JPH10105241A - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

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Publication number
JPH10105241A
JPH10105241A JP26041096A JP26041096A JPH10105241A JP H10105241 A JPH10105241 A JP H10105241A JP 26041096 A JP26041096 A JP 26041096A JP 26041096 A JP26041096 A JP 26041096A JP H10105241 A JPH10105241 A JP H10105241A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
servo motor
suction
housing
alignment
Prior art date
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Pending
Application number
JP26041096A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoneta Tanaka
米太 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Ushio Inc
Original Assignee
Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK, Ushio Inc filed Critical Ushio Denki KK
Priority to JP26041096A priority Critical patent/JPH10105241A/ja
Publication of JPH10105241A publication Critical patent/JPH10105241A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージの位置決め後、振動等によりステー
ジが微小変位することを防止し、ステージを所定位置に
保持すること。 【解決手段】 Xステージ1aはサーボモータ5bによ
りX方向駆動され、Xステージ1a上にローラガイド1
3を介して取り付けられたYステージ1bはサーボモー
タ5aによりY方向に駆動される。Xステージ1aおよ
びYステージ1bには板バネ11a,11bが取り付け
られており、またベース基板10、およびXステージ1
a上には上記板バネ11a,11bを吸着する吸着機構
12a,12bが取り付けられている。サーボモータ5
a,5bを駆動してXステージ1a,Yステージ1bを
位置決め後、吸着機構12a,12bにより板バネ11
a,11bを吸着し、Xステージ1a,Yステージ1b
を固定する。これにより、Xステージ1a,Yステージ
1bの微小変位を防止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】半導体装置やプリント基板、
LCD(液晶画面)の生産等のため露光装置が使用され
る。本発明は上記した露光装置等に使用されるステージ
装置に関し、さらに詳細には、上記ステージ装置におい
て、ステージの位置決め後、振動等によるステージの位
置ずれを防止するための固定機構を備えたステージ装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】上記した露光装置等においては、露光前
にマスクとワークに設けられたアライメント・マークを
用いて位置合わせを行っている。上記位置合わせ時のマ
スクまたはワークの移動は、マスクおよびワークの少な
くとも一方を高精度な位置決めステージ上に搭載し、こ
の高精度位置決めステージを駆動することにより実現さ
れる。
【0003】図5は上記した高精度位置決めステージの
概略構成を示す図である。同図では、簡単化するためス
テージを一方向(同図矢印)に移動させる駆動機構のみ
を示しているが、通常、ステージを少なくとも互いに直
交する2方向に移動させる駆動機構が設けられる。同図
において、1はステージであり、ステージ1はベース基
板(図示せず)上にローラガイド(図示せず)等の直線
移動機構を介して移動可能に取り付けられている。2は
上記ステージ1に取り付けられたハウジング固定部材で
あり、ハウジング固定部材2には、内部に硬球を有する
ハウジング3が固定されており、ハウジング3はボール
ネジ4と係合している。このため、ボールネジ4を回転
させると、ハウジング固定部材2に取り付けられたステ
ージ1は同図矢印方向に移動する。
【0004】5はサーボモータ、6はエンコーダであ
り、エンコーダ6の回転軸とサーボモータ5の回転軸が
接続されており、エンコーダ6によりサーボモータの回
転量を検出することができる。また、サーボモータ5は
サーボモータ固定部材7により図示しないベース基板に
固定されている。ステージ1を移動させるには、エンコ
ーダ6によりサーボモータ5の回転量を検出しながら、
所定回転数サーボモータ5を回転させる。これにより、
ステージ1はサーボモータの回転数に対応した所定量だ
け移動する。
【0005】ボールネジ4とハウジング3間のバックラ
ッシュ等によるガタつきを抑制するため、ハウジング3
内に設けられた硬球によりボールネジ4は予圧されてい
る。すなわち、図6に示すように、ハウジング3内に設
けられた球の直径Rとハウジング3とボールネジ4で形
成される空間の径rを、R>rとすることによりハウジ
ング3と球との隙間を無くすことができ(予圧がかか
る)、上記ガタを抑制することができる。
【0006】上記ステージ装置を備えた露光装置等は、
内部に搬送ロボット等の動作を伴うユニットを備えてい
る場合が多く、上記搬送ロボット等の動作により装置全
体が振動する。また、設置場所の床面よりある程度振動
を受ける。このような振動により、図5に示したステー
ジ装置にはある程度の加速度が作用し、ステージ1は
(ステージの質量)×(加速度)に相当する外力を受け
る。このため、前記したように硬球を予圧することによ
りボールネジ4のガタつきを抑制した状態であっても、
上記外力によりステージ1には例えば±1μm以下の微
小変位が発生する。上記のような微小変位が発生する
と、線幅が10μm以下の露光を行う際、不具合が生ず
る。
【0007】そこで、従来においては、図7に示すよう
にハウジング固定部材2とサーボモータ固定部材7間に
スプリング等の弾性部材を設け、ガタつきの防止を図っ
ていた。図7において、8はスプリングであり、スプリ
ング8によりハウジング固定部材2とサーボモータ固定
部材7に外力を与え上記ガタを解消する。上記のような
構成の場合、スプリング8によりハウジング固定部材2
に外力が加わるので、このままではステージ1が移動し
てしまう。そこで、ステージ1が停止しているときもエ
ンコーダ6による検出値が一定になるように常にサーボ
モータ5をフィードバック制御し、所定位置を維持する
必要がある。
【0008】この場合、上記のようにサーボモータ5を
フィードバック制御しているので、サーボモータ5とし
てパルスモータを用いた場合、ステージ1はパルスモー
タの±1パルス分だけ常に振動する。すなわち、前記し
たハウジング3内の硬球によってボールネジ4を予圧し
た場合に比べ幾分変位量は小さいものの、ステージ1の
微小変位が発生する。その値は、例えば±0.1μm〜
±1μm程度であり、図5の場合と同様、線幅10μm
以下の露光を行うときは問題となる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】図6に示したようにハ
ウジング3内の硬球を予圧しても、ボールネジ4のガタ
つきを完全に解消することができず、ステージ1には、
振動等により微小変位が発生する。また、図7に示した
ようにスプリングにより外力を与えても、パルスモータ
の±1パルス分の振動が発生し、ステージ1を完全に所
定値に維持することはできない。
【0010】本発明は上記した従来技術の問題点を解消
するためになされたものであり、その目的とするところ
は、従来のステージ装置に簡単な機構を付加するだけ
で、振動等によるステージの微小変位を防止することが
できるステージ装置を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、ステージ装置において、ステージに板状
の弾性体を取り付けるとともに、該弾性体を吸着し、ス
テージの移動を抑止する吸着部材を設け、上記駆動機構
によりステージを所定位置まで移動させたのち、上記吸
着機構によって上記弾性体を吸着してステージを固定す
るように構成したものである。本発明においては、上記
構成としたので、ステージが振動等により微小変位する
のを防止することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施例のス
テージ装置の外観図、図2は図1のステージ装置を上面
から見た図であり、同図はステージがX(同図の矢印X
方向),Y(同図の矢印Y方向)方向に移動するステー
ジ装置の構成を示している。図1において、10はベー
ス基板であり、ベース基板10の上にローラガイド14
を介してXステージ1aが取り付けられており、さらに
Xステージ1aの上にローラガイド13を介してYステ
ージ1bが取り付けられている。このため、Xステージ
1aはベース基板10に対して同図X方向に移動可能で
あり、また、Yステージ1bはXステージ1aに対して
同図Y方向に移動可能である。
【0013】Xステージ1a、Yステージ1bには図2
に示すように、ハウジング固定部材2a,2bが取り付
けられており、ハウジング固定部材2a,2bには、内
部に硬球を有するハウジング3a,3bが固定されてお
り、ハウジング3a,3bはボールネジ4a,4bと係
合している。ベース基板10上にはサーボモータ5bお
よびエンコーダ6bが取り付けられている。また、Xス
テージ1a上にはサーボモータ5aおよびエンコーダ6
aが取り付けられている。
【0014】ボールネジ4a,4bはサーボモータ5
a,5bにより駆動され、サーボモータ5aが回転する
と、Yステージ1bがY方向に移動し、また、サーボモ
ータ5bが回転するとXステージ1aがX方向に移動
し、Xステージ1a上に取り付けられたYステージ1b
もX方向に移動する。11aはXステージ1aに取り付
けられた板バネ、11bはYステージ1bに取り付けら
れた板バネ、12a、12bはそれぞれ上記板バネ11
a,11bを吸着する吸着機構であり、板バネ11a,
11b、吸着機構12a,12bにより本発明のステー
ジ固定機構を構成している。
【0015】図3は吸着機構12a,12bの断面図で
あり、吸着機構12a,12bは内部に真空用管路15
を有しており、図示しない真空源から吸着機構12a,
12bに真空が供給されていないとき、図3(a)に示
すように吸着機構12a,12bと板バネ11a,11
bは離れており、吸着機構12a,12bに真空が供給
されると、図3(b)に示すように吸着機構12a,1
2bは板バネ11a,11bを吸着し、板バネ11a,
11bが移動できないように固定する。
【0016】次に図1,図2に示した本実施例のステー
ジ装置による位置合わせ(アライメント)について説明
する。 (1)ステージ装置に被処理物を載置し、図示しないア
ライメント用顕微鏡により被処理物上に印されたアライ
メント・マークを観察し、該アライメント・マークが所
定位置に来るように、サーボモータ5a,5bを駆動し
てXステージ、Yステージを移動させる。 (2)Xステージ、Yステージの位置合わせが終わった
ら、吸着機構12a,12bに真空を供給して板バネ1
1a,11bを吸着し、Xステージ1a、Yステージ1
bを固定する。
【0017】(3)図示しないアライメント顕微鏡によ
り被処理物上に印されたアライメント・マークを再度観
察し、位置合わせ精度を確認する。そして、アライメン
ト位置にずれがなければ、図示しないマスクを介して露
光光照射装置からステージ21上に載置された被処理物
に露光光を照射し、露光処理等を行う。 (4)上記(3)において、アライメント・マークを観
察したときアライメント・マークの位置がずれていた
ら、吸着機構12a,12bへの真空の供給を解除し
て、板バネ11a,11bをフリーにして、再度、位置
合わせを行う。 (5)位置合わせ後、吸着機構12a,12bに真空を
供給して板バネ11a,11bを吸着し、Xステージ1
a、Yステージ1bを固定する。そして、アライメント
位置にずれがなければ、上記したように露光処理等を行
う。
【0018】以上のように本実施例においては、Xステ
ージ1a,Yステージ1bに板バネ11a,11bを取
り付け、位置合わせ後、吸着機構12a,12bにより
板バネ11a,11bを吸着し、Xステージ1a,Yス
テージ1bを固定しているので、振動等によりXステー
ジ1a,Yステージ1bが微小変位することがなく、高
精度な位置合わせを実現することができる。なお、上記
実施例では、X,Y方向に移動するステージ装置につい
て説明したが、さらにステージ面に垂直な軸を中心とし
て回転する第3のステージ(θステージ)を備えたステ
ージ装置にも同様に適用することができる。
【0019】図4は本発明の第2の実施例を示す図であ
る。本実施例は、1つのステージをX,Y,θ(ステー
ジ面に垂直な軸を中心とした回転)方向に移動させる機
構を備えたステージ装置に本発明を適用した実施例を示
しており、図4(a)は本実施例のステージ装置を上面
から見た図、図4(b)は(a)のA−A断面図であ
る。図4(a)(b)において、20はベース基板、2
1はステージであり、ステージ21は平面案内部22を
介してベース基板20上に取り付けられており、平面案
内部22によりX,Y軸方向に移動可能に、かつステー
ジ面に垂直な軸を中心として回転可能に支持されてい
る。
【0020】23,24はステージ21をX方向に駆動
するX軸駆動機構,25はステージ21をY軸方向に駆
動するY軸駆動機構であり、これら駆動機構23,2
4,25はモータ23a,24a,25a、エンコーダ
23b,24b,25b、駆動部23c,24c,25
cから構成されている。そして、モータ23a,24a
により2つのX軸駆動機構23,24を同時に駆動する
ことによりステージ21をX方向に移動させ、モータ2
5aを駆動してY軸駆動機構25を駆動することにより
ステージ21をY方向に移動させることができる。さら
に、2つのX軸駆動機構23,24およびY軸駆動機構
25を、ステージ21を回転させる方向に同時に駆動す
ることにより、ステージ21を回転させることができ
る。
【0021】また上記モータ23a,24a,25aの
駆動量はエンコーダ23b,24b,25bにより検出
され、ステージ21の位置がフィードバック制御され
る。11はステージ21に取り付けられた板バネ、12
は吸着機構であり、これらにより、本発明の固定機構を
構成している。吸着機構12は図4(b)に示すように
内部に真空用管路15を有しており、図示しない真空源
から吸着機構12に真空が供給されていないとき、吸着
機構12と板バネ11は離れており、吸着機構12に真
空が供給されると、吸着機構12は板バネ11を吸着
し、板バネが移動できないように固定する。
【0022】本実施例のステージ装置の動作は前記した
図1、図2に示したものと同様であり、ステージの位置
合わせ後、吸着機構12に真空を供給して板バネ11を
吸着しステージ21を固定する。そして、前記したよう
に、アライメント顕微鏡により被処理物上に印されたア
ライメント・マークを再度観察し、アライメント位置に
ずれがなければ、露光処理等を行う。また、位置がずれ
ている場合には、上記ステージ21の固定を解除し、再
度位置合わせを行った後、吸着機構12に真空を供給し
てステージ21の固定を行い、アライメント位置を確認
後、露光処理等を行う。なお、上記第1、第2の実施例
では、板バネの吸着機構への固定を真空吸着により行っ
ているが、板バネを磁性体、吸着機構を電磁石から構成
し、板バネを電磁力により固定してもよい。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、ステージに板状の弾性体を取り付けるとともに、該
弾性体を吸着し、ステージの移動を抑止する吸着部材を
設け、上記駆動機構によりステージを所定位置まで移動
させたのち、上記吸着機構によって上記弾性体を吸着し
てステージを固定するように構成したので、装置内に設
けられたロボット等による振動の影響や設置場所からの
振動によって生じる外力によりステージが微小変位する
のを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例のステージ装置の外観図であ
る。
【図2】図1のステージ装置を上面から見た図である。
【図3】本発明の実施例の吸着機構の断面図である。
【図4】本発明の第2の実施例のステージ装置の構成を
示す図である。
【図5】高精度位置決めステージ装置の概略構成を示す
図である。
【図6】ボールネジにおける硬球による与圧を説明する
図である。
【図7】スプリングによりガタつき防止を図ったステー
ジ装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
1a Xステージ 1b Yステージ 2a,2b ハウジング固定部材 3a,3b ハウジング 4a,4b ボールネジ 5a,5b サーボモータ 6a,6b エンコーダ 10 ベース基板 11,11a,11b 板バネ 12,12a、12b 吸着機構 13,14 ローラガイド 15 真空用管路 20 ベース基板 21 ステージ 22 平面案内部 23,24 X軸駆動機構 25 Y軸駆動機構 23a,24a,25a サーボモータ 23b,24b,25b エンコーダ 23c,24c,25c 駆動部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも2つの駆動機構を備え、該駆
    動機構を駆動することにより、基準軸に対して垂直な平
    面内でステージを互いに直交する方向に移動させるステ
    ージ装置において、 ステージに板状の弾性体を取り付けるとともに、該弾性
    体を吸着しステージの移動を抑止する吸着部材を設け、 上記駆動機構によりステージを所定位置まで移動させた
    のち、上記吸着機構によって上記弾性体を吸着してステ
    ージを固定することを特徴とするステージ装置。
JP26041096A 1996-10-01 1996-10-01 ステージ装置 Pending JPH10105241A (ja)

Priority Applications (1)

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JP26041096A JPH10105241A (ja) 1996-10-01 1996-10-01 ステージ装置

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JP26041096A JPH10105241A (ja) 1996-10-01 1996-10-01 ステージ装置

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JP26041096A Pending JPH10105241A (ja) 1996-10-01 1996-10-01 ステージ装置

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JP (1) JPH10105241A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007256561A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Pentax Corp ステージ装置のロック機構
CN107942234A (zh) * 2017-12-20 2018-04-20 深圳深爱半导体股份有限公司 测试台及其固定装置

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JP2007256561A (ja) * 2006-03-23 2007-10-04 Pentax Corp ステージ装置のロック機構
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