JPH10123565A - 液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法 - Google Patents
液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法Info
- Publication number
- JPH10123565A JPH10123565A JP8273830A JP27383096A JPH10123565A JP H10123565 A JPH10123565 A JP H10123565A JP 8273830 A JP8273830 A JP 8273830A JP 27383096 A JP27383096 A JP 27383096A JP H10123565 A JPH10123565 A JP H10123565A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- crystal panel
- defect
- short
- active matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 液晶パネルの状態で欠陥検出および欠陥修正
を行う。 【解決手段】 アクティブマトリクス基板は、走査配線
１、信号配線２およびＴＦＴ４を覆う層間絶縁膜上に画
素電極５が設けられ、層間絶縁膜のスルーホール１４を
介して画素電極５とＴＦＴ４とが接続されている。対向
基板は、対向電極とカラーフィルタの色層とが設けら
れ、各色層の間およびカラーフィルタの最外郭にＢＭが
設けられていない。隣接する画素電極の間で短絡欠陥が
生じた場合には、対向基板側からレーザー照射を行って
短絡部分を切断する。
を行う。 【解決手段】 アクティブマトリクス基板は、走査配線
１、信号配線２およびＴＦＴ４を覆う層間絶縁膜上に画
素電極５が設けられ、層間絶縁膜のスルーホール１４を
介して画素電極５とＴＦＴ４とが接続されている。対向
基板は、対向電極とカラーフィルタの色層とが設けら
れ、各色層の間およびカラーフィルタの最外郭にＢＭが
設けられていない。隣接する画素電極の間で短絡欠陥が
生じた場合には、対向基板側からレーザー照射を行って
短絡部分を切断する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、パーソナ
ルコンピュータやワードプロセッサ等のＯＡ（Ｏｆｆｉ
ｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器などの表示装置や液
晶テレビジョンに用いられる液晶パネル、その欠陥検出
方法およびその欠陥修正方法に関する。
ルコンピュータやワードプロセッサ等のＯＡ（Ｏｆｆｉ
ｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器などの表示装置や液
晶テレビジョンに用いられる液晶パネル、その欠陥検出
方法およびその欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、上述の表示装置としては、液晶パ
ネル等のフラット型表示パネルが普及している。特に、
ＶＧＡ、Ｓ−ＶＧＡまたはＸＧＡ等の高解像度が要求さ
れる用途においては電極数が膨大になるため、アクティ
ブマトリクス型の液晶パネルが用いられている。
ネル等のフラット型表示パネルが普及している。特に、
ＶＧＡ、Ｓ−ＶＧＡまたはＸＧＡ等の高解像度が要求さ
れる用途においては電極数が膨大になるため、アクティ
ブマトリクス型の液晶パネルが用いられている。
【０００３】このアクティブマトリクス型液晶パネル
は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板と対向基
板とが対向配置された構成を有している。アクティブマ
トリクス基板には、画素電極とその画素電極をスイッチ
ングするためのスイッチング素子とがマトリクス状に設
けられると共に、スイッチング素子の近傍で互いに交差
するように複数の走査配線と複数の信号配線とが設けら
れ、対向基板には、画素電極と対向するように対向電極
が設けられる。
は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板と対向基
板とが対向配置された構成を有している。アクティブマ
トリクス基板には、画素電極とその画素電極をスイッチ
ングするためのスイッチング素子とがマトリクス状に設
けられると共に、スイッチング素子の近傍で互いに交差
するように複数の走査配線と複数の信号配線とが設けら
れ、対向基板には、画素電極と対向するように対向電極
が設けられる。
【０００４】この液晶パネルにおいて、開口率を向上さ
せて明るい表示を得るために、いわゆるＰＯＰ（Ｐｉｘ
ｅｌ Ｏｎ Ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ）構造のアクティ
ブマトリクス基板を用いた構成が採用されている。この
ＰＯＰ構造のアクティブマトリクス基板は、走査配線、
信号配線およびスイッチング素子としての薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）を覆う層間絶縁膜を形成し、その層間絶
縁膜の上に画素電極を設けたものである。また、カラー
表示を実現するためには、対向基板上にカラーフィルタ
（以下、ＣＦと称する）を形成し、アクティブマトリク
ス基板上の各画素電極に対向するように、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）およびＢ（青）の各色層を配置した構成が採用さ
れている。一般に、このＣＦには、色の混合や光漏れを
防ぐために、各色層の間およびＣＦの最外郭を覆う遮光
層（ブラックマトリクス、以下、ＢＭと称する）が設け
られる。
せて明るい表示を得るために、いわゆるＰＯＰ（Ｐｉｘ
ｅｌ Ｏｎ Ｐａｓｓｉｖａｔｉｏｎ）構造のアクティ
ブマトリクス基板を用いた構成が採用されている。この
ＰＯＰ構造のアクティブマトリクス基板は、走査配線、
信号配線およびスイッチング素子としての薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴ）を覆う層間絶縁膜を形成し、その層間絶
縁膜の上に画素電極を設けたものである。また、カラー
表示を実現するためには、対向基板上にカラーフィルタ
（以下、ＣＦと称する）を形成し、アクティブマトリク
ス基板上の各画素電極に対向するように、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）およびＢ（青）の各色層を配置した構成が採用さ
れている。一般に、このＣＦには、色の混合や光漏れを
防ぐために、各色層の間およびＣＦの最外郭を覆う遮光
層（ブラックマトリクス、以下、ＢＭと称する）が設け
られる。
【０００５】図５に従来のＰＯＰ構造のアクティブマト
リクス基板を用いた液晶パネルの平面図を示し、図６に
図５のＣ−Ｃ’線断面図を示す。
リクス基板を用いた液晶パネルの平面図を示し、図６に
図５のＣ−Ｃ’線断面図を示す。
【０００６】この液晶パネルにおいて、アクティブマト
リクス基板は、絶縁性基板１６ａの上に互いに交差する
ように複数の走査配線１と複数の信号配線２とがゲート
絶縁膜１９を介して設けられ、両配線の交差部２１の近
傍にスイッチング素子としてのＴＦＴが設けられてい
る。このＴＦＴは後述するＢＭ１２により覆われてお
り、対向基板側から見えないようになっている。それら
の上を覆って層間絶縁膜２９が設けられ、その上に画素
電極５がマトリクス状に設けられたＰＯＰ構造となって
いる。ＴＦＴのゲート電極は走査配線１の一部であり、
そこに入力される信号によってＴＦＴが駆動される。Ｔ
ＦＴのソース電極には信号配線２が接続され、そこから
表示信号としてのビデオ信号等が入力される。ＴＦＴの
ドレイン電極には接続電極８と接続されている。この接
続電極８は層間絶縁膜２９に設けられたスルーホール１
４を介して画素電極５と接続されており、これによりＴ
ＦＴと画素電極５とが接続される。また、各走査配線１
に平行に、かつ、信号配線２との間にゲート絶縁膜１９
を介して共通線３が設けられ、共通線３と画素電極５と
の重畳部が付加容量となっている。また、各走査配線１
および共通線３の表面には絶縁膜９が形成されている。
リクス基板は、絶縁性基板１６ａの上に互いに交差する
ように複数の走査配線１と複数の信号配線２とがゲート
絶縁膜１９を介して設けられ、両配線の交差部２１の近
傍にスイッチング素子としてのＴＦＴが設けられてい
る。このＴＦＴは後述するＢＭ１２により覆われてお
り、対向基板側から見えないようになっている。それら
の上を覆って層間絶縁膜２９が設けられ、その上に画素
電極５がマトリクス状に設けられたＰＯＰ構造となって
いる。ＴＦＴのゲート電極は走査配線１の一部であり、
そこに入力される信号によってＴＦＴが駆動される。Ｔ
ＦＴのソース電極には信号配線２が接続され、そこから
表示信号としてのビデオ信号等が入力される。ＴＦＴの
ドレイン電極には接続電極８と接続されている。この接
続電極８は層間絶縁膜２９に設けられたスルーホール１
４を介して画素電極５と接続されており、これによりＴ
ＦＴと画素電極５とが接続される。また、各走査配線１
に平行に、かつ、信号配線２との間にゲート絶縁膜１９
を介して共通線３が設けられ、共通線３と画素電極５と
の重畳部が付加容量となっている。また、各走査配線１
および共通線３の表面には絶縁膜９が形成されている。
【０００７】一方、対向基板は、絶縁性基板１６ｂ上
に、画素電極７と対向するように対向電極１０が設けら
れていると共に、Ｒ、ＧおよびＢの各色層を有し、各色
層の間および最外郭を覆うＢＭ１２を有するＣＦ２７が
設けられている。
に、画素電極７と対向するように対向電極１０が設けら
れていると共に、Ｒ、ＧおよびＢの各色層を有し、各色
層の間および最外郭を覆うＢＭ１２を有するＣＦ２７が
設けられている。
【０００８】上記アクティブマトリクス基板と対向基板
とは貼り合わせられ、両基板の間隙には液晶層１１が挟
持されている。
とは貼り合わせられ、両基板の間隙には液晶層１１が挟
持されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上述のＰＯＰ構造の液
晶パネルにおいては、開口部を大きくして明るい表示を
得るために、画素電極同士の間隔が狭くなっている。こ
のため、アクティブマトリクス基板において、隣接する
画素電極の間に短絡欠陥が生じる場合がある。
晶パネルにおいては、開口部を大きくして明るい表示を
得るために、画素電極同士の間隔が狭くなっている。こ
のため、アクティブマトリクス基板において、隣接する
画素電極の間に短絡欠陥が生じる場合がある。
【００１０】しかし、図５および図６に示した従来の液
晶パネルでは、対向基板側にＢＭ１２が設けられている
ため、両基板を貼り合わせて液晶パネルの状態にした後
では、短絡部分１３を検出したり、短絡部分１３を修正
することができなかった。例えば、アクティブマトリク
ス基板側から短絡部分１３の検出や修正を行おうとして
も、短絡部分１３が走査配線１や信号配線２等の配線で
覆われているため、それらが不透明導電膜からなる場合
には短絡部分１３の検出や修正が不可能である。また、
対向基板側から短絡部分を検出しようとしても、ＢＭ１
２により短絡部分１３が覆われているため、短絡部分１
３の検出や修正が不可能である。このように、従来の液
晶パネルでは、液晶パネルの状態で欠陥部分の検出や修
正を行うことができず、液晶パネルの歩留まりが低下し
てしまうという問題があった。
晶パネルでは、対向基板側にＢＭ１２が設けられている
ため、両基板を貼り合わせて液晶パネルの状態にした後
では、短絡部分１３を検出したり、短絡部分１３を修正
することができなかった。例えば、アクティブマトリク
ス基板側から短絡部分１３の検出や修正を行おうとして
も、短絡部分１３が走査配線１や信号配線２等の配線で
覆われているため、それらが不透明導電膜からなる場合
には短絡部分１３の検出や修正が不可能である。また、
対向基板側から短絡部分を検出しようとしても、ＢＭ１
２により短絡部分１３が覆われているため、短絡部分１
３の検出や修正が不可能である。このように、従来の液
晶パネルでは、液晶パネルの状態で欠陥部分の検出や修
正を行うことができず、液晶パネルの歩留まりが低下し
てしまうという問題があった。
【００１１】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、液晶パネルの状態で欠陥
の検出や欠陥の修正を行うことができ、明るい表示が得
られると共に品質が良好で良品率を向上できる液晶パネ
ル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法を提供す
ることを目的とする。
決すべくなされたものであり、液晶パネルの状態で欠陥
の検出や欠陥の修正を行うことができ、明るい表示が得
られると共に品質が良好で良品率を向上できる液晶パネ
ル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法を提供す
ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶パネルは、
液晶層を挟んで対向配置されたアクティブマトリクス基
板と対向基板とを有し、該アクティブマトリクス基板
は、互いに交差するように設けられた複数の走査配線お
よび複数の信号配線と両配線の交差部近傍に設けられた
スイッチング素子とを覆って層間絶縁膜が設けられ、該
層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられた画素電極が該
層間絶縁膜のスルーホールを介して該スイッチング素子
と接続された構成であり、該対向基板は、該画素電極に
対向して対向電極が設けられていると共に、複数の色層
の間を覆う遮光層が省略されたカラーフィルタが設けら
れた構成となっており、そのことにより上記目的が達成
される。
液晶層を挟んで対向配置されたアクティブマトリクス基
板と対向基板とを有し、該アクティブマトリクス基板
は、互いに交差するように設けられた複数の走査配線お
よび複数の信号配線と両配線の交差部近傍に設けられた
スイッチング素子とを覆って層間絶縁膜が設けられ、該
層間絶縁膜上にマトリクス状に設けられた画素電極が該
層間絶縁膜のスルーホールを介して該スイッチング素子
と接続された構成であり、該対向基板は、該画素電極に
対向して対向電極が設けられていると共に、複数の色層
の間を覆う遮光層が省略されたカラーフィルタが設けら
れた構成となっており、そのことにより上記目的が達成
される。
【００１３】本発明の液晶パネルの欠陥検出方法は、本
発明の液晶パネルの欠陥を検出する方法であって、前記
アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り合わ
せた後で、該対向基板側から前記画素電極の隣接するも
の同士の間に生じている短絡部分を検出しており、その
ことにより上記目的が達成される。
発明の液晶パネルの欠陥を検出する方法であって、前記
アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り合わ
せた後で、該対向基板側から前記画素電極の隣接するも
の同士の間に生じている短絡部分を検出しており、その
ことにより上記目的が達成される。
【００１４】本発明の液晶パネルの欠陥修正方法は、本
発明の液晶パネルの欠陥検出方法により欠陥が検出され
た液晶パネルの欠陥を修正する方法であって、前記アク
ティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り合わせた
後で、該対向基板側から前記短絡部分にレーザー照射を
行って欠陥を修正しており、そのことにより上記目的が
達成される。
発明の液晶パネルの欠陥検出方法により欠陥が検出され
た液晶パネルの欠陥を修正する方法であって、前記アク
ティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り合わせた
後で、該対向基板側から前記短絡部分にレーザー照射を
行って欠陥を修正しており、そのことにより上記目的が
達成される。
【００１５】以下に、本発明の作用について説明する。
【００１６】本発明にあっては、ＰＯＰ構造のアクティ
ブマトリクス基板に対し、液晶層を挟んで対向配置され
る対向基板に、ＣＦの色層の間を覆う遮光層（ＢＭ）を
設けないため、液晶パネルの状態において、隣接する画
素電極の間がＢＭで覆われない。
ブマトリクス基板に対し、液晶層を挟んで対向配置され
る対向基板に、ＣＦの色層の間を覆う遮光層（ＢＭ）を
設けないため、液晶パネルの状態において、隣接する画
素電極の間がＢＭで覆われない。
【００１７】このようにＢＭで覆われていない部分であ
る、隣接する画素電極の間に短絡欠陥が生じても、対向
基板側から短絡部分を観察できるので、欠陥を検出する
ことが可能である。また、対向基板側から短絡部分にレ
ーザー光を照射して短絡部分を切断することができるの
で、欠陥を修正することが可能である。
る、隣接する画素電極の間に短絡欠陥が生じても、対向
基板側から短絡部分を観察できるので、欠陥を検出する
ことが可能である。また、対向基板側から短絡部分にレ
ーザー光を照射して短絡部分を切断することができるの
で、欠陥を修正することが可能である。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図にお
いて、従来の液晶パネルと同様の機能を有する部分には
同一の番号を付した。
て、図面を参照しながら説明する。なお、以下の図にお
いて、従来の液晶パネルと同様の機能を有する部分には
同一の番号を付した。
【００１９】図１に本発明の一実施形態であるＰＯＰ構
造のアクティブマトリクス型液晶パネルの平面図を示
し、図２に図１のＡ−Ａ’線断面図を示す。
造のアクティブマトリクス型液晶パネルの平面図を示
し、図２に図１のＡ−Ａ’線断面図を示す。
【００２０】この液晶パネルにおいて、アクティブマト
リクス基板は、絶縁性基板１６ａの上に互いに交差する
ように複数の走査配線１と複数の信号配線２とがゲート
絶縁膜１９を介して設けられ、各配線の交差部近傍にス
イッチング素子としてのＴＦＴ４が設けられている。そ
れらの上を覆って層間絶縁膜２９が設けられ、その上に
画素電極５がマトリクス状に設けられている。ＴＦＴ４
のゲート電極６は走査配線１の一部であり、そこに入力
される信号によってＴＦＴ４が駆動される。ＴＦＴ４の
ソース電極７には信号配線２が接続され、そこから表示
信号としてのビデオ信号等が入力される。ＴＦＴ４のド
レイン電極は接続電極８に接続されている。この接続電
極８は層間絶縁膜２９に設けられたスルーホール１４を
介して画素電極５と接続されており、これによりＴＦＴ
と画素電極５とが接続される。また、各走査配線１に平
行に、かつ、信号配線２との間にゲート絶縁膜１９を介
して共通線３が設けられ、共通線３と画素電極５との重
畳部が付加容量となっている。また、各走査配線１およ
び共通線３の表面には絶縁膜９が形成されている。な
お、ＴＦＴ４は、表面に絶縁膜９が形成されたゲート電
極６上にゲート絶縁膜９を介して半導体層（図示せず）
が重畳し、その中央部にチャネル保護膜（図示せず）が
設けられ、その上にチャネル保護膜の上で分断された状
態で２つのコンタクト層（図示せず）が設けられ、一方
のコンタクト層上にソース電極７が、他方のコンタクト
層上にドレイン電極が重畳している逆スタガ型の構成で
ある。
リクス基板は、絶縁性基板１６ａの上に互いに交差する
ように複数の走査配線１と複数の信号配線２とがゲート
絶縁膜１９を介して設けられ、各配線の交差部近傍にス
イッチング素子としてのＴＦＴ４が設けられている。そ
れらの上を覆って層間絶縁膜２９が設けられ、その上に
画素電極５がマトリクス状に設けられている。ＴＦＴ４
のゲート電極６は走査配線１の一部であり、そこに入力
される信号によってＴＦＴ４が駆動される。ＴＦＴ４の
ソース電極７には信号配線２が接続され、そこから表示
信号としてのビデオ信号等が入力される。ＴＦＴ４のド
レイン電極は接続電極８に接続されている。この接続電
極８は層間絶縁膜２９に設けられたスルーホール１４を
介して画素電極５と接続されており、これによりＴＦＴ
と画素電極５とが接続される。また、各走査配線１に平
行に、かつ、信号配線２との間にゲート絶縁膜１９を介
して共通線３が設けられ、共通線３と画素電極５との重
畳部が付加容量となっている。また、各走査配線１およ
び共通線３の表面には絶縁膜９が形成されている。な
お、ＴＦＴ４は、表面に絶縁膜９が形成されたゲート電
極６上にゲート絶縁膜９を介して半導体層（図示せず）
が重畳し、その中央部にチャネル保護膜（図示せず）が
設けられ、その上にチャネル保護膜の上で分断された状
態で２つのコンタクト層（図示せず）が設けられ、一方
のコンタクト層上にソース電極７が、他方のコンタクト
層上にドレイン電極が重畳している逆スタガ型の構成で
ある。
【００２１】一方、対向基板は、絶縁性基板１６ｂ上
に、画素電極７と対向するように対向電極１０が設けら
れると共に、Ｒ、ＧおよびＢの各色層を有するＣＦ１７
が設けられている。このＣＦ１７の各色層の間およびＣ
Ｆ１７の最外郭には、それらを覆うＢＭが設けられてな
く、ＣＦ１７の各色層を重ねて設けることにより遮光し
ている。
に、画素電極７と対向するように対向電極１０が設けら
れると共に、Ｒ、ＧおよびＢの各色層を有するＣＦ１７
が設けられている。このＣＦ１７の各色層の間およびＣ
Ｆ１７の最外郭には、それらを覆うＢＭが設けられてな
く、ＣＦ１７の各色層を重ねて設けることにより遮光し
ている。
【００２２】上記アクティブマトリクス基板と対向基板
とは貼り合わせられ、両基板の間隙には液晶層１１が挟
持されている。
とは貼り合わせられ、両基板の間隙には液晶層１１が挟
持されている。
【００２３】この液晶パネルは、例えば以下のようにし
て作製することができる。
て作製することができる。
【００２４】まず、アクティブマトリクス基板は、ガラ
ス基板等からなる透明絶縁性基板１６ａ上に、走査配線
１、ゲート電極６および共通線３をパターン形成し、そ
れらを覆う絶縁膜９を形成する。
ス基板等からなる透明絶縁性基板１６ａ上に、走査配線
１、ゲート電極６および共通線３をパターン形成し、そ
れらを覆う絶縁膜９を形成する。
【００２５】次に、それらを覆うようにゲート絶縁膜１
９を形成し、その上にＴＦＴの半導体層（図示せず）、
チャネル保護膜（図示せず）およびコンタクト層（図示
せず）を順次形成する。
９を形成し、その上にＴＦＴの半導体層（図示せず）、
チャネル保護膜（図示せず）およびコンタクト層（図示
せず）を順次形成する。
【００２６】続いて、信号配線２、ソース電極７、ドレ
イン電極および接続電極８をパターン形成する。
イン電極および接続電極８をパターン形成する。
【００２７】その後、走査配線１、信号配線２およびＴ
ＦＴ４を覆うように、層間絶縁膜２９を成膜し、スルー
ホール１４を形成する。
ＦＴ４を覆うように、層間絶縁膜２９を成膜し、スルー
ホール１４を形成する。
【００２８】次に、走査配線１および信号配線２と一部
重なると共にＴＦＴ４を覆うように、画素電極５をパタ
ーン形成する。これにより、層間絶縁膜２９を貫くスル
ーホール１４を介して画素電極５と接続電極８とが接続
されて、ＴＦＴのドレイン電極と画素電極５とが接続さ
れる。以上により、いわゆるＰＯＰ構造のアクティブマ
トリクス基板が得られる。
重なると共にＴＦＴ４を覆うように、画素電極５をパタ
ーン形成する。これにより、層間絶縁膜２９を貫くスル
ーホール１４を介して画素電極５と接続電極８とが接続
されて、ＴＦＴのドレイン電極と画素電極５とが接続さ
れる。以上により、いわゆるＰＯＰ構造のアクティブマ
トリクス基板が得られる。
【００２９】一方、対向基板は、絶縁性基板１６ｂ上に
ＣＦ１７の色層Ｒ、ＧおよびＧをパターン形成し、その
上に対向電極１０をパターン形成する。
ＣＦ１７の色層Ｒ、ＧおよびＧをパターン形成し、その
上に対向電極１０をパターン形成する。
【００３０】その後、必要に応じて液晶層を配向させる
ための配向膜を両基板に形成する。
ための配向膜を両基板に形成する。
【００３１】このようにして作製したアクティブマトリ
クス基板と対向基板とを貼り合わせて、両基板の間隙に
液晶１１を封入することにより液晶パネルが得られる。
クス基板と対向基板とを貼り合わせて、両基板の間隙に
液晶１１を封入することにより液晶パネルが得られる。
【００３２】この液晶パネルにおいて、図３および図４
に示すように、ある画素電極５ａとそれに隣接する画素
電極５ｂとの間で短絡欠陥１３が生じた場合には、その
短絡欠陥１３により表示に点欠陥が発生する。このよう
な場合には、以下のようにして短絡部分１３の検出を行
うことができる。
に示すように、ある画素電極５ａとそれに隣接する画素
電極５ｂとの間で短絡欠陥１３が生じた場合には、その
短絡欠陥１３により表示に点欠陥が発生する。このよう
な場合には、以下のようにして短絡部分１３の検出を行
うことができる。
【００３３】例えば、対向基板側から顕微鏡で液晶パネ
ルを観察すると、対向基板側にＣＦ１７の色層の間を覆
うＢＭが設けられていないので、その短絡部分１３を直
接目視することが可能であり、短絡部分と正常な部分と
を見分けることができる。このような画素電極５の短絡
欠陥１３の検出を可能にするためには、上記対向電極１
０はＩＴＯ等の透明導電性膜を用いることが必要であ
る。また、画素電極５は、金属膜等の不透明導電性膜を
用いた場合には短絡欠陥１３の検出が容易であるが、Ｉ
ＴＯ膜等の透明導電性膜を用いた場合であっても、顕微
鏡観察によれば、短絡部分と正常な部分とを見分けるこ
とは充分可能である。このとき、液晶が注入された状態
で短絡部分１３を検出する場合には、短絡部分１３と接
する液晶部分においては、電圧印加により光透過率が変
化するため、その短絡部分１３を見分けることができ
る。
ルを観察すると、対向基板側にＣＦ１７の色層の間を覆
うＢＭが設けられていないので、その短絡部分１３を直
接目視することが可能であり、短絡部分と正常な部分と
を見分けることができる。このような画素電極５の短絡
欠陥１３の検出を可能にするためには、上記対向電極１
０はＩＴＯ等の透明導電性膜を用いることが必要であ
る。また、画素電極５は、金属膜等の不透明導電性膜を
用いた場合には短絡欠陥１３の検出が容易であるが、Ｉ
ＴＯ膜等の透明導電性膜を用いた場合であっても、顕微
鏡観察によれば、短絡部分と正常な部分とを見分けるこ
とは充分可能である。このとき、液晶が注入された状態
で短絡部分１３を検出する場合には、短絡部分１３と接
する液晶部分においては、電圧印加により光透過率が変
化するため、その短絡部分１３を見分けることができ
る。
【００３４】このようにして検出された短絡部分１３
は、以下のようにして欠陥修正することができる。
は、以下のようにして欠陥修正することができる。
【００３５】例えば、図４に示すように、対向基板側か
ら短絡部分１３をレーザー光等のエネルギービームで照
射すると、対向基板側にはＣＦの色層の間にＢＭが設け
られていないので、その短絡部分１３にレーザー光が照
射される。そして、そのレーザー照射により画素電極５
ａと隣接する画素電極５ｂとの短絡部分１３にトリミン
グが施されて、その部分がトリミング部分１５となる。
これにより、表示の点欠陥が修正される。
ら短絡部分１３をレーザー光等のエネルギービームで照
射すると、対向基板側にはＣＦの色層の間にＢＭが設け
られていないので、その短絡部分１３にレーザー光が照
射される。そして、そのレーザー照射により画素電極５
ａと隣接する画素電極５ｂとの短絡部分１３にトリミン
グが施されて、その部分がトリミング部分１５となる。
これにより、表示の点欠陥が修正される。
【００３６】このように、本実施形態の液晶パネルにお
いては、対向基板側に形成されるＣＦの色層の間に遮光
層が設けられていないので、液晶パネルの状態でも、対
向基板側から短絡部分の検出を行うことができた。ま
た、対向基板側から短絡部分にレーザー光を照射するこ
とにより、液晶パネルの状態でも、短絡部分を切断して
欠陥修正を行うことができた。
いては、対向基板側に形成されるＣＦの色層の間に遮光
層が設けられていないので、液晶パネルの状態でも、対
向基板側から短絡部分の検出を行うことができた。ま
た、対向基板側から短絡部分にレーザー光を照射するこ
とにより、液晶パネルの状態でも、短絡部分を切断して
欠陥修正を行うことができた。
【００３７】上記実施形態では、液晶パネルの状態で欠
陥部分の検出や欠陥部分の修正を行ったが、貼り合わせ
前のアクティブマトリクス基板の状態や、または、液晶
注入前に両基板を貼り合わせた状態でも、短絡部分の検
出や修正を行うことは可能である。
陥部分の検出や欠陥部分の修正を行ったが、貼り合わせ
前のアクティブマトリクス基板の状態や、または、液晶
注入前に両基板を貼り合わせた状態でも、短絡部分の検
出や修正を行うことは可能である。
【００３８】上記実施形態では、対向基板に形成される
ＣＦの色層の間および最外郭にＢＭを設けない構成とし
たが、本発明はこれに限られない。即ち、隣接する画素
電極の間の短絡欠陥を対向基板側から検出して欠陥修正
を行うためには、ＣＦの色層の間に遮光層が設けられて
いなければ充分であり、ＣＦの最外郭に遮光層が設けら
れている構成の液晶パネルに対しても本発明は適用可能
である。
ＣＦの色層の間および最外郭にＢＭを設けない構成とし
たが、本発明はこれに限られない。即ち、隣接する画素
電極の間の短絡欠陥を対向基板側から検出して欠陥修正
を行うためには、ＣＦの色層の間に遮光層が設けられて
いなければ充分であり、ＣＦの最外郭に遮光層が設けら
れている構成の液晶パネルに対しても本発明は適用可能
である。
【００３９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ＰＯＰ構造の液晶パネルにおいて、対向基板
に形成されるＣＦの色層の間に遮光層を設けていないの
で、液晶パネルの状態でも、隣接する画素電極の間の短
絡部分の検出やその短絡部分の修正が可能である。従っ
て、明るい表示が得られる液晶パネルの品質を向上させ
ることができると共に、液晶パネルの信頼性を向上させ
ることができる。さらに、液晶パネルの良品率を向上さ
せて製造コストを低減することができる。
によれば、ＰＯＰ構造の液晶パネルにおいて、対向基板
に形成されるＣＦの色層の間に遮光層を設けていないの
で、液晶パネルの状態でも、隣接する画素電極の間の短
絡部分の検出やその短絡部分の修正が可能である。従っ
て、明るい表示が得られる液晶パネルの品質を向上させ
ることができると共に、液晶パネルの信頼性を向上させ
ることができる。さらに、液晶パネルの良品率を向上さ
せて製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態であるＰＯＰ構造のアクテ
ィブマトリクス型液晶パネルを示す平面図である。
ィブマトリクス型液晶パネルを示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ’線断面図である。
【図３】本発明の一実施形態である液晶パネルの欠陥修
正方法を説明するための液晶パネルの平面図である。
正方法を説明するための液晶パネルの平面図である。
【図４】図３のＢ−Ｂ’線断面図である。
【図５】従来のＰＯＰ構造のアクティブマトリクス型液
晶パネルを示す平面図である。
晶パネルを示す平面図である。
【図６】図５のＣ−Ｃ’線断面図である。
１ 走査配線 ２ 信号配線 ３ 共通線 ４ ＴＦＴ ５ 画素電極 ６ ゲート電極 ７ ソース電極 ８ 接続電極 ９ 絶縁膜 １０ 対向電極 １１ 液晶層 １３ 短絡部分 １４ スルーホール １５ トリミング １６ａ、１６ｂ 絶縁性基板 １７ ＣＦ １９ ゲート絶縁膜 ２９ 層間絶縁膜
Claims (3)
- 【請求項１】 液晶層を挟んで対向配置されたアクティ
ブマトリクス基板と対向基板とを有し、 該アクティブマトリクス基板は、互いに交差するように
設けられた複数の走査配線および複数の信号配線と両配
線の交差部近傍に設けられたスイッチング素子とを覆っ
て層間絶縁膜が設けられ、該層間絶縁膜上にマトリクス
状に設けられた画素電極が該層間絶縁膜のスルーホール
を介して該スイッチング素子と接続された構成であり、 該対向基板は、該画素電極に対向して対向電極が設けら
れていると共に、複数の色層の間を覆う遮光層が省略さ
れたカラーフィルタが設けられた構成となっている液晶
パネル。 - 【請求項２】 請求項１に記載の液晶パネルの欠陥を検
出する方法であって、 前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り
合わせた後で、該対向基板側から前記画素電極の隣接す
るもの同士の間に生じている短絡部分を検出する液晶パ
ネルの欠陥検出方法。 - 【請求項３】 請求項２に記載の液晶パネルの欠陥検出
方法により欠陥が検出された液晶パネルの欠陥を修正す
る方法であって、 前記アクティブマトリクス基板と前記対向基板とを貼り
合わせた後で、該対向基板側から前記短絡部分にレーザ
ー照射を行って欠陥を修正する液晶パネルの欠陥修正方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8273830A JPH10123565A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8273830A JPH10123565A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10123565A true JPH10123565A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17533149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8273830A Pending JPH10123565A (ja) | 1996-10-16 | 1996-10-16 | 液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10123565A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6404470B1 (en) | 1998-12-30 | 2002-06-11 | Hyundai Display Technology Inc. | Liquid crystal display having high aperture ratio and high transmittance |
| US8094256B2 (en) | 2005-11-24 | 2012-01-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate, a liquid crystal panel, a display device, a television receiver, and methods of correcting and producing the substrate and panel |
-
1996
- 1996-10-16 JP JP8273830A patent/JPH10123565A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6404470B1 (en) | 1998-12-30 | 2002-06-11 | Hyundai Display Technology Inc. | Liquid crystal display having high aperture ratio and high transmittance |
| US8094256B2 (en) | 2005-11-24 | 2012-01-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Active matrix substrate, a liquid crystal panel, a display device, a television receiver, and methods of correcting and producing the substrate and panel |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7499140B2 (en) | Substrate for a display device, a method for repairing the same, a method for repairing a display device and a liquid-crystal display device | |
| KR100283733B1 (ko) | 액티브 매트릭스형 액정 표시 장치 및 그 단선 수정 방법 | |
| KR100291290B1 (ko) | 액정표시장치및그제조방법 | |
| JPH10319436A (ja) | アクティブマトリックス型液晶表示装置 | |
| KR19980018480A (ko) | 액정표시장치 | |
| KR20000048089A (ko) | 액정 표시 장치 | |
| JP3591676B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2002091342A (ja) | マトリクスアレイ基板 | |
| KR100298239B1 (ko) | 표시장치의어레이기판,어레이기판을구비한액정표시장치및어레이기판제조방법 | |
| JP3335567B2 (ja) | アクティブマトリクス型液晶表示装置およびその欠陥修正方法 | |
| US20050140865A1 (en) | Substrate for liquid crystal display, liquid crystal display having the same, and method of manufacturing the same | |
| KR100686235B1 (ko) | 액정 표시 장치용 기판 | |
| JPH10123565A (ja) | 液晶パネル、その欠陥検出方法およびその欠陥修正方法 | |
| JP2760459B2 (ja) | アクティブマトリクス型基板 | |
| JPH117044A (ja) | 表示装置用アレイ基板 | |
| JP4048228B2 (ja) | 表示装置用基板、その修正方法、表示装置の修正方法及び液晶表示装置 | |
| JP3287985B2 (ja) | 液晶パネル及びその欠陥修正方法 | |
| JP3778407B2 (ja) | アクティブマトリクス基板の欠陥修正方法および液晶パネルの製造方法 | |
| JPH1172801A (ja) | 液晶表示装置 | |
| JP2005173499A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| JP2000180889A (ja) | 液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 | |
| JP2000221539A (ja) | アレイ基板、アレイ基板の修正方法および液晶表示装置 | |
| JPH0372327A (ja) | アクティブマトリクス表示装置 | |
| JP2003241180A (ja) | 画像表示装置 | |
| JPH09127550A (ja) | アクティブマトリクス液晶パネル及びその欠陥修正方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20021120 |