JPH10105719A - 孔位置の光学的計測方法 - Google Patents

孔位置の光学的計測方法

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JPH10105719A
JPH10105719A JP8259176A JP25917696A JPH10105719A JP H10105719 A JPH10105719 A JP H10105719A JP 8259176 A JP8259176 A JP 8259176A JP 25917696 A JP25917696 A JP 25917696A JP H10105719 A JPH10105719 A JP H10105719A
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幸治 小田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ワークの孔を撮像した画面に現われる孔画像
の位置を正確に計測できるようにする。 【解決手段】 濃淡付きの画面を微分処理して、孔画像
の孔縁部brを強調した微分化画面を作成し(A)、微
分化画面に対しテンプレートTPを用いてパターンマッ
チングを行い、孔画像の概略中心m´の位置を割出す
(B)。概略中心m´を中心とする複数の放射方向に走
査線LSCを設定し、各走査線上の輝度分布から孔画像
bの孔縁部の各走査線に合致する孔縁点Pbの座標を検
出する(C)。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワークに設けられ
た孔の位置を光学的に計測する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の方法として、ワークを撮
像したときに撮像画面に現われる孔画像の概略中心位置
を割出す第1工程と、割出された概略中心位置を基準に
して孔画像の孔縁部の複数箇所に交差するように複数の
計測箇所を設定する第2工程と、孔画像の孔縁部の各計
測箇所に合致する孔縁点の座標を検出する第3工程とを
備え、これら孔縁点の座標から回帰処理によって孔画像
に近似した回帰円の方程式を求め、この回帰円の中心座
標を孔画像の中心座標とする方法が知られている。
【0003】そして、このものでは、ワークを撮像した
ときに得られる濃淡の付いた撮像画面を二値化して二値
化画面を作成し、二値化画面内の暗部となる孔画像の面
積重心を第1工程で求めてこれを孔画像の概略中心と
し、第2工程において、二値化画面に前記重心を基準に
して計測箇所たる縦横複数のウインドウを孔画像の孔縁
部にかかるように設定し、第3工程において、各ウイン
ドウ内の明暗境界部を前記孔縁点としてその座標を検出
している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例において、
前記重心から縦方向や横方向に離れた位置に設定するウ
インドウは孔画像の孔縁部に斜交するようになり、該ウ
インドウ内の明暗境界部が斜め延在して、孔縁点の座標
を正確に検出することが困難になる。
【0005】本発明は、以上の点に鑑み、孔縁点の座標
を正確に検出し得るようにして、孔位置の計測精度を向
上できるようにした方法を提供することを課題としてい
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明は、ワークに設けられた孔の位置を光学的に計測
する方法であって、ワークを撮像したときに撮像画面に
現われる孔画像の概略中心位置を割出す第1工程と、割
出された概略中心位置を基準にして孔画像の孔縁部の複
数箇所に交差するように複数の計測箇所を設定する第2
工程と、孔画像の孔縁部の各計測箇所に合致する孔縁点
の座標を検出する第3工程とを備えるものにおいて、前
記第2工程は、前記概略中心位置を中心とする複数の放
射方向沿って前記複数の計測箇所を設定するように構成
される、ことを特徴とする。
【0007】本発明によれば、各計測箇所を光切断画像
の孔縁部にほぼ直交するように設定できる。そのため、
各計測箇所における孔縁点の座標の検出精度を向上させ
ることができ、これら孔縁点の座標から求める孔画像の
中心座標の計測精度も向上し、孔位置を正確に計測でき
る。
【0008】尚、濃淡の付いた撮像画面を二値化して二
値化画面を作成し、この二値化画面に前記計測箇所とし
て前記放射方向に長手のウインドウを設定し、ウインド
ウ内の明暗境界部を前記孔縁点としてその座標を検出す
ることも可能であるが、二値化画面には外乱光(例えば
孔内面からの反射光)による画像部分が明部となって現
われることがあり、ウインドウ内の明暗境界部が孔画像
の正規の孔縁部からずれて、計測誤差を生じ易くなる。
【0009】これに対し、前記各計測箇所を、前記各放
射方向に、予め記憶させた孔径に基づいて定められる所
定範囲に亘って延在する走査線として設定し、前記第3
工程において、濃淡の付いた撮像画面の該各走査線上の
輝度分布から前記各孔縁点の座標を検出すれば、外乱光
による影響を可及的に排除して、各孔縁点の座標を高精
度で検出でき、有利である。
【0010】ところで、上記の如く濃淡付きの撮像画面
から孔縁点の座標を検出する場合には、該画面を二値化
せずに孔画像の概略中心位置を割出すことができるよう
にすることが望まれる。ここで、濃淡付きの撮像画面の
輝度分布を微分処理した微分化画面を作成すると、微分
化画面は孔画像の孔縁部を強調した画面になる。そのた
め、孔画像の孔縁部の形状を表わすテンプレートを用い
て微分化画面に対するパターンマッチングを行えば、孔
画像の概略中心位置を割出すことができ、上記の要望に
適合する。
【0011】
【発明の実施の形態】図1は、自動車車体等のワークA
の計測に用いる光学式測定装置の概要を示しており、該
装置は、ワークAにスリット光を照射するスリットレー
ザ等から成るスリット光源1と、CCDカメラから成る
撮像器2と、撮像器2のレンズ2aの周囲に環状に列設
した発光ダイオード群から成るスポット光源3と、撮像
器2からの画像信号を入力する画像処理回路4とで構成
されている。
【0012】スリット光源1と撮像器2とスポット光源
3はロボット等の移動機構の動作端に取付けられる図外
の測定ヘッドに搭載され、測定ヘッドをワークAの複数
の計測部位に対向する位置に順に移動して、各計測部位
の計測を行う。尚、スリット光源1と撮像器2とは、ス
リット光の光面SPに撮像器2の光軸が所定角度θ(例
えば45°)で斜交するような位置関係で測定ヘッドに
搭載される。
【0013】図1はワークAに設けられた孔Bに対向す
る位置に測定ヘッドを移動して、孔計測を行う状態を示
している。孔計測に際しては、撮像器2をワークAに正
対させた状態で、先ずスポット光源3からのスポット光
をワークAに照射し、この状態で撮像器2によりワーク
Aを撮像してその画像データ(濃淡付き)を画像処理回
路4に送信記憶させ、次にスポット光源3を消灯した状
態でスリット光源1からのスリット光をワークAに照射
し、この状態で同じく撮像器2によりワークAを撮像し
てその画像データ(濃淡付き)を画像処理回路4に送信
記憶させる。
【0014】スポット光の照射時には撮像画面に図3
(A)に示す如く孔画像bが暗部となって現われ、ま
た、スリット光の照射時にはワークAの表面にスリット
光によって描かれるワークAの断面形状に対応した光切
断像Sが撮像されて、撮像画面に図3(B)に示す如く
光切断画像sが明部となって現われる。尚、スリット光
が孔Bを跨ぐように照射されると、光切断画像sは孔B
に対応する部分で分断される。
【0015】ところで、撮像器2の光軸とスリット光面
SPとの交点を原点0、撮像器2の光軸をZ軸、Z軸に
直交するスリット光面SPに平行な座標軸をY軸、Y軸
及びZ軸に直交する座標軸をX軸とする空間座標系を考
え、この空間座標系のX−Y座標面への投影像が撮像器
2で撮像されるとすると、撮像器2の画面上に原点0に
対応する中心点を原点としてX軸に対応する水平のx軸
とY軸に対応する垂直のy軸をとった場合、画面のx軸
座標値とy軸座標値は空間座標系のX−Y座標面上での
原点0からの水平距離と垂直距離を表わすことになる。
そして図2に示す如く、孔画像bの中心mの画面上の
x、y座標mx、myと孔Bの中心Mの空間座標系にお
けるX、Y座標MX、MYとの比は撮像器2から原点0
までの距離Lと撮像器2からワークAまでの距離との比
に等しくなり、従って、ワークAのZ軸方向変位量をd
Zとして、 MX=mx・(L−dZ)/L となり、同じく MY=my・(L−dZ)/L となり、孔Bの中心Mの空間座標系におけるZ座標MZ
は、 MZ=dZ になる。
【0016】ここで、ワークAがZ軸方向に変位する
と、スリット光面SPがY軸に平行で且つZ軸に斜交す
るため、光切断画像sが画面上でx軸方向に変位する。
そして、光切断画像sのx座標sxとワークA上のスリ
ット光の照射部SのX座標SXとの関係は、上記と同様
に、 SX=sx・(L−dZ)/L …(1) となり、また、Z軸に対するスリット光面SPの傾斜角
をθとして、 SX=dZ・tanθ …(2) となり、(1)式と(2)式から、 sx・(L−dZ)/L=dZ・tanθ …(3) となり、(3)式をdZについてまとめると、 dZ=sx・ L/(Ltanθ+sx) …(4) になる。かくて、光切断画像sのx座標sxを計測すれ
ば(4)式からワークAのZ軸変位量dZを算定でき、孔
画像bの画面上の中心座標mx、myとdZとから空間
座標系における孔Bの中心位置MX、MY、MZを求め
られる。
【0017】次に、孔画像bの中心座標mx,myの求
め方について説明する。先ず、濃淡の付いた撮像画面の
輝度分布を微分化して、微分化画面を作成する。撮像画
面の輝度分布は孔画像bの孔縁部で急激に変化するか
ら、微分値は孔縁部で大きくなり、微分化画面には、図
4(A)に示す如く、孔縁部に対応するリング状の画像
brが現われる。次に、マスタワークの計測を行うティ
ーチング時に格納した孔径データに基づいてグラフィッ
ク処理により孔画像bの孔縁部の形状を表わすテンプレ
ートTPを作成し、このテンプレートTPを用いて図4
(B)に示す如く微分化画面に対する正規化相関法等に
よるパターンマッチングを行い、孔画像bの概略中心
m′の位置を割り出す。尚、パターンマッチングの処理
時間を短縮するため、微分化画面とテンプレートTPと
を夫々同じ比率(例えば1/4)で縮小してパターンマ
ッチングを行う。ところで、濃淡付きの撮像画面を二値
化し、二値化画面の暗部の面積重心を孔画像bの概略中
心とすることも可能であるが、孔内面からの反射光によ
り二値化画面の暗部の形状が変形してしまうことがあ
る。この場合、暗部の面積重心は孔画像の正規の中心か
ら大きくずれてしまうため、上記の如く微分化画面に対
するパターンマッチングで孔画像bの概略中心m′の位
置を割り出す方が精度が良い。
【0018】次に、図4(C)に示す如く、濃淡付きの
撮像画面に前記概略中心m′を中心とする複数の放射方
向に沿って計測箇所たる複数の走査線LSCを設定す
る。各走査線LSCは、ティーチング時に格納した孔径
データに基づいて、孔画像bの孔縁部の内外所定範囲に
亘って延在するように設定される。そして、各走査線L
SC上の輝度分布に基づいて、孔画像bの孔縁部の該各
走査線LSCに合致する孔縁点Pbの座標を検出する。
【0019】図5(A)は走査線LSC上の輝度分布曲
線を示しており、孔縁部において輝度が急激に減少して
いる。従って、輝度分布曲線を微分した微分曲線を作成
すると、図5(B)に示すように孔縁部に対応する位置
に山部が現われる。この場合、微分曲線の頂点の位置を
孔縁点Pbの位置としても良いが、頂点を一義的に特定
することは困難でありばらつきが出る。そこで、本実施
形態では、微分曲線の頂点を一応求めると共に、この頂
点に合致するピクセル(画素)の前後各2ピクセルにお
ける微分曲線上の点を求め、頂点とその前後各2点、計
5点から微分曲線の頂点部分に近似する放物線LPの方
程式を回帰処理によって算出し、この放物線の頂点の位
置を孔縁点Pbの位置としている。
【0020】ところで、上記した放射方向の走査線LS
Cに代えて、x軸方向に平行な走査線とy軸方向に平行
な走査線とを、孔画像bの孔縁部に交差するように、孔
画像bの概略中心のy軸方向両側とx軸方向両側とに設
定することも考えられる。然し、この場合には走査線が
孔縁部に斜交することになり、走査線上の輝度分布の変
化が緩やかになって、微分曲線の山部が低くなだらかに
なる。従って上記の如く近似放物線LPを求めても、そ
の頂点の位置がばらつき易く、孔縁点Pbの検出精度を
出しにくくなる。これに対し、本実施形態のように走査
線LSCを放射方向に設定すれば、走査線LSCが孔縁
部にほぼ直交するようになり、走査線LSC上の輝度分
布の変化が急になって、微分曲線の山部が高く急峻にな
り、孔縁部Pbの検出精度が向上する。
【0021】また、濃淡付きの撮像画像を二値化し、二
値化画面に計測箇所たる放射方向に長手のウインドウを
設定して、ウインドウ内の明暗境界部を孔縁点として検
出することも考えられるが、二値化画面では孔内面から
の反射光による外乱画像部分が明部像として現われるこ
とがあるため、孔縁点の検出精度が悪化する。これに対
し、本実施形態の如く、濃淡付きの撮像画面に計測箇所
たる走査線LSCを設定して、走査線LSC上の輝度分
布を検出すれば、外乱画像部分では輝度変化が緩やかに
なるため、輝度変化、即ち、微分曲線から外乱画像部分
を判別でき、孔縁点Pbの検出精度が向上する。
【0022】尚、撮像画面の明部や暗部における輝度は
一様ではなく、走査線LSC上の輝度分布曲線を全域に
亘って微分したのでは、微分曲線に複数の頂点が現わ
れ、どの頂点が孔縁部に対応するかの判別が困難になる
ことがある。そこで、本実施形態では、輝度分布曲線が
連続して減少する領域のうち減少前と減少後の輝度差が
最大となる領域について微分曲線を作成して上記の処理
を行い、輝度の不均一性に起因する誤検出を防止できる
ようにしている。尚、この場合にも、ノイズ等で複数の
頂点が現われる可能性があるが、ノイズによる頂点は低
いため、所定のしきい値以下の頂点を処理対象から除外
することにより検出精度を確保できる。
【0023】以上の如くして各走査線LSC上での孔縁
点Pbの位置を検出すると、各走査線LSCの設定デー
タから各孔縁点Pbの画面上のx,y座標を算出する。
次に、これら孔縁点Pbの座標から孔画像bに近似する
図4(D)に示す如き回帰円Cb(各孔縁点Pbの円に
対するずれ量の総和が最小になるように回帰処理によっ
て求められる円)の方程式を算出し、この回帰円Cbの
中心を孔画像bの中心mとして中心座標mx,myを求
める。尚、回帰円Cbを求める際は、回帰処理によって
算出した円に対する各孔縁点Pbのずれ量を求め、何れ
かの孔縁点Pbのずれ量が所定値以上のときはその孔縁
点Pbを除外して再度回帰処理を行うことを、全ての孔
縁点Pbのずれ量が所定値以下になるまで繰返す。
【0024】以上で孔画像bの中心座標mx,myの検
出方法についての説明を終了し、次に、光切断画像sの
x座標sxの検出方法について説明する。先ず、光切断
画像sの断片形状を表わすテンプレートTPsをティー
チングデータからグラフィック処理により作成し、光切
断像Sを撮像した濃淡付きの撮像画面に対し、図4
(E)に示す如く上記テンプレートTPsを用いて正規
化相関法等によるパターンマッチングを行い、光切断画
像sの概略のx座標sx′を割出す。尚、パターンマッ
チングの処理時間を短縮するため、撮像画面とテンプレ
ートTPsとを夫々同じ比率(例えば1/4)に縮小し
てパターンマッチングを行うことが望ましい。
【0025】次に、図4(F)に示す如く、割出された
x座標sx′における前記回帰円Cbのy座標を基準に
して、回帰円Cbの上方と下方とに夫々x軸に平行な計
測箇所たる走査線LSCをy軸方向に所定ピッチで複数
本(例えば3本)設定する。これによれば、各走査線L
SCは光切断画像sの所定の部位に確実に交差する。次
に、各走査線LSC上の輝度分布から光切断画像sの該
各走査線LSCに合致する画像点Psの座標を検出し、
これら画像点Psの座標から、図4(G)に示す如く、
光切断画像sに近似する回帰直線Ls(各画像点Psの
直線からのずれ量の総和が最小になるように回帰処理に
よって求められる直線)の方程式を算出し、この回帰直
線Lsのx座標を光切断画像sのx座標sxとする。
尚、ワークAが正常であれば、画像線Lsはy軸に平行
になるが、ワークAが空間座標系のX−Y座標面に対し
傾いていると、画像線Lsはy軸に対し傾く。この場合
は、異常表示を行うと共に、光切断画像sの一応のx座
標sxとして、回帰円Cbの中心を通るx軸に平行な直
線と画像線Lsとの交点のx座標を求める。
【0026】尚、濃淡付きの撮像画面を二値化した二値
化画像を作成して、上記走査線LSCの位置に計測箇所
たるx軸方向に長手のウインドウを設定し、ウインドウ
内の画像重心を画像点Psとしてその座標を求めること
も可能であるが、二値化画面ではノイズや外乱光による
画像部分が光切断画像と共に明部として現われることが
あるため、検出精度が悪くなる。
【0027】そこで、本実施形態では、図6(A)に示
すように走査線上の輝度分布を表わす輝度分布グラフを
作成し、このグラフから走査線上の各点の輝度変化のピ
ーク度Pを求め、このピーク度Pに基づいて光切断画像
sに合致する画像点Psの座標を検出している。x座標
がnの走査線上の点のピーク度Pは、該点における輝度
分布グラフ上の輝度点をan、該点を中心にして走査線
上に設定する所定幅の計測範囲Wの両端点における輝度
分布グラフ上の輝度点を夫々bn,cnとして、bnと
cnとを結ぶ結線に対するanの高さを表わす値として
求められる。この場合、前記結線の中点に対するanの
高さ(={2an−(bn+cn)}/2)をピーク度
Pとしても良く、また、前記結線にanから降した垂線
の長さをピーク度Pとしても良い。ここで、図6(A)
の輝度分布では、X=n1の点のピーク度Pは正の値に
なり、X=n2の点のピーク度Pは負の値になる。そし
て、ピーク度分布曲線の山部の両側にピーク度が零にな
る零点P0が現われ、零点P0間の区間はライン上の照
明器による背景照明の影響を受けない部分になる。その
ため、図6(B)に示す如く、輝度分布グラフの零点P
0間の区間における面積重心G´を求めて、その位置を
画像点の位置とすれば、背景照明の影響を排除して画像
点の位置を正確に検出できる。
【0028】然し、輝度分布グラフの山部の撮像方向側
(右側)の傾斜は反対側の傾斜よりも緩やかになり勝ち
であり、そのため、山部の面積重心G´が山部の頂点の
位置から撮像方向側にずれてしまう。一方、ピーク度分
布グラフの山部は、輝度分布グラフの山部の傾斜が両側
で異なっても、両側の傾斜がほぼ等しくなる。従って、
ピーク度分布グラフの零点P0間の区間における山部の
面積重心Gはその山部の頂点の位置から左程ずれない。
従って、画像点の検出精度を向上させるには、ピーク度
分布グラフの零点P0間の区間の面積重心Gを求めて、
該重心Gの位置を画像点Psのx座標とすることが望ま
しい。
【0029】ところで、ワークAの計測部位によって
は、図7(A−1)に示すように孔Bの奥にプレートA
Pが存在したり、図7(B−1)に示すようにワークA
の段付座面ASに孔Bが設けられていたり、図7(C−
1)に示すように孔BがワークAに溶着したカラーやナ
ット等の筒状部材ACで構成されることがある。そし
て、図7(A−1)の計測部位では、図7(A−2)に
示すように光切断画像sが孔部分の内方にも現われ、図
7(B−1)の計測部位では、図7(B−2)に示すよ
うに光切断画像sが段付形状になり、図7(C−1)の
計測部位では、図7(C−2)に示すように光切断画像
sがワークA表面に対応する画像と筒状部材ACの端面
に対応する画像とに分断されてしまう。
【0030】このような光切断画像sが現われている撮
像画面に対して上記テンプレートTPsによるパターン
マッチングを行うと、図7(A−2)では孔部分内の画
像にテンプレートTPsが合致し、図7(B−2)では
座面外側のワーク一般面に対応する画像にテンプレート
TPsが合致し、図7(C−2)では筒状部材ACの端
面に対応する画像にテンプレートTPsが合致してしま
うことがあり、ワークAの所定の計測範囲に存在する光
切断画像sにテンプレートTPsが合致しているか否か
を判別できず、ワークAの変位dZを正確に検出できな
くなる。
【0031】そこで、本実施形態では、位置を計測すべ
きワーク面の存在する計測範囲を孔Bの中心を基準にし
て表わす属性情報、即ち、計測範囲の内径RINと外径
ROUTのデータをティーチング時に計測して記憶させ
ておき、各計測部位での計測に際し、図7(A−3)
(B−3)(C−3)に示すように、孔画像bから上記
の如く求められる孔中心mを中心とする半径がRINの
円の内側と、半径がROUTの円の外側とをマスキング
し、この状態でパターンマッチングを行うようにした。
これによれば、テンプレートTPsが合致するのは所定
の計測範囲に対応する光切断画像sの部分になる。そし
て、パターンマッチングから求められる光切断画像sの
概略x座標における上記RINの半径の円のy座標と上
記ROUTの半径の円のy座標との間に上記の如く走査
線LSCを設定することにより、所定の計測範囲のワー
ク面に対応する光切断画像sのx座標sxを正しく求め
ることができ、ワークAの変位dZを正確に検出でき
る。尚、図7(A−1)の計測部位では、RINを孔B
の径に基づいて設定して、ROUTは無しとし、図7
(B−1)の計測部位では、RINとROUTを座面A
Sの内径と外径に基づいて設定し、図7(C−1)の計
測部位では、RINをワークAに開設する筒状部材AC
の取付孔の径に基づいて設定する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 光学式測定装置の概要を示す斜視図
【図2】 (A)図1のY軸方向から見た図、(B)図
1のX軸方向から見た図
【図3】 (A)孔画像の撮像画面を示す図、(B)光
切断画像の撮像画面を示す図
【図4】 (A)孔画像の微分化画面を示す図、(B)
パターンマッチングの状況を示す図、(C)走査線の設
定を示す図、(D)孔画像に近似する回帰円を示す図、
(E)光切断画像の撮像画面に対するパターンマッチン
グの状況を示す図、(F)走査線の設定を示す図、
(G)画像線を示す図
【図5】 (A)図4(C)の走査線上の輝度分布を示
す図、(B)輝度分布の微分曲線及び近似放物線を示す
【図6】 (A)図6(B)の走査線上の輝度分布を示
す図、(B)画像点の検出方法を示す図
【図7】 (A−1)(B−1)(C−1)各計測部位
の断面形状を示す図、(A−2)(B−2)(C−2)
各計測部位の光切断画像の撮像画面を示す図、(A−
3)(B−3)(C−3)マスキングした撮像画面を示
す図
【符号の説明】
2 撮像器 4 画像処理
回路 A ワーク B 孔 b 孔画像 TP テンプレ
ート m´ 概略中心 LSC 走査線 Pb 孔縁点

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワークに設けられた孔の位置を光学的に
    計測する方法であって、 ワークを撮像したときに撮像画面に現われる孔画像の概
    略中心位置を割出す第1工程と、 割出された概略中心位置を基準にして孔画像の孔縁部の
    複数箇所に交差するように複数の計測箇所を設定する第
    2工程と、 孔画像の孔縁部の各計測箇所に合致する孔縁点の座標を
    検出する第3工程とを備えるものにおいて、 前記第2工程は、前記概略中心位置を中心とする複数の
    放射方向に沿って前記複数の計測箇所を設定するように
    構成される、 ことを特徴とする孔位置の光学的計測方法。
  2. 【請求項2】 前記各計測箇所は、前記各放射方向に、
    予め記憶させた孔径に基づいて定められる所定範囲に亘
    って延在する走査線として設定され、前記第3工程にお
    いて、濃淡の付いた撮像画面の該各走査線上の輝度分布
    から前記各孔縁点の座標を検出することを特徴とする請
    求項1に記載の孔位置の光学的計測方法。
  3. 【請求項3】 前記第1工程は、濃淡の付いた撮像画面
    の輝度分布を微分処理した微分化画面を作成し、孔画像
    の孔縁部の形状を表わすテンプレートを用いて前記微分
    化画面に対するパターンマッチングを行うことにより、
    孔画像の概略中心位置を割出すように構成される、こと
    を特徴とする請求項1又は2に記載の孔位置の光学的計
    測方法。
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