JPH10101934A - シート状及び環状の有機ケイ素ポリマー - Google Patents
シート状及び環状の有機ケイ素ポリマーInfo
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- JPH10101934A JPH10101934A JP9255341A JP25534197A JPH10101934A JP H10101934 A JPH10101934 A JP H10101934A JP 9255341 A JP9255341 A JP 9255341A JP 25534197 A JP25534197 A JP 25534197A JP H10101934 A JPH10101934 A JP H10101934A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G77/04—Polysiloxanes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/12—Polysiloxanes containing silicon bound to hydrogen
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- Silicon Polymers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 無害な副生物を与える、容易に手に入れやす
い出発原料を用いてシリケート構造から誘導されるセグ
メントを有するシロキサンポリマーへの、新規で簡単で
融通のきくルートを提供する。 【解決手段】 シート状又は環状のシリケートと有機−
Ｈ−クロロシランを反応させて、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ
基を有するオルガノシロキサンシート状又は環状ポリマ
ーを形成する。上記ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有するオ
ルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーをアルケニ
ル基含有化合物と反応させる。上記アルケニル基含有化
合物のアルケニル基とペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有する
オルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーの水素化
物官能基の間のヒドロシリル化反応を触媒するに有効な
量の触媒を用い、前記オルガノポリシロキサンシート状
又は環状ポリマーを形成する。
い出発原料を用いてシリケート構造から誘導されるセグ
メントを有するシロキサンポリマーへの、新規で簡単で
融通のきくルートを提供する。 【解決手段】 シート状又は環状のシリケートと有機−
Ｈ−クロロシランを反応させて、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ
基を有するオルガノシロキサンシート状又は環状ポリマ
ーを形成する。上記ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有するオ
ルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーをアルケニ
ル基含有化合物と反応させる。上記アルケニル基含有化
合物のアルケニル基とペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有する
オルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーの水素化
物官能基の間のヒドロシリル化反応を触媒するに有効な
量の触媒を用い、前記オルガノポリシロキサンシート状
又は環状ポリマーを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコーン化合
物、及びシリケートベースのシート状又は環状シロキサ
ンポリマーに関する。
物、及びシリケートベースのシート状又は環状シロキサ
ンポリマーに関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】シリコ
ーンは、電気炉中での元素状ケイ素への還元によりシリ
カから作られる。即ち、 ＳｉＯ2 ＋２Ｃ→Ｓｉ＋２ＣＯ
ーンは、電気炉中での元素状ケイ素への還元によりシリ
カから作られる。即ち、 ＳｉＯ2 ＋２Ｃ→Ｓｉ＋２ＣＯ
【０００３】その後、元素状ケイ素は、商業規模生産水
準で、「直接法」において、ＲＣｌ、典型的には塩化メ
チル、で処理される。即ち、 Ｓｉ＋２ＲＣｌ→Ｒ2 ＳｉＣｌ2
準で、「直接法」において、ＲＣｌ、典型的には塩化メ
チル、で処理される。即ち、 Ｓｉ＋２ＲＣｌ→Ｒ2 ＳｉＣｌ2
【０００４】次いで、得られたオルガノクロロシランの
加水分解は、シロキサンを与え、これは多数のシリコー
ン製品の製造に使用される。即ち、 ｎＭｅ2 ＳｉＣｌ2 ＋２ｎＨ2 Ｏ→ｎＭｅ2 Ｓｉ（ＯＨ）2 ＋２ｎＨＣｌ ｎ〔Ｍｅ2 Ｓｉ（ＯＨ）2 〕→ＨＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）n Ｈ＋（ｎ−１）Ｈ2 Ｏ
加水分解は、シロキサンを与え、これは多数のシリコー
ン製品の製造に使用される。即ち、 ｎＭｅ2 ＳｉＣｌ2 ＋２ｎＨ2 Ｏ→ｎＭｅ2 Ｓｉ（ＯＨ）2 ＋２ｎＨＣｌ ｎ〔Ｍｅ2 Ｓｉ（ＯＨ）2 〕→ＨＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）n Ｈ＋（ｎ−１）Ｈ2 Ｏ
【０００５】シリケート物質からのシリコーンポリマー
の調製を含むシリコーンへの代替ルートは、米国特許Ｎ
o.３６６１８４６に記載されている。この線に沿った他
のユニークなアプローチは、シリコーンの製造のための
本発明者等の米国特許Ｎo.５６０５９８２に教示されて
いる。本発明は、後者の特許に一般に記載された方法の
変形である。
の調製を含むシリコーンへの代替ルートは、米国特許Ｎ
o.３６６１８４６に記載されている。この線に沿った他
のユニークなアプローチは、シリコーンの製造のための
本発明者等の米国特許Ｎo.５６０５９８２に教示されて
いる。本発明は、後者の特許に一般に記載された方法の
変形である。
【０００６】即ち、米国特許Ｎo.５６０５９８２によれ
ば、シート状又は環状シリケートがアルケニル基含有ク
ロロシランと反応させられて、アルケニルシロキシポリ
マーを生成する。次いで、このアルケニルシロキシポリ
マーは更に、白金触媒の存在下にヒドロシランと反応さ
せられて、オルガノポリシロキサンポリマーを生成す
る。
ば、シート状又は環状シリケートがアルケニル基含有ク
ロロシランと反応させられて、アルケニルシロキシポリ
マーを生成する。次いで、このアルケニルシロキシポリ
マーは更に、白金触媒の存在下にヒドロシランと反応さ
せられて、オルガノポリシロキサンポリマーを生成す
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】しかしながら、本発明に
おいてはシート状又は環状シリケートは有機−Ｈ−クロ
ロシランと反応させられて、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を
有するオルガノシロキサンポリマーを生成する。次に、
このペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有するオルガノシロキサ
ンポリマーは、白金触媒の存在下でオレフィンと反応さ
せられてオルガノポリシロキサンポリマーを生成する。
おいてはシート状又は環状シリケートは有機−Ｈ−クロ
ロシランと反応させられて、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を
有するオルガノシロキサンポリマーを生成する。次に、
このペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有するオルガノシロキサ
ンポリマーは、白金触媒の存在下でオレフィンと反応さ
せられてオルガノポリシロキサンポリマーを生成する。
【０００８】本発明者等の後者の特許において、４つの
反応体の内の４つはケイ素原子を有する。本発明におい
ては、４つの反応体の内の只の３つがその原子を有す
る。
反応体の内の４つはケイ素原子を有する。本発明におい
ては、４つの反応体の内の只の３つがその原子を有す
る。
【０００９】従って、用語ヒドロシリル化は、Ｓｉ−Ｈ
の、全ての不飽和種への付加に適用される。即ち、 ≡SiH + CH2=CH(R) n Si≡ → ≡Si-CH2CH2- R n -Si≡ （Ｉ）又は ≡SiH + CH2=CHR → ≡Si-CH2CH2-R （II）。
の、全ての不飽和種への付加に適用される。即ち、 ≡SiH + CH2=CH(R) n Si≡ → ≡Si-CH2CH2- R n -Si≡ （Ｉ）又は ≡SiH + CH2=CHR → ≡Si-CH2CH2-R （II）。
【００１０】ケイ素に結合した水素原子を有するシラン
類及びシロキサン類は二重結合に付加することができ
る。一般には、これらの反応は、白金又は白金の錯体で
ある触媒の存在下に行われる。シナリオ（Ｉ）は一般に
米国特許Ｎo.５６０５９８２の方法に対応するが、シナ
リオ（II）は一般に本発明の方法に対応する。
類及びシロキサン類は二重結合に付加することができ
る。一般には、これらの反応は、白金又は白金の錯体で
ある触媒の存在下に行われる。シナリオ（Ｉ）は一般に
米国特許Ｎo.５６０５９８２の方法に対応するが、シナ
リオ（II）は一般に本発明の方法に対応する。
【００１１】本発明の１つの目的は、無害な副生物を生
じ、手に入れやすい出発物質を用いることにより、シリ
ケート構造から誘導されるセグメントを有するシロキサ
ンポリマーに至る新しく、簡単で、融通のきくルートを
提供することである。他の目的は、アモルファスシリコ
ーン材料、例えば樹脂、流体及びガムへの添加材として
有用なハッキリとした形状を持ったオルガノシロキサン
を調製することである。それらは、ゲル、化粧品、グリ
ース、エラストマー、シーラント及び高温ポリマーに利
点を提供する超分子構造体を作りだすのに使用できる。
更に、それらは触媒系及び膜分離プロセスに使用するこ
とができる。それらはまた、レオロジー調節用添加剤、
耐火性ポリマー、分子補強剤として、またバリヤー性又
はチキソトロピー性を与えるために使用することができ
る。
じ、手に入れやすい出発物質を用いることにより、シリ
ケート構造から誘導されるセグメントを有するシロキサ
ンポリマーに至る新しく、簡単で、融通のきくルートを
提供することである。他の目的は、アモルファスシリコ
ーン材料、例えば樹脂、流体及びガムへの添加材として
有用なハッキリとした形状を持ったオルガノシロキサン
を調製することである。それらは、ゲル、化粧品、グリ
ース、エラストマー、シーラント及び高温ポリマーに利
点を提供する超分子構造体を作りだすのに使用できる。
更に、それらは触媒系及び膜分離プロセスに使用するこ
とができる。それらはまた、レオロジー調節用添加剤、
耐火性ポリマー、分子補強剤として、またバリヤー性又
はチキソトロピー性を与えるために使用することができ
る。
【００１２】本発明は、ある種の有機官能性シート状又
は環状シロキサンポリマーの合成、特徴付け（ｃｈａｃ
ｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ）、及び利用に関する。これらの
ポリマーは、ここに教える２段階法により、天然産の又
は合成のシート状又は環状シリケートから誘導される。
は環状シロキサンポリマーの合成、特徴付け（ｃｈａｃ
ｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ）、及び利用に関する。これらの
ポリマーは、ここに教える２段階法により、天然産の又
は合成のシート状又は環状シリケートから誘導される。
【００１３】最初のステップは、有機−Ｈ−クロロシラ
ンとシート状又は環状シリケートを反応させ、ペンダン
ト≡Ｓｉ−Ｈ基を有するシート状又は環状オルガノシロ
キサンポリマーを形成することからなる。最も好ましい
のは、式（Ｈ）ＲＲ’ＳｉＣｌ又は（Ｈ）ＲＳｉＣｌ2
（ここに、Ｒ及びＲ’はアルキル基又はアリール基であ
る）で示される有機−Ｈ−クロロシランである。このシ
ート状シリケート鉱物は魚眼石鉱物ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20
（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏであり、環状シリケートは合成
シリケートＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10である。他の天然又は合
成の層状又は環状シリケートもここでは使用でき、例え
ば、マガディアイト（ｍａｇａｄｉｉｔｅ）、Ｎａ2 Ｓ
ｉ14Ｏ29・ｘＨ2 Ｏ；ケニヤアイト（ｋｅｎｙａｉｔ
ｅ）、Ｎａ 2 Ｓｉ22Ｏ45・ｘＨ2 Ｏ；シリナアイト（ｓ
ｉｌｉｎａｉｔｅ）、ＮａＬｉＳｉ 2 Ｏ5 ・２Ｈ2 Ｏ；
又はクリソタイルＭｇ3 （ＯＨ）4 Ｓｉ2 Ｏ5 が挙げら
れる。
ンとシート状又は環状シリケートを反応させ、ペンダン
ト≡Ｓｉ−Ｈ基を有するシート状又は環状オルガノシロ
キサンポリマーを形成することからなる。最も好ましい
のは、式（Ｈ）ＲＲ’ＳｉＣｌ又は（Ｈ）ＲＳｉＣｌ2
（ここに、Ｒ及びＲ’はアルキル基又はアリール基であ
る）で示される有機−Ｈ−クロロシランである。このシ
ート状シリケート鉱物は魚眼石鉱物ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20
（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏであり、環状シリケートは合成
シリケートＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10である。他の天然又は合
成の層状又は環状シリケートもここでは使用でき、例え
ば、マガディアイト（ｍａｇａｄｉｉｔｅ）、Ｎａ2 Ｓ
ｉ14Ｏ29・ｘＨ2 Ｏ；ケニヤアイト（ｋｅｎｙａｉｔ
ｅ）、Ｎａ 2 Ｓｉ22Ｏ45・ｘＨ2 Ｏ；シリナアイト（ｓ
ｉｌｉｎａｉｔｅ）、ＮａＬｉＳｉ 2 Ｏ5 ・２Ｈ2 Ｏ；
又はクリソタイルＭｇ3 （ＯＨ）4 Ｓｉ2 Ｏ5 が挙げら
れる。
【００１４】前記シート状シリケート魚眼石、ＫＣａ4
Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ及び他のそのような
シリケートは、商業的に入手可能であり、Ｗａｒｄ’ｓ
Ｎａｔｕｒａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｅｓｔａｂｌｉｓ
ｈｍｅｎｔ，Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
のような供給会社から得ることができる。環状シリケー
トＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10を調製する方法は、種々の刊行物
に記載されており、例えば米国特許Ｎo.４９４２０２
６；Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐｒ．（Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，Ｄｉｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．）１９９
１，３２（３），５０８−５０９；及びＣｏｌｌｏｉｄ
ｓ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅｓ，１９９２，６３，１３
９−１４９に記載されている。
Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ及び他のそのような
シリケートは、商業的に入手可能であり、Ｗａｒｄ’ｓ
Ｎａｔｕｒａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｅｓｔａｂｌｉｓ
ｈｍｅｎｔ，Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ
のような供給会社から得ることができる。環状シリケー
トＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10を調製する方法は、種々の刊行物
に記載されており、例えば米国特許Ｎo.４９４２０２
６；Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｐｒｅｐｒ．（Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，Ｄｉｖ．Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．）１９９
１，３２（３），５０８−５０９；及びＣｏｌｌｏｉｄ
ｓ ａｎｄ Ｓｕｒｆａｃｅｓ，１９９２，６３，１３
９−１４９に記載されている。
【００１５】本発明の第２ステップは、このポリマーの
≡ＳｉＨ基とオレフィンを、ヒドロシリル化反応を介し
て他のシート状又は環状オルガノシロキサンポリマーに
製造する制御された反応を含む。中間体及び最終層ポリ
マーは、それらの出発鉱物の層間空隙よりも大きな層間
空隙を有する。この空隙の大きさは有機−Ｈ−クロロシ
ラン及びオレフィン反応体のサイズに部分的に依存す
る。例えば、粉末Ｘ線回折法（ＸＲＤ）によれば、魚眼
石は層間空隙が０．７９nm（７．９Å）であり；中間の
ヒドリドフェニルメチルシロキシ−アポフィライトシー
ト状ポリマーは層間空隙が１．６７nm（１６．７Å）で
あり；そして前記中間体と１−オクテンの反応から誘導
される最終のｎ−オクチルフェニルメチルシロキシ−ア
ポフィライトポリマーは層間空隙が２．０８nm（２０．
８Å）である。
≡ＳｉＨ基とオレフィンを、ヒドロシリル化反応を介し
て他のシート状又は環状オルガノシロキサンポリマーに
製造する制御された反応を含む。中間体及び最終層ポリ
マーは、それらの出発鉱物の層間空隙よりも大きな層間
空隙を有する。この空隙の大きさは有機−Ｈ−クロロシ
ラン及びオレフィン反応体のサイズに部分的に依存す
る。例えば、粉末Ｘ線回折法（ＸＲＤ）によれば、魚眼
石は層間空隙が０．７９nm（７．９Å）であり；中間の
ヒドリドフェニルメチルシロキシ−アポフィライトシー
ト状ポリマーは層間空隙が１．６７nm（１６．７Å）で
あり；そして前記中間体と１−オクテンの反応から誘導
される最終のｎ−オクチルフェニルメチルシロキシ−ア
ポフィライトポリマーは層間空隙が２．０８nm（２０．
８Å）である。
【００１６】ここに記載するヒドロシリル化反応は、中
間体の層状ヒドリド−有機官能性シロキサンの表面上
で、及び中間体の環状シロキサンの表面上で起こる不均
一系プロセスである。それらは超分子構造体の製造への
新しいアプローチを表す。この反応のために入手可能な
多数のオレフィン出発物質は、多数の新しいシート状又
は環状ポリマーの仕立て上げを可能にする。
間体の層状ヒドリド−有機官能性シロキサンの表面上
で、及び中間体の環状シロキサンの表面上で起こる不均
一系プロセスである。それらは超分子構造体の製造への
新しいアプローチを表す。この反応のために入手可能な
多数のオレフィン出発物質は、多数の新しいシート状又
は環状ポリマーの仕立て上げを可能にする。
【００１７】理想的には、等グラム当量のペンダント≡
Ｓｉ−Ｈ基を有するオルガノシロキサンとアルケニル基
含有化合物が、本発明では使用され、１つのエチレン性
結合は１つのケイ素に結合した水素原子に理論的等量で
ある。しかしながら、前記オルガノシロキサンポリマー
のペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を全体的に消費するために
は、アルケニル基を有する前者の反応体の過剰を使用す
る必要があるようである。
Ｓｉ−Ｈ基を有するオルガノシロキサンとアルケニル基
含有化合物が、本発明では使用され、１つのエチレン性
結合は１つのケイ素に結合した水素原子に理論的等量で
ある。しかしながら、前記オルガノシロキサンポリマー
のペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を全体的に消費するために
は、アルケニル基を有する前者の反応体の過剰を使用す
る必要があるようである。
【００１８】用いられる白金触媒の最大量は、経済的考
慮によって決定され、最小量は用いられる反応体の種類
と純度とによって調節される。反応体が非常に純粋であ
るときは、アルケニル基含有化合物のグラム当量あたり
１×１０-10 モルのような、非常に低濃度の白金触媒が
使用される。しかしながら、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を
有する反応体のグラム当量あたり１×１０-8モルの触媒
を用いること、或いはペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有する
反応体のグラム当量あたり１×１０-7〜５×１０-2モル
の触媒を用いることも可能である。
慮によって決定され、最小量は用いられる反応体の種類
と純度とによって調節される。反応体が非常に純粋であ
るときは、アルケニル基含有化合物のグラム当量あたり
１×１０-10 モルのような、非常に低濃度の白金触媒が
使用される。しかしながら、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を
有する反応体のグラム当量あたり１×１０-8モルの触媒
を用いること、或いはペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有する
反応体のグラム当量あたり１×１０-7〜５×１０-2モル
の触媒を用いることも可能である。
【００１９】白金触媒の「モル」は、白金の１単位原子
（即ち、１グラム原子）を提供する１モルを以て測定さ
れる。オレフィンの「グラム当量」は、どんな他の反応
性又は潜在的反応性置換基が存在しようがしまいが、１
単位重量のエチレン性不飽和（即ち、１単位重量の≡Ｓ
ｉ−Ｈに等しい）を与える反応体の量である。従って、
エチレンのグラム当量ははその正確な分子量である。
（即ち、１グラム原子）を提供する１モルを以て測定さ
れる。オレフィンの「グラム当量」は、どんな他の反応
性又は潜在的反応性置換基が存在しようがしまいが、１
単位重量のエチレン性不飽和（即ち、１単位重量の≡Ｓ
ｉ−Ｈに等しい）を与える反応体の量である。従って、
エチレンのグラム当量ははその正確な分子量である。
【００２０】好ましいヒドロシリル化触媒は、白金錯体
塩化白金酸Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・ｘＨ2Ｏであり、これはＡ
ｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉ
ｎｃ．，Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎから
商業的に入手可能である。しかしながら、他の白金ベー
スの触媒、例えば直径１〜２mmの活性炭上に担持された
白金のようなものも使用できる。活性炭上に担持された
白金の量は、活性炭の全重量を基準として０．１〜５ｗ
ｔ％で変化しうる。この担持触媒は、それが無水となる
ように乾燥されていてもよい。他の白金錯体、例えば白
金アセチルアセトナート、又はジビニルテトラメチルジ
シロキサンで錯体形成され、末端がジメチルビニルシロ
キシ基でブロックされたポリジメチルシロキサンで希釈
された塩化白金酸も使用することができる。ここで有用
で好結果を与える典型的なヒドロシリル化触媒は、米国
特許Ｎo.２８２３２１８、３４１９３５９、３４１９５
９３、３４４５４２０、３６９７４７３、３８１４７３
１、３８９０３５９及び４１２３６０４に見いだすこと
ができる。
塩化白金酸Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・ｘＨ2Ｏであり、これはＡ
ｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉ
ｎｃ．，Ｍｉｌｗａｕｋｅｅ，Ｗｉｓｃｏｎｓｉｎから
商業的に入手可能である。しかしながら、他の白金ベー
スの触媒、例えば直径１〜２mmの活性炭上に担持された
白金のようなものも使用できる。活性炭上に担持された
白金の量は、活性炭の全重量を基準として０．１〜５ｗ
ｔ％で変化しうる。この担持触媒は、それが無水となる
ように乾燥されていてもよい。他の白金錯体、例えば白
金アセチルアセトナート、又はジビニルテトラメチルジ
シロキサンで錯体形成され、末端がジメチルビニルシロ
キシ基でブロックされたポリジメチルシロキサンで希釈
された塩化白金酸も使用することができる。ここで有用
で好結果を与える典型的なヒドロシリル化触媒は、米国
特許Ｎo.２８２３２１８、３４１９３５９、３４１９５
９３、３４４５４２０、３６９７４７３、３８１４７３
１、３８９０３５９及び４１２３６０４に見いだすこと
ができる。
【００２１】反応温度は変化することができ、最適温度
は白金触媒の濃度、又は反応体の性質に依存する。この
反応は室温未満（０〜−１０℃）で開始することができ
る。最高温度は通常、反応体の安定性で決定される。通
常、反応温度は３００℃未満に保つのがベストである。
殆どの反応体について、最良の結果は６０〜１８０℃で
得られる。しかしながら、この反応によって発生される
熱は、温度を２００〜２５０℃に、短時間上昇させても
よい。
は白金触媒の濃度、又は反応体の性質に依存する。この
反応は室温未満（０〜−１０℃）で開始することができ
る。最高温度は通常、反応体の安定性で決定される。通
常、反応温度は３００℃未満に保つのがベストである。
殆どの反応体について、最良の結果は６０〜１８０℃で
得られる。しかしながら、この反応によって発生される
熱は、温度を２００〜２５０℃に、短時間上昇させても
よい。
【００２２】最適反応時間は、反応体、反応温度、及び
白金触媒濃度に依存して変化する。通常、反応体の接触
時間を３６時間を超えて延ばす利益はないが、同様に、
通常、極度に高い温度が使用されなければ、害がない。
多数の反応体にとって、実際的な製品収率は３〜４時間
以内に得られる。
白金触媒濃度に依存して変化する。通常、反応体の接触
時間を３６時間を超えて延ばす利益はないが、同様に、
通常、極度に高い温度が使用されなければ、害がない。
多数の反応体にとって、実際的な製品収率は３〜４時間
以内に得られる。
【００２３】この反応は、大気圧で、大気圧より低い圧
力で、又は大気圧より高い圧力で実施できる。ここで再
び、条件の選択は、反応体の性質、及び入手できる装置
に基づいた大いに論理的事項である。不揮発性反応体
は、還流装置があろうがなかろうが、大気圧で加熱され
ることに特に適合している。通常の温度でガス状の反応
体は、自己発生的な又は引き起こされた圧力の下で、好
ましくは実質的に一定の体積で反応させられる。
力で、又は大気圧より高い圧力で実施できる。ここで再
び、条件の選択は、反応体の性質、及び入手できる装置
に基づいた大いに論理的事項である。不揮発性反応体
は、還流装置があろうがなかろうが、大気圧で加熱され
ることに特に適合している。通常の温度でガス状の反応
体は、自己発生的な又は引き起こされた圧力の下で、好
ましくは実質的に一定の体積で反応させられる。
【００２４】前記アルケニル基含有化合物は、オレフィ
ン（アルケン）又はジオレフィン（アルカジエン）であ
る。それは直鎖、枝分れ鎖又は閉じたリング（環状）の
形を持ちうる。しかしながら、最も好ましいのは、α−
オレフィン及びα，ω−ジエンである。それらの反応の
容易さの故である。
ン（アルケン）又はジオレフィン（アルカジエン）であ
る。それは直鎖、枝分れ鎖又は閉じたリング（環状）の
形を持ちうる。しかしながら、最も好ましいのは、α−
オレフィン及びα，ω−ジエンである。それらの反応の
容易さの故である。
【００２５】本発明方法で使用できるα−オレフィン
（ＣＨ2 ＝ＣＨＲ）は、２〜３０強の炭素原子、好まし
くは６〜３０個の炭素原子、最も好ましくは６〜１８個
の炭素原子を有するアルケンを含む。適当なα−オレフ
ィンは、エテン、プロペン、１−ブテン、イソブチレン
（２−メチルプロペン）、１−ペンテン（Ｃ５）、２−
メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘ
キセン、２−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−
ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘプテン、
２−メチル−１−ヘキセン、１−オクテン、２−メチル
−１−ヘプテン、１−ノネン、１−デセン（Ｃ１０）、
１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−
テトラデセン、１−ペンタデセン（Ｃ１５）、１−ヘキ
サデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン、１−エ
イコセン（Ｃ２０）、並びにＣｈｅｖｒｏｎ Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａ
ｓによって、商標ＧＵＲＦＴＥＮＥ（Ｒ）２４−２８及
びＧＵＲＦＴＥＮＥ（Ｒ）３０強の下に販売されている
種々のパーセンテージのＣ２２〜Ｃ３０強のα−オレフ
ィンを含むα−オレフィン留分である。
（ＣＨ2 ＝ＣＨＲ）は、２〜３０強の炭素原子、好まし
くは６〜３０個の炭素原子、最も好ましくは６〜１８個
の炭素原子を有するアルケンを含む。適当なα−オレフ
ィンは、エテン、プロペン、１−ブテン、イソブチレン
（２−メチルプロペン）、１−ペンテン（Ｃ５）、２−
メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ブテン、１−ヘ
キセン、２−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−
ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘプテン、
２−メチル−１−ヘキセン、１−オクテン、２−メチル
−１−ヘプテン、１−ノネン、１−デセン（Ｃ１０）、
１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−
テトラデセン、１−ペンタデセン（Ｃ１５）、１−ヘキ
サデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン、１−エ
イコセン（Ｃ２０）、並びにＣｈｅｖｒｏｎ Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｈｏｕｓｔｏｎ，Ｔｅｘａ
ｓによって、商標ＧＵＲＦＴＥＮＥ（Ｒ）２４−２８及
びＧＵＲＦＴＥＮＥ（Ｒ）３０強の下に販売されている
種々のパーセンテージのＣ２２〜Ｃ３０強のα−オレフ
ィンを含むα−オレフィン留分である。
【００２６】有用なα，ω−ジエンとしては、式ＣＨ2
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）x ＣＨ＝ＣＨ2 （ここに、ｘは０〜２
０である）で示されるもの、例えば１，３−ブタジエ
ン；１，４−ペンタジエン；１，５−ヘキサジエン；
１，６−ヘプタジエン；１，７−オクタジエン；１，８
−ノナジエン；１，９−デカジエン；１，１１−ドデカ
ジエン；１，１３−テトラデカジエン；及び１，１９−
エイコサジエンがある。
＝ＣＨ（ＣＨ2 ）x ＣＨ＝ＣＨ2 （ここに、ｘは０〜２
０である）で示されるもの、例えば１，３−ブタジエ
ン；１，４−ペンタジエン；１，５−ヘキサジエン；
１，６−ヘプタジエン；１，７−オクタジエン；１，８
−ノナジエン；１，９−デカジエン；１，１１−ドデカ
ジエン；１，１３−テトラデカジエン；及び１，１９−
エイコサジエンがある。
【００２７】ここで有用で好結果を与えるシクロオレフ
ィンとしては、シクロプロペン、シクロブテン、シクロ
ペンテン、シクロヘキセン、シクロペンタジエン（Ｃ5
Ｈ6）及びシクロオクタテトラエン（Ｃ8 Ｈ8 ）があ
る。
ィンとしては、シクロプロペン、シクロブテン、シクロ
ペンテン、シクロヘキセン、シクロペンタジエン（Ｃ5
Ｈ6）及びシクロオクタテトラエン（Ｃ8 Ｈ8 ）があ
る。
【００２８】ここで有用な他のアルケニル基含有化合物
としては、２−メチル−２−ブテン、イソプレン、ｕｎ
ｓｙｍ−メチルエチルエチレン、２−ペンテン、２−ヘ
キセン、２，５−ジメチル−２−ヘキセン及び５，５−
ジメチル−２−ヘキセンがある。前記アルケニル基は芳
香核に結合していてもよく、それ故、望むならば、スチ
レン、ジビニルベンゼン、アリルベンゼン及び１−フェ
ニルブタジエンのような化合物を用いることができる。
としては、２−メチル−２−ブテン、イソプレン、ｕｎ
ｓｙｍ−メチルエチルエチレン、２−ペンテン、２−ヘ
キセン、２，５−ジメチル−２−ヘキセン及び５，５−
ジメチル−２−ヘキセンがある。前記アルケニル基は芳
香核に結合していてもよく、それ故、望むならば、スチ
レン、ジビニルベンゼン、アリルベンゼン及び１−フェ
ニルブタジエンのような化合物を用いることができる。
【００２９】本発明に於ける有機−Ｈ−クロロシランは
次式で示される。
次式で示される。
【００３０】
【化３】
【００３１】（ここに、Ｒ1 及びＲ2 はアルキル基又は
アリール基、例えばフェニルである）。適当な有機−Ｈ
−クロロシランとしては次のようなものがある：
アリール基、例えばフェニルである）。適当な有機−Ｈ
−クロロシランとしては次のようなものがある：
【００３２】 ジ−ｔ−ブチルクロロシラン （ＣＨ3 ）3 ＣＨＳｉＣｌ ジエチルクロロシラン （Ｃ2 Ｈ5 ）2 ＨＳｉＣｌ ジイソプロピルクロロシラン 〔（ＣＨ3 ）2 ＣＨ〕2 ＨＳｉＣｌ ジメチルクロロシラン （ＣＨ3 ）2 ＨＳｉＣｌ ジフェニルクロロシラン （Ｃ6 Ｈ5 ）2 ＨＳｉＣｌ メチルエチルクロロシラン （ＣＨ3 ）（Ｃ2 Ｈ5 ）ＨＳｉＣｌ、及び フェニルメチルクロロシラン （Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）ＨＳｉＣｌ。
【００３３】本発明における有機−Ｈ−クロロシランは
次の式で示されるものであってもよい。
次の式で示されるものであってもよい。
【００３４】
【化４】
【００３５】（ここに、Ｒ1 はアルキル基又はアリール
基、例えばフェニルである）。このタイプの適当な有機
−Ｈ−クロロシランの例としては次のようなものがあ
る：
基、例えばフェニルである）。このタイプの適当な有機
−Ｈ−クロロシランの例としては次のようなものがあ
る：
【００３６】 アミルジクロロシラン （Ｃ5 Ｈ11）ＨＳｉＣｌ2 エチルジクロロシラン ＣＨ3 ＣＨ2 ＨＳｉＣｌ2 ヘキサデシルジクロロシラン ｎ−Ｃ16Ｈ33ＨＳｉＣｌ2 ヘキシルジクロロシラン ＣＨ3 （ＣＨ2 ）5 ＨＳｉＣｌ2 イソブチルジクロロシラン ｉ−Ｃ4 Ｈ9 ＨＳｉＣｌ2 メチルジクロロシラン ＣＨ3 ＨＳｉＣｌ2 フェニルジクロロシラン Ｃ6 Ｈ5 ＨＳｉＣｌ2 及び ｎ−プロピルジクロロシラン ｎ−Ｃ3 Ｈ7 ＨＳｉＣｌ2 。
【００３７】
【実施例】以下の例は本発明をより詳細に説明する。特
に、例１は、アポフィライトから誘導されたヒドロジメ
チルシロキシシートポリマーの合成を示す。例２は、ア
ポフィライトから誘導されたヒドロジイソプロピルシロ
キシシートポリマーの合成を示す。これらのポリマー
は、後の例に示すアルケンのヒドロシリル化に有用であ
る。
に、例１は、アポフィライトから誘導されたヒドロジメ
チルシロキシシートポリマーの合成を示す。例２は、ア
ポフィライトから誘導されたヒドロジイソプロピルシロ
キシシートポリマーの合成を示す。これらのポリマー
は、後の例に示すアルケンのヒドロシリル化に有用であ
る。
【００３８】以下の例において、ポリマーは、フーリエ
変換赤外分光分析（ＦＴＩＲ）及び粉末Ｘ線回折法（Ｘ
ＲＤ）によって特徴付けられた。
変換赤外分光分析（ＦＴＩＲ）及び粉末Ｘ線回折法（Ｘ
ＲＤ）によって特徴付けられた。
【００３９】（例１） （アポフィライトから誘導されたヒドリドジメチルシロ
キシシートポリマー〔（Ｈ（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）
x （（ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）アポフィライ
ト〔Ｐｏｏｎａ，Ｉｎｄｉａ，０．１２５mm（１２０メ
ッシュ），５００mg，０．５４２ｍモル〕、ジメチルク
ロロシラン（５．０mL，０．０４６モル）、及びジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ，１２mL）の懸濁液を１２時間
還流させた。追加のジメチルクロロシランを加え（３．
０mL，０．０２８モル）、この混合物を更に１２時間還
流した。最後に、更にジメチルクロロシラン（３．０m
L，０．０２８モル）を加え、この混合物を更に１２時
間還流した。得られた生成物をろ過し、次いでアセト
ン、水及びアセトン（１：１）溶液、並びにアセトンで
洗浄し、その後６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時
間乾燥した。この生成物は以下のＸＲＤパターンを持っ
ていた（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１３．１（５７．
６），７．６８（３７．２），４．７１（１７．６），
４．５４（４７．６），３．９５（１００），３．５７
（２５．５），３．３５（１７．１），３．１６（２
１．１），２．９８（９７．８），２．６２（２２．
２），２．４８（３８．２），２．４３（１５．９），
２．１９（１３．２），２．１０（１４．５），２．０
０（８．４），１．７６（１５．１），１．５８（３
３．３），１．５３（５．９），１．４９（９．６），
１．４２（７．７），１．３６（６．８）。次のものは
赤外スペクトル（ＩＲ）の結果である（Ｆｌｕｏｒｏｌ
ｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕｌｌｓ，cm-1）：３５５４
（ｓ，フリーＯＨストレッチ），３３２４（ｗ ｂｒ，
Ｈ−結合ＯＨストレッチ），２９６６（ｍ，ＣＨストレ
ッチ），２１４６（ｍ，ＳｉＨストレッチ），１０６４
（ｓ，ＳｉＯストレッチ）。この生成物は白い固体であ
った。それはヘキサン及びトルエンに分散したが、溶解
しなかった。それは非常に疎水性で、水中に混合も分散
もしなかった。
キシシートポリマー〔（Ｈ（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）
x （（ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）アポフィライ
ト〔Ｐｏｏｎａ，Ｉｎｄｉａ，０．１２５mm（１２０メ
ッシュ），５００mg，０．５４２ｍモル〕、ジメチルク
ロロシラン（５．０mL，０．０４６モル）、及びジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ，１２mL）の懸濁液を１２時間
還流させた。追加のジメチルクロロシランを加え（３．
０mL，０．０２８モル）、この混合物を更に１２時間還
流した。最後に、更にジメチルクロロシラン（３．０m
L，０．０２８モル）を加え、この混合物を更に１２時
間還流した。得られた生成物をろ過し、次いでアセト
ン、水及びアセトン（１：１）溶液、並びにアセトンで
洗浄し、その後６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時
間乾燥した。この生成物は以下のＸＲＤパターンを持っ
ていた（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１３．１（５７．
６），７．６８（３７．２），４．７１（１７．６），
４．５４（４７．６），３．９５（１００），３．５７
（２５．５），３．３５（１７．１），３．１６（２
１．１），２．９８（９７．８），２．６２（２２．
２），２．４８（３８．２），２．４３（１５．９），
２．１９（１３．２），２．１０（１４．５），２．０
０（８．４），１．７６（１５．１），１．５８（３
３．３），１．５３（５．９），１．４９（９．６），
１．４２（７．７），１．３６（６．８）。次のものは
赤外スペクトル（ＩＲ）の結果である（Ｆｌｕｏｒｏｌ
ｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕｌｌｓ，cm-1）：３５５４
（ｓ，フリーＯＨストレッチ），３３２４（ｗ ｂｒ，
Ｈ−結合ＯＨストレッチ），２９６６（ｍ，ＣＨストレ
ッチ），２１４６（ｍ，ＳｉＨストレッチ），１０６４
（ｓ，ＳｉＯストレッチ）。この生成物は白い固体であ
った。それはヘキサン及びトルエンに分散したが、溶解
しなかった。それは非常に疎水性で、水中に混合も分散
もしなかった。
【００４０】この過程において、反応温度は使用したク
ロロシランの低沸点、即ち、３６℃によって低い値（５
０℃）に保持された。これを補償するために、長い反応
時間を用いた。この過程の生成物はＣＨ及びＳｉＨバン
ドの両方を示す赤外スペクトルを与えた。これらのバン
ドの存在は、生成物が望みのポリマーを含むことを示唆
した。この生成物は、１．３１nm（１３．１Å）での比
較的強い線、及びアポフィライトについて予想される線
の付近の位置に一連の線を示すＸＲＤパターンを与え
た。前記１．３１nm（１３．１Å）の線は、この一般的
なタイプのアポフィライトから誘導されたポリマーにつ
いて予想される範囲に存在する。即ち、アポフィライト
から誘導されたトリメチルシロキシシート状ポリマーは
１．５nm（１５．０Å）に線を与える。この線の存在
は、この生成物が望みのポリマーを含んでいたことを示
唆する。このポリマーの不溶性は、類似のアルキル及び
アルケニルシートポリマーも不溶性であるので、予想さ
れたことである。この例で進行した反応は、次のように
示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ ＋ Ｈ
（ＣＨ3 ）2 ＳｉＣｌ→ 〔（Ｈ（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）
x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n
ロロシランの低沸点、即ち、３６℃によって低い値（５
０℃）に保持された。これを補償するために、長い反応
時間を用いた。この過程の生成物はＣＨ及びＳｉＨバン
ドの両方を示す赤外スペクトルを与えた。これらのバン
ドの存在は、生成物が望みのポリマーを含むことを示唆
した。この生成物は、１．３１nm（１３．１Å）での比
較的強い線、及びアポフィライトについて予想される線
の付近の位置に一連の線を示すＸＲＤパターンを与え
た。前記１．３１nm（１３．１Å）の線は、この一般的
なタイプのアポフィライトから誘導されたポリマーにつ
いて予想される範囲に存在する。即ち、アポフィライト
から誘導されたトリメチルシロキシシート状ポリマーは
１．５nm（１５．０Å）に線を与える。この線の存在
は、この生成物が望みのポリマーを含んでいたことを示
唆する。このポリマーの不溶性は、類似のアルキル及び
アルケニルシートポリマーも不溶性であるので、予想さ
れたことである。この例で進行した反応は、次のように
示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ ＋ Ｈ
（ＣＨ3 ）2 ＳｉＣｌ→ 〔（Ｈ（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）
x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n
【００４１】（例２） （アポフィライトから誘導されたヒドリドジイソプロピ
ルシロキシシートポリマー〔（Ｈ（（ＣＨ3 ）2 ＣＨ）
2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）アポ
フィライト〔０．１２５mm（１２０メッシュ），８００
mg，０．８６７ｍモル〕、ジイソプロピルクロロシラン
（１０mL，０．０５８モル）、及びジメチルホルムアミ
ド（１５mL）の懸濁液を攪拌しながら１０時間加熱（１
１０℃）した。得られた生成物をろ過し、次いでアセト
ン、水及びアセトンの溶液、並びにアセトンで洗浄し、
その後６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時間乾燥し
た。ＸＲＤ（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１７．１（１０
０）。ＩＲ（Ｆｌｕｏｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕ
ｌｌｓ，cm-1）：３５５４（ｖｗ，フリーＯＨストレッ
チ），３４２２（ｗ ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッ
チ），２９４６（ｍ，ＣＨストレッチ），２８６８
（ｍ，ＣＨストレッチ），２１２６（ｍ，ＳｉＨストレ
ッチ），１０６２（ｓ，ＳｉＯストレッチ）。この生成
物は白い固体であった。それはヘキサン及びトルエンに
分散したが、溶解しなかった。それは疎水性で、水中に
混合も分散もしなかった。
ルシロキシシートポリマー〔（Ｈ（（ＣＨ3 ）2 ＣＨ）
2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）アポ
フィライト〔０．１２５mm（１２０メッシュ），８００
mg，０．８６７ｍモル〕、ジイソプロピルクロロシラン
（１０mL，０．０５８モル）、及びジメチルホルムアミ
ド（１５mL）の懸濁液を攪拌しながら１０時間加熱（１
１０℃）した。得られた生成物をろ過し、次いでアセト
ン、水及びアセトンの溶液、並びにアセトンで洗浄し、
その後６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時間乾燥し
た。ＸＲＤ（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１７．１（１０
０）。ＩＲ（Ｆｌｕｏｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕ
ｌｌｓ，cm-1）：３５５４（ｖｗ，フリーＯＨストレッ
チ），３４２２（ｗ ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッ
チ），２９４６（ｍ，ＣＨストレッチ），２８６８
（ｍ，ＣＨストレッチ），２１２６（ｍ，ＳｉＨストレ
ッチ），１０６２（ｓ，ＳｉＯストレッチ）。この生成
物は白い固体であった。それはヘキサン及びトルエンに
分散したが、溶解しなかった。それは疎水性で、水中に
混合も分散もしなかった。
【００４２】この過程は、例１におけるそのジメチル類
似体に使用したのと類似している。しかしながら、この
例においては、反応温度（１１０℃）は、使用されたク
ロロシランの沸点、即ち１３７℃、によって不当に制限
されたものではなかった。この例の生成物はＣＨ及びＳ
ｉＨ帯の両方を示す赤外スペクトルを与えた。これらの
帯の存在はこの生成物が望みのポリマーであったことを
示唆している。この生成物は、その唯一の重要な線、
１．７１nm（１７．１Å）での線を示すＸ線粉末パター
ンを与えた。この線は望みのポリマーについて予想され
る範囲にあり、その存在は、この生成物が望みのポリマ
ーであることを示している。この線の強さと狭さは、こ
のポリマーが規則的な間隔で積み重なった平坦なシート
からなっていたことを示す強い証拠を与える。アポフィ
ライトにおけるシートの公知の構造に基づくと、これら
のシートは、縮合８員環又は１６員環からなっていると
考えられる。このポリマーのＸＲＤにおける追加の重要
な線の欠如は、このシートは記録されていなかった（ｗ
ｅｒｅ ｎｏｔ ｉｎ ｒｅｔｉｓｔｒｙ）ことを示し
ている。再び、このポリマーの不溶性は予想されたもの
であった。この例の反応は、次のように示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ＋ Ｈ
〔（ＣＨ3 ）2 ＣＨ〕2 ＳｉＣｌ→ 〔（Ｈ（（Ｃ
Ｈ3 ）2 ＣＨ）2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕
n
似体に使用したのと類似している。しかしながら、この
例においては、反応温度（１１０℃）は、使用されたク
ロロシランの沸点、即ち１３７℃、によって不当に制限
されたものではなかった。この例の生成物はＣＨ及びＳ
ｉＨ帯の両方を示す赤外スペクトルを与えた。これらの
帯の存在はこの生成物が望みのポリマーであったことを
示唆している。この生成物は、その唯一の重要な線、
１．７１nm（１７．１Å）での線を示すＸ線粉末パター
ンを与えた。この線は望みのポリマーについて予想され
る範囲にあり、その存在は、この生成物が望みのポリマ
ーであることを示している。この線の強さと狭さは、こ
のポリマーが規則的な間隔で積み重なった平坦なシート
からなっていたことを示す強い証拠を与える。アポフィ
ライトにおけるシートの公知の構造に基づくと、これら
のシートは、縮合８員環又は１６員環からなっていると
考えられる。このポリマーのＸＲＤにおける追加の重要
な線の欠如は、このシートは記録されていなかった（ｗ
ｅｒｅ ｎｏｔ ｉｎ ｒｅｔｉｓｔｒｙ）ことを示し
ている。再び、このポリマーの不溶性は予想されたもの
であった。この例の反応は、次のように示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ＋ Ｈ
〔（ＣＨ3 ）2 ＣＨ〕2 ＳｉＣｌ→ 〔（Ｈ（（Ｃ
Ｈ3 ）2 ＣＨ）2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕
n
【００４３】上に記したように、例１及び２に従って調
製されたポリマーは、アルケンをヒドロシリル化でき
る。アルケンには多数のものがあるから、特別の性質の
仕様に仕立て上げられた多数のシートポリマーが、その
ような物質から作ることができる。
製されたポリマーは、アルケンをヒドロシリル化でき
る。アルケンには多数のものがあるから、特別の性質の
仕様に仕立て上げられた多数のシートポリマーが、その
ような物質から作ることができる。
【００４４】以下の追加の例は、アポフィライトから誘
導されたヒドリドフェニルメチルシロキシシートポリマ
ーの合成（例３）、及びヒドロシリル化による、例３の
生成物から誘導されたｎ−オクチルフェニルメチルシロ
キシシートポリマーの合成（例６）に向けられている。
例１及び２で調製されたポリマーを用いる他のヒドロシ
リル化も、示される。即ち、例４及び５である。これら
のポリマーへのルートは、それらが新しい融通性のある
シロキシシート状又は環状ポリマーへのルートを示すの
で、重要である。
導されたヒドリドフェニルメチルシロキシシートポリマ
ーの合成（例３）、及びヒドロシリル化による、例３の
生成物から誘導されたｎ−オクチルフェニルメチルシロ
キシシートポリマーの合成（例６）に向けられている。
例１及び２で調製されたポリマーを用いる他のヒドロシ
リル化も、示される。即ち、例４及び５である。これら
のポリマーへのルートは、それらが新しい融通性のある
シロキシシート状又は環状ポリマーへのルートを示すの
で、重要である。
【００４５】（例３） （アポフィライトから誘導されたヒドリドフェニルメチ
ルシロキシシートポリマー〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ5 ）（Ｃ
Ｈ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）
アポフィライト〔０．１２５mm（１２０メッシュ），
２．４０ｇ，２．６０ｍモル〕、フェニルメチルクロロ
シラン（１５．０ｇ，９５．７ｍモル）、及びジメチル
ホルムアミド（１００mL）の懸濁液を攪拌しながら１９
時間加熱（１４０℃）し、ろ過した。この固体を、アセ
トン、水及びアセトン（１：１）の溶液、並びにアセト
ンで洗浄し、続いて６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１
２時間乾燥した。生成物の重量は２．６４ｇであった。
ＸＲＤ（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１６．７（１０
０）。ＩＲ（Ｆｌｕｏｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕ
ｌｌｓ，cm-1）：３５５２（ｗ，フリーＯＨストレッ
チ），３３８８（ｗ ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッ
チ），３０７２（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレッチ），３０５
０（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレッチ），２９６４（ｗ，ＣＨ
ストレッチ），２１５２（ｍ，ＳｉＨストレッチ），１
０６２（ｖｓ ｂｒ，ＳｉＯストレッチ）。この例で調
製したポリマーは白い固体であった。それはヘキサン及
びトルエンに分散したが、溶解しなかった。それは疎水
性で、水中に混合も分散もしなかった。
ルシロキシシートポリマー〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ5 ）（Ｃ
Ｈ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の合成）
アポフィライト〔０．１２５mm（１２０メッシュ），
２．４０ｇ，２．６０ｍモル〕、フェニルメチルクロロ
シラン（１５．０ｇ，９５．７ｍモル）、及びジメチル
ホルムアミド（１００mL）の懸濁液を攪拌しながら１９
時間加熱（１４０℃）し、ろ過した。この固体を、アセ
トン、水及びアセトン（１：１）の溶液、並びにアセト
ンで洗浄し、続いて６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１
２時間乾燥した。生成物の重量は２．６４ｇであった。
ＸＲＤ（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：１６．７（１０
０）。ＩＲ（Ｆｌｕｏｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕ
ｌｌｓ，cm-1）：３５５２（ｗ，フリーＯＨストレッ
チ），３３８８（ｗ ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッ
チ），３０７２（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレッチ），３０５
０（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレッチ），２９６４（ｗ，ＣＨ
ストレッチ），２１５２（ｍ，ＳｉＨストレッチ），１
０６２（ｖｓ ｂｒ，ＳｉＯストレッチ）。この例で調
製したポリマーは白い固体であった。それはヘキサン及
びトルエンに分散したが、溶解しなかった。それは疎水
性で、水中に混合も分散もしなかった。
【００４６】この合成のルートは、例１及び例２の類似
方法に使用したのと同じである。しかしながら、例１に
おけるジメチルポリマー反応とは対照的に、この例にお
ける反応温度（１４０℃）は、使用されたクロロシラン
の沸点、〔１１３℃、及び１３．３ｋＰａ（１００ト
ル）〕によってそれ程制限されず、望みの範囲にあっ
た。この例の生成物はＣＨ及びＳｉＨ帯の両方を示す赤
外スペクトルを与えた。これらの帯の存在はこの生成物
が望みのポリマーであることを示唆している。この生成
物は、その唯一の重要な線として、１．６７nm（１６．
７Å）での線を示すＸＲＤパターンを与えた。この線は
予想された範囲にあり、その存在は、この生成物が望み
のポリマーであることを示している。この線の強さと狭
さは、このポリマーが規則的な間隔で積み重なった平坦
なシートからなっていたことを示す強い証拠を与える。
このポリマーのＸＲＤにおける追加の重要な線の欠如
は、このシートは記録されていなかった（ｗｅｒｅ ｎ
ｏｔ ｉｎ ｒｅｔｉｓｔｒｙ）ことを示している。こ
のポリマーの不溶性は予想されたものであった。この例
の反応は、次のように示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ＋ （Ｈ）
（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＣｌ→〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ
5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n
方法に使用したのと同じである。しかしながら、例１に
おけるジメチルポリマー反応とは対照的に、この例にお
ける反応温度（１４０℃）は、使用されたクロロシラン
の沸点、〔１１３℃、及び１３．３ｋＰａ（１００ト
ル）〕によってそれ程制限されず、望みの範囲にあっ
た。この例の生成物はＣＨ及びＳｉＨ帯の両方を示す赤
外スペクトルを与えた。これらの帯の存在はこの生成物
が望みのポリマーであることを示唆している。この生成
物は、その唯一の重要な線として、１．６７nm（１６．
７Å）での線を示すＸＲＤパターンを与えた。この線は
予想された範囲にあり、その存在は、この生成物が望み
のポリマーであることを示している。この線の強さと狭
さは、このポリマーが規則的な間隔で積み重なった平坦
なシートからなっていたことを示す強い証拠を与える。
このポリマーのＸＲＤにおける追加の重要な線の欠如
は、このシートは記録されていなかった（ｗｅｒｅ ｎ
ｏｔ ｉｎ ｒｅｔｉｓｔｒｙ）ことを示している。こ
のポリマーの不溶性は予想されたものであった。この例
の反応は、次のように示される： ＫＣａ4 Ｓｉ8 Ｏ20（ＯＨ，Ｆ）・８Ｈ2 Ｏ＋ （Ｈ）
（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＣｌ→〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ
5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n
【００４７】（例４） （ヒドリドジイソプロピルシロキシシートポリマーから
誘導されるｎ−ヘキシルジイソプロピルシロキシシート
ポリマー〔（（ｎ−Ｃ6 Ｈ13）（（ＣＨ3 ）2 ＣＨ）2
ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）他の実
験において、例２にて調製されたヒドリドジイソプロピ
ルシロキシポリマーを、Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・ xＨ2 Ｏ触媒
の存在下に、１−ヘキセンと共に加熱した。この生成物
は１．８４nm（１８．４Å）の線を持ったＸＲＤパター
ンを与えた。このパターンに於ける主たる線は１．８４
nm（１８．４Å）にあるが、例２における親のヒドリド
ジイソプロピルシロキシポリマーのパターンに於ける主
たる線は、１．７１nm（１７．１Å）にある。０．１３
nm（１．３Å）の位置の相違は、例２の親のヒドリドジ
イソプロピルシロキシポリマーのヒドロシリル化が起こ
っていることを示すに十分大きなものである。
誘導されるｎ−ヘキシルジイソプロピルシロキシシート
ポリマー〔（（ｎ−Ｃ6 Ｈ13）（（ＣＨ3 ）2 ＣＨ）2
ＳｉＯ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）他の実
験において、例２にて調製されたヒドリドジイソプロピ
ルシロキシポリマーを、Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・ xＨ2 Ｏ触媒
の存在下に、１−ヘキセンと共に加熱した。この生成物
は１．８４nm（１８．４Å）の線を持ったＸＲＤパター
ンを与えた。このパターンに於ける主たる線は１．８４
nm（１８．４Å）にあるが、例２における親のヒドリド
ジイソプロピルシロキシポリマーのパターンに於ける主
たる線は、１．７１nm（１７．１Å）にある。０．１３
nm（１．３Å）の位置の相違は、例２の親のヒドリドジ
イソプロピルシロキシポリマーのヒドロシリル化が起こ
っていることを示すに十分大きなものである。
【００４８】（例５） （ヒドリドジメチルシロキシシートポリマーから誘導さ
れるｎ−ヘキシルジメチルシロキシシートポリマー
〔（（ｎ−Ｃ6 Ｈ13）（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）
1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）他の実験において、例１の
ヒドリドジメチルシロキシポリマーを、Ｈ2 ＰｔＣｌ6
・ xＨ2 Ｏ触媒の存在下に、１−ヘキセンと共に加熱し
た。この生成物は１．６３nm（１６．３Å）の線を持っ
たＸＲＤパターンを与えた。この生成物のパターンに於
ける主たる低角度線は１．６３nm（１６．３Å）にある
が、例１の親のヒドリドジメチルシロキシポリマーに於
ける対応する線は、１．３１nm（１３．１Å）にある。
０．３２nm（３．２Å）の位置の相違は、例１の親のヒ
ドリドジメチルシロキシポリマーの実質的なヒドロシリ
ル化が起こっていることを示している。
れるｎ−ヘキシルジメチルシロキシシートポリマー
〔（（ｎ−Ｃ6 Ｈ13）（ＣＨ3 ）2 ＳｉＯ）x （ＨＯ）
1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）他の実験において、例１の
ヒドリドジメチルシロキシポリマーを、Ｈ2 ＰｔＣｌ6
・ xＨ2 Ｏ触媒の存在下に、１−ヘキセンと共に加熱し
た。この生成物は１．６３nm（１６．３Å）の線を持っ
たＸＲＤパターンを与えた。この生成物のパターンに於
ける主たる低角度線は１．６３nm（１６．３Å）にある
が、例１の親のヒドリドジメチルシロキシポリマーに於
ける対応する線は、１．３１nm（１３．１Å）にある。
０．３２nm（３．２Å）の位置の相違は、例１の親のヒ
ドリドジメチルシロキシポリマーの実質的なヒドロシリ
ル化が起こっていることを示している。
【００４９】（例６） （ヒドリドジメチルシロキシシートポリマーから誘導さ
れたｎ−オクチルフェニルメチルシロキシシートポリマ
ー〔（（ｎ−Ｃ8 Ｈ17）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）Ｓｉ
Ｏ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）例３で調製
したヒドリドフェニルメチルシロキシシートポリマー
（０．４２ｇ，３．３ｍモル、置換水準５０％と推定さ
れる）、１−オクテン（９．０mL、５７ｍモル）、及び
キシレン中の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯
体の溶液（白金２〜３％、０．４mL）の混合物をを攪拌
しながら２６時間加熱（１２０℃）し、ろ過した。この
固体を、アセトン、エタノール、水及びアセトン（１：
１）の溶液、並びにアセトンで洗浄した。次いで、これ
を６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時間乾燥し、秤
量したところ０．４３ｇであった。ＸＲＤ（ｄ（Å）
（Ｉ／Ｉo ））：２０．８（１００）。ＩＲ（Ｆｌｕｏ
ｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕｌｌｓ，cm-1）：３５
５２（ｍ，フリーＯＨストレッチ），３３９０（ｖｗ
ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッチ），３０７２（ｗ，Ｃ＝
Ｃ−Ｈストレッチ），３０５０（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレ
ッチ），２９５８（ｍ，ＣＨストレッチ），２９２６
（ｍ，ＣＨストレッチ），２８５４（ｍ，ＣＨストレッ
チ），１１９８（ｖｓ，ＳｉＯストレッチ），１１２６
（ｖｓ，ＳｉＯストレッチ），１０４２（ｍ）。この生
成物は灰色の固体であった。それはヘキサン及びトルエ
ンに分散したが、溶解しなかった。それは疎水性で、水
中に混合も分散もしなかった。この生成物のＸＲＤパタ
ーン及び赤外スペクトルは、この生成物が望みのポリマ
ーであることを示した。このパターンに於ける２．０８
nm（２０．８Å）での主線の強さと狭さは、このポリマ
ーのシートが非常に平たく、非常に規則的に積み重なっ
ていたことを示した。この例において、１−オクテンの
沸点（１２２℃）によって、比較的高い反応温度が許さ
れた。この例における触媒は、白金ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンであった。この例で進行した反応は、次
のように示される： 〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）
1-x ＳｉＯ1.5 〕n＋ＣＨ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）5 ＣＨ3→
〔（（ｎ−Ｃ8 Ｈ17）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）Ｓｉ
Ｏ）x （ＨＯ）1-xＳｉＯ3/2 〕n 。
れたｎ−オクチルフェニルメチルシロキシシートポリマ
ー〔（（ｎ−Ｃ8 Ｈ17）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）Ｓｉ
Ｏ）x （ＨＯ）1-x ＳｉＯ3/2 〕n の調製）例３で調製
したヒドリドフェニルメチルシロキシシートポリマー
（０．４２ｇ，３．３ｍモル、置換水準５０％と推定さ
れる）、１−オクテン（９．０mL、５７ｍモル）、及び
キシレン中の白金ジビニルテトラメチルジシロキサン錯
体の溶液（白金２〜３％、０．４mL）の混合物をを攪拌
しながら２６時間加熱（１２０℃）し、ろ過した。この
固体を、アセトン、エタノール、水及びアセトン（１：
１）の溶液、並びにアセトンで洗浄した。次いで、これ
を６０℃、８ｋＰａ（６０トル）で１２時間乾燥し、秤
量したところ０．４３ｇであった。ＸＲＤ（ｄ（Å）
（Ｉ／Ｉo ））：２０．８（１００）。ＩＲ（Ｆｌｕｏ
ｒｏｌｕｂｅ，Ｎｕｊｏｌ ｍｕｌｌｓ，cm-1）：３５
５２（ｍ，フリーＯＨストレッチ），３３９０（ｖｗ
ｂｒ，Ｈ−結合ＯＨストレッチ），３０７２（ｗ，Ｃ＝
Ｃ−Ｈストレッチ），３０５０（ｗ，Ｃ＝Ｃ−Ｈストレ
ッチ），２９５８（ｍ，ＣＨストレッチ），２９２６
（ｍ，ＣＨストレッチ），２８５４（ｍ，ＣＨストレッ
チ），１１９８（ｖｓ，ＳｉＯストレッチ），１１２６
（ｖｓ，ＳｉＯストレッチ），１０４２（ｍ）。この生
成物は灰色の固体であった。それはヘキサン及びトルエ
ンに分散したが、溶解しなかった。それは疎水性で、水
中に混合も分散もしなかった。この生成物のＸＲＤパタ
ーン及び赤外スペクトルは、この生成物が望みのポリマ
ーであることを示した。このパターンに於ける２．０８
nm（２０．８Å）での主線の強さと狭さは、このポリマ
ーのシートが非常に平たく、非常に規則的に積み重なっ
ていたことを示した。この例において、１−オクテンの
沸点（１２２℃）によって、比較的高い反応温度が許さ
れた。この例における触媒は、白金ジビニルテトラメチ
ルジシロキサンであった。この例で進行した反応は、次
のように示される： 〔（（Ｈ）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）ＳｉＯ）x （ＨＯ）
1-x ＳｉＯ1.5 〕n＋ＣＨ2 ＝ＣＨ（ＣＨ2 ）5 ＣＨ3→
〔（（ｎ−Ｃ8 Ｈ17）（Ｃ6 Ｈ5 ）（ＣＨ3 ）Ｓｉ
Ｏ）x （ＨＯ）1-xＳｉＯ3/2 〕n 。
【００５０】米国特許Ｎo.４９４２０２６には、環状シ
リケートＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10を調製する方法が教えられ
ている。以下の例は前記環状シリケートを調製する代替
の方法を示す。この方法も、米国特許Ｎo.５６０５９８
２に記載されている。
リケートＫ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10を調製する方法が教えられ
ている。以下の例は前記環状シリケートを調製する代替
の方法を示す。この方法も、米国特許Ｎo.５６０５９８
２に記載されている。
【００５１】（例７） （Ｋ2 ＣｕＳｉ4 Ｏ10の調製）この過程は、米国特許Ｎ
o.４９４２０２６の過程を追試したものである。連続し
て、ＫＯＡｃ（１５．８ｇ，１６１ｍモル）及びＨ2 Ｏ
（１６０mL）の溶液、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 （６６．７
ｇ，３２０ｍモル）、並びにＮＨ4 ＯＨ（３０ｗｔ％，
２．０mL，５１ｍモル）を、４０℃に維持された（油
浴）Ｃｕ（ＯＡｃ）2 ・Ｈ2 Ｏ（１６．１ｇ，８０．６
ｍモル）及びエタノール（３２０mL）の攪拌された混合
物に加えた。得られた混合物を室温で３日攪拌し、２日
放置し、そして１０．６ｋＰａ（８０トル）、７０℃に
て、ロータリーエバポレーターで蒸発させて乾燥させ
た。この固体を更に１０．６ｋＰａ（８０トル）及び９
０℃で２４時間乾燥させ、粉末に粉砕し、ゆっくり流通
する空気（１００mL／分）の下で２４時間更に加熱し
（白金坩堝、２００℃）、更にゆっくり流通する空気
（１００mL／分）の下で１９時間更に加熱し（白金坩
堝、５９０℃）、ペレット化し、続いてゆっくり流通す
るＮ2 （１００mL／分）の下で７日加熱した（白金坩
堝、７５０℃）。得られた物質を、そのＸＲＤパターン
を文献データ（３０．０ｇ，７２．４ｍモル，Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）4 を基準として９１％）と比較することによ
り照合した。ＸＲＤ：（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：３．
２２（１００），４．１２（５３），３．０７（４
２），３．３６（４１），２．６７（２９）。この化合
物は青紫色の固体であった。
o.４９４２０２６の過程を追試したものである。連続し
て、ＫＯＡｃ（１５．８ｇ，１６１ｍモル）及びＨ2 Ｏ
（１６０mL）の溶液、Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 （６６．７
ｇ，３２０ｍモル）、並びにＮＨ4 ＯＨ（３０ｗｔ％，
２．０mL，５１ｍモル）を、４０℃に維持された（油
浴）Ｃｕ（ＯＡｃ）2 ・Ｈ2 Ｏ（１６．１ｇ，８０．６
ｍモル）及びエタノール（３２０mL）の攪拌された混合
物に加えた。得られた混合物を室温で３日攪拌し、２日
放置し、そして１０．６ｋＰａ（８０トル）、７０℃に
て、ロータリーエバポレーターで蒸発させて乾燥させ
た。この固体を更に１０．６ｋＰａ（８０トル）及び９
０℃で２４時間乾燥させ、粉末に粉砕し、ゆっくり流通
する空気（１００mL／分）の下で２４時間更に加熱し
（白金坩堝、２００℃）、更にゆっくり流通する空気
（１００mL／分）の下で１９時間更に加熱し（白金坩
堝、５９０℃）、ペレット化し、続いてゆっくり流通す
るＮ2 （１００mL／分）の下で７日加熱した（白金坩
堝、７５０℃）。得られた物質を、そのＸＲＤパターン
を文献データ（３０．０ｇ，７２．４ｍモル，Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2 Ｈ5 ）4 を基準として９１％）と比較することによ
り照合した。ＸＲＤ：（ｄ（Å）（Ｉ／Ｉo ））：３．
２２（１００），４．１２（５３），３．０７（４
２），３．３６（４１），２．６７（２９）。この化合
物は青紫色の固体であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チェンガン チェン アメリカ合衆国，オハイオ 44106，クリ ーブランド，メイフィールド ロード 12024 (72)発明者 ディミトリス エリアス カトソウリス アメリカ合衆国，ミシガン 48640，ミッ ドランド，ウィルミントン ドライブ 2201 (72)発明者 マルコルム エドワード ケンネイ アメリカ合衆国，オハイオ 44118，クリ ーブランド ハイツ，ヒアフォード ロー ド 1203
Claims (3)
- 【請求項１】 シート状又は環状のシリケートを有機−
Ｈ−クロロシランと接触させて、ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ
基を有するオルガノシロキサンシート状又は環状ポリマ
ーを形成し、続いて前記ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有す
るオルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーをアル
ケニル基含有化合物と、前記アルケニル基含有化合物の
アルケニル基と前記ペンダント≡Ｓｉ−Ｈ基を有するオ
ルガノシロキサンシート状又は環状ポリマーの水素化物
官能基との間のヒドロシリル化反応を触媒するに有効な
量のヒドロシリル化触媒の存在下に、反応させ、オルガ
ノシロキサンシート状又は環状ポリマーを形成すること
を含む、オルガノシロキサンシート状又は環状ポリマー
の製造方法。 - 【請求項２】 前記有機−Ｈ−クロロシランが、式 【化１】 又は、式 【化２】 （ここに、Ｒ1 及びＲ2 はアルキル基又はアリール基で
ある）で示される化合物である請求項１の方法。 - 【請求項３】 前記アルケニル含有化合物が、オレフィ
ン、ジエン又はシクロオレフィンである請求項１又は２
の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/710700 | 1996-09-19 | ||
| US08/710,700 US5627241A (en) | 1996-09-19 | 1996-09-19 | Sheet and tube organosilicon polymers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10101934A true JPH10101934A (ja) | 1998-04-21 |
Family
ID=24855149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9255341A Pending JPH10101934A (ja) | 1996-09-19 | 1997-09-19 | シート状及び環状の有機ケイ素ポリマー |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5627241A (ja) |
| EP (1) | EP0831112B1 (ja) |
| JP (1) | JPH10101934A (ja) |
| DE (1) | DE69726367T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005537364A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-08 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーンエラストマー組成物 |
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|---|---|---|---|---|
| US5977281A (en) * | 1998-06-03 | 1999-11-02 | Case Western Reserve University | Sheet and tube siloxane polymers containing multiple pendent groups |
| US5977248A (en) * | 1998-06-03 | 1999-11-02 | Dow Corning Corporation | Sheet and tube siloxane polymers containing a pendent organofunctional group |
| US6013740A (en) * | 1998-08-27 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Sheet and tube polymers with pendant siloxane groups |
| US6013705A (en) * | 1998-09-17 | 2000-01-11 | Dow Corning Corporation | Silicone gels and composites from sheet and tube organofunctional siloxane polymers |
Family Cites Families (18)
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|---|---|---|---|---|
| BE553159A (ja) * | 1955-12-05 | |||
| FR2098467A5 (ja) * | 1969-11-06 | 1972-03-10 | Eternit | |
| US3661846A (en) * | 1970-09-04 | 1972-05-09 | Malcolm E Kenney | Organo-inorgano polymers and their preparation |
| JPS52915B1 (ja) * | 1971-06-01 | 1977-01-11 | ||
| FR2192560A5 (ja) * | 1972-07-11 | 1974-02-08 | Gerdec | |
| US3904583A (en) * | 1973-02-20 | 1975-09-09 | Nat Res Dev | Preparation of organosilicon polymers |
| IT1097228B (it) * | 1978-07-13 | 1985-08-26 | Pantec Srl | Pannelli autoportanti prefabbricati e relativo procedimento di fabbricazione |
| US4289651A (en) * | 1979-12-20 | 1981-09-15 | The Standard Oil Company | Supported catalysts for the polymerization of alpha-olefins |
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| US4683318A (en) * | 1983-12-27 | 1987-07-28 | The Scopas Technology Company, Inc. | Hydrophobic, crystalline, microporous silaceous materials of regular geometry |
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| US4911982A (en) * | 1985-02-08 | 1990-03-27 | E.C.C. America Inc. | Surface treated layered lattice silicates and resultant products |
| DE3789518T2 (de) * | 1986-01-31 | 1994-10-27 | Toray Industries | Verbundfolie und antistatische Verbundfolie. |
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| US5527871A (en) * | 1992-12-28 | 1996-06-18 | Kabushiki Kaisha Toyota Chuo Kenkyusho | Layered inorganic-organic polymer shaped article thereof and process for producing the same |
| WO1995006090A1 (en) * | 1993-08-23 | 1995-03-02 | Alliedsignal Inc. | Polymer nanocomposites comprising a polymer and an exfoliated particulate material derivatized with organo silanes, organo titanates and organo zirconates dispersed therein and process of preparing same |
-
1996
- 1996-09-19 US US08/710,700 patent/US5627241A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-09-08 EP EP97306949A patent/EP0831112B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-08 DE DE69726367T patent/DE69726367T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-09-19 JP JP9255341A patent/JPH10101934A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005537364A (ja) * | 2002-08-27 | 2005-12-08 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーンエラストマー組成物 |
| JP4805576B2 (ja) * | 2002-08-27 | 2011-11-02 | ダウ・コーニング・コーポレイション | シリコーンエラストマー組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0831112B1 (en) | 2003-11-26 |
| DE69726367T2 (de) | 2004-09-09 |
| DE69726367D1 (de) | 2004-01-08 |
| EP0831112A1 (en) | 1998-03-25 |
| US5627241A (en) | 1997-05-06 |
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