JPH10122843A - Ｘ線透過投影寸法測定器 - Google Patents
Ｘ線透過投影寸法測定器Info
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- JPH10122843A JPH10122843A JP28215196A JP28215196A JPH10122843A JP H10122843 A JPH10122843 A JP H10122843A JP 28215196 A JP28215196 A JP 28215196A JP 28215196 A JP28215196 A JP 28215196A JP H10122843 A JPH10122843 A JP H10122843A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広視野にわたって十分な平行度の平行Ｘ線が
得られ、被測定物の内部形状をも含む形状および寸法
を、十分な測定性能で、高精度、かつ効率よく測定でき
るＸ線透過投影寸法測定器を提供する。 【解決手段】 点光源とみなせるＸ線発生装置11と、こ
のＸ線発生装置11からの発散Ｘ線を平行Ｘ線12に変換し
て被測定物13に投射する多層膜光学系14と、被測定物13
からの透過Ｘ線を検出するＸ線検出器16とを有する。
得られ、被測定物の内部形状をも含む形状および寸法
を、十分な測定性能で、高精度、かつ効率よく測定でき
るＸ線透過投影寸法測定器を提供する。 【解決手段】 点光源とみなせるＸ線発生装置11と、こ
のＸ線発生装置11からの発散Ｘ線を平行Ｘ線12に変換し
て被測定物13に投射する多層膜光学系14と、被測定物13
からの透過Ｘ線を検出するＸ線検出器16とを有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、機械部品等の被測定
物の形状や寸法を測定するＸ線透過投影寸法測定器に関
するものである。
物の形状や寸法を測定するＸ線透過投影寸法測定器に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】機械部品の外形形状あるいは寸法を測定
する形状測定器として、例えば、マイクロメータ等の接
触式測定器や、被測定物の影をスクリーン上に投影して
マーカで追跡し、その軌跡をポイント毎に計算機に入力
して形状および寸法を測定する投影測定器等の光学式測
定器が知られている。また、内部形状をも測定するもの
として、図４（ａ）に示すように、点状Ｘ線光源１から
発生するＸ線の発散光を被測定物２に投射し、その拡大
透視像をＣＣＤ等の画像検出器３で受光して、その画像
信号に基づいて被測定物２の外形および内部空洞の形状
を測定するようにした拡大投影測定器や、医療用のＸ線
ＣＴの技術を応用した工業用のＸ線ＣＴも開発されてい
る。
する形状測定器として、例えば、マイクロメータ等の接
触式測定器や、被測定物の影をスクリーン上に投影して
マーカで追跡し、その軌跡をポイント毎に計算機に入力
して形状および寸法を測定する投影測定器等の光学式測
定器が知られている。また、内部形状をも測定するもの
として、図４（ａ）に示すように、点状Ｘ線光源１から
発生するＸ線の発散光を被測定物２に投射し、その拡大
透視像をＣＣＤ等の画像検出器３で受光して、その画像
信号に基づいて被測定物２の外形および内部空洞の形状
を測定するようにした拡大投影測定器や、医療用のＸ線
ＣＴの技術を応用した工業用のＸ線ＣＴも開発されてい
る。
【０００３】しかしながら、マイクロメータ等の接触式
測定器は、限られた部位の寸法しか測定できず、測定効
率も低いという問題がある。これに対して、投影測定器
等の光学式測定器は、寸法だけでなく形状をも測定でき
るが、厚さの厚い被測定物に対しては、被測定物の半影
による誤差が生じるという問題がある。また、可視光を
用いるため、寸法の測定精度が低いという問題もある。
さらに、図４（ａ）に示したように、点状Ｘ線光源１を
用いる拡大投影測定器は、内部形状をも測定できるが、
発散光を利用するため、厚さの厚い被測定物の場合に
は、寸法測定ができないという問題がある。例えば、図
４（ａ）において、被測定物２の上面２ａと下面２ｂと
は同じ大きさであるが、その投影像は、図４（ｂ）にそ
れぞれ符号２ａ′，２ｂ′で示すようになり、点状Ｘ線
光源１からの距離によって大きく違ってくる。さらに、
実用化されている工業用のＸ線ＣＴは、寸法測定ができ
るほどの解像力が得られていないのが実情である。
測定器は、限られた部位の寸法しか測定できず、測定効
率も低いという問題がある。これに対して、投影測定器
等の光学式測定器は、寸法だけでなく形状をも測定でき
るが、厚さの厚い被測定物に対しては、被測定物の半影
による誤差が生じるという問題がある。また、可視光を
用いるため、寸法の測定精度が低いという問題もある。
さらに、図４（ａ）に示したように、点状Ｘ線光源１を
用いる拡大投影測定器は、内部形状をも測定できるが、
発散光を利用するため、厚さの厚い被測定物の場合に
は、寸法測定ができないという問題がある。例えば、図
４（ａ）において、被測定物２の上面２ａと下面２ｂと
は同じ大きさであるが、その投影像は、図４（ｂ）にそ
れぞれ符号２ａ′，２ｂ′で示すようになり、点状Ｘ線
光源１からの距離によって大きく違ってくる。さらに、
実用化されている工業用のＸ線ＣＴは、寸法測定ができ
るほどの解像力が得られていないのが実情である。
【０００４】以上のことから、機械部品等の被測定物の
内部形状をも含む寸法を、高精度かつ効率良く測定でき
る測定器の開発が望まれている。このような要求に応え
るものとして、本願人は、特開平８−１４５６４９号公
報において、点光源とみなせるＸ線発生装置からの発散
Ｘ線をベンディング結晶を用いて平行Ｘ線に変換して被
測定物に投射し、その被測定物からの透過Ｘ線を検出手
段で検出して、その出力に基づいて被測定物の内部形状
をも含む寸法を測定するようにした形状測定器を既に提
案している。
内部形状をも含む寸法を、高精度かつ効率良く測定でき
る測定器の開発が望まれている。このような要求に応え
るものとして、本願人は、特開平８−１４５６４９号公
報において、点光源とみなせるＸ線発生装置からの発散
Ｘ線をベンディング結晶を用いて平行Ｘ線に変換して被
測定物に投射し、その被測定物からの透過Ｘ線を検出手
段で検出して、その出力に基づいて被測定物の内部形状
をも含む寸法を測定するようにした形状測定器を既に提
案している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した本願人の提案
に係る形状測定器によれば、被測定物の内部形状をも含
む寸法を、高精度かつ効率良く測定できる利点がある。
しかしながら、本発明者による種々の実験、検討によれ
ば、かかる形状測定器においては、Ｘ線発生装置からの
発散Ｘ線をベンディング結晶を用いて平行Ｘ線に変換し
て、被測定物に投射するようにしているため、広視野に
わたって十分な平行度の平行Ｘ線が得られにくく、これ
がため必ずしも十分な測定性能が得られないという改良
すべき点があることが判明した。
に係る形状測定器によれば、被測定物の内部形状をも含
む寸法を、高精度かつ効率良く測定できる利点がある。
しかしながら、本発明者による種々の実験、検討によれ
ば、かかる形状測定器においては、Ｘ線発生装置からの
発散Ｘ線をベンディング結晶を用いて平行Ｘ線に変換し
て、被測定物に投射するようにしているため、広視野に
わたって十分な平行度の平行Ｘ線が得られにくく、これ
がため必ずしも十分な測定性能が得られないという改良
すべき点があることが判明した。
【０００６】この発明は、上記の点に鑑みてなされたも
ので、その第１の目的は、広視野にわたって十分な平行
度の平行Ｘ線が得られ、したがって被測定物の内部形状
をも含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精
度、かつ効率よく測定し得るよう適切に構成したＸ線透
過投影寸法測定器を提供しようとするものである。
ので、その第１の目的は、広視野にわたって十分な平行
度の平行Ｘ線が得られ、したがって被測定物の内部形状
をも含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精
度、かつ効率よく測定し得るよう適切に構成したＸ線透
過投影寸法測定器を提供しようとするものである。
【０００７】さらに、この発明の第２の目的は、ベンデ
ィング結晶を用いる場合でも、被測定物の内部形状をも
含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精度、か
つ効率よく測定し得るよう適切に構成したＸ線透過投影
寸法測定器を提供しようとするものである。
ィング結晶を用いる場合でも、被測定物の内部形状をも
含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精度、か
つ効率よく測定し得るよう適切に構成したＸ線透過投影
寸法測定器を提供しようとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るため、この発明のＸ線透過投影寸法測定器は、点光源
とみなせるＸ線発生装置と、このＸ線発生装置からの発
散Ｘ線を平行Ｘ線に変換して被測定物に投射する多層膜
光学系と、前記被測定物からの透過Ｘ線を検出するＸ線
検出器とを有することを特徴とするものである。
るため、この発明のＸ線透過投影寸法測定器は、点光源
とみなせるＸ線発生装置と、このＸ線発生装置からの発
散Ｘ線を平行Ｘ線に変換して被測定物に投射する多層膜
光学系と、前記被測定物からの透過Ｘ線を検出するＸ線
検出器とを有することを特徴とするものである。
【０００９】上記第２の目的を達成するため、この発明
のＸ線透過投影寸法測定器は、点光源とみなせるＸ線発
生装置と、このＸ線発生装置からの発散Ｘ線を平行な走
査用Ｘ線に変換して被測定物に投射するＸ線光学系と、
前記被測定物からの透過Ｘ線を検出するＸ線検出器と、
前記Ｘ線光学系からの走査用Ｘ線と前記被測定物とを相
対的に変位させる走査機構とを有することを特徴とする
ものである。
のＸ線透過投影寸法測定器は、点光源とみなせるＸ線発
生装置と、このＸ線発生装置からの発散Ｘ線を平行な走
査用Ｘ線に変換して被測定物に投射するＸ線光学系と、
前記被測定物からの透過Ｘ線を検出するＸ線検出器と、
前記Ｘ線光学系からの走査用Ｘ線と前記被測定物とを相
対的に変位させる走査機構とを有することを特徴とする
ものである。
【００１０】前記Ｘ線光学系は、多層膜光学系をもって
構成するのが、収差のない良質の平行な走査用Ｘ線を得
る点で好ましい。
構成するのが、収差のない良質の平行な走査用Ｘ線を得
る点で好ましい。
【００１１】さらに、前記多層膜光学系は、複数の多層
膜反射鏡をもって構成するのが、正弦条件が満たされ、
その結果、軸外性能のよい光学系となって、Ｘ線光源か
らの発散Ｘ線を平行度の良好な走査用Ｘ線に変換し得る
点で好ましい。
膜反射鏡をもって構成するのが、正弦条件が満たされ、
その結果、軸外性能のよい光学系となって、Ｘ線光源か
らの発散Ｘ線を平行度の良好な走査用Ｘ線に変換し得る
点で好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、この発明の第１実施形態
を示すものである。このＸ線透過投影寸法測定器は、点
光源とみなせるＸ線光源１１と、このＸ線光源１１から
の発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ線１２に変換して被測定物
１３に投射する多層膜光学系１４と、被測定物１３を平
行Ｘ線１２の中に位置するように保持すると共に、その
方向および位置を任意に変換する高精度位置合わせ機構
１５と、被測定物１３を透過したＸ線を検出するＸ線撮
像素子１６と、装置全体の制御およびデータ処理を行う
コンピュータ１７とを有する。なお、上記の他に、安全
のために被曝防止用のシールドなども有するが、本発明
の本質ではないので図示を省略している。
を示すものである。このＸ線透過投影寸法測定器は、点
光源とみなせるＸ線光源１１と、このＸ線光源１１から
の発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ線１２に変換して被測定物
１３に投射する多層膜光学系１４と、被測定物１３を平
行Ｘ線１２の中に位置するように保持すると共に、その
方向および位置を任意に変換する高精度位置合わせ機構
１５と、被測定物１３を透過したＸ線を検出するＸ線撮
像素子１６と、装置全体の制御およびデータ処理を行う
コンピュータ１７とを有する。なお、上記の他に、安全
のために被曝防止用のシールドなども有するが、本発明
の本質ではないので図示を省略している。
【００１３】Ｘ線光源１１は、多層膜光学系１４での平
行Ｘ線の平行度を良好に保つために、高輝度微小フォー
カス光源や回転体陰極型光源、あるいはレーザプラズマ
光源をもって構成する。また、多層膜光学系１４は、高
精度基板と多層膜とを組合わせた斜入射多層膜鏡をもっ
て構成する。ここで、多層膜は、波長０．０２ｎｍ（６
０ｋｅＶ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．
２度とすると、約３．４ｎｍの周期で形成する。このよ
うにして、多層膜を、例えばＷおよびＳｉの材料で６０
０層に形成すれば、約４０％の反射率を得ることができ
る。また、この斜入射多層膜鏡は、回転放物面形状に形
成して、その焦点にＸ線光源１１を配置し、これにより
Ｘ線光源１１から発生される発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ
線１２に変換するようにする。
行Ｘ線の平行度を良好に保つために、高輝度微小フォー
カス光源や回転体陰極型光源、あるいはレーザプラズマ
光源をもって構成する。また、多層膜光学系１４は、高
精度基板と多層膜とを組合わせた斜入射多層膜鏡をもっ
て構成する。ここで、多層膜は、波長０．０２ｎｍ（６
０ｋｅＶ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．
２度とすると、約３．４ｎｍの周期で形成する。このよ
うにして、多層膜を、例えばＷおよびＳｉの材料で６０
０層に形成すれば、約４０％の反射率を得ることができ
る。また、この斜入射多層膜鏡は、回転放物面形状に形
成して、その焦点にＸ線光源１１を配置し、これにより
Ｘ線光源１１から発生される発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ
線１２に変換するようにする。
【００１４】高精度位置合わせ機構１５は、平行光束１
２に対して被測定物１３の方向および位置を任意に調整
可能な、例えば五軸のゴニオメータを用いて構成し、こ
の高精度位置合わせ機構１５に保持された被測定物１３
を透過するＸ線の透過投影像を、Ｘ線撮像素子１６上に
投影するようにする。Ｘ線撮像素子１６は、例えば、１
０μｍ×１０μｍ程度の画素を二次元的に配列した画素
センサの表面にシンチレータを塗布してなる積層型の固
体撮像素子をもって構成し、その出力をコンピュータ１
７に取り込んで被測定物１３の寸法を計測するようにす
る。
２に対して被測定物１３の方向および位置を任意に調整
可能な、例えば五軸のゴニオメータを用いて構成し、こ
の高精度位置合わせ機構１５に保持された被測定物１３
を透過するＸ線の透過投影像を、Ｘ線撮像素子１６上に
投影するようにする。Ｘ線撮像素子１６は、例えば、１
０μｍ×１０μｍ程度の画素を二次元的に配列した画素
センサの表面にシンチレータを塗布してなる積層型の固
体撮像素子をもって構成し、その出力をコンピュータ１
７に取り込んで被測定物１３の寸法を計測するようにす
る。
【００１５】この実施形態によれば、Ｘ線光源１１から
の発散Ｘ線を、回転放物面形状の斜入射多層膜鏡よりな
る多層膜反射鏡１４により平行Ｘ線１２に変換するする
ようにしたので、広視野に亘って平行度の十分な平行Ｘ
線１２を得ることができ、これにより被測定物１３の寸
法を０．０１ｍｍ程度の精度で計測することができる。
したがって、例えば、高精度位置合わせ機構１５により
平行光束１２に対する被測定物１３の方向および位置を
調整して、被測定物１３を直交する３方向からそれぞれ
測定して、三角法に基づく設計図面に相当する正面、側
面および平面に対応する測定データを得ると共に、コン
ピュータ１７に予め被測定物１３に対応する設計図面の
ＣＡＤデータを格納しておくことにより、測定データと
ＣＡＤデータとの比較に基づいて、被測定物１３の合否
等の判定を即座に行うことができると共に、測定データ
による図面と、ＣＡＤデータによる設計図面とを図示し
ないモニタ上に重ねて表示して、加工不良等の判定を行
うこともできる。
の発散Ｘ線を、回転放物面形状の斜入射多層膜鏡よりな
る多層膜反射鏡１４により平行Ｘ線１２に変換するする
ようにしたので、広視野に亘って平行度の十分な平行Ｘ
線１２を得ることができ、これにより被測定物１３の寸
法を０．０１ｍｍ程度の精度で計測することができる。
したがって、例えば、高精度位置合わせ機構１５により
平行光束１２に対する被測定物１３の方向および位置を
調整して、被測定物１３を直交する３方向からそれぞれ
測定して、三角法に基づく設計図面に相当する正面、側
面および平面に対応する測定データを得ると共に、コン
ピュータ１７に予め被測定物１３に対応する設計図面の
ＣＡＤデータを格納しておくことにより、測定データと
ＣＡＤデータとの比較に基づいて、被測定物１３の合否
等の判定を即座に行うことができると共に、測定データ
による図面と、ＣＡＤデータによる設計図面とを図示し
ないモニタ上に重ねて表示して、加工不良等の判定を行
うこともできる。
【００１６】図２は、この発明の第２実施形態を示すも
のである。このＸ線透過投影寸法測定器は、点光源とみ
なせるＸ線光源２１と、このＸ線光源２１からの発散Ｘ
線をシート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換して被測定
物２３に投射するＸ線光学系２４と、被測定物２３を保
持すると共に、その方向および位置を任意に変換する高
精度位置合わせ機構２５と、被測定物２３を透過したＸ
線を検出するＸ線撮像素子２６と、被測定物２３を走査
用Ｘ線２２に対して走査する走査機構２７と、装置全体
の制御およびデータ処理を行うコンピュータ２８とを有
する。なお、安全のための被曝防止用のシールド等につ
いては、第１実施形態と同様に図示を省略している。
のである。このＸ線透過投影寸法測定器は、点光源とみ
なせるＸ線光源２１と、このＸ線光源２１からの発散Ｘ
線をシート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換して被測定
物２３に投射するＸ線光学系２４と、被測定物２３を保
持すると共に、その方向および位置を任意に変換する高
精度位置合わせ機構２５と、被測定物２３を透過したＸ
線を検出するＸ線撮像素子２６と、被測定物２３を走査
用Ｘ線２２に対して走査する走査機構２７と、装置全体
の制御およびデータ処理を行うコンピュータ２８とを有
する。なお、安全のための被曝防止用のシールド等につ
いては、第１実施形態と同様に図示を省略している。
【００１７】Ｘ線光源２１は、Ｘ線光学系２４での走査
用Ｘ線の平行度を良好に保つために、第１実施形態と同
様に、高輝度微小フォーカス光源や回転体陰極型光源、
あるいはレーザプラズマ光源をもって構成する。また、
Ｘ線光学系２４は、高精度基板と多層膜とを組合わせた
二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２４ｂをもって構成す
る。ここで、多層膜は、波長０．０１５ｎｍ（８０ｋｅ
Ｖ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．２度と
すると、約２．１５ｎｍの周期で形成する。このように
して、多層膜を、例えばＮｉおよびＣの材料で５００層
に形成すれば、約３５％の反射率を得ることができる。
また、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａは、少なくとも利
用する部分を回転双曲面形状とし、二枚目の斜入射多層
膜鏡２４ｂは、少なくとも利用する部分を回転放物面形
状として、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａの回転双曲面
の一方の焦点にＸ線光源２１を配置し、他方の焦点に二
枚目の斜入射多層膜鏡２４ｂの回転放物面の焦点を配置
する。このようにして、Ｘ線光源２１から発生される発
散Ｘ線を、例えば、幅１５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ程度の
シート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換する。
用Ｘ線の平行度を良好に保つために、第１実施形態と同
様に、高輝度微小フォーカス光源や回転体陰極型光源、
あるいはレーザプラズマ光源をもって構成する。また、
Ｘ線光学系２４は、高精度基板と多層膜とを組合わせた
二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２４ｂをもって構成す
る。ここで、多層膜は、波長０．０１５ｎｍ（８０ｋｅ
Ｖ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．２度と
すると、約２．１５ｎｍの周期で形成する。このように
して、多層膜を、例えばＮｉおよびＣの材料で５００層
に形成すれば、約３５％の反射率を得ることができる。
また、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａは、少なくとも利
用する部分を回転双曲面形状とし、二枚目の斜入射多層
膜鏡２４ｂは、少なくとも利用する部分を回転放物面形
状として、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａの回転双曲面
の一方の焦点にＸ線光源２１を配置し、他方の焦点に二
枚目の斜入射多層膜鏡２４ｂの回転放物面の焦点を配置
する。このようにして、Ｘ線光源２１から発生される発
散Ｘ線を、例えば、幅１５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ程度の
シート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換する。
【００１８】なお、Ｘ線光源２１からの発散Ｘ線を、シ
ート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換するＸ線光学系２
４は、原理的には、従来例で説明したベンディング結晶
を用いて構成することもできる。また、一枚の斜入射多
層膜鏡をもって構成することもできる。しかしながら、
一枚の鏡では、Ｘ線光源２１として、たとえ高輝度微小
フォーカス光源を用いても、わずかな面積を有すること
から、正弦条件を満たせず、これがためＸ線光源２１の
うちＸ線光学系の光軸上にない部分からのＸ線によって
収差が発生して、平行Ｘ線２２の平行度が劣化すること
になる。そこで、この実施形態では、Ｘ線光学系２４
を、正弦条件を満足できる上述した二枚の斜入射多層膜
鏡２４ａ，２４ｂをもって構成する。このようにすれ
ば、Ｘ線光源２１からの発散Ｘ線から、平行度の良好な
シート状の走査用Ｘ線２２を容易に得ることが可能とな
る。
ート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換するＸ線光学系２
４は、原理的には、従来例で説明したベンディング結晶
を用いて構成することもできる。また、一枚の斜入射多
層膜鏡をもって構成することもできる。しかしながら、
一枚の鏡では、Ｘ線光源２１として、たとえ高輝度微小
フォーカス光源を用いても、わずかな面積を有すること
から、正弦条件を満たせず、これがためＸ線光源２１の
うちＸ線光学系の光軸上にない部分からのＸ線によって
収差が発生して、平行Ｘ線２２の平行度が劣化すること
になる。そこで、この実施形態では、Ｘ線光学系２４
を、正弦条件を満足できる上述した二枚の斜入射多層膜
鏡２４ａ，２４ｂをもって構成する。このようにすれ
ば、Ｘ線光源２１からの発散Ｘ線から、平行度の良好な
シート状の走査用Ｘ線２２を容易に得ることが可能とな
る。
【００１９】高精度位置合わせ機構２５は、シート状の
走査用Ｘ線２２に対して被測定物２３の方向および位置
を任意に調整可能な、例えば五軸のゴニオメータを用い
て構成し、この高精度位置合わせ機構２５に保持された
被測定物２３を透過するＸ線の透過投影像を、Ｘ線撮像
素子２６上に投影するようにする。Ｘ線撮像素子２６
は、例えば、１０μｍ×１０μｍ程度の画素を、走査用
Ｘ線２２の形状に合わせて二次元的に配列した画素セン
サの表面にシンチレータを塗布してなる積層型の固体撮
像素子をもって構成し、その出力をコンピュータ２８に
取り込んで被測定物２３の寸法を計測するようにする。
走査用Ｘ線２２に対して被測定物２３の方向および位置
を任意に調整可能な、例えば五軸のゴニオメータを用い
て構成し、この高精度位置合わせ機構２５に保持された
被測定物２３を透過するＸ線の透過投影像を、Ｘ線撮像
素子２６上に投影するようにする。Ｘ線撮像素子２６
は、例えば、１０μｍ×１０μｍ程度の画素を、走査用
Ｘ線２２の形状に合わせて二次元的に配列した画素セン
サの表面にシンチレータを塗布してなる積層型の固体撮
像素子をもって構成し、その出力をコンピュータ２８に
取り込んで被測定物２３の寸法を計測するようにする。
【００２０】また、高精度位置合わせ機構２５は、走査
機構２７によりシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切
る方向に移動させ、これにより被測定物２３を走査用Ｘ
線２２によって走査するようにする。このようにして、
厚さ０．５ｍｍのシート状の走査用Ｘ線２２で、それよ
りも大きな範囲の透過投影像、具体的には、走査機構２
７により高精度位置合わせ機構２５を介して被測定物２
３を、シート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に
１５ｍｍ程度移動させて、１５ｍｍ×１５ｍｍ程度の大
きさの透過投影像を得るようにする。
機構２７によりシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切
る方向に移動させ、これにより被測定物２３を走査用Ｘ
線２２によって走査するようにする。このようにして、
厚さ０．５ｍｍのシート状の走査用Ｘ線２２で、それよ
りも大きな範囲の透過投影像、具体的には、走査機構２
７により高精度位置合わせ機構２５を介して被測定物２
３を、シート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に
１５ｍｍ程度移動させて、１５ｍｍ×１５ｍｍ程度の大
きさの透過投影像を得るようにする。
【００２１】この実施形態によれば、Ｘ線光源２１から
の発散Ｘ線を、Ｘ線光学系２４によりシート状の平行な
走査用Ｘ線２２に変換し、この走査用Ｘ線２２により被
測定物２３を走査するようにしたので、走査用Ｘ線２２
として平行度の十分なものを容易に得ることができ、こ
れにより被測定物２３の寸法を０．０１ｍｍ程度の精度
で計測することができる。したがって、例えば、高精度
位置合わせ機構２５により走査用Ｘ線２２に対する被測
定物２３の方向および位置を調整して、走査機構２７に
より被測定物２３を直交する３方向からそれぞれ走査し
て、三角法に基づく設計図面に相当する正面、側面およ
び平面に対応する測定データを得ると共に、コンピュー
タ２８に予め被測定物２３に対応する設計図面のＣＡＤ
データを格納しておくことにより、第１実施形態と同様
に、測定データとＣＡＤデータとの比較に基づいて、被
測定物２３の合否等の判定を即座に行うことができると
共に、測定データによる図面と、ＣＡＤデータによる設
計図面とを図示しないモニタ上に重ねて表示して、加工
不良等の判定を行うこともできる。また、コンピュータ
２８により、ＣＡＤデータに従って必要な測定、例えば
必要な図面に相当する透過投影像を測定するように各部
の動作を制御するようにすれば、被測定物２３の自動検
査を行うこともできる。
の発散Ｘ線を、Ｘ線光学系２４によりシート状の平行な
走査用Ｘ線２２に変換し、この走査用Ｘ線２２により被
測定物２３を走査するようにしたので、走査用Ｘ線２２
として平行度の十分なものを容易に得ることができ、こ
れにより被測定物２３の寸法を０．０１ｍｍ程度の精度
で計測することができる。したがって、例えば、高精度
位置合わせ機構２５により走査用Ｘ線２２に対する被測
定物２３の方向および位置を調整して、走査機構２７に
より被測定物２３を直交する３方向からそれぞれ走査し
て、三角法に基づく設計図面に相当する正面、側面およ
び平面に対応する測定データを得ると共に、コンピュー
タ２８に予め被測定物２３に対応する設計図面のＣＡＤ
データを格納しておくことにより、第１実施形態と同様
に、測定データとＣＡＤデータとの比較に基づいて、被
測定物２３の合否等の判定を即座に行うことができると
共に、測定データによる図面と、ＣＡＤデータによる設
計図面とを図示しないモニタ上に重ねて表示して、加工
不良等の判定を行うこともできる。また、コンピュータ
２８により、ＣＡＤデータに従って必要な測定、例えば
必要な図面に相当する透過投影像を測定するように各部
の動作を制御するようにすれば、被測定物２３の自動検
査を行うこともできる。
【００２２】図３は、この発明の第３実施形態を示すも
のである。この実施形態では、図２に示した第２実施形
態において、Ｘ線撮像素子２６に代えて、イメージング
プレート３１を用い、このイメージングプレート３１を
高精度位置合わせ機構２５と一体に、走査機構２７によ
りシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に移動
させ、これにより被測定物２３およびイメージングプレ
ート３１を走査用Ｘ線２２によって走査して、被測定物
２３の透過投影像をイメージングプレート３１に記録す
るようにする。イメージングプレート３１は、輝尽性物
質よりなる一種の画像記録板で、Ｘ線で記録した像を可
視光または赤外光等のレーザ光を照射することによっ
て、記録されたＸ線に応じた発光を生じるように構成す
る。
のである。この実施形態では、図２に示した第２実施形
態において、Ｘ線撮像素子２６に代えて、イメージング
プレート３１を用い、このイメージングプレート３１を
高精度位置合わせ機構２５と一体に、走査機構２７によ
りシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に移動
させ、これにより被測定物２３およびイメージングプレ
ート３１を走査用Ｘ線２２によって走査して、被測定物
２３の透過投影像をイメージングプレート３１に記録す
るようにする。イメージングプレート３１は、輝尽性物
質よりなる一種の画像記録板で、Ｘ線で記録した像を可
視光または赤外光等のレーザ光を照射することによっ
て、記録されたＸ線に応じた発光を生じるように構成す
る。
【００２３】この実施形態では、半導体レーザ３２およ
びガルバノミラー３３とを用い、半導体レーザ３２から
のレーザ光３４をガルバノミラー３３を経てイメージン
グプレート３１に照射すると共に、イメージングプレー
ト３１に照射されるレーザ光３４をガルバノミラー３３
により、走査機構２７による走査方向と直交する方向に
変位させて、イメージングプレート３１をレーザ光３４
で二次元走査する。また、レーザ光３４の照射によって
イメージングプレート３１から発生する記録されたＸ線
に応じた発光３５は、Ｘ線撮像素子３６で受光し、その
出力をコンピュータ２８に取り込んで、画像を形成する
ようにする。その他の構成は、第２実施形態と同様であ
るので、図２に示すものと同一作用をなすものには同一
符号を付して、その説明を省略する。
びガルバノミラー３３とを用い、半導体レーザ３２から
のレーザ光３４をガルバノミラー３３を経てイメージン
グプレート３１に照射すると共に、イメージングプレー
ト３１に照射されるレーザ光３４をガルバノミラー３３
により、走査機構２７による走査方向と直交する方向に
変位させて、イメージングプレート３１をレーザ光３４
で二次元走査する。また、レーザ光３４の照射によって
イメージングプレート３１から発生する記録されたＸ線
に応じた発光３５は、Ｘ線撮像素子３６で受光し、その
出力をコンピュータ２８に取り込んで、画像を形成する
ようにする。その他の構成は、第２実施形態と同様であ
るので、図２に示すものと同一作用をなすものには同一
符号を付して、その説明を省略する。
【００２４】この実施形態によれば、被測定物２３およ
びイメージングプレート３１を走査機構２７により一体
に移動させながら、被測定物２３を平行度の十分なシー
ト状の走査用Ｘ線２２で走査して、その透過投影像をイ
メージングプレート３１に記録すると共に、イメージン
グプレート３１をレーザ光３４によって、走査用Ｘ線２
２による被測定物２３の走査方向と直交する方向（走査
用Ｘ線２２の幅方向）に走査して、その発光３５をＸ線
撮像素子３６で受光し、その出力に基づいてコンピュー
タ２８において被測定物２３の画像を形成するようにし
たので、上述した実施形態におけると同様に、被測定物
２３の寸法を高精度で計測することができる。
びイメージングプレート３１を走査機構２７により一体
に移動させながら、被測定物２３を平行度の十分なシー
ト状の走査用Ｘ線２２で走査して、その透過投影像をイ
メージングプレート３１に記録すると共に、イメージン
グプレート３１をレーザ光３４によって、走査用Ｘ線２
２による被測定物２３の走査方向と直交する方向（走査
用Ｘ線２２の幅方向）に走査して、その発光３５をＸ線
撮像素子３６で受光し、その出力に基づいてコンピュー
タ２８において被測定物２３の画像を形成するようにし
たので、上述した実施形態におけると同様に、被測定物
２３の寸法を高精度で計測することができる。
【００２５】同様に、例えば、高精度位置合わせ機構２
５により走査用Ｘ線２２に対する被測定物２３の方向お
よび位置を調整して、走査機構２７により被測定物２３
を直交する３方向からそれぞれ走査すると共に、各方向
の走査に同期してレーザ光３４によりイメージングプレ
ート３１を走査すれば、三角法に基づく設計図面に相当
する正面、側面および平面に対応する測定データを得る
ことができる。したがって、コンピュータ２８に予め被
測定物２３に対応する設計図面のＣＡＤデータを格納し
ておけば、測定データとＣＡＤデータとの比較に基づい
て、被測定物２３の合否等の判定を即座に行うことがで
きると共に、測定データによる図面と、ＣＡＤデータに
よる設計図面とを図示しないモニタ上に重ねて表示し
て、加工不良等の判定を行うこともできる。また、コン
ピュータ２８により、ＣＡＤデータに従って必要な測
定、例えば必要な図面に相当する透過投影像を測定する
ように各部の動作を制御するようにすれば、被測定物２
３の自動検査を行うこともできる。
５により走査用Ｘ線２２に対する被測定物２３の方向お
よび位置を調整して、走査機構２７により被測定物２３
を直交する３方向からそれぞれ走査すると共に、各方向
の走査に同期してレーザ光３４によりイメージングプレ
ート３１を走査すれば、三角法に基づく設計図面に相当
する正面、側面および平面に対応する測定データを得る
ことができる。したがって、コンピュータ２８に予め被
測定物２３に対応する設計図面のＣＡＤデータを格納し
ておけば、測定データとＣＡＤデータとの比較に基づい
て、被測定物２３の合否等の判定を即座に行うことがで
きると共に、測定データによる図面と、ＣＡＤデータに
よる設計図面とを図示しないモニタ上に重ねて表示し
て、加工不良等の判定を行うこともできる。また、コン
ピュータ２８により、ＣＡＤデータに従って必要な測
定、例えば必要な図面に相当する透過投影像を測定する
ように各部の動作を制御するようにすれば、被測定物２
３の自動検査を行うこともできる。
【００２６】なお、この発明は、上述した実施形態にの
み限定されるものではなく、幾多の変形または変更が可
能である。例えば、第１，第２実施形態では、Ｘ線撮像
素子１６，２６の画素寸法を１０μｍ×１０μｍとした
が、画素寸法、画素ピッチがより小さいＸ線撮像素子を
用いて、より高精度の寸法計測を行うようにすることも
できる。例えば、１μｍ×１μｍの画素寸法、画素ピッ
チのＸ線撮像素子を用いれば、０．００１程度の精度で
寸法測定することができる。また、第２，第３実施形態
では、シート状の平行な走査用Ｘ線２２を用いたが、被
測定物２３にＸ線が円形のスポット状に投射されるよう
に、断面円形の平行な走査用Ｘ線を用い、被測定物２３
を二次元的に移動させて、その透過投影像を得るように
することもできる。さらに、第１実施形態において、多
層膜光学系１４を、第２，第３実施形態と同様に、複数
枚の多層膜反射鏡をもって構成することもできる。
み限定されるものではなく、幾多の変形または変更が可
能である。例えば、第１，第２実施形態では、Ｘ線撮像
素子１６，２６の画素寸法を１０μｍ×１０μｍとした
が、画素寸法、画素ピッチがより小さいＸ線撮像素子を
用いて、より高精度の寸法計測を行うようにすることも
できる。例えば、１μｍ×１μｍの画素寸法、画素ピッ
チのＸ線撮像素子を用いれば、０．００１程度の精度で
寸法測定することができる。また、第２，第３実施形態
では、シート状の平行な走査用Ｘ線２２を用いたが、被
測定物２３にＸ線が円形のスポット状に投射されるよう
に、断面円形の平行な走査用Ｘ線を用い、被測定物２３
を二次元的に移動させて、その透過投影像を得るように
することもできる。さらに、第１実施形態において、多
層膜光学系１４を、第２，第３実施形態と同様に、複数
枚の多層膜反射鏡をもって構成することもできる。
【００２７】付記項 １．請求項１，２，３，４のいずれか記載のＸ線透過投
影寸法測定器において、前記被測定物に対するＸ線投影
方向を任意に調整し得るように、前記被測定物を保持す
る手段を有することを特徴とするＸ線透過投影寸法測定
器。 ２．請求項１，２，３，４，付記項１のいずれか記載の
Ｘ線透過投影寸法測定器において、前記被測定物の平面
図、正面図および側面図に相当する直交する３方向での
測定データと、前記被測定物のＣＡＤデータとを比較す
る手段を有することを特徴とするＸ線透過投影寸法測定
器。 ３ 請求項１，２，３，４，付記項１，２のいずれか記
載のＸ線透過投影寸法測定器において、前記Ｘ線検出器
を、積層型の固体撮像素子をもって構成したことを特徴
とするＸ線透過投影寸法測定器。
影寸法測定器において、前記被測定物に対するＸ線投影
方向を任意に調整し得るように、前記被測定物を保持す
る手段を有することを特徴とするＸ線透過投影寸法測定
器。 ２．請求項１，２，３，４，付記項１のいずれか記載の
Ｘ線透過投影寸法測定器において、前記被測定物の平面
図、正面図および側面図に相当する直交する３方向での
測定データと、前記被測定物のＣＡＤデータとを比較す
る手段を有することを特徴とするＸ線透過投影寸法測定
器。 ３ 請求項１，２，３，４，付記項１，２のいずれか記
載のＸ線透過投影寸法測定器において、前記Ｘ線検出器
を、積層型の固体撮像素子をもって構成したことを特徴
とするＸ線透過投影寸法測定器。
【００２８】
【発明の効果】請求項１記載の発明によれば、Ｘ線発生
装置からの発散Ｘ線を多層膜光学系により平行Ｘ線に変
換するようにしたので、広視野にわたって平行度の十分
な平行Ｘ線を得ることができる。したがって、被測定物
の内部形状をも含む形状および寸法を、十分な測定性能
で、高精度、かつ効率よく測定することができる。
装置からの発散Ｘ線を多層膜光学系により平行Ｘ線に変
換するようにしたので、広視野にわたって平行度の十分
な平行Ｘ線を得ることができる。したがって、被測定物
の内部形状をも含む形状および寸法を、十分な測定性能
で、高精度、かつ効率よく測定することができる。
【００２９】請求項２記載の発明によれば、Ｘ線発生装
置からの発散Ｘ線をＸ線光学系により平行な走査用Ｘ線
に変換して被測定物を走査するようにしたので、被測定
物に投射する走査用Ｘ線の断面積を小さくできる。した
がって、ベンディング結晶を用いても、平行度の十分な
走査用Ｘ線を得ることができるので、被測定物の内部形
状をも含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精
度、かつ効率よく測定することができる。
置からの発散Ｘ線をＸ線光学系により平行な走査用Ｘ線
に変換して被測定物を走査するようにしたので、被測定
物に投射する走査用Ｘ線の断面積を小さくできる。した
がって、ベンディング結晶を用いても、平行度の十分な
走査用Ｘ線を得ることができるので、被測定物の内部形
状をも含む形状および寸法を、十分な測定性能で、高精
度、かつ効率よく測定することができる。
【図１】この発明の第１実施形態を示す図である。
【図２】同じく、第２実施形態を示す図である。
【図３】同じく、第３実施形態を示す図である。
【図４】従来の技術を説明するための図である。
１１，２１ Ｘ線光源 １２ 平行Ｘ線 １３，２３ 被測定物 １４ 多層膜光学系 １５，２５ 高精度位置合わせ機構 １６，２６，３６ Ｘ線撮像素子 １７，２８ コンピュータ ２２ 走査用Ｘ線 ２４ Ｘ線光学系 ２４ａ，２４ｂ 斜入射多層膜鏡 ２７ 走査機構 ３１ イメージングプレート ３２ 半導体レーザ ３３ ガルバノミラー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年１１月１１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】Ｘ線光源１１は、多層膜光学系１４での平
行Ｘ線の平行度を良好に保つために、高輝度微小フォー
カス光源や回転対陰極型光源、あるいはレーザプラズマ
光源をもって構成する。また、多層膜光学系１４は、高
精度基板と多層膜とを組合わせた斜入射多層膜鏡をもっ
て構成する。ここで、多層膜は、波長０．０２ｎｍ（６
０ｋｅＶ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．
２度とすると、約３．４ｎｍの周期で形成する。このよ
うにして、多層膜を、例えばＷおよびＳｉの材料で６０
０層に形成すれば、約４０％の反射率を得ることができ
る。また、この斜入射多層膜鏡は、回転放物面形状に形
成して、その焦点にＸ線光源１１を配置し、これにより
Ｘ線光源１１から発生される発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ
線１２に変換するようにする。
行Ｘ線の平行度を良好に保つために、高輝度微小フォー
カス光源や回転対陰極型光源、あるいはレーザプラズマ
光源をもって構成する。また、多層膜光学系１４は、高
精度基板と多層膜とを組合わせた斜入射多層膜鏡をもっ
て構成する。ここで、多層膜は、波長０．０２ｎｍ（６
０ｋｅＶ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．
２度とすると、約３．４ｎｍの周期で形成する。このよ
うにして、多層膜を、例えばＷおよびＳｉの材料で６０
０層に形成すれば、約４０％の反射率を得ることができ
る。また、この斜入射多層膜鏡は、回転放物面形状に形
成して、その焦点にＸ線光源１１を配置し、これにより
Ｘ線光源１１から発生される発散Ｘ線を広視野の平行Ｘ
線１２に変換するようにする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】Ｘ線光源２１は、Ｘ線光学系２４での走査
用Ｘ線の平行度を良好に保つために、第１実施形態と同
様に、高輝度微小フォーカス光源や回転対陰極型光源、
あるいはレーザプラズマ光源をもって構成する。また、
Ｘ線光学系２４は、高精度基板と多層膜とを組合わせた
二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２４ｂをもって構成す
る。ここで、多層膜は、波長０．０１５ｎｍ（８０ｋｅ
Ｖ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．２度と
すると、約２．１５ｎｍの周期で形成する。このように
して、多層膜を、例えばＮｉおよびＣの材料で５００層
に形成すれば、約３５％の反射率を得ることができる。
また、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａは、少なくとも利
用する部分を回転双曲面形状とし、二枚目の斜入射多層
膜鏡２４ｂは、少なくとも利用する部分を回転放物面形
状として、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａの回転双曲面
の一方の焦点にＸ線光源２１を配置し、他方の焦点に二
枚目の斜入射多層膜鏡２４ｂの回転放物面の焦点を配置
する。このようにして、Ｘ線光源２１から発生される発
散Ｘ線を、例えば、幅１５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ程度の
シート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換する。
用Ｘ線の平行度を良好に保つために、第１実施形態と同
様に、高輝度微小フォーカス光源や回転対陰極型光源、
あるいはレーザプラズマ光源をもって構成する。また、
Ｘ線光学系２４は、高精度基板と多層膜とを組合わせた
二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２４ｂをもって構成す
る。ここで、多層膜は、波長０．０１５ｎｍ（８０ｋｅ
Ｖ）のＸ線を使用する場合には、斜入射角を０．２度と
すると、約２．１５ｎｍの周期で形成する。このように
して、多層膜を、例えばＮｉおよびＣの材料で５００層
に形成すれば、約３５％の反射率を得ることができる。
また、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａは、少なくとも利
用する部分を回転双曲面形状とし、二枚目の斜入射多層
膜鏡２４ｂは、少なくとも利用する部分を回転放物面形
状として、一枚目の斜入射多層膜鏡２４ａの回転双曲面
の一方の焦点にＸ線光源２１を配置し、他方の焦点に二
枚目の斜入射多層膜鏡２４ｂの回転放物面の焦点を配置
する。このようにして、Ｘ線光源２１から発生される発
散Ｘ線を、例えば、幅１５ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ程度の
シート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】なお、Ｘ線光源２１からの発散Ｘ線を、シ
ート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換するＸ線光学系２
４は、原理的には、従来例で説明したベンディング結晶
を用いて構成することもできる。また、一枚の斜入射多
層膜鏡をもって構成することもできる。しかしながら、
一枚の鏡では正弦条件を満たせず、Ｘ線光源２１とし
て、たとえ高輝度微小フォーカス光源を用いても、わず
かな面積を有することから、Ｘ線光源２１のうちＸ線光
学系の光軸上にない部分からのＸ線によって収差が発生
して、平行Ｘ線２２の平行度が劣化することになる。そ
こで、この実施形態では、Ｘ線光学系２４を、正弦条件
を満足できる上述した二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２
４ｂをもって構成する。このようにすれば、Ｘ線光源２
１からの発散Ｘ線から、平行度の良好なシート状の走査
用Ｘ線２２を容易に得ることが可能となる。
ート状の平行な走査用Ｘ線２２に変換するＸ線光学系２
４は、原理的には、従来例で説明したベンディング結晶
を用いて構成することもできる。また、一枚の斜入射多
層膜鏡をもって構成することもできる。しかしながら、
一枚の鏡では正弦条件を満たせず、Ｘ線光源２１とし
て、たとえ高輝度微小フォーカス光源を用いても、わず
かな面積を有することから、Ｘ線光源２１のうちＸ線光
学系の光軸上にない部分からのＸ線によって収差が発生
して、平行Ｘ線２２の平行度が劣化することになる。そ
こで、この実施形態では、Ｘ線光学系２４を、正弦条件
を満足できる上述した二枚の斜入射多層膜鏡２４ａ，２
４ｂをもって構成する。このようにすれば、Ｘ線光源２
１からの発散Ｘ線から、平行度の良好なシート状の走査
用Ｘ線２２を容易に得ることが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２２】図３は、この発明の第３実施形態を示すも
のである。この実施形態では、図２に示した第２実施形
態において、Ｘ線撮像素子２６に代えて、イメージング
プレート３１を用い、このイメージングプレート３１を
高精度位置合わせ機構２５と一体に、走査機構２７によ
りシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に移動
させ、これにより被測定物２３およびイメージングプレ
ート３１を走査用Ｘ線２２によって走査して、被測定物
２３の透過投影像をイメージングプレート３１に記録す
るようにする。イメージングプレート３１は、輝尽性物
質よりなる一種の画像記録板で、Ｘ線で記録した像を可
視光または赤外光等のレーザ光を照射することによっ
て、記録されたＸ線に応じた発光を生じる。
のである。この実施形態では、図２に示した第２実施形
態において、Ｘ線撮像素子２６に代えて、イメージング
プレート３１を用い、このイメージングプレート３１を
高精度位置合わせ機構２５と一体に、走査機構２７によ
りシート状の平行な走査用Ｘ線２２を横切る方向に移動
させ、これにより被測定物２３およびイメージングプレ
ート３１を走査用Ｘ線２２によって走査して、被測定物
２３の透過投影像をイメージングプレート３１に記録す
るようにする。イメージングプレート３１は、輝尽性物
質よりなる一種の画像記録板で、Ｘ線で記録した像を可
視光または赤外光等のレーザ光を照射することによっ
て、記録されたＸ線に応じた発光を生じる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２３】この実施形態では、半導体レーザ３２およ
びガルバノミラー３３とを用い、半導体レーザ３２から
のレーザ光３４をガルバノミラー３３を経てイメージン
グプレート３１に照射すると共に、イメージングプレー
ト３１に照射されるレーザ光３４をガルバノミラー３３
により、走査機構２７による走査方向と直交する方向に
変位させて、イメージングプレート３１をレーザ光３４
で二次元走査する。また、レーザ光３４の照射によって
イメージングプレート３１から発生する記録されたＸ線
に応じた発光３５は、光検出器３６で受光し、その出力
をコンピュータ２８に取り込んで、画像を形成するよう
にする。その他の構成は、第２実施形態と同様であるの
で、図２に示すものと同一作用をなすものには同一符号
を付して、その説明を省略する。
びガルバノミラー３３とを用い、半導体レーザ３２から
のレーザ光３４をガルバノミラー３３を経てイメージン
グプレート３１に照射すると共に、イメージングプレー
ト３１に照射されるレーザ光３４をガルバノミラー３３
により、走査機構２７による走査方向と直交する方向に
変位させて、イメージングプレート３１をレーザ光３４
で二次元走査する。また、レーザ光３４の照射によって
イメージングプレート３１から発生する記録されたＸ線
に応じた発光３５は、光検出器３６で受光し、その出力
をコンピュータ２８に取り込んで、画像を形成するよう
にする。その他の構成は、第２実施形態と同様であるの
で、図２に示すものと同一作用をなすものには同一符号
を付して、その説明を省略する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】この実施形態によれば、被測定物２３およ
びイメージングプレート３１を走査機構２７により一体
に移動させながら、被測定物２３を平行度の十分なシー
ト状の走査用Ｘ線２２で走査して、その透過投影像をイ
メージングプレート３１に記録すると共に、イメージン
グプレート３１をレーザ光３４によって、走査用Ｘ線２
２による被測定物２３の走査方向と直交する方向（走査
用Ｘ線２２の幅方向）に走査して、その発光３５を光検
出器３６で受光し、その出力に基づいてコンピュータ２
８において被測定物２３の画像を形成するようにしたの
で、上述した実施形態におけると同様に、被測定物２３
の寸法を高精度で計測することができる。
びイメージングプレート３１を走査機構２７により一体
に移動させながら、被測定物２３を平行度の十分なシー
ト状の走査用Ｘ線２２で走査して、その透過投影像をイ
メージングプレート３１に記録すると共に、イメージン
グプレート３１をレーザ光３４によって、走査用Ｘ線２
２による被測定物２３の走査方向と直交する方向（走査
用Ｘ線２２の幅方向）に走査して、その発光３５を光検
出器３６で受光し、その出力に基づいてコンピュータ２
８において被測定物２３の画像を形成するようにしたの
で、上述した実施形態におけると同様に、被測定物２３
の寸法を高精度で計測することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 １１，２１ Ｘ線光源 １２ 平行Ｘ線 １３，２３ 被測定物 １４ 多層膜光学系 １５，２５ 高精度位置合わせ機構 １６，２６ Ｘ線撮像素子 １７，２８ コンピュータ ２２ 走査用Ｘ線 ２４ Ｘ線光学系 ２４ａ，２４ｂ 斜入射多層膜鏡 ２７ 走査機構 ３１ イメージングプレート ３２ 半導体レーザ ３３ ガルバノミラー ３６ 光検出器
Claims (4)
- 【請求項１】 点光源とみなせるＸ線発生装置と、この
Ｘ線発生装置からの発散Ｘ線を平行Ｘ線に変換して被測
定物に投射する多層膜光学系と、前記被測定物からの透
過Ｘ線を検出するＸ線検出器とを有することを特徴とす
るＸ線透過投影寸法測定器。 - 【請求項２】 点光源とみなせるＸ線発生装置と、この
Ｘ線発生装置からの発散Ｘ線を平行な走査用Ｘ線に変換
して被測定物に投射するＸ線光学系と、前記被測定物か
らの透過Ｘ線を検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線光学系
からの走査用Ｘ線と前記被測定物とを相対的に変位させ
る走査機構とを有することを特徴とするＸ線透過投影寸
法測定器。 - 【請求項３】 前記Ｘ線光学系を、多層膜光学系をもっ
て構成したことを特徴とする請求項２記載のＸ線透過投
影寸法測定器。 - 【請求項４】 請求項１または３記載のＸ線透過投影寸
法測定器において、 前記多層膜光学系は、複数の多層膜反射鏡を有すること
を特徴とするＸ線透過投影寸法測定器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28215196A JPH10122843A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Ｘ線透過投影寸法測定器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28215196A JPH10122843A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Ｘ線透過投影寸法測定器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10122843A true JPH10122843A (ja) | 1998-05-15 |
Family
ID=17648773
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28215196A Withdrawn JPH10122843A (ja) | 1996-10-24 | 1996-10-24 | Ｘ線透過投影寸法測定器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10122843A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009109416A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Hitachi Ltd | 組立品の検査方法及び検査システム |
| CN110686624A (zh) * | 2018-07-04 | 2020-01-14 | 国立大学法人东京大学 | 利用由x射线ct装置获得的投影像的尺寸测定方法 |
-
1996
- 1996-10-24 JP JP28215196A patent/JPH10122843A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009109416A (ja) * | 2007-10-31 | 2009-05-21 | Hitachi Ltd | 組立品の検査方法及び検査システム |
| CN110686624A (zh) * | 2018-07-04 | 2020-01-14 | 国立大学法人东京大学 | 利用由x射线ct装置获得的投影像的尺寸测定方法 |
| US11561091B2 (en) | 2018-07-04 | 2023-01-24 | The University Of Tokyo | Dimension measurement method using projection image obtained by X-ray CT apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040106 |