JPH0982592A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 設備コストを安価に抑えた上で、上手側処理
槽から下手側処理槽への基板の移行時に、処理液が完全
に乾燥してしまわない状態で必要かつ充分に液切りを行
い得るようにする。 【解決手段】 上手側処理槽２と下手側処理槽３との間
に設けられた仕切壁１３と、この仕切壁１３に設けられ
た基板Ｂを通す開口部１３ａと、この開口部１３ａを通
して基板Ｂを略水平姿勢で上記上手側処理槽２から下手
側処理槽３に搬送するローラ１４とが備えられ、上記開
口部１３ａには、基板Ｂの搬送方向に直交した方向に延
び、かつ、基板Ｂの処理液の供給された面に気体を吹き
つけるエアーナイフ部４０が設けられ、このエアーナイ
フ部４０は、上手側処理槽２に向かって開口した上手側
気体吹出し口４３ａと、下手側処理槽に向かって開口し
た下手側気体吹出し口４４ａとを有している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、略水平方向に搬送
される基板に処理液を供給する複数の処理槽が連設され
てなる基板処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶や半導体等の基板は、複数の処理槽
が連設された処理槽内に、コンベヤベルトやローラ等の
搬送手段によって略水平姿勢で順番に搬送され、各処理
槽内で各種の処理液が供給されることによって所定の処
理が施される。上記処理液は、例えば、現像液、洗浄
液、エッチング液、剥離液、純水など性状の異なる液が
用いられ、各処理槽では異なった処理液が供給される。
上記各処理槽間には基板を通す開口部を備えた仕切壁が
設けられ、上記開口部によって処理槽間の基板の搬送を
可能にしているとともに、仕切壁によって隣接した処理
槽の処理液が混ざり合わないようにしている。

【０００３】しかしながら、上手側処理槽において処理
液を供給された基板が開口部を通って下手側処理槽に搬
送されると、下手側処理槽に移行した基板には上手側の
処理液が付着しているため、下手側処理槽において基板
上で上手側の処理液と下手側の処理液とが相互に混ざり
合い、下手側の処理液の性状が変化して基板が処理不良
になるという不都合が生じる。

【０００４】このような不都合を回避する対策の採用さ
れた基板処理装置として、上手側処理槽の出口部分に基
板の表裏面に対向したエアーナイフを設けるとともに、
下手側処理槽の入口部分にも同様のエアーナイフを設
け、これらエアーナイフからの基板表裏面への気体の吐
出によって上手側の処理液が下手側処理槽に移行しない
ようにした液切り装置や、上手側および下手側の処理槽
の出口部分および入口部分に基板の表裏を横断するよう
に液切りローラを設け、この液切りローラによる液切り
によって上手側および下手側の処理液が混ざり合わない
ようにした液切り装置が知られている。さらにこれら以
外に、各処理槽での処理液供給が完了した時点で基板の
搬送を一旦停止し、基板を傾斜させて液切りを行うよう
にしたものが知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記上手側
処理槽および下手側処理槽の双方の内部にエアーナイフ
が設けられているものは、エアーナイフ間の距離が大き
くなり、かつエアーーの供給量が過剰になり易く、基板
が乾燥して表裏に斑点状あるいは帯状のムラが生じる可
能性があり、このムラに付着したパーティクルが乾燥に
よって基板の表面に固着し、除去が困難な状態になると
いう問題点を有していた。そこで、基板を半乾き状態に
すればよいが、この調節は非常に困難であった。

【０００６】さらに、上手側処理槽および下手側処理槽
の双方にエアーナイフを設けるためには、各処理槽内に
そのための空間を確保する必要があり、その分、処理槽
を大きくしなければならず、設備コストが嵩むという問
題点を有していた。

【０００７】また、上記液切りローラを設けるものにあ
っては、液切りローラ間の隙間調整が難しく、基板とロ
ーラとの間隔が狭すぎると、ローラに付着した空気中の
浮遊物が基板表面に転写され、逆に基板とローラとの間
隔が広すぎると、基板の液切りが不十分になるという問
題点を有していた。

【０００８】また、上記基板を傾斜させて液切りを行う
ようにしたものにあっては、処理槽内の搬送経路中に基
板を傾斜させるための機構が必要になり、装置が複雑に
なって設備コストが嵩むとともに、基板の傾斜と元の水
平姿勢への復元とに時間を要し、基板の処理効率が低下
するという問題点を有していた。

【０００９】本発明は、上記のような問題点を解決する
ためになされたものであり、小型で簡易な構成でもっ
て、上手側処理槽から下手側処理槽への基板の移行時
に、処理液が完全に乾燥してしまわない状態で必要かつ
充分に液切りを行うことが可能な基板処理装置を提供す
ることを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
基板を搬送する搬送手段と、この搬送手段による基板の
搬送方向に沿って配設され、搬送される基板を通過させ
る開口部を有する仕切壁で仕切られた状態で互いに形成
され、搬送中の基板に対してそれぞれ異なる処理液を供
給する上手側処理槽および下手側処理槽と、供給された
処理液を液切りすべく基板に気体を吹き付ける気体供給
手段とを備えた基板処理装置において、上記気体供給手
段は、上記仕切壁に沿って少なくとも基板を横断する寸
法を有して配設され、その先端が上記開口部に臨み、か
つ通過基板の表面に気体を吹き付ける気体吹出し口を有
し、この気体吹出し口は、先端での分岐によって、上手
側処理槽に向かって開口した上手側気体吹出し口と、下
手側処理槽に向かって開口した下手側気体吹出し口とが
形成されたものであることを特徴とするものである。

【００１１】この発明によれば、搬送手段によって水平
姿勢で上手側処理槽に導入された基板に処理液が供給さ
れ、この処理液によって所定の処理が施されたのち、仕
切壁に設けられた開口部を通って下手側処理槽に送り込
まれ、ここで上記処理液とは異なった種類の処理液が供
給され、この処理液で所定の処理が施される。そして、
基板が開口部を通過するに際し、基板の上手側処理槽内
にある部分に上手側気体吹出し口からの気体が吹き付け
られるとともに、下手側処理槽内に突入した部分に下手
側気体吹出し口からの気体が吹き付けられるため、これ
ら気体の吹き付けによって基板の処理液被供給面に存在
する処理液が吹き飛ばされ、これによって開口部に位置
した基板に上手側処理槽の処理液と、下手側処理槽の処
理液とが相互に混ざり合わない境界域が形成される。こ
の境界域の存在によって、上手側処理槽から下手側処理
槽に送り込まれる基板に同伴して上手側処理槽の処理液
が下手側処理槽内に混入されることはなく、両処理液の
混合による基板処理に対する悪影響が回避される。

【００１２】また、上記気体吹出し口は、仕切壁に形成
された開口部に設けられているため、従来のように上手
側処理槽および下手側処理槽に専用の気体吹出し口を設
けた場合に比較して、基板の表面に形成される帯状の境
界域の幅寸法を狭くすることが可能であり、これによっ
て境界域での基板表面の完全な乾燥を抑制することがで
き、基板の表面が完全に乾燥することによるムラの発生
が確実に抑制されるとともに、完全な乾燥による浮遊ミ
ストの基板表面への固着が確実に抑制される。

【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載の基
板処理装置において、上記下手側処理槽は、上記下手側
気体吹出し口からの吹出し気流が上記基板を吹き付ける
位置の直ぐ下流位置に処理液が供給されるように構成さ
れていることを特徴とするものである。

【００１４】この発明によれば、開口部を通過した直後
から下手側処理槽側の処理液が供給されても、気体吹出
し口からの気流によって上手側の処理液と下手側の処理
液とが混ざり合うことがないため、その分下手側処理槽
の搬送方向の長さ寸法を最小限に設定し得るようにな
る。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る基板処理装
置１の一実施形態を示す説明図である。基板処理装置１
は、複数の処理槽１１が相互に隣接するように並設され
て形成されている。各処理槽１１は、上部に基板Ｂを処
理する直方体形状の基板処理室１２を有している。各基
板処理室１２は仕切壁１３を挟んで互いに形成され、こ
の仕切壁１３には基板Ｂを通過させる開口部１３ａが形
成されている。基板Ｂは、これらの開口部１３ａを通っ
て図１の左方の処理槽１１から右方の処理槽１１に向か
って順次搬送されるようになっている。基板処理室１２
の下部にはすり鉢形状の漏斗部１２ａが設けられ、これ
によって基板Ｂに供給された処理液が集液されるように
している。

【００１６】各処理槽１１内には、基板Ｂの搬送方向に
直交した軸心を有するローラ（搬送手段）１４が設けら
れている。これらローラ１４は、基板処理室１２内で上
記開口部１３ａとほぼ同一の高さ位置に設定されて並設
されている。基板Ｂは、これらローラ１４上に載置され
た状態でローラ１４の駆動回転により開口部１３ａを通
って上手側の処理槽１１から下手側の処理槽１１に移動
するようになっている。以下、図１においては、中央部
分の左側の処理槽１１を上手側処理槽２、右側の処理槽
１１を下手側処理槽３と呼ぶ。

【００１７】上記上手側処理槽２は、基板処理室１２内
のローラ１４列の上方に配設された散液管（処理液供給
手段）２１を有しており、この散液管２１からローラ１
４上の基板Ｂの表面に向けて上手側処理液Ｘが供給され
るようにしている。この上手側処理液Ｘの供給によって
基板Ｂの表面に所定の処理が施されるようになってい
る。基板Ｂの処理に使用された上手側処理液Ｘは、基板
Ｂの縁部から落下し、漏斗部１２ａを介してその下部に
設けられた液留タンク２２に回収されるようになってい
る。

【００１８】この液留タンク２２と上記散液管２１との
間には、液留タンク２２内の上手側処理液Ｘを散液管２
１に供給する上手側処理液供給管路２３が配設されてお
り、この上手側処理液供給管路２３には、上流側から処
理液供給ポンプ２３ａおよびフィルタ２３ｂが設けら
れ、上記処理液供給ポンプ２３ａの駆動によって液留タ
ンク２２内の上手側処理液Ｘが循環使用されるようにな
っている。

【００１９】上記下手側処理槽３は、基板処理室１２内
のローラ１４列の上方に配設された１本の散液管（処理
液供給手段）３１を有している。この散液管３１は、下
手側処理槽３内の最上流側で仕切壁１３に近接して設け
られ、この散液管３１からローラ１４上の基板Ｂの表面
に向けて下手側処理液Ｙが供給されるようにしている。
この下手側処理液Ｙの供給によって基板Ｂの表面に所定
の処理が施されるようになっている。そして、基板Ｂの
処理に使用された下手側処理液Ｙは、基板Ｂの縁部から
落下し、漏斗部１２ａを介してその下部に設けられた液
留タンク３２に回収されるようになっている。

【００２０】この液留タンク３２と上記散液管３１との
間には、液留タンク３２内の下手側処理液Ｙを散液管３
１に供給する下手側処理液供給管路３３が配設されてお
り、この下手側処理液供給管路３３には、上流側から処
理液供給ポンプ３３ａおよびフィルタ３３ｂが設けら
れ、上記処理液供給ポンプ３３ａの駆動によって液留タ
ンク３２内の下手側処理液Ｙが循環使用されるようにな
っている。

【００２１】上記各処理槽２，３の近傍には、開口部１
３ａを通過する基板Ｂの表面に気体を吹き付けるための
気体供給手段４が設けられている。この気体供給手段４
は、上記開口部１３ａの上縁の仕切壁１３に取り付けら
れたエアーナイフ部４０と、このエアーナイフ部４０に
気体供給管路４５を通して気体を供給する気体源４４と
を有している。

【００２２】図２は、仕切壁１３の開口部１３ａに設け
られたエアーナイフ部４０の一実施形態を示す一部切欠
き斜視図であり、図３はエアーナイフ部４０の横断面図
である。これらの図に示すように、エアーナイフ部４０
は、エアーナイフ本体４１と、このエアーナイフ本体４
１内に設けられたエアー通路４２と、このエアー通路４
２に連通した上手側気体吹出し口４３ａを有する上手側
ノズル４３と、下手側気体吹出し口４４ａを有する下手
側ノズル４４とを具備している。

【００２３】上記エアーナイフ本体４１は、長さ寸法が
少なくとも搬送中の基板Ｂを横断するように設定された
所定厚みの直方体状の金属ブロックによって形成されて
いる。一方、上記開口部１３ａの上部に形成された仕切
壁１３の下端縁部に下方が開放した二股状のブラケット
１３ｂが設けられている。そして、エアーナイフ部４０
は、エアーナイフ本体４１の上部が、上記ブラケット１
３ｂに挟持され、ボルト止めされた状態で仕切壁１３に
固定されている。

【００２４】上記エアー通路４２は、エアーナイフ本体
４１の縦方向中央部が長手方向の略全長に亘って形成さ
れている。上記エアーナイフ本体４１の下部に長手方向
の全長に亘って二股状に上記上手側ノズル４３と上記下
手側ノズル４４とが形成されている。かかるエアーナイ
フ部４０がブラケット１３ｂに固定された状態で、上記
上手側気体吹出し口４３ａおよび下手側気体吹出し口４
４ａとその下部を通過する基板Ｂとの間に若干の隙間が
形成されるようにエアーナイフ本体４１の取付位置が設
定されており、これによってエアーナイフ部４０と、基
板Ｂとが相互に干渉し合わない状態になっている。

【００２５】そして、エアーナイフ部４０が仕切壁１３
に固定された状態で、上記上手側気体吹出し口４３ａは
開口部１３ａを通過中の基板Ｂの上手側の表面に向くと
ともに、下手側気体吹出し口４４ａは同基板Ｂの下手側
の表面に向くように方向設定されている。

【００２６】一方、基板処理装置１の近傍にはエアーナ
イフ部４０に気体を供給する気体源４５が配設されてお
り、この気体源４５からの高圧気体が気体供給管路４６
を通ってエアーナイフ本体４１のエアー通路４２に供給
されるようにしている。本実施形態では、気体源４５は
高圧窒素ボンベが適用され、上記各気体吹出し口４３
ａ，４４ａからは窒素ガスが供給されるようになってい
る。

【００２７】散液管３１は、エアーナイフ部４０の若干
下流側の下手側処理槽３内にエアーナイフ部４０に平行
に設けられている。この散液管３１の底部には、複数の
散液ノズル３１ａが等ピッチで並設され、液留タンク３
２から下手側処理液供給管路３３を通して供給された下
手側処理液Ｙがこれら複数の散液ノズル３１ａから基板
Ｂ表面に供給されるようになっている。

【００２８】従って、ローラ１４の駆動回転によって上
手側処理槽２から下手側処理槽３に搬送される基板Ｂ
は、仕切壁１３の開口部１３ａを通過するに際し、その
上面部はエアーナイフ部４０の上手側気体吹出し口４３
ａからの気体の噴射を受けるとともに、下手側気体吹出
し口４４ａからの気体の噴射を受け、これによって基板
Ｂの表面にはエアーナイフ部４０の直下を境にした上流
側および下流側に向かう帯状の気流が形成される。そし
て、基板Ｂの表面に形成された上手側処理液層Ｘ１は、
上記上手側気体吹出し口４３ａからの上流側に向かう気
流によって基板Ｂの表面を上流側に押し遣られた状態に
なるため、開口部１３ａを通過する基板Ｂの表面には上
手側処理液層Ｘ１が取り除かれた状態になっている。

【００２９】また、散液ノズル３１ａから基板Ｂの表面
に供給された下手側処理液Ｙによる下手側処理液層Ｙ１
は、上記下手側気体吹出し口４４ａからの下流側に向か
う気流によって押圧され、下手側処理液層Ｙ１が上流側
に向かうことが阻止される。従って、基板Ｂ上において
上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙとが相互に混合し合う
ことはない。

【００３０】図４は、本発明の作用を説明するために図
１の要部を拡大した部分拡大説明図であり、（イ）は、
基板Ｂが開口部１３ａに到達する直前の状態、（ロ）
は、基板Ｂの下流端（右方）が開口部１３ａに到達した
状態、（ハ）は、基板Ｂが開口部１３ａを通過しつつあ
る状態、（ニ）は、基板Ｂが開口部１３ａを通過し、そ
の上流端が散液ノズル３１ａの下流側に搬送された状態
をそれぞれ示している。

【００３１】まず図４の（イ）に示すように、上手側処
理槽２にある基板Ｂが仕切壁１３の開口部１３ａに到達
する直前においては、上手側処理槽２の散液管２１から
の上手側処理液Ｘの供給によって基板Ｂの表面全面には
上手側処理液層Ｘ１が形成された状態になっている。ま
た、下手側処理槽３の散液管３１から供給された下手側
処理液Ｙは、下部に基板Ｂがないためそのまま下手側処
理槽３の漏斗部１２ａに流下した状態になっている。さ
らに、エアーナイフ部４０の各気体吹出し口４３ａ，４
４ａから供給された気体は、矢印で示すように上手側お
よび下手側に向けて二股状に吹き出され、上手側処理槽
２と下手側処理槽３とに分流している。

【００３２】つぎに、図４の（ロ）に示す状態では、基
板Ｂの下流側の端部が開口部１３ａに到達し、一部が開
口部１３ａを通り越した状態になっている。この状態で
は、エアーナイフ部４０の上手側気体吹出し口４３ａか
ら供給された気体は基板Ｂの表面に斜めに供給されし、
これによって基板Ｂの表面に形成されている上手側処理
液層Ｘ１を上流側（左方）に押し遣る状態になる。

【００３３】つぎに、図４の（ハ）に示す状態では、基
板Ｂはその下流側が下手側処理槽３に相当長さ進入し、
下手側処理槽３の散液管３１からの下手側処理液Ｙが基
板Ｂの表面に供給される状態になっている。この状態で
は、上手側気体吹出し口４３ａから噴出した気体の気流
によって上手側処理液層Ｘ１の下流側への進行が阻まれ
るとともに、下手側気体吹出し口４４ａから噴出した気
体の気流によって下手側処理液Ｙの上流側への進入が阻
止された状態になっているため、エアーナイフ部４０の
直下の両気体吹出し口４３ａ，４４ａによる基板Ｂ上の
吐出域間には上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙとが相互
に混ざり合わない帯状の境界域Ａが形成された状態にな
っており、この状態で基板Ｂの散液管３１より下流側に
下手側処理液層Ｙ１が順次形成されていく。

【００３４】そして、図４の（ニ）に示す状態では、基
板Ｂの上流端は下手側処理槽３の散液管３１からの下手
側処理液Ｙの吐出流の下流側を通過し、これによって基
板Ｂの表面全面に下手側処理液層Ｙ１が形成された状態
になっている。

【００３５】本実施形態の基板処理装置１は、以上詳述
したように、上手側処理槽２と下手側処理槽３とを仕切
る仕切壁１３に穿設された開口部１３ａの上縁部にエア
ーナイフ部４０が設けられ、開口部１３ａに搬送されて
きた基板Ｂを横断するように上手側気体吹出し口４３ａ
および下手側気体吹出し口４４ａから帯状の気流を噴出
するようにしたものであるため、基板Ｂが開口部１３ａ
を通過するに際し、上記上手側気体吹出し口４３ａおよ
び下手側気体吹出し口４４ａからの上流側および下流側
に向かう気流によってエアーナイフ部４０の直下の基板
Ｂ上には上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙとが相互に混
ざり合わない境界域Ａが形成される。

【００３６】従って、仕切壁１３の開口部１３ａを通過
するに際し、基板Ｂの表面で上手側処理液Ｘと下手側処
理液Ｙとが相互に混ざり合うことが確実に防止されるた
め、基板Ｂの表面で上手側処理液Ｘと下手側処理液Ｙと
が混合することによる悪影響が確実に防止され、下手側
処理液Ｙによる基板Ｂの処理を適正に行う上で有効であ
る。

【００３７】そして、本発明においては、上手側処理槽
２と下手側処理槽３との境界部分である仕切壁１３の開
口部１３ａにエアーナイフ部４０が設けられているた
め、従来のように上手側処理槽２および下手側処理槽３
に専用のエアーナイフを設けた場合に比較して、基板Ｂ
の表面に形成される帯状の境界域Ａの幅寸法を狭くする
ことが可能であり、これによって境界域Ａでの基板Ｂ表
面の完全な乾燥を抑制することができるようになる。従
って、基板Ｂの表面が完全に乾燥することによるムラの
発生が確実に抑制されるとともに、完全な乾燥による浮
遊ミストの基板Ｂ表面への固着が確実に抑制される。

【００３８】本発明は、上記の実施形態のほか以下の実
施形態を採用し得るものである。

【００３９】（１）上記実施形態では、エアーナイフ部
４０は、仕切壁１３に穿設された開口部１３ａの上縁部
にのみ設けられているが、開口部１３ａの下縁部にも設
けるようにし、下縁部に設けたエアーナイフによって基
板Ｂの裏面にも気体を噴射するようにしてもよい。こう
することによって、基板Ｂの裏面に上手側処理液Ｘが付
着していても、下手側処理液Ｙへの上手側処理液Ｘの混
入が確実に抑制される。

【００４０】（２）上記実施形態では、エアーナイフ部
４０から吹き出される気体に窒素が適用されているが、
本発明は、エアーナイフ部４０から噴出される気体が窒
素であることに限定されるものではなく、基板Ｂを処理
する処理液の種類によっては空気を用いてもよいし、ア
ルゴン等の不活性ガスを用いてもよい。また、場合によ
っては水素等の還元性ガスを用いてもよい。

【００４１】（３）上記実施形態では、エアーナイフ部
４０の各気体吹出し口４３ａ，４４ａは、基板Ｂの搬送
方向に直交した方向（長手方向）に延びるスリット状の
開口によって形成されているが、各気体吹出し口４３
ａ，４４ａをスリット状にする代わりに、スポット状に
形成した気体吹出し口を長手方向に多数並設し、各スポ
ット条の気体吹出し口の基板Ｂでの吐出域が相互に重複
するように各気体吹出し口間の間隔設定を行うようにし
てもよい。

【００４２】（４）上記実施形態では、基板Ｂを搬送す
る搬送手段として駆動回転するローラ１４が用いられて
いるが、本発明は、搬送手段がローラ１４に限定される
ものではなく、コンベヤベルトを用いてもよい。この場
合、エアーナイフ部４０は、基板Ｂの上面側にのみ設け
られる。

【００４３】（５）上記実施形態では、基板Ｂに供給さ
れる処理液Ｘ，Ｙは、循環使用されるようにしている
が、本発明は、処理液Ｘ，Ｙが循環使用されることに限
定されるものではなく、基板Ｂに供給されたのち系外に
排出するようにしてもよい。

【００４４】

【発明の効果】上記請求項１記載の発明は、基板を搬送
する搬送手段と、この搬送手段により仕切壁の開口部を
通って順次搬送された基板に異なった種類の処理液を供
給する上手側処理槽および下手側処理槽と、供給された
処理液を液切りすべく基板に気体を吹き付ける気体供給
手段とを備えた基板処理装置において、上記気体供給手
段は、上記仕切壁に沿って少なくとも基板を横断する寸
法を有して配設され、その先端が上記開口部に臨み、か
つ通過基板の表面に気体を吹き付ける気体吹出し口を有
し、この気体吹出し口は、先端での分岐によって、上手
側処理槽に向かって開口した上手側気体吹出し口と、下
手側処理槽に向かって開口した下手側気体吹出し口とが
形成されたものであるため、搬送手段によって略水平姿
勢で上手側処理槽に導入された基板は、ここで少なくと
も表面に処理液が供給され、この処理液によって所定の
処理が施されたのち、仕切壁に設けられた開口部を通っ
て下手側処理槽に送り込まれ、ここで上記処理液とは異
なった種類の処理液が供給され、この処理液で所定の処
理が施される。

【００４５】そして、基板が開口部を通過するに際し、
基板の上手側処理槽内にある部分に上手側気体吹出し口
からの気体が吹き付けられるとともに、下手側処理槽内
に突入した部分に下手側気体吹出し口からの気体が吹き
付けられるため、これら気体の吹き付けによって基板の
処理液被供給面に存在する処理液が吹き飛ばされ、これ
によって開口部に位置した基板に上手側処理槽の処理液
と、下手側処理槽の処理液とが相互に混ざり合わない境
界域が形成される。この境界域の存在によって、上手側
処理槽から下手側処理槽に送り込まれる基板に同伴して
上手側処理槽の処理液が下手側処理槽内に混入されるこ
とはなく、両処理液の混合による基板処理に対する悪影
響を確実に回避する上で極めて有効である。

【００４６】また、上記上手側および下手側気体吹出し
口は、仕切壁に形成された開口部に設けられているた
め、従来のように上手側処理槽および下手側処理槽に専
用のエアーナイフ部材を設けた場合に比較して、基板の
表面に形成される帯状の境界域の幅寸法を狭くすること
が可能であり、これによって境界域での基板表面の完全
な乾燥を抑制することができ、基板の表面が完全に乾燥
することによるムラの発生を確実に抑制するとともに、
完全な乾燥による浮遊ミストの基板表面への固着を確実
に防止する上で極めて好都合である。

【００４７】上記請求項２記載の発明によれば、下手側
処理槽は、下手側気体吹出し口からの吹出し気流が上記
基板を吹き付ける位置の直ぐ下流位置に処理液が供給さ
れるように構成されているため、開口部を通過した直後
から下手側処理槽側の処理液が供給されても、気体吹出
し口からの気流によって上手側の処理液と下手側の処理
液とが混ざり合うことがないため、その分下手側処理槽
の搬送方向の長さ寸法を最小限に設定し得るようにな
り、設備コストの低減を図る上で有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の一実施形態を示す
説明図である。

【図２】仕切壁の開口部に設けられたエアーナイフの一
実施形態を示す一部切欠き斜視図である。

【図３】図２に示すエアーナイフの横断面図である。

【図４】本発明の作用を説明するために図１の要部を拡
大した部分拡大説明図であり、（イ）は、基板が開口部
に到達する直前の状態、（ロ）は、基板の下流端（右
方）が開口部に到達した状態、（ハ）は、基板が開口部
を通過しつつある状態、（ニ）は、基板が開口部を通過
し、その上流端が散液ノズルの下流側に搬送された状態
をそれぞれ示している。

【符号の説明】

１ 基板処理装置 １１ 処理槽 １２ 基板処理室 １３ 仕切壁 １３ａ 開口部 １３ｂ ブラケット １４ ローラ（搬送手段） ２ 上手側処理槽 ２１ 散液管（処理液供給手段） ２２ 液留タンク ２３ 上手側処理液供給管路 ２３ａ 処理液供給ポンプ ２３ｂ フィルタ ３ 上手側処理槽 ３１ 散液管（処理液供給手段） ３２ 液留タンク ３３ 下手側処理液供給管路 ３３ａ 処理液供給ポンプ ３３ｂ フィルタ ４０ エアーナイフ部 ４１ エアーナイフ本体 ４２ エアー通路 ４３ 上手側ノズル ４３ａ 上手側気体吹出し口 ４４ 下手側ノズル ４４ａ 下手側気体吹出し口 ４５ 気体源 ４６ 気体供給管路 Ａ 境界域 Ｘ 上手側処理液 Ｘ１ 上手側処理液層 Ｙ 下手側処理液 Ｙ１ 下手側処理液層

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を搬送する搬送手段と、この搬送手
   段による基板の搬送方向に沿って配設され、搬送される
   基板を通過させる開口部を有する仕切壁で仕切られた状
   態で互いに形成され、搬送中の基板に対してそれぞれ異
   なる処理液を供給する上手側処理槽および下手側処理槽
   と、供給された処理液を液切りすべく基板に気体を吹き
   付ける気体供給手段とを備えた基板処理装置において、 上記気体供給手段は、上記仕切壁に沿って少なくとも基
   板を横断する寸法を有して配設され、その先端が上記開
   口部に臨み、かつ通過基板の表面に気体を吹き付ける気
   体吹出し口を有し、この気体吹出し口は、先端での分岐
   によって、上手側処理槽に向かって開口した上手側気体
   吹出し口と、下手側処理槽に向かって開口した下手側気
   体吹出し口とが形成されたものであることを特徴とする
   基板処理装置。
2. 【請求項２】 上記下手側処理槽は、上記下手側気体吹
   出し口からの吹出し気流が上記基板を吹き付ける位置の
   直ぐ下流位置に処理液が供給されるように構成されてい
   ることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。