JPH1011147A - 遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置 - Google Patents

遮断開放器およびこれを備えた流体制御装置

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JPH1011147A
JPH1011147A JP8164673A JP16467396A JPH1011147A JP H1011147 A JPH1011147 A JP H1011147A JP 8164673 A JP8164673 A JP 8164673A JP 16467396 A JP16467396 A JP 16467396A JP H1011147 A JPH1011147 A JP H1011147A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来のものに比べて、デッドボリュームを減
少するとともに、体積および重量も減少した遮断開放器
を提供する。 【解決手段】 弁本体3 内には、弁本体3 の後端面から
第１の弁アクチュエータ4 近くまでのびる主通路21と、
主通路21と第２および第３弁アクチュエータ5,6を介し
て接続されている２つの副通路23,24 とが形成されてい
る。そして、弁本体3 における第１弁アクチュエータ取
付け面3aが、前下がりの傾斜面とされている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、弁本体と複数の
弁アクチュエータとよりなる遮断開放器およびこれを備
えた流体制御装置に関する。
【０００２】この明細書において、前後・上下・左右に
ついては、図２を基準とし、同図の右を前、左を後、上
下を上下というものとし、左右は前方に向かっていうも
のとする。この前後・上下・左右は便宜的なもので、前
後が逆になったり、上下が左右になったりして使用され
ることもある。
【０００３】
【従来の技術】直方体状弁本体および複数の弁アクチュ
エータよりなる遮断開放器は、従来より知られている。
このような遮断開放器は、例えばマスフローコントロー
ラ等の調整器の入口側および出口側にそれぞれ設けられ
て、半導体製造装置などに用いられる流体制御装置を構
成するのに用いられる。
【０００４】図１７は、従来の遮断開放器を示すもの
で、従来の遮断開放器(61)は、直方体状弁本体(63)およ
びこの上面に前後方向に並んで取り付けられた３つの弁
アクチュエータ(64)(65)(66)よりなり、弁本体(63)に、
弁本体(63)の後端面から前端側の弁アクチュエータ(64)
近くまでのびる主通路(67)と、主通路(67)と各弁アクチ
ュエータ(64)(65)(66)を介して接続されている３つの副
通路(68)(69)(70)とが形成されている。弁本体(63)の上
面は下面と平行でかつ平坦であり、各弁アクチュエータ
(64)(65)(66)はこの平坦面に等間隔で取り付けられてい
る。
【０００５】この遮断開放器(61)のデッドボリューム
（流体溜り部分）については、主通路(67)から第１の副
通路(68)に流体が流れるときには、主通路(67)と第２お
よび第３の弁アクチュエータ(65)(66)とをつなぐ短い通
路(71)(72)だけとなる。そして、主通路(67)から第２の
副通路(69)に流体が流れるときには、主通路(67)と第３
の弁アクチュエータ(66)とをつなぐ短い通路(72)および
第１弁アクチュエータ(64)と第２弁アクチュエータ(65)
との間にある主通路(67)の前端部分(67a)(67b)がデッド
ボリュームとなる。また、主通路(67)から第３の副通路
(70)に流体が流れるときには、主通路(67)と第２の弁ア
クチュエータ(65)とをつなぐ短い通路(71)、第１弁アク
チュエータ(64)と第２弁アクチュエータ(65)との間にあ
る主通路(67)の前端部分(67a)(67b)および第２弁アクチ
ュエータ(65)と第３弁アクチュエータ(66)との間にある
主通路(67)の中間部分(67c) がデッドボリュームとな
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】半導体製造装置に用い
られる遮断開放器や流体制御器に対しては、プロセスガ
スの純度を下げる原因となるデッドボリュームを減少す
ることが重要であり、また、内容積減少、体積減少およ
び軽量化も要求されているが、従来のものでは、これら
の点で不十分であった。
【０００７】この発明の目的は、従来のものに比べて、
デッドボリュームを減少するとともに、体積および重量
も減少した遮断開放器とこれを備えた流体制御器とを提
供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段および効果】この発明によ
る遮断開放器は、略直方体状弁本体およびこの上面に前
後方向に並んで取り付けられた複数の通路開閉用弁アク
チュエータよりなり、弁本体内に、弁本体の後端面また
は後端部下面から前端側のアクチュエータ近くまでのび
る主通路と、主通路と各弁アクチュエータを介して接続
されている複数の副通路とが形成されている遮断開放器
であって、弁本体の前端側の弁アクチュエータが取り付
けられている面が前下がりの傾斜面とされていることを
特徴とするものである。
【０００９】傾斜面の前下がり傾斜角度は、水平面に対
して１５°〜６０°が好ましく、２０°〜４５°がより
好ましい。傾斜角度が小さいと、効果が小さくなり、傾
斜角度が大きいと、前端側の弁アクチュエータが弁本体
の前端面より大きく前方に突出するため他の部材と干渉
する可能性が増すものであり、傾斜角度は、弁アクチュ
エータの寸法およびこの遮断開放器が設けられる流体制
御装置の寸法を考慮して上記好ましい範囲に設定され
る。
【００１０】この発明の遮断開放器によると、前端側の
弁アクチュエータが取り付けられている弁本体上面が前
下がりの傾斜面とされているので、弁本体上面が平坦な
従来の遮断開放器に比べて、弁本体前方上部の体積およ
び前方部分の前後長さが減少し、遮断開放器の内容積、
体積および重量が減少する。この遮断開放器のデッドボ
リュームの大部分は、前端側の弁アクチュエータとこれ
の隣の弁アクチュエータとの間にある主通路の前端部分
によって占められているが、この主通路の前端部分は、
弁本体の前方部分の前後長さの減少に伴って減少し、し
たがって、遮断開放器のデッドボリュームが減少する。
【００１１】上記の遮断開放器は、マスフローコントロ
ーラなどの調整器の入口側および出口側に設けられて、
半導体製造用の流体制御器を構成することがある。
【００１２】この場合に、各遮断開放器の複数の副通路
のうち、調整器から最も遠い副通路がプロセスガス用と
され、これらの副通路の隣の副通路がパージガス用とさ
れることが好ましい。このようにすると、プロセスガス
が流されているときのデッドボリュームは、主通路と後
寄りにある弁アクチュエータとをつなぐ短い通路部分だ
けとなるので、プロセスガスを切り換えるさいに残留ガ
スを短時間でパージすることができる。
【００１３】上記流体制御器が複数適宜に設けられて流
体制御装置が構成される。このさい、各遮断開放器の弁
本体の前後長さが、弁アクチュエータの数によらず等し
くされていることが好ましい。このようにすると、各遮
断開放器の第１弁アクチュエータ同士はすべて同一線上
に並ぶことになり、遮断開放器の操作がしやすくなる。
【００１４】また、複数の副通路のうち前端側の弁アク
チュエータを介して接続された副通路は弁本体の前端面
または下面に通じ、残りの副通路は弁本体の下面に通
じ、残りの副通路の配管がすべて弁本体の下方で行われ
ていることが好ましい。このようにすると、配管部分が
弁本体の下方に平面的に収められて、制御装置全体がコ
ンパクトとなり、配管部分のメンテナンスもしやすくな
る。
【００１５】
【発明の実施の形態】この発明の実施形態を、以下図面
を参照して説明する。
【００１６】図１および図２は、この発明の遮断開放器
(1) の第１の実施形態を示している。この遮断開放器
(1) は、図３および図４に示すように、マスフローコン
トローラ(2) の入口側および出口側に設けられて、流体
制御器(10)を構成する。
【００１７】図１および図２に示すように、遮断開放器
(1) は、略直方体状弁本体(3) およびこの上面に前後方
向に並んで取り付けられた第１（前端側）、第２（中
間）および第３（後端側）の通路開閉用弁アクチュエー
タ(4)(5)(6) よりなる。弁本体(3) 内には、弁本体(3)
の後端面から前端側の弁アクチュエータ(4) 近くまで前
後に真っ直ぐのびる主通路(21)と、主通路(21)と各弁ア
クチュエータ(4)(5)(6)を介して接続されている第１
（前端側）、第２（中間）および第３（後端側）の副通
路(22)(23)(24)とが形成されている。なお、第２および
第３の弁アクチュエータ(5)(6)を介して主通路(21)と接
続された副通路(23)(24)は、第２および第３の弁アクチ
ュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)の真後ろに
あるが、図２においては、実際より左にずらして鎖線に
より表している（以下も同様）。
【００１８】弁本体(3) には、アクチュエータ(4)(5)
(6) が取り付けられている部分の右側面(3c)から右方に
張出しており、第２および第３の副通路(23)(24)が形成
されているとともに、弁本体(3) を他の部材と接続する
さいのねじ止め部分とされるブロック状張出部(7) が一
体に形成されている。
【００１９】弁本体(3) 上面のうち、前端側の第１弁ア
クチュエータ(4) 用の取付面(3a)は、前下がりの傾斜面
とされており、残りの２つの第２および第３弁アクチュ
エータ(5)(6)用の取付面(3b)は、下面に平行な平坦面と
されている。
【００２０】各弁アクチュエータ(4)(5)(6) は、取付面
(3a)(3b)に直角に取り付けられている。弁本体(3) のア
クチュエータ挿入用凹所(18)(19)は、第１弁アクチュエ
ータ(4) 挿入用の凹所(18)が相対的に浅く、第２および
第３弁アクチュエータ(5)(6)挿入用の凹所(19)が相対的
に深くなされており、これに応じて、第１弁アクチュエ
ータ(4) は、第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)よ
りも短くなされている。ただし、弁アクチュエータ挿入
用凹所の深さをすべて同じにして、同じ長さの弁アクチ
ュエータにすることも可能である。第１弁アクチュエー
タ(4) および第３弁アクチュエータ(6) は、常時閉型と
され、第２弁アクチュエータ(5) は常時開型とされてい
る。
【００２１】主通路(21)は、弁本体(3) の後端面から前
端面近くまでのびており、第１の副通路(22)は、弁本体
(3) の前端面に通じている。弁本体(3) の前端面には、
第１の副通路(22)に逆止弁やプレッシャーレギュレータ
等を接続するためのナット付き継手部(9) が設けられて
いる。第２および第３の副通路(23)(24)は、それぞれ弁
本体(3) の張出部(7) 内を通って弁本体(3) の下面に通
じている。
【００２２】図２において、この遮断開放器(1) のデッ
ドボリュームは、主通路(21)から第１の副通路(22)に流
体が流れるときには、主通路(21)と第２および第３の弁
アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)(26)だけ
となる。そして、主通路(21)から第２の副通路(23)に流
体が流れるときには、主通路(21)と第３の弁アクチュエ
ータ(6) とをつなぐ短い通路(26)および第１弁アクチュ
エータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主
通路(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)が、デッドボリュ
ームとなる。また、主通路(21)から第３の副通路(24)に
流体が流れるときには、主通路(21)と第２弁アクチュエ
ータ(5) とをつなぐ短い通路(25)、第１弁アクチュエー
タ(4) と第２弁アクチュエータ(5) との間にある主通路
(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)および第２弁アクチュ
エータ(5) と第３弁アクチュエータ(6) との間にある主
通路(21)の中間部分(21c) が、デッドボリュームとな
る。
【００２３】上記の遮断開放器(1) では、弁本体(3) 上
面の第１弁アクチュエータ(4) 用取付面(3a)は、図１７
に示す従来の遮断開放器(61)における第１弁アクチュエ
ータ用取付面(63a) と面積が等しくなるように設定され
ている。したがって、従来の遮断開放器(61)と比較する
と、取付面(3a)が前下がりの傾斜面となっている分だ
け、弁本体(3) 前方上部の体積および前方部の前後長さ
が減少しており、遮断開放器(1) の内容積、体積および
重量が減少している。従来の遮断開放器(61)における第
１弁アクチュエータ用取付面(63a) の長さをＬとし、傾
斜角度をθとすると、遮断開放器(1) は、前後長がＬ
（１−cos θ）減少し、縦断面積がＬ×cosθ×sin θ
÷２だけさらに減少している。デッドボリュームについ
ては、主通路(21)の鈍角状前端部分(21a)(21b)のボリュ
ームが、弁本体(3) の前後長さの減少に伴って、従来の
遮断開放器(61)の主通路(67)の前端部分(67a)(67b)のボ
リュームより減少しており、これにより、遮断開放器
(1) 全体のデッドボリュームも減少している。なお、傾
斜角度が大きくなるにつれて、鈍角状前端部分(21a)(21
b)のうち、主通路(21)から真っ直ぐ延びている部分(21
a) は減少し、屈曲している部分(21b) は増加するが、
全体としては、傾斜角度が大きくなるほど、デッドボリ
ュームの減少量も大きくなる。
【００２４】図３および図４に示す流体制御器は、マス
フローコントローラ(2) と、これの入口側（図４の左
側）および出口側（図４の右側）に設けられた遮断開放
器(1)(1)とよりなる。入口側の遮断開放器(1) は、図１
および図２に示した遮断開放器(1) を前後を逆にして取
り付けたものである。
【００２５】入口側の遮断開放器(1) においては、マス
フローコントローラ(2) から最も遠い第１の副通路(22)
が、プロセスガス流入用、これの隣の第２の副通路(23)
が、パージガス流入用、マスフローコントローラ(2) に
最も近い第３の副通路(24)が、真空吸引用として使用さ
れ、出口側の遮断開放器(1) においては、マスフローコ
ントローラ(2) から最も遠い第１の副通路(22)が、プロ
セスチャンバーにつながり、これの隣の第２の副通路(2
3)が、パージポートとして排ガス用ダクトにつながる。
マスフローコントローラ(2) に最も近い第３の副通路(2
4)は、真空吸引用として使用されている。
【００２６】マスフローコントローラ(2) の入口側およ
び出口側の側面の下端部には、下面に通じた通路(11a)
を有する上側通路ブロック(11)が張出し状に設けられて
いる。各上側通路ブロック(11)の下方には、下側通路ブ
ロック(12)が設けられており、各下側通路ブロック(12)
と各上側通路ブロック(11)とが、上側通路ブロック(11)
の上方よりねじ込まれた２本のマスフローコントローラ
取付ねじ(13)によりそれぞれ連結されている。下側通路
ブロック(12)には、上側通路ブロック(11)の通路(11a)
と弁本体(3) の主通路(21)とを連通する通路(12a) が形
成されており、下側通路ブロック(12)側よりねじ込まれ
た遮断開放器取付ねじ(14)により下側通路ブロック(12)
が弁本体(3) に連結されている。また、弁本体(3) の張
出部(7)には、第２および第３の副通路(23)(24)の配管
用通路ブロック(15)(16)が、張出部(7) の上側よりねじ
込まれた配管取付ねじ(17)により連結されている。入口
側の遮断開放器(1) の第３の副通路(24)と出口側の遮断
開放器(1) の第３の副通路(24)とは、それぞれの配管用
の通路ブロック(15)(15)同士が管(27)で接続されてから
真空吸引ポンプ（図示略）に接続されている。また、第
２の副通路(23)を形成する通路ブロック(16)の下面に
は、継手(28)が設けられている。この継手(28)の管接続
部は、真空吸引用の管(27)よりも下に位置させられてお
り、したがって、パージガス用の配管が真空吸引用の管
(27)と干渉することはない。この流体制御器(10)を設置
するさいには、図４に示すように、マスフローコントロ
ーラ(2)および遮断開放器(1) は、基板(29)の上面側に
取り付けられ、配管用通路ブロック(15)(16)は基板(29)
の下面側にくる。
【００２７】上記流体制御器(10)では、マスフローコン
トローラ(2) が故障したときには、マスフローコントロ
ーラ取付ねじ(13)を外すことによりマスフローコントロ
ーラ(2) を上方に取り外して交換することが可能であ
り、また、遮断開放器(3) が故障したときには、遮断開
放器取付ねじ(14)および配管取付ねじ(17)を外すことに
より遮断開放器(3) を上方に取り外して交換することが
可能である。
【００２８】上記の流体制御器において、プロセスガス
が流れるさいのデッドボリュームは、主通路(21)と第２
および第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通
路(25)(26)だけになる。
【００２９】図５は、この発明の遮断開放器(31)の第２
の実施形態を示している。この遮断開放器(31)は、図６
に示すように、マスフローコントローラ(2) の入口側お
よび出口側に設けられて、流体制御器(40)を構成する。
この遮断開放器(31)は、第１の副通路(32)が、弁本体(3
3)の下面に通じている点で第１の実施形態の遮断開放器
(1) と異なっている。以下の説明においては、第１の実
施形態のものと同じ構成については、図面に同じ符号を
付して説明を省略する。図５において、図１に示した弁
本体(3) の前端面の継手部(9) が取り除かれるととも
に、弁本体(33)のブロック状張出部(34)には、第２およ
び第３の副通路(23)(24)に加えて、下面に通じる第１の
副通路(32)も形成されている。そして、図６に示すよう
に、この張出部(34)には、第２および第３の副通路(23)
(24)に通じる配管用の通路ブロック(15)(16)に加えて、
第１の副通路(32)に通じる配管用の通路ブロック(35)も
接続されている。この配管用の通路ブロック(35)下面に
設けられた継手(36)の管接続部は、真空吸引用の管(27)
と第２の副通路(23)に通じる継手(28)との中間のレベル
にくるようになされており、したがって、プロセスガス
用の配管がパージガス用の配管や真空吸引用の管(27)と
干渉することはない。
【００３０】図１、図２および図５に示した遮断開放器
(1) は、３つの弁アクチュエータ(4)(5)(6) を備えてい
るが、真空吸引用副通路(24)が不要であるときには、弁
アクチュエータは２つとされる。この場合に、第３の弁
アクチュエータ(6) を取り除くとともに弁本体の前後長
を短くするようにしてももちろんよいが、図７および図
８に示すように、弁本体(43)の前後長はそのままにし
て、第３の弁アクチュエータ(6) を取り付けるための凹
所(19)および真空吸引用副通路(24)だけを形成しないよ
うにしてもよい。
【００３１】図７において、遮断開放器(41)は、略直方
体状弁本体(43)およびこの上面に前後方向に並んで取り
付けられた第１（前端側）および第２の弁アクチュエー
タ(4)(5)よりなり、弁本体(43)内には、弁本体(43)の後
端面から前端面近くまでのびる主通路(21)と、主通路(2
1)との連通を各弁アクチュエータ(4)(5)によって開閉さ
れる第１（前端側）および第２の副通路(22)(23)とが形
成されている。弁本体(43)上面のうち、前端側の第１弁
アクチュエータ(4) 用の取付面(43a) は、前下がりの傾
斜面とされており、残りの面(43b) は、下面に平行な平
坦面とされている。平坦面(43b) は、２つの弁アクチュ
エータを取り付けることが可能な面積を有しており、そ
の前半部に第２の弁アクチュエータ(5) が取り付けられ
ている。
【００３２】図７に示した遮断開放器には、図８に示す
ように、第３の弁アクチュエータ(6) を取り除いた部分
に、圧力センサを取り付けることができる。図８におい
て、遮断開放器(51)は、略直方体状弁本体(53)およびこ
の上面に前後方向に並んで取り付けられた第１（前端
側）および第２の弁アクチュエータ(4)(5)よりなり、弁
本体(53)内には、弁本体(53)の後端面から前端面近くま
でのびる主通路(21)と、主通路(21)との連通を各弁アク
チュエータ(4)(5)によって開閉される第１（前端側）お
よび第２の副通路(22)(23)とが形成されている。弁本体
(53)上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4) 用
の取付面(53a) は、前下がりの傾斜面とされており、残
りの面(53b) は、下面に平行な平坦面とされている。平
坦面(53b)は、２つの弁アクチュエータを取り付けるこ
とが可能な面積を有しており、その前半部に第２の弁ア
クチュエータ(5) が取り付けられており、その後半部の
中央に圧力センサ取付用ねじ孔(54)が設けられている。
弁本体(53)の前端面に設けられた継手部(55)は、おねじ
を有するタイプとされている。
【００３３】図３、図４および図６に示した流体制御器
(10)(40)は、適宜組み合わされて半導体製造用の流体制
御装置を構成する。図９は、このような流体制御装置の
一部を示している。同図において、２つの弁アクチュエ
ータ(4)(5)を有する遮断開放器(31)を含む流体制御器(4
0)と、３つの弁アクチュエータ(4)(5)(6) を有する遮断
開放器(1) を含む流体制御器(10)とが平行にかつ両者間
に間隔をあけることなく配置されている。図示省略した
が、これらの流体制御器(10)(40)に平行にかつ互いに間
隔をあけることなく同様の流体制御器が配置される。
【００３４】したがって、各流体制御器(10)(40)が平面
的に配置された流体制御装置ができ、各遮断開放器(1)
(31) の第１弁アクチュエータ(4) 同士および第２弁ア
クチュエータ(5) 同士はすべて同一線上に並ぶことにな
る。また、第２および第３通路(23)(24)の配管(15)(16)
(27)(28)は、基板(29)の下方（図の裏面）において行わ
れることになり、配管部分(15)(16)(27)(28)により制御
装置全体の幅が広がることもなく、メンテナンスがしや
すくなり、また、見た目もすっきりしたものになる。
【００３５】なお、図９において、遮断開放器(1)(31)
は、マスフローコントローラ(2) の入口側および出口側
で同じものが使用されており、弁本体(3)(33) の張出部
(7)(8)が、入口側では左側、出口側では右側に位置して
いる。これに対して、図１０に示す流体制御装置は、入
口側の弁本体(44)(45)の張出部(46)(47)が、出口側の弁
本体(1)(31) の張出部(7)(8)と同じ側、すなわち右側に
位置しているものである。このような入口側の弁本体(4
4)(45)を得るには、例えば図１において右側面に設けら
れた張出部(7) を左側面に配置するとともに、主通路(2
1)と張出部(7)内の通路とを連通させるだけでよい。こ
のようにすることにより、第２および第３の副通路(23)
(24)がすべて下方に通じているのに加えて、これらの開
口が弁本体のすべて右側に位置することになるので、配
管がより一層やりやすくなる。
【００３６】上記の第１から第４までの実施形態の遮断
開放器(1)(31)(41)(51) を使用する場合には、図３また
は図６に示すように、マスフローコントローラ(2) と遮
断開放器(1)(31)(41)(51) とを接続するために、下側通
路ブロック(12)が必要である。この下側通路ブロック(1
2)は、下側通路ブロック(12)側より横方向にねじ込まれ
た遮断開放器取付ねじ(14)により弁本体(3) に連結され
ている。遮断開放器(1)(31)(41)(51) を取り外すさいに
は、遮断開放器取付ねじ(14)および配管取付ねじ(17)を
取り外さなければならないことになるが、このうち、遮
断開放器取付ねじ(14)の取り外しは、多数の制御器(10)
(20)(40)(50)を並列状に配置して流体制御装置を構成し
た後（図９または図１０参照）では、非常に面倒な作業
になる。
【００３７】以下には、遮断開放器の取り外し作業を容
易にする遮断開放器の実施形態を２例示す。
【００３８】図１１および図１２は、この発明の遮断開
放器の第５の実施形態を示している。この遮断開放器(1
01) は、図５に示した第２の実施形態の遮断開放器(31)
を基準にして、主通路(121) が、後端面(103c)には通じ
ておらず、弁本体(103) に設けられた下向き通路(122)
を介して、弁本体(103) の下面に通じている点が異なっ
ているものである。以下の説明においては、第１または
第２の実施形態のものと同じ構成については、図面に同
じ符号を付して説明を省略する。
【００３９】図１１および図１２において、弁本体(10
3) 内には、弁本体(103) の後端面近くから前端面近く
までのびる主通路(121) と、主通路(121) と各弁アクチ
ュエータ(4)(5)(6) を介して接続されている第１（前端
側）、第２（中間）および第３（後端側）の副通路(32)
(23)(24)とが形成されている。主通路(121) は、その後
端より下方に真っ直ぐのびて弁本体(103) の後端部下面
に通じている下向き通路(122) を有している。各副通路
(32)(23)(24)は、弁本体(103) のブロック状張出部(34)
内を通って、弁本体(103) の下面に通じている。弁本体
(103) 上面のうち、前端側の第１弁アクチュエータ(4)
用の取付面(103a)は、前下がりの傾斜面とされており、
残りの２つの第２および第３弁アクチュエータ(5)(6)用
の取付面(103b)は、下面に平行な平坦面とされている。
【００４０】図１２において、この遮断開放器(101) の
デッドボリュームは、主通路(121)から第１の副通路(3
2)に流体が流れるときには、主通路(121) と第２および
第３の弁アクチュエータ(5)(6)とをつなぐ短い通路(25)
(26)だけとなる。そして、主通路(121) から第２の副通
路(23)に流体が流れるときには、主通路(121) と第３の
弁アクチュエータ(6) とをつなぐ短い通路(26)および第
１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ(5) と
の間にある主通路(121) の鈍角状前端部分(121a)(121b)
が、デッドボリュームとなる。また、主通路(121) から
第３の副通路(24)に流体が流れるときには、主通路(12
1) と第２弁アクチュエータ(5) とをつなぐ短い通路(2
5)、第１弁アクチュエータ(4) と第２弁アクチュエータ
(5) との間にある主通路(121) の鈍角状前端部分(121a)
(121b)および第２弁アクチュエータ(5) と第３弁アクチ
ュエータ(6) との間にある主通路(121) の中間部分(121
c)が、デッドボリュームとなる。
【００４１】この遮断開放器(101) を用いて構成された
流体制御器(140) を図１３および図１４に示す。図１３
に示す流体制御器(140) は、図３に示した流体制御器(1
0)と比較して、下側通路ブロック(12)が省略されてお
り、したがって、下側通路ブロック(12)側より横方向に
ねじ込まれた遮断開放器取付ねじ(14)が省略されている
ことを特徴としている。マスフローコントローラ(2) に
接続されている通路ブロック(11)の通路(11a) は、下方
に開口しており、この通路(11a) と下向き通路(122) と
が、弁本体(103) の下方において、管継手(123) を介し
て接続されている。
【００４２】このようにして、第１、第２および第３の
副通路(32)(23)(24)だけでなく、主通路(121) も弁本体
(103) の下方で接続され、これにより、マスフローコン
トローラ(2) および遮断開放器(101) の機器類と、通路
ブロック(15)(16)(35)、継手(28)(36)、管(27)などの配
管類とが、基板(29)の上方と下方とにそれぞれ完全に分
離されている。また、上記流体制御器(140) では、マス
フローコントローラ(2) が故障したときには、マスフロ
ーコントローラ取付ねじ(13)を外すことによりマスフロ
ーコントローラ(2) を上方に取り外して交換することが
可能であり、また、遮断開放器(101) が故障したときに
は、配管取付ねじ(17)を外すことにより遮断開放器(10
1) を上方に取り外して交換することが可能である。し
たがって、機器類も配管類もそれぞれ平面的に収められ
て、制御装置全体がコンパクトとなり、機器類および配
管類のメンテナンスもより一層しやすくなる。
【００４３】図１５および図１６は、この発明の遮断開
放器の第６の実施形態を示している。この遮断開放器(1
31) は、図１１および図１２に示した第５の実施形態の
遮断開放器(101) を基準にして、主通路(121) が、後端
面(133c)には通じておらず、弁本体(133) に設けられた
下向き通路(132) を介して、弁本体(133) の下面に通じ
ている点が共通であり、下向き通路(132) が、主通路(1
21) の中間部分（第２弁アクチュエータ(5) と弁アクチ
ュエータ(6) との間）から、弁本体(133) のブロック状
張出部(34)内を通って、弁本体(133) の下面に通じてい
る点が異なっている。この遮断開放器(131) を用いて構
成された流体制御器は、図１３および図１４に示した流
体制御器(140) と同じ特徴を有している。
【００４４】なお、遮断開放器(1)(31)(41)(51)(101)(1
31) は、マスフローコントローラ(2) 以外のものに取り
付けられてももちろんよく、遮断開放器(1)(31)(41)(5
1)(101)(131) には、ガスでなくて液体が流される場合
ももちろんある。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による遮断開放器の第１実施形態を示
す斜視図である。
【図２】同縦断面図である。
【図３】この発明による流体制御器の第１実施形態を示
す斜視図である。
【図４】同縦断面図である。
【図５】この発明による遮断開放器の第２実施形態を示
す斜視図である。
【図６】この発明による流体制御器の第２実施形態を示
す斜視図である。
【図７】この発明による遮断開放器の第３実施形態を示
す縦断面図である。
【図８】この発明による遮断開放器の第４実施形態を示
す縦断面図である。
【図９】この発明による流体制御器を複数配置するとき
の１実施形態を示す平面図である。
【図１０】この発明による流体制御器を複数配置すると
きの他の実施形態を示す平面図である。
【図１１】この発明による遮断開放器の第５実施形態を
示す斜視図である。
【図１２】同縦断面図である。
【図１３】第５実施形態の遮断開放器を用いて構成され
たこの発明による流体制御器を示す斜視図である。
【図１４】同縦断面図である。
【図１５】この発明による遮断開放器の第６実施形態を
示す斜視図である。
【図１６】同縦断面図である。
【図１７】従来の遮断開放器を示す縦断面図である。
【符号の説明】
(1)(31)(41)(51)(101)(131) 遮断開放器 (2) 調整器 (3)(33)(43)(53)(103)(133) 弁本体 (3a)(33a)(43a)(53a)(103a)(133a) 傾斜面 (4)(5)(6) 弁アクチュエータ (21)(121) 主通路 (22)(23)(24)(32) 副通路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山路 道雄 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 池田 信一 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 波多野 雅之 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 横山 光祐 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内 (72)発明者 田中 林明 大阪市西区立売堀２丁目３番２号 株式会 社フジキン内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 略直方体状弁本体およびこの上面に前後
    方向に並んで取り付けられた複数の通路開閉用弁アクチ
    ュエータよりなり、弁本体内に、弁本体の後端面または
    後端部下面から前端側の弁アクチュエータ近くまでのび
    る主通路と、主通路と各弁アクチュエータを介して接続
    されている複数の副通路とが形成されている遮断開放器
    であって、弁本体の前端側の弁アクチュエータが取り付
    けられている面が、前下がりの傾斜面とされていること
    を特徴とする遮断開放器。
  2. 【請求項２】 流体圧力または流量を調整する調整器と
    これの入口側および出口側にそれぞれ設けられた請求項
    １の遮断開放器とよりなる流体制御器。
  3. 【請求項３】 請求項２の流体制御器が、複数並列状に
    配置されており、各遮断開放器の弁本体の前後長さが、
    弁アクチュエータの数によらず等しくされていることを
    特徴とする流体制御装置。
  4. 【請求項４】 複数の副通路のうち前端側の弁アクチュ
    エータを介して接続されている副通路は、弁本体の前端
    面または下面に通じ、残りの副通路は、弁本体の下面に
    通じ、残りの副通路の配管がすべて弁本体の下方で行わ
    れていることを特徴とする請求項３の流体制御装置。
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