JPH10115592A - 欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システム - Google Patents
欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システムInfo
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- JPH10115592A JPH10115592A JP27050196A JP27050196A JPH10115592A JP H10115592 A JPH10115592 A JP H10115592A JP 27050196 A JP27050196 A JP 27050196A JP 27050196 A JP27050196 A JP 27050196A JP H10115592 A JPH10115592 A JP H10115592A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】簡単な構造で、精度よく表面・内部の欠陥を検
出することができる。 【解決手段】光透過性支持体2に略平行な検査光を投光
し、この光透過性支持体2によって反射された反射光を
検出して光透過性支持体2の欠陥を測定する欠陥検査方
法であって、光透過性支持体2に対して垂直に検査光を
投光し、反射光をレンズ40,41を有する光学系4を
通過させた後、レンズ41の焦点位置に配置した光検出
センサ5で検出する。
出することができる。 【解決手段】光透過性支持体2に略平行な検査光を投光
し、この光透過性支持体2によって反射された反射光を
検出して光透過性支持体2の欠陥を測定する欠陥検査方
法であって、光透過性支持体2に対して垂直に検査光を
投光し、反射光をレンズ40,41を有する光学系4を
通過させた後、レンズ41の焦点位置に配置した光検出
センサ5で検出する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光透過性支持体
の欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システ
ムに関する。
の欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システ
ムに関する。
【0002】
【従来の技術】光透過性支持体、例えばガラス基板など
の透明・半透明媒体は、半導体の集積回路のパターンを
作成するために使用されることがあり、光透過性支持体
にごみや傷が付いていると不良製品となるために、欠陥
検出を行う必要がある。
の透明・半透明媒体は、半導体の集積回路のパターンを
作成するために使用されることがあり、光透過性支持体
にごみや傷が付いていると不良製品となるために、欠陥
検出を行う必要がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】光透過性支持体の欠陥
検出として、表面欠陥と裏面欠陥の判別や、表面の欠陥
検出のために裏面欠陥の影響を低減させるものが、例え
ば特開昭56−115945号公報等に提案されている
が、構造が複雑であり、しかも表面欠陥の検出力向上と
共に裏面の欠陥の検出力を抑えるようにはなっていない
ため、精度よく表面の欠陥を検出することができない。
検出として、表面欠陥と裏面欠陥の判別や、表面の欠陥
検出のために裏面欠陥の影響を低減させるものが、例え
ば特開昭56−115945号公報等に提案されている
が、構造が複雑であり、しかも表面欠陥の検出力向上と
共に裏面の欠陥の検出力を抑えるようにはなっていない
ため、精度よく表面の欠陥を検出することができない。
【0004】特に、半導体の集積回路のパターンを作成
するために使用される光透過性支持体の表面(塗布面)
に近い欠陥程、支障度大きい。塗布面は集積回路ICの
リードフレーム等のフォトマスクパターン面であり、こ
の面に近い欠陥があると、パターンの乱れとなり問題と
なる。例えば、光透過性支持体の欠陥の原因である気泡
は、大きさだけでなく、深さも問題で有り、表面に近い
程小さい気泡も問題となるが、逆に裏面に近いものは、
大きさの許容度が大きくなる。
するために使用される光透過性支持体の表面(塗布面)
に近い欠陥程、支障度大きい。塗布面は集積回路ICの
リードフレーム等のフォトマスクパターン面であり、こ
の面に近い欠陥があると、パターンの乱れとなり問題と
なる。例えば、光透過性支持体の欠陥の原因である気泡
は、大きさだけでなく、深さも問題で有り、表面に近い
程小さい気泡も問題となるが、逆に裏面に近いものは、
大きさの許容度が大きくなる。
【0005】一般に、約100ミクロン以下位でも問題
となるが、今迄、支障度の大きい表面・内部の欠陥検出
力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥の検出力
を抑え、両者の検出力に差を付けるようにしたものな
い。
となるが、今迄、支障度の大きい表面・内部の欠陥検出
力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥の検出力
を抑え、両者の検出力に差を付けるようにしたものな
い。
【0006】また、工程管理において、例えば2次元的
な欠陥マップを作る時、欠陥数が多いと演算に時間かか
る。特に、広がりを持った欠陥の場合、それを1つの欠
陥と認識する処理が必要であり、時間がかかる。
な欠陥マップを作る時、欠陥数が多いと演算に時間かか
る。特に、広がりを持った欠陥の場合、それを1つの欠
陥と認識する処理が必要であり、時間がかかる。
【0007】また、検査後、例えば拡大鏡で欠陥を目視
確認する場合があるが、検査箇所が少ないほうが検査時
間を減らすことができる。
確認する場合があるが、検査箇所が少ないほうが検査時
間を減らすことができる。
【0008】この発明は、かかる点に鑑みてなされたも
ので、簡単な構造で、精度よく表面・内部の欠陥を検出
することができる欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供
することを目的とし、また短時間に欠陥検出を行い、か
つ自動化を可能にする工程管理システムを提供すること
を目的としている。
ので、簡単な構造で、精度よく表面・内部の欠陥を検出
することができる欠陥検査方法及び欠陥検査装置を提供
することを目的とし、また短時間に欠陥検出を行い、か
つ自動化を可能にする工程管理システムを提供すること
を目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決し、かつ
目的を達成するために、請求項1記載の発明は、光透過
性支持体に略平行な検査光を投光し、この光透過性支持
体によって反射された反射光を検出して光透過性支持体
の欠陥を測定する欠陥検査方法であって、前記光透過性
支持体に対して垂直に前記検査光を投光し、前記反射光
をレンズを有する光学系を通過させた後、前記レンズの
焦点位置に配置した光検出センサで検出することを特徴
としている。光透過性支持体の欠陥は、裏面欠陥の反射
光のみを検出し、表面・内部欠陥は表面・内部欠陥から
の反射光と、欠陥部を透過した光が光透過性支持体の裏
面で反射して再度欠陥を透過した光(以後これを2重透
過光と呼ぶ)を検出することで、光透過性支持体の支障
度の大きい表面・内部の欠陥検出力を上げると同時に、
支障度の小さい裏面欠陥の検出力を抑えて、両者の検出
力差を付けることで、精度よく表面・内部欠陥を検出す
ることができる。
目的を達成するために、請求項1記載の発明は、光透過
性支持体に略平行な検査光を投光し、この光透過性支持
体によって反射された反射光を検出して光透過性支持体
の欠陥を測定する欠陥検査方法であって、前記光透過性
支持体に対して垂直に前記検査光を投光し、前記反射光
をレンズを有する光学系を通過させた後、前記レンズの
焦点位置に配置した光検出センサで検出することを特徴
としている。光透過性支持体の欠陥は、裏面欠陥の反射
光のみを検出し、表面・内部欠陥は表面・内部欠陥から
の反射光と、欠陥部を透過した光が光透過性支持体の裏
面で反射して再度欠陥を透過した光(以後これを2重透
過光と呼ぶ)を検出することで、光透過性支持体の支障
度の大きい表面・内部の欠陥検出力を上げると同時に、
支障度の小さい裏面欠陥の検出力を抑えて、両者の検出
力差を付けることで、精度よく表面・内部欠陥を検出す
ることができる。
【0010】請求項2記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光透過性支持体を前記レンズの焦点位置に配置したこ
とを特徴としている。光透過性支持体の表面・内部欠陥
をより精度よく検出することができる。
記光透過性支持体を前記レンズの焦点位置に配置したこ
とを特徴としている。光透過性支持体の表面・内部欠陥
をより精度よく検出することができる。
【0011】請求項3記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光学系が、フーリエ変換光学系であることを特徴とし
ている。フーリエ変換光学系にすることで、全視野で表
面・内部欠陥の2重透過光を捕らえることによる検出力
の向上と、裏面欠陥との検出力の差を付けることができ
る。
記光学系が、フーリエ変換光学系であることを特徴とし
ている。フーリエ変換光学系にすることで、全視野で表
面・内部欠陥の2重透過光を捕らえることによる検出力
の向上と、裏面欠陥との検出力の差を付けることができ
る。
【0012】請求項4記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光透過性支持体が、略80%以上の透過率を有するガ
ラスであることを特徴としている。高い透過率を有する
ガラスの表面・内部欠陥を精度よく検出することができ
る。
記光透過性支持体が、略80%以上の透過率を有するガ
ラスであることを特徴としている。高い透過率を有する
ガラスの表面・内部欠陥を精度よく検出することができ
る。
【0013】請求項5記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光透過性支持体が、略4%以上の反射率を有するガラ
スであることを特徴としている。低い反射率を有するガ
ラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出することができ
る。
記光透過性支持体が、略4%以上の反射率を有するガラ
スであることを特徴としている。低い反射率を有するガ
ラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出することができ
る。
【0014】請求項6記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光透過性支持体が、平面性が略10mR以上の平坦度
を有するガラスであることを特徴としている。低い平坦
度を有するガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出す
ることができる。
記光透過性支持体が、平面性が略10mR以上の平坦度
を有するガラスであることを特徴としている。低い平坦
度を有するガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出す
ることができる。
【0015】請求項7記載の発明の欠陥検査方法は、前
記検査光が、可視光から近赤外光の範囲の波長であるこ
とを特徴としている。一般に市販されている標準的な光
源を用いて光透過性支持体の表面・内部欠陥を精度よく
検出することができる。
記検査光が、可視光から近赤外光の範囲の波長であるこ
とを特徴としている。一般に市販されている標準的な光
源を用いて光透過性支持体の表面・内部欠陥を精度よく
検出することができる。
【0016】請求項8記載の発明の欠陥検査方法は、前
記光透過性支持体の表面と裏面との両面側から前記検査
光を投光し、表面側からの投光による検出力と裏面側か
らの投光による検出力とに基づいて欠陥発生場所を推定
することを特徴としている。ある欠陥の検出力が表面側
からの投光による検出力が裏面側からの投光による検出
力より大きい場合には表面の欠陥と判断し、表面側から
の投光による検出力より裏面側からの投光による検出力
より大きい場合には裏面の欠陥と判断し、表面側からの
投光による検出力と裏面側からの投光による検出力とが
ほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断し、欠陥発生場所
を推定する。
記光透過性支持体の表面と裏面との両面側から前記検査
光を投光し、表面側からの投光による検出力と裏面側か
らの投光による検出力とに基づいて欠陥発生場所を推定
することを特徴としている。ある欠陥の検出力が表面側
からの投光による検出力が裏面側からの投光による検出
力より大きい場合には表面の欠陥と判断し、表面側から
の投光による検出力より裏面側からの投光による検出力
より大きい場合には裏面の欠陥と判断し、表面側からの
投光による検出力と裏面側からの投光による検出力とが
ほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断し、欠陥発生場所
を推定する。
【0017】請求項9記載の発明の欠陥検査装置は、光
透過性支持体に略平行な検査光を投光し、この光透過性
支持体によって反射された反射光を検出して光透過性支
持体の欠陥を測定する欠陥検査装置であって、前記光透
過性支持体に対して垂直に前記検査光を投光する検査光
投光手段と、前記反射光を導光するレンズを有する光学
系と、前記レンズの焦点位置に配置された光検出センサ
とを有することを特徴としている。光透過性支持体の支
障度の大きい表面・内部欠陥の検出力を上げると同時
に、支障度の小さい裏面欠陥の検出力を抑えて、両者の
検出力差を付けることで、精度よく表面・内部欠陥を検
出することができる。
透過性支持体に略平行な検査光を投光し、この光透過性
支持体によって反射された反射光を検出して光透過性支
持体の欠陥を測定する欠陥検査装置であって、前記光透
過性支持体に対して垂直に前記検査光を投光する検査光
投光手段と、前記反射光を導光するレンズを有する光学
系と、前記レンズの焦点位置に配置された光検出センサ
とを有することを特徴としている。光透過性支持体の支
障度の大きい表面・内部欠陥の検出力を上げると同時
に、支障度の小さい裏面欠陥の検出力を抑えて、両者の
検出力差を付けることで、精度よく表面・内部欠陥を検
出することができる。
【0018】請求項10記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光透過性支持体を前記レンズの焦点位置に配置した
ことを特徴としている。光透過性支持体の表面・内部欠
陥をより精度よく検出することができる。
前記光透過性支持体を前記レンズの焦点位置に配置した
ことを特徴としている。光透過性支持体の表面・内部欠
陥をより精度よく検出することができる。
【0019】請求項11記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光学系が、フーリエ変換光学系であることを特徴と
している。フーリエ変換光学系にすることで、全視野で
表面・内部欠陥の2重透過光を捕らえることによる検出
力の向上と、裏面欠陥との検出力の差を付けることがで
きる。
前記光学系が、フーリエ変換光学系であることを特徴と
している。フーリエ変換光学系にすることで、全視野で
表面・内部欠陥の2重透過光を捕らえることによる検出
力の向上と、裏面欠陥との検出力の差を付けることがで
きる。
【0020】請求項12記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光透過性支持体が、略80%以上の透過率を有する
ガラスであることを特徴としている。高い透過率を有す
るガラスの表面・内部欠陥を精度よく検出することがで
きる。
前記光透過性支持体が、略80%以上の透過率を有する
ガラスであることを特徴としている。高い透過率を有す
るガラスの表面・内部欠陥を精度よく検出することがで
きる。
【0021】請求項13記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光透過性支持体が、略4%以上の反射率を有するガ
ラスであることを特徴としている。低い反射率を有する
ガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出することがで
きる。
前記光透過性支持体が、略4%以上の反射率を有するガ
ラスであることを特徴としている。低い反射率を有する
ガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出することがで
きる。
【0022】請求項14記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光透過性支持体が、平面性が略10mR以上の平坦
度を有するガラスであることを特徴としている。低い平
坦度を有するガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出
することができる。
前記光透過性支持体が、平面性が略10mR以上の平坦
度を有するガラスであることを特徴としている。低い平
坦度を有するガラスでも表面・内部欠陥を精度よく検出
することができる。
【0023】請求項15記載の発明の欠陥検査装置は、
前記検査光が、可視光から近赤外光の波長であることを
特徴としている。一般に市販されている標準的な光源を
用いて光透過性支持体の表面・内部欠陥を精度よく検出
することができる。
前記検査光が、可視光から近赤外光の波長であることを
特徴としている。一般に市販されている標準的な光源を
用いて光透過性支持体の表面・内部欠陥を精度よく検出
することができる。
【0024】請求項16記載の発明の欠陥検査装置は、
前記光透過性支持体の表面と裏面との両面側から前記検
査光を投光し、表面側からの投光による検出力と裏面側
からの投光による検出力とに基づいて欠陥発生場所を推
定する手段を備えることを特徴としている。ある欠陥の
検出力が表面側からの投光による検出力が裏面側からの
投光による検出力より大きい場合には表面の欠陥と判断
し、表面側からの投光による検出力より裏面側からの投
光による検出力より大きい場合には裏面の欠陥と判断
し、表面側からの投光による検出力と裏面側からの投光
による検出力とがほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断
し、欠陥発生場所を推定する。
前記光透過性支持体の表面と裏面との両面側から前記検
査光を投光し、表面側からの投光による検出力と裏面側
からの投光による検出力とに基づいて欠陥発生場所を推
定する手段を備えることを特徴としている。ある欠陥の
検出力が表面側からの投光による検出力が裏面側からの
投光による検出力より大きい場合には表面の欠陥と判断
し、表面側からの投光による検出力より裏面側からの投
光による検出力より大きい場合には裏面の欠陥と判断
し、表面側からの投光による検出力と裏面側からの投光
による検出力とがほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断
し、欠陥発生場所を推定する。
【0025】請求項17記載の発明の工程管理システム
は、前記欠陥検査装置により光透過性支持体の表面欠陥
の検出信号と、同時に光透過性支持体の裏面欠陥の検出
信号を得る検査工程と、この検査工程で得られた検出信
号に対して予め定められた複数のしきい値と比較して、
欠陥の有無、欠陥の支障度の大小を判断する判別工程
と、この判別工程により判別された光透過性支持体の表
面欠陥を管理する欠陥管理工程と、前記光透過性支持体
の表面欠陥を確認する欠陥確認工程とを有することを特
徴としている。検出の段階で、表面・内部欠陥と裏面欠
陥をある程度弁別できるので、検査時間や欠陥管理時間
を短縮できる。検出の後、例えば拡大鏡で欠陥を目視で
確認する場合、表面・内部欠陥の検出と裏面欠陥の検出
力が同じだと、確認する必要のない裏面欠陥も数多く見
ることになるので検査時間がかかるが、表面・内部欠陥
の検出のみ行うことで目視で短時間に確認することがで
きる。また、支障度の大きい表面・内部の欠陥検出力を
向上することで、レンズ倍率を下げられ、視野幅を広げ
られるため、その分検査時間を短縮できる。
は、前記欠陥検査装置により光透過性支持体の表面欠陥
の検出信号と、同時に光透過性支持体の裏面欠陥の検出
信号を得る検査工程と、この検査工程で得られた検出信
号に対して予め定められた複数のしきい値と比較して、
欠陥の有無、欠陥の支障度の大小を判断する判別工程
と、この判別工程により判別された光透過性支持体の表
面欠陥を管理する欠陥管理工程と、前記光透過性支持体
の表面欠陥を確認する欠陥確認工程とを有することを特
徴としている。検出の段階で、表面・内部欠陥と裏面欠
陥をある程度弁別できるので、検査時間や欠陥管理時間
を短縮できる。検出の後、例えば拡大鏡で欠陥を目視で
確認する場合、表面・内部欠陥の検出と裏面欠陥の検出
力が同じだと、確認する必要のない裏面欠陥も数多く見
ることになるので検査時間がかかるが、表面・内部欠陥
の検出のみ行うことで目視で短時間に確認することがで
きる。また、支障度の大きい表面・内部の欠陥検出力を
向上することで、レンズ倍率を下げられ、視野幅を広げ
られるため、その分検査時間を短縮できる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、この発明の欠陥検査方法及
び欠陥検査装置並びに工程管理システムの実施の形態を
図面に基づいて説明する。図1は欠陥検査装置の構成図
である。
び欠陥検査装置並びに工程管理システムの実施の形態を
図面に基づいて説明する。図1は欠陥検査装置の構成図
である。
【0027】欠陥検査装置1は、光透過性支持体2に略
平行な検査光を投光し、この光透過性支持体2によって
反射された反射光を検出して光透過性支持体2の欠陥を
測定し、光透過性支持体2に対して垂直に検査光を投光
する検査光投光手段3と、反射光を導光するレンズ4
0,41を有する光学系4と、レンズ41の焦点位置に
配置された光検出センサ5とを有している。光検出セン
サ5は、ラインセンサで構成されている。
平行な検査光を投光し、この光透過性支持体2によって
反射された反射光を検出して光透過性支持体2の欠陥を
測定し、光透過性支持体2に対して垂直に検査光を投光
する検査光投光手段3と、反射光を導光するレンズ4
0,41を有する光学系4と、レンズ41の焦点位置に
配置された光検出センサ5とを有している。光検出セン
サ5は、ラインセンサで構成されている。
【0028】検査光投光手段3は、光源30と、光透過
性支持体2とレンズ40との間に配置されたハーフミラ
ー31とから構成され、光透過性支持体2に対して垂直
に検査光を投光し、反射光をレンズ40,41を有する
光学系4を通過させた後、レンズ41の焦点位置に配置
した光検出センサ5で検出する。検査光は、白色光、レ
ーザーのような単色光等が用いられ、可視光から近赤外
光の範囲の波長であり、例えば400nm〜1000n
mの波長とすることで一般に市販されている標準的な光
源30を用いて光透過性支持体2の表面・内部欠陥を精
度よく検出することができる。
性支持体2とレンズ40との間に配置されたハーフミラ
ー31とから構成され、光透過性支持体2に対して垂直
に検査光を投光し、反射光をレンズ40,41を有する
光学系4を通過させた後、レンズ41の焦点位置に配置
した光検出センサ5で検出する。検査光は、白色光、レ
ーザーのような単色光等が用いられ、可視光から近赤外
光の範囲の波長であり、例えば400nm〜1000n
mの波長とすることで一般に市販されている標準的な光
源30を用いて光透過性支持体2の表面・内部欠陥を精
度よく検出することができる。
【0029】光透過性支持体2の裏面欠陥6は、裏面欠
陥6の反射光のみを検出し、表面・内部欠陥7は表面・
内部欠陥7からの反射光と欠陥部との2重透過光を検出
することで、光透過性支持体2の支障度の大きい表面・
内部の欠陥検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏
面欠陥の検出力を抑えて、両者の検出力差を付けること
で、精度よく表面・内部の欠陥を検出することができ
る。
陥6の反射光のみを検出し、表面・内部欠陥7は表面・
内部欠陥7からの反射光と欠陥部との2重透過光を検出
することで、光透過性支持体2の支障度の大きい表面・
内部の欠陥検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏
面欠陥の検出力を抑えて、両者の検出力差を付けること
で、精度よく表面・内部の欠陥を検出することができ
る。
【0030】光透過性支持体2は、レンズ40の焦点位
置に配置され、光透過性支持体2の表面・内部欠陥7を
より精度よく検出することができる。また、光学系4
は、移動光学系でも固定光学系でも良く、レンズ40の
焦点距離がf1で、レンズ41の焦点距離がf2であ
り、レンズ40,41及び光検出センサ5を焦点位置に
配置したフーリエ変換光学系である。フーリエ変換光学
系にすることで、全視野で表面・内部欠陥7の2重透過
光を捕らえることによる検出力の向上と、裏面欠陥6と
の検出力の差を付けることができる。
置に配置され、光透過性支持体2の表面・内部欠陥7を
より精度よく検出することができる。また、光学系4
は、移動光学系でも固定光学系でも良く、レンズ40の
焦点距離がf1で、レンズ41の焦点距離がf2であ
り、レンズ40,41及び光検出センサ5を焦点位置に
配置したフーリエ変換光学系である。フーリエ変換光学
系にすることで、全視野で表面・内部欠陥7の2重透過
光を捕らえることによる検出力の向上と、裏面欠陥6と
の検出力の差を付けることができる。
【0031】光透過性支持体2は、例えばガラス基板、
アクリルなどの透明・半透明媒体であり、例えば略80
%以上の透過率を有するガラス、また略4%以上の反射
率を有するガラス、さらに平面性が略10mR以上の平
坦度を有するガラスであり、これらの高い透過率を有す
るガラス、低い反射率を有するガラス、低い平坦度を有
するガラスでも表面・内部欠陥7を精度よく検出するこ
とができる。
アクリルなどの透明・半透明媒体であり、例えば略80
%以上の透過率を有するガラス、また略4%以上の反射
率を有するガラス、さらに平面性が略10mR以上の平
坦度を有するガラスであり、これらの高い透過率を有す
るガラス、低い反射率を有するガラス、低い平坦度を有
するガラスでも表面・内部欠陥7を精度よく検出するこ
とができる。
【0032】図2は光透過性支持体の表面と裏面との両
面側から検査光を投光して検査する欠陥検査装置の構成
図である。光透過性支持体2の表面2a側と、裏面2b
側とに同じ構成の表面側検査機50と裏面側検査機60
が配置され、両方の検査機50,60が光透過性支持体
2の同じ場所を検査している場合である。表面側検査機
50及び裏面側検査機60では、図1と同じ符号を付し
たものは同様に構成されるので説明を省略するが、表面
側検査機50及び裏面側検査機60では光透過性支持体
2とレンズとの間に1/4波長板51,61と偏光ビー
ムスプリッター52,62が配置され、偏光ビームスプ
リッター52,62と光源30との間には偏光板53,
63が配置されている。
面側から検査光を投光して検査する欠陥検査装置の構成
図である。光透過性支持体2の表面2a側と、裏面2b
側とに同じ構成の表面側検査機50と裏面側検査機60
が配置され、両方の検査機50,60が光透過性支持体
2の同じ場所を検査している場合である。表面側検査機
50及び裏面側検査機60では、図1と同じ符号を付し
たものは同様に構成されるので説明を省略するが、表面
側検査機50及び裏面側検査機60では光透過性支持体
2とレンズとの間に1/4波長板51,61と偏光ビー
ムスプリッター52,62が配置され、偏光ビームスプ
リッター52,62と光源30との間には偏光板53,
63が配置されている。
【0033】表面側検査機50の光の振動方向をa1
(図2では偏光板53入射前の光の振動方向が紙面に垂
直な方向と、水平な方向の2つの場合を示しているがラ
ンダム偏光、無偏光でもかまわない。)、1/4波長板
を通過した光の振動方向をa2で示し、1/4波長板を
2度通過した表面側検査機光の振動方向をa3、1/4
波長板を通過した裏面側検査機光の振動方向をa4、偏
光ビームスプリッターを通過できる振動方向をa5で示
し、裏面側検査機60の光は入ってこないように構成さ
れている。裏面側検査機60の光の振動方向をb1、1
/4波長板を通過した光の振動方向をb2で示し、1/
4波長板を2度通過した裏面側検査機光の振動方向をb
3、1/4波長板を通過した表面側検査機光の振動方向
をb4、偏光ビームスプリッターを通過できる振動方向
をb5で示し、表面側検査機50の光は入ってこないよ
うに構成されている。
(図2では偏光板53入射前の光の振動方向が紙面に垂
直な方向と、水平な方向の2つの場合を示しているがラ
ンダム偏光、無偏光でもかまわない。)、1/4波長板
を通過した光の振動方向をa2で示し、1/4波長板を
2度通過した表面側検査機光の振動方向をa3、1/4
波長板を通過した裏面側検査機光の振動方向をa4、偏
光ビームスプリッターを通過できる振動方向をa5で示
し、裏面側検査機60の光は入ってこないように構成さ
れている。裏面側検査機60の光の振動方向をb1、1
/4波長板を通過した光の振動方向をb2で示し、1/
4波長板を2度通過した裏面側検査機光の振動方向をb
3、1/4波長板を通過した表面側検査機光の振動方向
をb4、偏光ビームスプリッターを通過できる振動方向
をb5で示し、表面側検査機50の光は入ってこないよ
うに構成されている。
【0034】このように、偏光板53,63、偏光ビー
ムスプリッター52,62及び1/4波長板51,61
を用いることで、互いに相手側の検査光の影響を受けな
いようにしているが、光源が直線偏光のレーザーの場合
には偏光板は不要である。ただし、レーザー光の振動方
向は、互いに直交させておく必要がある。
ムスプリッター52,62及び1/4波長板51,61
を用いることで、互いに相手側の検査光の影響を受けな
いようにしているが、光源が直線偏光のレーザーの場合
には偏光板は不要である。ただし、レーザー光の振動方
向は、互いに直交させておく必要がある。
【0035】表面側検査機50の光検出センサ5と、裏
面側検査機60の光検出センサ5からの検出信号が比較
器70に入力され、この比較器70は光透過性支持体2
の表面側からの投光による検出力と裏面側からの投光に
よる検出力とに基づいて欠陥発生場所を推定する手段を
構成している。即ち、比較器70によりある欠陥の検出
力が表面側からの投光による検出力が裏面側からの投光
による検出力より大きい場合には表面の欠陥と判断し、
表面側からの投光による検出力より裏面側からの投光に
よる検出力より大きい場合には裏面の欠陥と判断し、表
面側からの投光による検出力と裏面側からの投光による
検出力とがほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断し、欠
陥発生場所の推定が可能である。
面側検査機60の光検出センサ5からの検出信号が比較
器70に入力され、この比較器70は光透過性支持体2
の表面側からの投光による検出力と裏面側からの投光に
よる検出力とに基づいて欠陥発生場所を推定する手段を
構成している。即ち、比較器70によりある欠陥の検出
力が表面側からの投光による検出力が裏面側からの投光
による検出力より大きい場合には表面の欠陥と判断し、
表面側からの投光による検出力より裏面側からの投光に
よる検出力より大きい場合には裏面の欠陥と判断し、表
面側からの投光による検出力と裏面側からの投光による
検出力とがほぼ等しい場合には内部の欠陥と判断し、欠
陥発生場所の推定が可能である。
【0036】また、表面側検査機50と裏面側検査機6
0が光透過性支持体2の異なった場所に検査する場合に
は、相手側の検査光の影響を受けないので偏光板53,
63、偏光ビームスプリッター52,62及び1/4波
長板51,61は不要であり、図1の欠陥検査装置をそ
のまま用いることができる。ただし、この場合には、互
いに検出した同一のものであるか否かは、互いの欠陥検
査装置の距離と光透過性支持体との相対的な移動速度か
ら時間換算して判断する。
0が光透過性支持体2の異なった場所に検査する場合に
は、相手側の検査光の影響を受けないので偏光板53,
63、偏光ビームスプリッター52,62及び1/4波
長板51,61は不要であり、図1の欠陥検査装置をそ
のまま用いることができる。ただし、この場合には、互
いに検出した同一のものであるか否かは、互いの欠陥検
査装置の距離と光透過性支持体との相対的な移動速度か
ら時間換算して判断する。
【0037】次に、この発明の実施の形態の欠陥検査装
置を図3に示し、図4及び図5の比較例の欠陥検査装置
と比較して説明する。
置を図3に示し、図4及び図5の比較例の欠陥検査装置
と比較して説明する。
【0038】図3はフーリエ変換光学系を用いた垂直正
反射光学系の欠陥検査装置の構成図であり、欠陥検査装
置101は、光透過性支持体102に対して略平行な垂
直に検査光を投光する検査光投光手段103と、反射光
を導光するレンズ140,141を有するフーリエ変換
光学系を用いた垂直正反射光学系104と、レンズ14
1の焦点位置に配置された光検出センサ105とを有
し、検査光投光手段103は、光源130と、ミラー1
32とハーフミラー131とから構成され、光源130
にハロゲンランプを用いている。光検出センサ105の
検出信号は、フィルタ110を介して出力される。
反射光学系の欠陥検査装置の構成図であり、欠陥検査装
置101は、光透過性支持体102に対して略平行な垂
直に検査光を投光する検査光投光手段103と、反射光
を導光するレンズ140,141を有するフーリエ変換
光学系を用いた垂直正反射光学系104と、レンズ14
1の焦点位置に配置された光検出センサ105とを有
し、検査光投光手段103は、光源130と、ミラー1
32とハーフミラー131とから構成され、光源130
にハロゲンランプを用いている。光検出センサ105の
検出信号は、フィルタ110を介して出力される。
【0039】図4は比較例の欠陥検査装置を示し、図3
と同様に構成されるが、ハーフミラー131と光検出セ
ンサ105との間に撮影レンズ142を配置したフーリ
エ変換光学系を用いない垂直正反射光学系204を用い
ている。
と同様に構成されるが、ハーフミラー131と光検出セ
ンサ105との間に撮影レンズ142を配置したフーリ
エ変換光学系を用いない垂直正反射光学系204を用い
ている。
【0040】図5は比較例の欠陥検査装置を示し、図4
と同様に撮影レンズ142が用いられるが、光透過性支
持体102の裏側から投光する垂直入射正透過方式であ
る。
と同様に撮影レンズ142が用いられるが、光透過性支
持体102の裏側から投光する垂直入射正透過方式であ
る。
【0041】図3乃至図5の欠陥検出装置の検出信号の
波形を、図6乃至図14に示す。図6乃至図8は光透過
性支持体102にスリ傷がある場合の幅手位置中央の検
出信号の波形を示す。図6は図3のこの発明の欠陥検査
装置の出力波形を示し、スリ傷が表面にある場合の出力
が大きく、裏面にある場合には出力が小さい。図7は図
4の比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、スリ傷が
表面にある場合の出力は大きく、裏面にある場合には出
力が小さい。これは、欠陥の幅手位置が中央であるた
め、欠陥の2重透過光を検出するので図3のこの発明の
欠陥検出装置と同様な結果となっている。図8は図5の
比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、スリ傷が表面
にある場合の出力が大きく、裏面にある場合にも出力が
大きい。
波形を、図6乃至図14に示す。図6乃至図8は光透過
性支持体102にスリ傷がある場合の幅手位置中央の検
出信号の波形を示す。図6は図3のこの発明の欠陥検査
装置の出力波形を示し、スリ傷が表面にある場合の出力
が大きく、裏面にある場合には出力が小さい。図7は図
4の比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、スリ傷が
表面にある場合の出力は大きく、裏面にある場合には出
力が小さい。これは、欠陥の幅手位置が中央であるた
め、欠陥の2重透過光を検出するので図3のこの発明の
欠陥検出装置と同様な結果となっている。図8は図5の
比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、スリ傷が表面
にある場合の出力が大きく、裏面にある場合にも出力が
大きい。
【0042】図9乃至図11は光透過性支持体102に
気泡の内部欠陥がある場合の幅手位置の検出信号の波形
を示す。図9は図3のこの発明の欠陥検査装置の出力波
形を示し、図9(a)は幅手位置上、図9(b)は幅手
位置中央、図9(c)は幅手位置下に気泡がある場合
で、いずれの場合も出力が大きい。図10は図4の比較
例の欠陥検査装置の出力波形を示し、図10(a)は幅
手位置上、図10(b)は幅手位置中央、図10(c)
は幅手位置下に気泡がある場合であるが、幅手位置中央
の場合の出力は大きいが幅手位置上及び幅手位置下の場
合の出力は小さい。図11は図5の比較例の欠陥検査装
置の出力波形を示し、図11(a)は幅手位置上、図1
1(b)は幅手位置中央、図11(c)は幅手位置下に
気泡がある場合で、いずれの場合も図9の場合よりも出
力が小さい。
気泡の内部欠陥がある場合の幅手位置の検出信号の波形
を示す。図9は図3のこの発明の欠陥検査装置の出力波
形を示し、図9(a)は幅手位置上、図9(b)は幅手
位置中央、図9(c)は幅手位置下に気泡がある場合
で、いずれの場合も出力が大きい。図10は図4の比較
例の欠陥検査装置の出力波形を示し、図10(a)は幅
手位置上、図10(b)は幅手位置中央、図10(c)
は幅手位置下に気泡がある場合であるが、幅手位置中央
の場合の出力は大きいが幅手位置上及び幅手位置下の場
合の出力は小さい。図11は図5の比較例の欠陥検査装
置の出力波形を示し、図11(a)は幅手位置上、図1
1(b)は幅手位置中央、図11(c)は幅手位置下に
気泡がある場合で、いずれの場合も図9の場合よりも出
力が小さい。
【0043】図12乃至図14は光透過性支持体102
に付着物がある場合の幅手位置の検出信号の波形を示
す。図12は図3のこの発明の欠陥検査装置の出力波形
を示し、図12(a)の幅手位置上、図12(b)の幅
手位置中央、図12(c)の幅手位置下の表面に付着物
がある場合のいずれでも出力が大きい。図13は図4の
比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、図13(a)
の幅手位置上、図13(b)の幅手位置中央、図13
(c)の幅手位置下の表面に付着物がある場合で、幅手
位置中央で出力が大きいが、幅手位置上下では出力が小
さい。また、図14は図5の比較例の欠陥検査装置の出
力波形を示し、図14(a)の幅手位置上、図14
(b)の幅手位置中央、図14(c)の幅手位置下の表
面に付着物がある場合のいずれでも出力が小さい。
に付着物がある場合の幅手位置の検出信号の波形を示
す。図12は図3のこの発明の欠陥検査装置の出力波形
を示し、図12(a)の幅手位置上、図12(b)の幅
手位置中央、図12(c)の幅手位置下の表面に付着物
がある場合のいずれでも出力が大きい。図13は図4の
比較例の欠陥検査装置の出力波形を示し、図13(a)
の幅手位置上、図13(b)の幅手位置中央、図13
(c)の幅手位置下の表面に付着物がある場合で、幅手
位置中央で出力が大きいが、幅手位置上下では出力が小
さい。また、図14は図5の比較例の欠陥検査装置の出
力波形を示し、図14(a)の幅手位置上、図14
(b)の幅手位置中央、図14(c)の幅手位置下の表
面に付着物がある場合のいずれでも出力が小さい。
【0044】このように、図3の欠陥検出装置では、全
視野で光透過性支持体2の支障度の大きい表面・内部の
欠陥検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥
の検出力を抑えて、両者の検出力差を付けることで、精
度よく表面・内部の欠陥を検出することができる。
視野で光透過性支持体2の支障度の大きい表面・内部の
欠陥検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥
の検出力を抑えて、両者の検出力差を付けることで、精
度よく表面・内部の欠陥を検出することができる。
【0045】図15は工程管理システムの概略構成図で
ある。工程管理システムは、図3に示す欠陥検査装置に
より光透過性支持体102の表面・内部欠陥の検出信号
と、同時に光透過性支持体の裏面欠陥の検出信号を得る
検査工程Aと、この検査工程Aで得られた検出信号に対
して予め定められた複数のしきい値と比較して、欠陥の
有無、欠陥の支障度の大小を判断する判別工程Bと、こ
の判別工程Bにより判別された光透過性支持体の表面・
内部欠陥を管理する欠陥管理工程Cと、光透過性支持体
の表面欠陥を例えば拡大鏡で目視して確認する欠陥確認
工程Dとを有している。
ある。工程管理システムは、図3に示す欠陥検査装置に
より光透過性支持体102の表面・内部欠陥の検出信号
と、同時に光透過性支持体の裏面欠陥の検出信号を得る
検査工程Aと、この検査工程Aで得られた検出信号に対
して予め定められた複数のしきい値と比較して、欠陥の
有無、欠陥の支障度の大小を判断する判別工程Bと、こ
の判別工程Bにより判別された光透過性支持体の表面・
内部欠陥を管理する欠陥管理工程Cと、光透過性支持体
の表面欠陥を例えば拡大鏡で目視して確認する欠陥確認
工程Dとを有している。
【0046】判別工程Bは、表面・内部検出用コンパレ
ータb1と裏面検出用コンパレータb2とを有してお
り、特に、裏面欠陥で広がりを持った欠陥の場合、それ
を1つの欠陥と認識する処理が必要であり、時間がかか
るが検出の段階で、表面・内部欠陥と裏面欠陥をある程
度弁別できるので、検査時間や欠陥管理時間を短縮で
き、自動化が可能になる。
ータb1と裏面検出用コンパレータb2とを有してお
り、特に、裏面欠陥で広がりを持った欠陥の場合、それ
を1つの欠陥と認識する処理が必要であり、時間がかか
るが検出の段階で、表面・内部欠陥と裏面欠陥をある程
度弁別できるので、検査時間や欠陥管理時間を短縮で
き、自動化が可能になる。
【0047】欠陥管理工程Cでは、例えば2次元的な欠
陥マップを作成する場合でも、裏面欠陥を除外して表面
・内部欠陥のみの欠陥マップを作成することができ演算
時間を短縮することができる。
陥マップを作成する場合でも、裏面欠陥を除外して表面
・内部欠陥のみの欠陥マップを作成することができ演算
時間を短縮することができる。
【0048】欠陥確認工程Dでは、検出の後、例えば拡
大鏡で欠陥の目視確認する場合、表面・内部欠陥の検出
と裏面欠陥の検出力が同じだと、確認する必要のない裏
面欠陥も数多く見ることになるので検査時間がかかる
が、表面・内部欠陥のみを見て短時間に確認することが
でき、例えばスリ傷の場合は不良品とするが、異物の付
着の場合には洗浄して良品とする。
大鏡で欠陥の目視確認する場合、表面・内部欠陥の検出
と裏面欠陥の検出力が同じだと、確認する必要のない裏
面欠陥も数多く見ることになるので検査時間がかかる
が、表面・内部欠陥のみを見て短時間に確認することが
でき、例えばスリ傷の場合は不良品とするが、異物の付
着の場合には洗浄して良品とする。
【0049】
【発明の効果】前記したように、請求項1乃至請求項1
6記載の発明では、光透過性支持体の欠陥は、裏面欠陥
の反射光のみを検出し、表面・内部欠陥は表面・内部欠
陥からの反射光と欠陥部の2重透過光を検出すること
で、光透過性支持体の支障度の大きい表面・内部の欠陥
検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥の検
出力を抑えて、両者の検出力差を付けることで、精度よ
く表面・内部欠陥を検出することができる。
6記載の発明では、光透過性支持体の欠陥は、裏面欠陥
の反射光のみを検出し、表面・内部欠陥は表面・内部欠
陥からの反射光と欠陥部の2重透過光を検出すること
で、光透過性支持体の支障度の大きい表面・内部の欠陥
検出力を上げると同時に、支障度の小さい裏面欠陥の検
出力を抑えて、両者の検出力差を付けることで、精度よ
く表面・内部欠陥を検出することができる。
【0050】請求項17記載の発明では、検出の段階
で、表面・内部欠陥と裏面欠陥をある程度弁別できるの
で、検査時間や欠陥管理時間を短縮できる。また、検出
の後、例えば拡大鏡で欠陥の目視確認する場合、表面・
内部欠陥の検出と裏面欠陥の検出力が同じだと、確認す
る必要のない裏面欠陥も数多く見ることになるので検査
時間がかかるが、表面・内部欠陥の検出のみ行うことで
目視で短時間に確認することができる。また、支障度の
大きい表面・内部の欠陥検出力を向上することで、レン
ズ倍率を下げられ、視野幅を広げられるため、その分検
査時間を短縮できる。
で、表面・内部欠陥と裏面欠陥をある程度弁別できるの
で、検査時間や欠陥管理時間を短縮できる。また、検出
の後、例えば拡大鏡で欠陥の目視確認する場合、表面・
内部欠陥の検出と裏面欠陥の検出力が同じだと、確認す
る必要のない裏面欠陥も数多く見ることになるので検査
時間がかかるが、表面・内部欠陥の検出のみ行うことで
目視で短時間に確認することができる。また、支障度の
大きい表面・内部の欠陥検出力を向上することで、レン
ズ倍率を下げられ、視野幅を広げられるため、その分検
査時間を短縮できる。
【図1】欠陥検査装置の構成図である。
【図2】光透過性支持体の表面と裏面との両面側から検
査光を投光して検査する欠陥検査装置の構成図である。
査光を投光して検査する欠陥検査装置の構成図である。
【図3】フーリエ変換光学系を用いた垂直正反射光学系
の欠陥検査装置の構成図である。
の欠陥検査装置の構成図である。
【図4】比較例の欠陥検査装置を示す図である。
【図5】他の比較例の欠陥検査装置を示す図である。
【図6】図3の本発明の欠陥検査装置のスリ傷出力波形
を示す図である。
を示す図である。
【図7】図4の比較例の欠陥検査装置のスリ傷出力波形
を示す図である。
を示す図である。
【図8】図5の比較例の欠陥検査装置のスリ傷出力波形
を示す図である。
を示す図である。
【図9】図3の本発明の欠陥検査装置の内部欠陥出力波
形を示す図である。
形を示す図である。
【図10】図4の比較例の欠陥検査装置の内部欠陥出力
波形を示す図である。
波形を示す図である。
【図11】図5の比較例の欠陥検査装置の内部欠陥出力
波形を示す図である。
波形を示す図である。
【図12】図2の本発明の欠陥検査装置の付着物出力波
形を示す図である。
形を示す図である。
【図13】図3の比較例の欠陥検査装置の付着物出力波
形を示す図である。
形を示す図である。
【図14】図4の比較例の欠陥検査装置の付着物出力波
形を示す図である。
形を示す図である。
【図15】工程管理システムの概略構成図である。
1 欠陥検査装置 2 光透過性支持体 3 検査光投光手段 4 光学系 40,41 レンズ 5 光検出センサ
Claims (17)
- 【請求項1】光透過性支持体に略平行な検査光を投光
し、この光透過性支持体によって反射された反射光を検
出して光透過性支持体の欠陥を測定する欠陥検査方法で
あって、前記光透過性支持体に対して垂直に前記検査光
を投光し、前記反射光をレンズを有する光学系を通過さ
せた後、前記レンズの焦点位置に配置した光検出センサ
で検出することを特徴とする欠陥検査方法。 - 【請求項2】前記光透過性支持体を前記レンズの焦点位
置に配置したことを特徴とする請求項1記載の欠陥検査
方法。 - 【請求項3】前記光学系は、フーリエ変換光学系である
ことを特徴とする請求項1記載の欠陥検査方法。 - 【請求項4】前記光透過性支持体は、略80%以上の透
過率を有するガラスであることを特徴とする請求項1記
載の欠陥検査方法。 - 【請求項5】前記光透過性支持体は、略4%以上の反射
率を有するガラスであることを特徴とする請求項1記載
の欠陥検査方法。 - 【請求項6】前記光透過性支持体は、平面性が略10m
R以上の平坦度を有するガラスであることを特徴とする
請求項1記載の欠陥検査方法。 - 【請求項7】前記検査光は、可視光から近赤外光の範囲
の波長であることを特徴とする請求項1記載の欠陥検査
方法。 - 【請求項8】前記光透過性支持体の表面と裏面との両面
側から前記検査光を投光し、表面側からの投光による検
出力と裏面側からの投光による検出力とに基づいて欠陥
発生場所を推定することを特徴とする請求項1乃至請求
項7のいずれかに記載の欠陥検査方法。 - 【請求項9】光透過性支持体に略平行な検査光を投光
し、この光透過性支持体によって反射された反射光を検
出して光透過性支持体の欠陥を測定する欠陥検査装置で
あって、前記光透過性支持体に対して垂直に前記検査光
を投光する検査光投光手段と、前記反射光を導光するレ
ンズを有する光学系と、前記レンズの焦点位置に配置さ
れた光検出センサとを有することを特徴とする欠陥検査
装置。 - 【請求項10】前記光透過性支持体を前記レンズの焦点
位置に配置したことを特徴とする請求項9記載の欠陥検
査装置。 - 【請求項11】前記光学系は、フーリエ変換光学系であ
ることを特徴とする請求項9記載の欠陥検査装置。 - 【請求項12】前記光透過性支持体は、略80%以上の
透過率を有するガラスであることを特徴とする請求項9
記載の欠陥検査装置。 - 【請求項13】前記光透過性支持体は、略4%以上の反
射率を有するガラスであることを特徴とする請求項9記
載の欠陥検査装置。 - 【請求項14】前記光透過性支持体は、平面性が略10
mR以上の平坦度を有するガラスであることを特徴とす
る請求項9記載の欠陥検査装置。 - 【請求項15】前記検査光は、可視光から近赤外光の波
長であることを特徴とする請求項9記載の欠陥検査装
置。 - 【請求項16】前記光透過性支持体の表面と裏面との両
面側から前記検査光を投光し、表面側からの投光による
検出力と裏面側からの投光による検出力とに基づいて欠
陥発生場所を推定する手段を備えることを特徴とする請
求項9乃至請求項15のいずれかに記載の欠陥検査装
置。 - 【請求項17】前記欠陥検査装置により光透過性支持体
の表面・内部欠陥の検出信号と、同時に光透過性支持体
の裏面欠陥の検出信号を得る検査工程と、この検査工程
で得られた検出信号に対して予め定められた複数のしき
い値と比較して、欠陥の有無、欠陥の支障度の大小を判
断する判別工程と、この判別工程により判別された光透
過性支持体の表面・内部欠陥を管理する欠陥管理工程
と、前記光透過性支持体の表面・内部欠陥を確認する欠
陥確認工程とを有することを特徴とする工程管理システ
ム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27050196A JPH10115592A (ja) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27050196A JPH10115592A (ja) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10115592A true JPH10115592A (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17487145
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27050196A Pending JPH10115592A (ja) | 1996-10-14 | 1996-10-14 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置並びに工程管理システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH10115592A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10300688A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-13 | Fujimori Kogyo Kk | 光学式監視装置 |
JP2006023296A (ja) * | 2004-06-11 | 2006-01-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | フラットパネルディスプレイ用板ガラスの選別方法、フラットパネルディスプレイ用板ガラス及びその製造方法 |
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