手段と、を備えたことを特徴とする。
【0009】本発明によれば、カセットから吸着パッド
で吸着して取り出されたウェーハは、受台上に載置され
る。受台は、ウェーハが載置されることにより、重力方
向に荷重を受ける。この受台にかかる荷重は荷重センサ
によって検出され、その検出値は演算手段に出力され
る。演算手段では、その検出値と予め入力された基準値
とを比較し、重複取り出しを判断する。すなわち、ウェ
ーハ1枚分の荷重を基準値として入力しておけば、該基
準値を上回る荷重が検出されれば、重複取り出しと判断
することができる。
【0010】
【実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係るウェ
ーハ取出装置の実施の形態ついて詳説する。図1は、本
発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェーハ洗浄装置
の平面図であり、図2は、図1のJ1 −J2 −J3 −J
4 −J5 −J6 断面図である。また、図3は、図1のK
−K断面図であり、図4は、図1のM−M断面図であ
る。
【0011】まず、ウェーハ洗浄装置1の構成について
説明する。図1及び図2示すように、前記ウェーハ洗浄
装置1は、水槽11を備えている。水槽11には水12
が貯留されており、該水12は、過不足を調整されなが
ら、常にその水位を一定に保持されている。前記水槽1
1のほぼ中央部には、ブラケットを介して4本の支柱1
3、13、13、13が垂直に立設されており、この4
本の支柱13上に洗浄するウェーハW、W、…が多数格
納されたカセット10が位置決めされて、セットされ
る。
【0012】ここで、前記ウェーハWを格納するカセッ
ト10の構成について説明する。図1及び図3に示すよ
うに、前記カセット10は中央部に抜き穴14bが形成
された矩形状の底板14を有している。底板14の上面
四隅には、4本の支柱15、15、15、15が垂直に
立設されており、該支柱15の上端には、一対の上板1
6、16が固着されている。また、前記底板14の上面
の所定位置には、格納するウェーハWの円周縁部をガイ
ドする一対のウェーハガイド17、17と、ウェーハW
のスライスベース部分をガイドする一対のスライスベー
スガイド18、18がそれぞれ垂直に立設されている。
【0013】前記カセット10は、上記のごとく構成さ
れ、洗浄するウェーハW、W…は、このカセット10内
に順次積み重ねられて格納される。そして、ウェーハW
が格納されたカセットは、作業者あるいはロボットによ
って水槽11に搬入され、前記支柱13上の所定の位置
に位置決めされて、セットされる。なお、このカセット
10の位置決めは、前記底板14の2箇所に形成された
位置決め穴14aに、前記支柱13の上端部に形成され
た位置決めピン13aを挿入して行なう。
【0014】次に、前記ウェーハ洗浄装置1で洗浄され
たウェーハWを該ウェーハ洗浄装置1から取り出すウェ
ーハ取出装置2の構成について説明する。前記ウェーハ
取出装置2は、昇降部20、ウェーハ取出搬送部40、
エア噴射部60及び搬送コンベア部70及び重複取出検
出部80から構成されている。以下、各構成部ごとに分
けて説明する。
【0015】前記昇降部20は、エレベータ20aと、
そのエレベータ20aを駆動する駆動部30とから構成
され、前記水槽11内にセットされたカセット10か
ら、ウェーハW、W、…のみを独立させて上下動させ
る。まず、エレベータ20aの構成に付いて説明する。
図2に示すように、前記水槽11の内側には、ガイドブ
ロック21が固着されており、該ガイドブロック21に
は、一対のガイドバー22、22が上下方向にスライド
自在に支持されている。この一対のガイドバー22の上
端には駆動板23が取り付けられており、下端には連結
板24が取り付けられている。下端に取り付けられた連
結板24には、送りバー25が立設されており、該送り
バー25の上端には、載台26が固着されている。
【0016】以上のように構成されたエレベータ20a
は、前記一対のガイドバー22を上下動させることによ
り、これに連動して載台26が上下動する。載台26
は、前記水槽11内にセットされたカセット10の抜き
穴14b内を上下動し、これにより、カセット10内の
ウェーハW、W、…が、カセット10から独立して上下
動する。
【0017】次に、前記エレベータ20aを駆動する駆
動部30の構成について説明する。図4に示すように、
水槽11の近傍に設置されたベース31上には、一対の
支柱32a、32aが立設されている。この支柱32a
の上端部には、横板32bが固着されており、該横板3
2bには一対のリニアブッシュ33、33が取り付けら
れている。
【0018】前記リニアブッシュ33には、一対のガイ
ドバー34、34が上下方向にスライド移動自在に支持
されており、該一対のガイドバー34の上端には上連結
板35が取り付けられている。また、前記一対のガイド
バー34の下端には、下連結板36が取り付けられてお
り、該下連結板36には送りナット36aが取り付けら
れている。この送りナット36aには、送りネジ37が
螺合されており、該送りネジ37は、その上端部を前記
横板32bの下面に回動自在に支持されている。
【0019】前記送りネジ37の下端には歯車37aが
固着されており、該歯車37aはモーター38の回転軸
に固着された歯車38aに噛合されている。以上のよう
に構成された駆動部30は、前記モーター38を駆動す
ることにより、前記送りネジ37が回動し、これによ
り、下連結板36に設けられたナット36aが上下動
し、上連結板35が上下動する。
【0020】ここで、前記エレベータ20aに設けられ
た駆動板23は、前記上下動する連結板35の上端部に
ジョイント35aを介して連結されており、これによ
り、前記エレベータ20aが上下駆動される。なお、図
4中、駆動部30の全体を覆う番号39は、カバーであ
り、洗浄部からの飛散した水が駆動部30にかかるのを
防止している。
【0021】次に、ウェーハ取出搬送部40の構成につ
いて説明する。ウェーハ取出搬送部40は、水平移動部
40a、進退移動部50及びウェーハ吸着部50aから
構成され、前記昇降部20で液面から上昇したウェーハ
W、W、…のうち最上段のウェーハWaを取り出し、搬
送する。まず、水平移動部40aの構成について説明す
る。図1〜図3に示すように、前記水槽11の両側に
は、一対の支柱41、42が垂直に立設されている。こ
の一対の支柱41、42の上部には、一対のリニアガイ
ド43、43が水平方向に配設されている。一対のリニ
アガイド43、43には、それぞれスライダー44、4
4が移動自在に設けられており、該スライダー44、4
4は、水平方向に配設された水平搬送体45で互いに連
結されている。
【0022】また、一方の支柱41の上端部には、ロッ
ドレスシリンダー46がリニアガイド43と同方向に配
設されており、そのスライダー46aが水平搬送体45
に固着されている。以上のように構成された水平移動部
40aは、前記ロッドレスシリンダー46を駆動するこ
とにより、そのスライダー46aが水平方向に往復移動
し、これに連動して前記水平搬送体45が水平方向にス
ライド移動する。
【0023】なお、後述するように、前記水平搬送体4
5は、図4に示す実線で示すウェーハの取出位置と二点
破線で示す受渡位置(前記重複取出検出部80の設置位
置)との間を往復走行する。次に、進退移動部50の構
成について説明する。図3に示すように、前記水平搬送
体45の中央近傍には、一対のリニアブッシュ51、5
1が配設されている。この一対のリニアブッシュ51、
51には、一対のガイドバー53、53が上下方向にス
ライド自在に支持されており、該ガイドバー53、53
の先端部にはホルダー52が取り付けられている。
【0024】また、前記水平搬送体45の中央部には、
上下方向に伸長する直動シリンダー54が取り付けられ
ており、該直動シリンダー54のロッド54a先端部前
記ホルダー52の上面中央部に連結されている。以上の
ように構成された、進退移動部50は、前記直動シリン
ダー54を駆動することにより、そのロッド54aが垂
直下向きに進退移動し、これにより、ホルダー52が上
下動する。
【0025】次に、ウェーハ吸着部50aの構成につい
て説明する。図3に示すように、前記ホルダー52の下
面中央には、吸着パッド55が設けられている。また、
前記ホルダー52の下面には、前記エレベーター20a
で上昇させたウェーハWの接触を検出する接触検出セン
サー56が設けられている。以上のように構成されたウ
ェーハ吸着部50aは、前記エレベーター20aで上昇
させたウェーハW、W、…のうち最上段に位置ウェーハ
Waを前記吸着パッド55で真空吸着して保持する。
【0026】前記ウェーハ取出搬送部40は、以上のよ
うに構成される。次に、エア噴射部60の構成について
説明する。図4に示すように、前記水槽11の上端部近
傍には、ホルダー61を介してエアノズル62が取り付
けられている。エアノズル62にはノズル穴62aが複
数形成されており、該ノズル穴62aから圧縮エアが噴
射される。
【0027】なお、ノズル穴62aの位置は、前記吸着
パッド55で吸着保持したウェーハWaの下面に、噴射
した圧縮エアが当たるように設定する。次に、前記搬送
コンベア部70の構成について説明する。図1及び図4
に示すように、前記水槽11の上端近傍には、水平方向
にベース71が配設されている。ベース71上には、コ
ンベア部ベース72が取り付けられており、該コンベア
部ベース72の両側部には、長手方向に沿って回動自在
なローラ73、74、75、76が等間隔に配設されて
いる。これらローラ73〜76には、それぞれ搬送ベル
ト77、77が張設されており、ウェーハWは、この搬
送ベルト77上に載置されて、図中矢印方向に搬送され
る。
【0028】また、前記ベース71の両側部71a、7
1bには、搬送中のウェーハWをガイドする幅ガイド7
8が取り付けられており、前記搬送ベルト77上に載置
されたウェーハWは、該幅ガイド78によって円周縁を
ガイドされながら、搬送される。なお、前記搬送ベルト
77の駆動は、前記ローラ76に連結した図示しない駆
動用モーターあるいは駆動機構で行なわれる。
【0029】次に、前記重複取出検出部80の構成につ
いて説明する。図4及び図6に示すように、前記ベース
71の先端部には、ブラケット81を介してシリンダー
82が設けられている。このシリンダー82のロッド8
2aは、前記ベース71に対して直交する向きに進退移
動し、該ロッド82aの先端部には、荷重センサー83
を介して受台84が設けられている。
【0030】前記受台84は、図6に示すように、断面
コ字状に形成されており、その側面上端内側部には、長
手方向に沿ってゴムパッド85、85が固着されてい
る。なお、前記受台84の下部に設けられた番号86
は、カバーであり、取り出したウェーハWに付着した水
分が滴下してシリンダー82等にかかるのを防止してい
る。
【0031】以上のように構成された重複取出検出部8
0において、前記受台84は、前記シリンダー82に駆
動されて、待機位置と受位置との間を上下動する。ここ
で、前記受台84の待機位置は、前記搬送ベルト77の
ウェーハ搬送面より所定距離下方に退避した位置(図6
中二点破線で示す位置)に設定されており、受位置は、
前記搬送ベルト77のウェーハ搬送面より所定距離上方
に突出した位置(図6中実線で示す位置)に設定されて
いる。
【0032】そして、前記水槽11から取り出されたウ
ェーハWは、受位置に位置した受台84上に載置され
る。この時、前記荷重センサー83では、前記受台84
にかかる荷重が検出され、その検出値がCPU87に出
力される。CPU87は、この出力された検出値と予め
CPU87に入力された基準値とを比較してウェーハの
重複取り出しを判断する。
【0033】ここで、前記基準値としては、前記受台8
4にウェーハを一枚載せた時に受台84にかかる荷重が
入力されている。したがって、前記検出値が、この基準
値よりも大きい場合は、重複取り出しと判断することが
できる。前記CPU87は、前記ウェーハの重複取り出
しを判断した結果、重複取り出しの場合は警告を発す
る。一方、重複取り出しでない場合は、シリンダー82
に駆動信号を出力し、受台84を待機位置まで下降させ
る。この受台84が待機位置まで下降する過程におい
て、前記ウェーハは、搬送ベルト77に受け渡され、次
工程に搬送される。
【0034】なお、前記CPU87は、ウェーハ洗浄装
置1の全体の駆動制御も兼ねて行なう。本発明に係るウ
ェーハ取出装置2を備えたウェーハ洗浄装置1は前記の
ごとく構成される。次に、前記のごとく構成されたウェ
ーハ洗浄装置1におけるウェーハW、W…の取り出し方
法について説明する。
【0035】図7(a)〜(f)は、本実施の形態のウ
ェーハ取出装置2におけるウェーハの取出し動作を模式
的に表した図である。図7(a)には、ウェーハを取り
出す前の初期の基準状態が示されている。この状態にお
いて、ウェーハ取出搬送部40に設けられた水平搬送体
45は、ウェーハ取出位置(図4に実線で示す位置)に
位置している。また、この水平搬送体45に設けられた
ホルダー52は、ストロークの上死点に位置しており、
かつ、その中心は、カセット10に格納されたウェーハ
W、W、…の中心と一致した状態にある(図1参照)。
【0036】この初期状態から、まず、ホルダー52
が、直動シリンダー54に駆動されて、所定のウェーハ
受取位置まで下降する。図7(b)には、このホルダー
52がウェーハ受取位置まで下降した状態が示されてい
る。前記ホルダー52がウェーハ受取位置に位置する
と、次に、カセット10に格納されたウェーハW、W、
…全体が、エレベータ20aに駆動されて上方向に移動
する。このエレベータ20aは、最上段のウェーハWa
が、前記ホルダー52に設けられた接触検知センサー5
6に接触し、その接触が検知されるまで上昇を続ける。
図7(c)には、最上段のウェーハWaが、接触検知セ
ンサー56に接触し、ウェーハWの上昇が停止した状態
が示されている。この状態において、前記最上段のウェ
ーハWaと吸着パッド55との間には所定の隙間が形成
されている。
【0037】前記最上段のウェーハWaが、接触検知セ
ンサー56に接触し、その上昇が停止すると、エアノズ
ル62から圧縮エアが噴射される。これと同時に、前記
吸着パッド55が駆動され、該吸着パッド55によって
最上段のウェーハWaを吸着保持される。図7(d)に
は、前記吸着パッド55で最上段のウェーハWaを吸着
保持した状態が示されている。同図に示すように、前記
最上段のウェーハWaは、前記エアノズル62から圧縮
エアを噴射されると、僅か上方に持ち上げられる。この
僅か上方に持ち上げられた最上段のウェーハWaと2段
目以降のウェーハWとの隙間に前記エアノズル62から
噴射された圧縮エアが入り込み、最上段のウェーハWa
から2段目以降のウェーハWが分離される。また、これ
と同時に、前記エアノズル62から噴射された圧縮エア
によって、ウェーハWaに付着した水滴の除去される。
【0038】前記圧縮エアの噴射開始から所定時間経過
すると、その圧縮エアを噴射した状態のまま、前記エレ
ベータ20aが駆動され、2段目以降のウェーハWがカ
セット10内に格納される。図7(e)には、前記2段
目以降のウェーハWが下降してカセット内に格納された
状態が示されている。この状態において、前記吸着パッ
ド55に保持された最上段のウェーハWaと2段目以降
のウェーハWとの隙間はさらに広がり、最上段のウェー
ハWaと2段目以降のウェーハWとの分離及びウェーハ
Waに付着した水滴の除去は更に促進される。
【0039】なお、圧縮エアの噴射は間欠して行うとウ
ェーハWaとそのウェーハWaに付着したウェーハWと
の分離が容易に行われる。前記圧縮エアの噴射は、所定
時間続けられ、その後、前記ホルダー52は、直動シリ
ンダー54に駆動されて、初期状態の位置、すなわち、
ストロークの上死点の位置まで上昇する。図6(f)に
は、このホルダー52がストロークの上死点の位置まで
上昇した状態が示されている。
【0040】前記ホルダー52がストロークの上死点の
位置まで上昇すると、水平搬送体45が、ロッドレスシ
リンダー46に駆動されて、受渡位置(図4において二
点破線で示す位置)まで移動する。一方、図4に示すよ
うに、前記受渡位置においては、重複取出検出部80の
受台84が、シリンダー82に駆動されて所定の受位
置、すなわち、搬送ベルト77から所定量突出した位置
まで上昇し、ウェーハWの受け取りの準備を行なう。
【0041】そして、前記水平搬送体45がウェーハ受
渡位置まで移動すると、前記吸着パッド55の駆動が解
除され、該吸着パッド55に保持されたウェーハWa
が、前記受位置に位置した受台84上に載置される。前
記ウェーハWaが、前記受台84上に載置されると、重
複取出検出部80の荷重センサー83で、前記受台84
にかかる荷重が検出され、その検出値がCPU87に出
力される。CPU87は、この出力された検出値と予め
CPU87に入力された基準値とを比較してウェーハの
重複取り出しを判断する。
【0042】ここで、前述したように、前記基準値とし
ては、前記受台84にウェーハを一枚載せた時に受台8
4にかかる荷重が入力されているので、CPU87は前
記検出値が、この基準値よりも大きい場合は、重複取り
出しと判断する。そして、重複取り出しの場合は警告を
発し、重複取り出しでない場合は、シリンダー82に駆
動信号を出力し、受台84を待機位置まで下降させる。
【0043】前記受台84が待機位置まで下降すると、
その下降過程において、前記受台84上に載置されたウ
ェーハWaは、搬送ベルト77に受け渡され、該搬送ベ
ルト77によって次工程に搬送される。一方、前記水平
搬送体45は、前記ウェーハWaを受台84上に受け渡
すと同時に、ロッドレスシリンダー46に駆動されて、
ウェーハ取出位置まで移動する。
【0044】2枚目以降のウェーハW、W、…の取出作
業を行なう場合は、以下同様の作業を繰り返す。このよ
うに、本実施の形態のウェーハ取出装置2では、取り出
したウェーハWaの重量を計測することにより、重複取
り出しを検出し、次工程でトラブルが発生するのを事前
に防止することができる。
【0045】また、水分の付着や汚れ等の影響を受けや
すい悪環境下の使用でも、誤動作を起こすことなく確実
に重複取り出しを検出することができる。なお、本実施
の形態のように、液中に浸漬されたウェーハを取り出す
場合は、取り出したウェーハに水分等が付着して、個々
の検出値(ウェーハ1枚の重量)が異なる場合がある。
しかし、付着した水分等の重量は、重複取出された場合
の重量に比べ極めて小さいものなので、無視することが
できる。したがって、基準値よりも大きい検出値が得ら
れたとしても、その差が微差ならば、これを無視して判
断する。
【0046】また、本実施の形態のウェーハ取出装置
は、ウェーハ洗浄装置1に適用した例、すなわち、液中
に浸漬されたカセットから、ウェーハを取り出す場合に
ついて説明したが、乾燥した環境下で使用する装置に適
用してもよい。この場合、水分等の付着がないので、よ
り確実にウェーハの重複取出の検出を行なうことができ
る。
【0047】また、本実施の形態では、受台84の昇降
駆動をシリンダー82で行なっているが、エレベータ2
0aの駆動部30のようにモータで駆動する送りネジ機
構を用いてもよい。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
悪環境下で使用しても取り出したウェーハの重複取出を
確実に検出するとができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るウェーハ取出装置を備えたウェー
ハ洗浄装置の実施の形態の平面図
【図2】図1のJ1 −J2 −J3 −J4 −J5 −J6
面図
【図3】図1のK−K断面(上部詳細)図
【図4】図1のM−M断面(上部詳細)図
【図5】図1のL−L断面(駆動部詳細)図
【図6】図1のN−N断面(重複取出検出部詳細)図
【図7】本実施の形態のウェーハ取出装置によるウェー
ハの取り出し動作を模式的に表した図
【符号の説明】
W…ウェーハ Wa…最上段のウェーハ Wb…重複取り出された下側のウェーハ 1…ウェーハ洗浄装置 2…ウェーハ取出装置 10…カセット 11…水槽 20…昇降部 20a…エレベーター 40…ウェーハ取出搬送部 45…水平搬送体 52…ホルダー 55…吸着パッド 62…エアノズル 70…搬送コンベア部 80…重複取出検出部 82…シリンダー 83…荷重センサー 84…受台 87…CPU

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハが多数積み重ねられた状態で格
    納されたカセットからウェーハを1枚ずつ吸着パッドで
    吸着して取り出すウェーハ取出装置において、 前記カセットから吸着パッドで吸着して取り出したウェ
    ーハを受け取る受台と、 前記受台にかかる荷重を検出する荷重センサと、 前記荷重センサの検出値と予め入力された基準値とを比
    較して、前記ウェーハの重複取出を判断する演算手段
    と、を備えたことを特徴とするウェーハ取出装置。
JP27606096A 1996-10-18 1996-10-18 ウェーハ取出装置 Pending JPH10125759A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150056124A (ko) * 2013-11-14 2015-05-26 (주)구일엔지니어링 태양광 웨이퍼의 스토리지 구조
CN113257731A (zh) * 2021-06-02 2021-08-13 江苏格林保尔光伏有限公司 太阳能电池硅片输送装置及其使用方法

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KR20150056124A (ko) * 2013-11-14 2015-05-26 (주)구일엔지니어링 태양광 웨이퍼의 스토리지 구조
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