JPH02262091A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
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- JPH02262091A JPH02262091A JP1081401A JP8140189A JPH02262091A JP H02262091 A JPH02262091 A JP H02262091A JP 1081401 A JP1081401 A JP 1081401A JP 8140189 A JP8140189 A JP 8140189A JP H02262091 A JPH02262091 A JP H02262091A
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- Japan
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- chamber
- movable
- driving means
- wafer
- wafer table
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 4
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- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 description 4
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的コ
(産業上の利用分野)
この発明は半導体露光装置における高精度移動ステージ
装置を備えた位置決め装置に関する。
装置を備えた位置決め装置に関する。
(従来の技術)
VLS I製造に用いるための半導体露光装置において
は、X線を光源とするX線露光装置が必要とされる。X
線は大気中を通ると急激な減衰が生じる為、ウェハとマ
スクは真空中か、あるいはヘリウム雰囲気中で露光を行
なわなければならない。そこでウェハを移動させるXY
ステージも真空中か、あるいはヘリウム雰囲気中に置か
なければならない。XYステージではアクチュエータと
してモータと送りネジを使用するのが一般的であるが、
モータは、これらの雰囲気中では電気的には放電、機械
的には寿命の低下が生じ簡単には使用することはできな
い。
は、X線を光源とするX線露光装置が必要とされる。X
線は大気中を通ると急激な減衰が生じる為、ウェハとマ
スクは真空中か、あるいはヘリウム雰囲気中で露光を行
なわなければならない。そこでウェハを移動させるXY
ステージも真空中か、あるいはヘリウム雰囲気中に置か
なければならない。XYステージではアクチュエータと
してモータと送りネジを使用するのが一般的であるが、
モータは、これらの雰囲気中では電気的には放電、機械
的には寿命の低下が生じ簡単には使用することはできな
い。
従来これらの問題を解決するため、
(1)第2図に示すようにXYステージ101゜102
を真空チャンバかへリウムチャンバ103に入れ、送り
ネジの駆動部104.105を磁性流体シール106.
107を介してチャンバ103の外に出し、大気中でモ
ータを駆動するか、あるいは、 (2)第3図に示すようにモータ110を含むXYステ
ージ111,112全体をチャンバ113内に入れ、モ
ータ110だけを独立にケース115に入れ込み空気を
供給し、モータ110の出力軸に外部と気密にシールす
るため磁性流体シール116をほどこすことで問題を回
避してきた。
を真空チャンバかへリウムチャンバ103に入れ、送り
ネジの駆動部104.105を磁性流体シール106.
107を介してチャンバ103の外に出し、大気中でモ
ータを駆動するか、あるいは、 (2)第3図に示すようにモータ110を含むXYステ
ージ111,112全体をチャンバ113内に入れ、モ
ータ110だけを独立にケース115に入れ込み空気を
供給し、モータ110の出力軸に外部と気密にシールす
るため磁性流体シール116をほどこすことで問題を回
避してきた。
しかし、(1)の方法では重ね合わせで構成したX軸“
テーブル101、Y軸テーブル102をX軸。
テーブル101、Y軸テーブル102をX軸。
Y軸に移動する場合、例えば下にあるY軸テーブル10
2では問題ないが、上にあるX軸テーブル101ではY
軸方向に駆動部104が移動せずにY軸テーブル102
の移動に伴ないX軸方向に移動させるため連結機構10
8が必要となり精度が劣化する。また磁性流体シール1
06.107ではモータを高速に回転させることができ
ないため高速な位置決めができない。また、雰囲気が高
真空になった時シールから洩れる空気が問題になる。
2では問題ないが、上にあるX軸テーブル101ではY
軸方向に駆動部104が移動せずにY軸テーブル102
の移動に伴ないX軸方向に移動させるため連結機構10
8が必要となり精度が劣化する。また磁性流体シール1
06.107ではモータを高速に回転させることができ
ないため高速な位置決めができない。また、雰囲気が高
真空になった時シールから洩れる空気が問題になる。
(2)の方法でも(1)と同様に磁性流体シール106
によって高速位置決めができない、高真空での洩れなど
の問題が生じる。
によって高速位置決めができない、高真空での洩れなど
の問題が生じる。
(発明が解決しようとする課題)
このように従来の位置決め装置は真空チャンバ内では、
シール性能の問題から高速の位置決めが達成できなかっ
た。
シール性能の問題から高速の位置決めが達成できなかっ
た。
本発明は前述した問題点を解決しようとするものであり
、真空中、あるいはヘリウム雰囲気中等でも試料を高速
にかつ精密に位置決めでき、かつチャンバへの空気の洩
れの影響のない高精度な位置決め装置を提供するもので
ある。
、真空中、あるいはヘリウム雰囲気中等でも試料を高速
にかつ精密に位置決めでき、かつチャンバへの空気の洩
れの影響のない高精度な位置決め装置を提供するもので
ある。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明の位置決め装置は、内部が所定雰囲気あるいは真
空に保たれるチャンバと、このチャンバ外に配置されて
所定方向に移動可能な主動手段と、この主動手段を位置
決めするための駆動手段と、前記チャンバ内に前記主動
手段とは非接触に対応配置され、前記主動手段の移動に
従動して移動可能な従動手段と、この従動手段に取付け
られ試料を載置する載置手段と、から成ることを特徴と
している。
空に保たれるチャンバと、このチャンバ外に配置されて
所定方向に移動可能な主動手段と、この主動手段を位置
決めするための駆動手段と、前記チャンバ内に前記主動
手段とは非接触に対応配置され、前記主動手段の移動に
従動して移動可能な従動手段と、この従動手段に取付け
られ試料を載置する載置手段と、から成ることを特徴と
している。
(作 用)
チャンバの外を所定方向に移動するリニアモータのステ
ータを、チャンバ内の所定方向に移動するリニアモータ
の固定子をチャンバの壁にあるガラス板を介して向い合
わせリニアモータでそれらのステージを保持し、チャン
バの外のステージ移動、位置決めさせることでチャンバ
内の所定方向に移動するステージを精密に位置決めする
ものである。この様に構成すればチャンバにモータを入
れ込む必要がないため、チャンバ内を高真空に保つこと
ができるとともに、位置決めの高速性も損なわない。
ータを、チャンバ内の所定方向に移動するリニアモータ
の固定子をチャンバの壁にあるガラス板を介して向い合
わせリニアモータでそれらのステージを保持し、チャン
バの外のステージ移動、位置決めさせることでチャンバ
内の所定方向に移動するステージを精密に位置決めする
ものである。この様に構成すればチャンバにモータを入
れ込む必要がないため、チャンバ内を高真空に保つこと
ができるとともに、位置決めの高速性も損なわない。
(実施例)
第1図は本発明の一実施例である。大気中に配置された
基台14内に設けられたXテーブル4、Yテーブル5は
それぞれボールネジ12a、12bとモータ13a、1
3bによりXY平面を移動し、Xテーブル4上に2軸以
上の方向性をもって固定されたリニアパルスモークの可
動子1を高速にかつ精密に位置決めする。基台14の上
には真空チャンバ3が在り、その中に磁気軸受11でガ
イドされたXY平面内を自由に移動出来るウェハテーブ
ル20が在り、ウェハテーブル20の下にはリニアパル
スモータの固定子2が硬質ガラス21を挟んで可動子1
と対向して配置されるウェハテーブル20上に載置され
るウェハ8の位置はレーザ干渉計15により測定される
。まず、リニアパルスモータの固定子2と可動子1を保
持するように制御を行う。このようにすれば、大気中の
XY子テーブル、5の移動に伴う可動子1の移動が、磁
気軸受11によって支持された固定子2に伝わり、結果
としてウェハテーブル20を位置決めする事になる。
基台14内に設けられたXテーブル4、Yテーブル5は
それぞれボールネジ12a、12bとモータ13a、1
3bによりXY平面を移動し、Xテーブル4上に2軸以
上の方向性をもって固定されたリニアパルスモークの可
動子1を高速にかつ精密に位置決めする。基台14の上
には真空チャンバ3が在り、その中に磁気軸受11でガ
イドされたXY平面内を自由に移動出来るウェハテーブ
ル20が在り、ウェハテーブル20の下にはリニアパル
スモータの固定子2が硬質ガラス21を挟んで可動子1
と対向して配置されるウェハテーブル20上に載置され
るウェハ8の位置はレーザ干渉計15により測定される
。まず、リニアパルスモータの固定子2と可動子1を保
持するように制御を行う。このようにすれば、大気中の
XY子テーブル、5の移動に伴う可動子1の移動が、磁
気軸受11によって支持された固定子2に伝わり、結果
としてウェハテーブル20を位置決めする事になる。
リニアパルスモータの位置決め分解能は、実験の結果1
μm程度であり、制御系を工夫することにより、0.O
1μm1μm程置決め精度が期待できる。
μm程度であり、制御系を工夫することにより、0.O
1μm1μm程置決め精度が期待できる。
また、硬質ガラス21はリニアパルスモータの吸引力を
有効に作用させるためのものであって他の非磁性体でも
よい。
有効に作用させるためのものであって他の非磁性体でも
よい。
また、図中7はウェハチャック9はマスク、10はマス
クチニブルでり、マスク9に露光光、例えばX線やEB
露光光が照射されてウェハ8に転写が行なわれる。
クチニブルでり、マスク9に露光光、例えばX線やEB
露光光が照射されてウェハ8に転写が行なわれる。
なお、この位置決め装置はマスク欠陥検索装置等にも適
用できる。
用できる。
他の実施例として、高精度が必要でなければウニパテ−
プルの磁気軸受ガイド11を外し、硬質ガラス21の上
に直接リニアパルスモータの固定子2をおいても良い。
プルの磁気軸受ガイド11を外し、硬質ガラス21の上
に直接リニアパルスモータの固定子2をおいても良い。
また、これはXYテーブル4.5に限定される事はなく
、大気中のXY子テーブル上るいは代わりに回転テーブ
ルを取り付ければ、ウェハテーブルを回転させることも
できる。
、大気中のXY子テーブル上るいは代わりに回転テーブ
ルを取り付ければ、ウェハテーブルを回転させることも
できる。
また、リニアパルスモータ以外にも永久磁石同士、磁石
と磁性体、電磁石を用いたもの等でもよく、磁気吸引力
を利用して非接触に位置決めが可能となる。
と磁性体、電磁石を用いたもの等でもよく、磁気吸引力
を利用して非接触に位置決めが可能となる。
[発明の効果コ
本発明を用いることで、高真空チャンバ内のウェハを所
定方向に移動する際、真空度の低下を生じさせず、高速
にかつ精密に位置決めすることができる。また、移動テ
ーブルに関しては従来技術をそのまま利用できるという
付加的なメリットもある。
定方向に移動する際、真空度の低下を生じさせず、高速
にかつ精密に位置決めすることができる。また、移動テ
ーブルに関しては従来技術をそのまま利用できるという
付加的なメリットもある。
第1図は本発明の位置決め装置を示す一実施例の正面図
、第2図は従来例の位置決め装置の正面図、第3図は別
の従来例の側面図である。 1・・・リニアパルスモータの可動子(主動手段)、2
・・・リニアパルスモータの固定子(従動手段)、3・
・・真空チャンバ、4・・・Xテーブル、5・・・Yテ
ーブル、7・・・ウェハチャック、8・・・ウェハ、9
・・・マスク、10・・・マスクテーブル、11・・・
磁気軸受ガイド、12・・・ボールネジ、20・・・ウ
ェハテーブル、21・・・硬質ガラス。
、第2図は従来例の位置決め装置の正面図、第3図は別
の従来例の側面図である。 1・・・リニアパルスモータの可動子(主動手段)、2
・・・リニアパルスモータの固定子(従動手段)、3・
・・真空チャンバ、4・・・Xテーブル、5・・・Yテ
ーブル、7・・・ウェハチャック、8・・・ウェハ、9
・・・マスク、10・・・マスクテーブル、11・・・
磁気軸受ガイド、12・・・ボールネジ、20・・・ウ
ェハテーブル、21・・・硬質ガラス。
Claims (3)
- (1)内部が所定雰囲気あるいは真空に保たれるチャン
バと、 このチャンバ外に配置されて所定方向に移動可能な主動
手段と、 この主動手段を位置決めするための駆動手段と前記チャ
ンバ内に前記主動手段とは非接触に対応配置され、前記
主動手段の移動に従動して移動可能な従動手段と、 この従動手段に取付けられ試料を載置する載置手段と、 から成ることを特徴とする位置決め装置。 - (2)前記主動手段と従動手段とは磁気的に吸引されて
なることを特徴とする請求項1記載の位置決め装置。 - (3)前記主動手段および前記従動手段の一方はリニア
モータの可動子であり、他方はリニアモータの固定子で
あることを特徴とする請求項2記載の位置決め装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1081401A JPH02262091A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1081401A JPH02262091A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 位置決め装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02262091A true JPH02262091A (ja) | 1990-10-24 |
Family
ID=13745295
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1081401A Pending JPH02262091A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02262091A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6281643B1 (en) | 1990-03-05 | 2001-08-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus |
DE102012002141A1 (de) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Flächenmotor |
NL2008935C2 (nl) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Mi Partners B V | Positioneerinrichting voor een waferchuck. |
NL2008934C2 (nl) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Mi Partners B V | Positioneerinrichting voor een waferchuck. |
EP2672321A1 (en) | 2012-06-04 | 2013-12-11 | MI-Partners BV | Device for positioning a waferchuck |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP1081401A patent/JPH02262091A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6281643B1 (en) | 1990-03-05 | 2001-08-28 | Nikon Corporation | Stage apparatus |
DE102012002141A1 (de) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | Gottfried Wilhelm Leibniz Universität Hannover | Flächenmotor |
NL2008935C2 (nl) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Mi Partners B V | Positioneerinrichting voor een waferchuck. |
NL2008934C2 (nl) * | 2012-06-04 | 2013-12-05 | Mi Partners B V | Positioneerinrichting voor een waferchuck. |
EP2672321A1 (en) | 2012-06-04 | 2013-12-11 | MI-Partners BV | Device for positioning a waferchuck |
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