JPH0981973A - Treatment of glass master disk, production of master disk for optical disk and method for regenerating glass master disk - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To produce a master disk having satisfactory adhesion of the resist by treating the surface of a glass master disk with an activator having a prescribed compsn. SOLUTION: The surface of a glass master disk is treated with one or more kinds of activators selected from among a quat. ammonium activator, an amine activator and a betaine activator. A photoresist layer is formed on the treated master disk, exposed and developed, an electrically conductive layer is formed by treatment for imparting electric conductivity and electroforming is carried out to produce a master disk for optical disk. In this method, the surface of the glass master disk is treated after washing and the objective good master disk for optical disk having satisfactory adhesion of the resist is produced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス原盤の再生
使用を容易なものとすることができるガラス原盤の処理
方法、該ガラス原盤の処理方法を利用した光ディスク用
原盤の製造方法、及び該光ディスク用原盤の製造方法に
おいて用いられたガラス原盤の再生方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for processing a glass master disk which can facilitate the reuse of the glass master disk, a method for manufacturing an optical disk master disk using the glass master disk processing method, and the optical disk. The present invention relates to a method for remanufacturing a glass master used in a method for manufacturing a master.

【０００２】[0002]

【従来の技術及び発明の解決しようとする課題】ディジ
タルオーディオディスクやビデオディスク等の光ディス
クや静電容量方式のビデオディスク等の記録媒体は、近
年、広く利用されており、このような記録媒体は、表面
に凹凸パターンが形成された光ディスク用原盤（スタン
パ）を用いて、該凹凸パターンをプラスチック基板に複
写して形成されている。そして、上記スタンパは、まず
平坦性、平滑性に優れたガラス基板の表面にフォトレジ
スト層を形成し、次に、記録しようとする情報にしたが
って変調されたレーザーを表面に照射して情報を記録
し、現像、導電化処理、ニッケル電鋳工程を経て、製造
されている。2. Description of the Related Art Recording media such as optical disks such as digital audio disks and video disks and electrostatic capacity type video disks have been widely used in recent years. It is formed by copying the concave-convex pattern on a plastic substrate using an optical disk master (stamper) having a concave-convex pattern formed on the surface. The stamper first forms a photoresist layer on the surface of a glass substrate having excellent flatness and smoothness, and then irradiates the surface with a laser modulated according to the information to be recorded to record information. Then, it is manufactured through a developing process, a conductive process and a nickel electroforming process.

【０００３】ところで、これらのスタンパの製造におい
て、フォトレジストとしては一般的にフェノールノボラ
ック系樹脂を主成分とするポジ型レジストが用いられる
が、該ポジ型レジストは非常に親水的なガラス表面に対
する密着性が十分でないため、通常フォトレジスト層の
形成前に密着促進処理、即ちシランカップリング系の
剤、シラザン系の剤、特にヘキサメチルジシラザン（Ｈ
ＭＤＳ）等の疎水化剤を用いた疎水化処理が行われてい
る。ここで用いられる上記ガラス原盤は、高価であるた
め、通常、表面を研磨して再生し、別の型を製造するた
めに再使用されるが、上記密着促進処理を行うと、上記
疎水化剤がガラス表面とＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成し
て、ガラス表面に化学吸着し、フォトレジスト層とガラ
ス表面との密着性を向上させるが、その反面、ガラス表
面と強固に結合しているため、スタンパの製造後、該密
着促進処理により形成された該疎水化剤の層をガラス表
面から除去するためには、機械的研磨を行う必要があっ
た。By the way, in the production of these stampers, as a photoresist, a positive resist containing a phenol novolac resin as a main component is generally used, and the positive resist adheres to a very hydrophilic glass surface. Since the properties are not sufficient, an adhesion promoting treatment is usually performed before the formation of the photoresist layer, that is, a silane coupling agent, a silazane agent, especially hexamethyldisilazane (H
Hydrophobization treatment using a hydrophobizing agent such as MDS) is performed. Since the glass master used here is expensive, it is usually reused for polishing and reclaiming the surface to produce another mold, but when the adhesion promoting treatment is performed, the hydrophobizing agent is used. Forms a Si-O-Si bond with the glass surface and chemically adsorbs on the glass surface to improve the adhesion between the photoresist layer and the glass surface, but on the other hand, it is strongly bonded to the glass surface. After the stamper was manufactured, mechanical polishing had to be performed in order to remove the layer of the hydrophobizing agent formed by the adhesion promoting treatment from the glass surface.

【０００４】しかしながら、ガラス原盤を再生するため
に毎回研磨を行うと、上記密着促進処理により付着した
上記疎水化剤のみならず、ガラス原盤自体も削り取られ
るため、盤厚が減少し、再生利用できる回数に限界があ
った。また、該研磨に要する費用も安価ではなかった。However, if the glass master is re-polished every time, not only the hydrophobizing agent adhered by the adhesion promoting treatment but also the glass master itself is scraped off, so that the thickness of the master is reduced and the glass can be recycled. There was a limit to the number of times. Also, the cost required for the polishing was not low.

【０００５】また、研磨を行わずに酸を用いて上記疎水
化剤を加水分解して除去する方法も提案されているが、
この方法では、ガラス原盤の表面に化学的に結合した該
疎水化剤を完全に除去することは困難であった。Although a method of hydrolyzing and removing the above hydrophobizing agent using an acid without polishing has been proposed,
With this method, it was difficult to completely remove the hydrophobizing agent chemically bonded to the surface of the glass master.

【０００６】また、上記疎水化剤は、溶媒等で希釈した
状態でも劣化反応が進むため、比較的短い周期で処理溶
液の交換、タンクの洗浄を行わなければ、得られる光デ
ィスク用原盤に欠陥が生じてしまうという欠点があり、
該疎水化剤は、メンテナンスが煩雑であるという問題も
ある。Further, the hydrophobizing agent undergoes a deterioration reaction even in a state of being diluted with a solvent or the like. Therefore, unless the processing solution is exchanged and the tank is washed in a relatively short period, the obtained optical disk master will have a defect. There is a drawback that it will occur,
The hydrophobizing agent also has a problem that maintenance is complicated.

【０００７】要するに、従来のガラス原盤を再生処理す
る方法では、上記密着促進処理によりガラス原盤の表面
に付着した上記疎水化剤が完全に除去できないか、又は
上記ガラス原盤自体にダメージを与えてしまい再生使用
できる回数に限界があるという問題があり、更には、該
疎水化剤自体のメンテナンスが煩雑であるため、容易に
ガラス原盤の再生使用をすることができ、またメンテナ
ンスが容易な処理剤を用いたガラス原盤の処理方法が要
望されているのが現状である。[0007] In short, in the conventional method of regenerating a glass master, the above-mentioned adhesion promoting treatment cannot completely remove the hydrophobizing agent attached to the surface of the glass master or damages the glass master itself. There is a problem that there is a limit to the number of times that it can be recycled and used. Furthermore, since maintenance of the hydrophobizing agent itself is complicated, it is possible to easily recycle the glass master disk, and to use a treatment agent that is easy to maintain. At present, there is a demand for a processing method for the glass master used.

【０００８】従って、本発明の目的は、容易にガラス原
盤の再生使用をすることができ、また処理剤のメンテナ
ンスが容易なガラス原盤の処理方法、該ガラス原盤の処
理方法を利用した光ディスク用原盤の製造方法、及び該
光ディスク原盤の製造方法において用いられたガラス原
盤の再生方法を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a method for treating a glass master disc which allows easy reuse of the glass master disc and easy maintenance of a treating agent, and an optical disc master disc utilizing the method for treating the glass master disc. And a method for reproducing the glass master used in the method for manufacturing the optical disc master.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解消すべく鋭意検討した結果、ガラス原盤を特定の活
性剤で処理することにより、上記目的を達成しうること
を知見した。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above objects can be achieved by treating a glass master with a specific activator.

【００１０】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
のであり、ガラス原盤の表面を、第４級アンモニウム系
活性剤、アミン系活性剤及びベタイン系活性剤からなる
群より選択される一種以上の活性剤で処理することを特
徴とするガラス原盤の処理方法を提供するものである。The present invention has been made based on the above findings, and one or more selected from the group consisting of a quaternary ammonium-based activator, an amine-based activator and a betaine-based activator on the surface of the glass master. The present invention provides a method for treating a glass master disc, which is characterized by treating with an activator.

【００１１】また、本発明は、上記第４級アンモニウム
系活性剤は、分子中にポリオキシエチレン基、水酸基又
はアミド基を有する上記のガラス原盤の処理方法、上記
アミン系活性剤は、分子中にポリオキシエチレン基、水
酸基又はカルボキシル基を有する上記のガラス原盤の処
理方法を提供するものである。In the present invention, the quaternary ammonium-based activator is a method for treating the above glass master having a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or an amide group in the molecule, and the amine-based activator is in the molecule. Further, there is provided a method for treating the above glass master having a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or a carboxyl group.

【００１２】また、本発明は、ガラス原盤上にフォトレ
ジスト層を形成し、感光・現像処理した後、導電層を形
成する導電化処理及び電鋳処理して光ディスク用原盤を
製造する光ディスク用の原盤の製造方法において、ガラ
ス原盤の表面を洗浄した後、上記のガラス原盤の処理方
法により、ガラス原盤を処理する原盤処理工程を有する
ことを特徴とする光ディスク用原盤の製造方法を提供す
るものである。Further, the present invention is for an optical disk for manufacturing an optical disk master by forming a photoresist layer on a glass master, subjecting it to a photosensitizing / developing process, and then conducting an electroconducting process for forming a conductive layer and an electroforming process. A method for manufacturing an optical disk master, which comprises a master processing step of processing the glass master by the above-mentioned glass master processing method after cleaning the surface of the glass master in the method for manufacturing the master. is there.

【００１３】また、本発明は、上記原盤処理工程におけ
るガラス原盤の表面の洗浄及びガラス原盤の処理、並び
にフォトレジストの形成を、いずれも同一のスピンコー
ティングシステムを用いて行う上記の光ディスク用原盤
の製造方法。Further, according to the present invention, there is provided the above-mentioned optical disk master disk, in which cleaning of the surface of the glass master disk and processing of the glass master disk and formation of a photoresist in the master disk processing step are carried out by using the same spin coating system. Production method.

【００１４】また、本発明は、上記の光ディスク用原盤
の製造方法において用いられたガラス原盤の再生方法で
あって、光ディスク用原盤の導電層を除去する導電層除
去工程と、次いで、フォトレジスト層を除去するフォト
レジスト除去工程とを行った後、酸処理又は機械的研磨
を行わずに洗浄するガラス原盤の再生方法を提供するも
のである。The present invention is also a method for reproducing a glass master used in the above-mentioned method for manufacturing a master for an optical disc, which comprises a conductive layer removing step of removing a conductive layer of the master for optical disc, and then a photoresist layer. The present invention provides a method for remanufacturing a glass master after performing a photoresist removing step of removing the glass substrate, and then washing without performing acid treatment or mechanical polishing.

【００１５】[0015]

【発明の実施の形態】以下、先ず、本発明のガラス原盤
の処理方法について詳細に説明する。本発明に用いられ
る上記ガラス原盤としては、通常光ディスク用原盤等の
製造に際して用いられるガラス原盤であれば特に制限無
く用いられるが、ソーダライムガラス製のガラス原盤が
特に好ましく用いられる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, a method for treating a glass master according to the present invention will be described in detail below. The glass master used in the present invention is not particularly limited as long as it is a glass master normally used in the production of a master for optical disks and the like, but a glass master made of soda lime glass is particularly preferably used.

【００１６】また、本発明に用いられる上記活性剤は、
第４級アンモニウム系活性剤、アミン系活性剤及びベタ
イン系活性剤からなる群より選択される一種以上であ
る。The above-mentioned activator used in the present invention is
It is one or more selected from the group consisting of quaternary ammonium-based activators, amine-based activators, and betaine-based activators.

【００１７】上記活性剤は、親水性のガラス原盤の表面
とフォトレジスト層とを密着させるためのものであるの
で、分子中に疎水基と親水基とを併せ持っていることが
好ましく、上記第４級アンモニウム系活性剤において
は、分子中にポリオキシエチレン基、水酸基又はアミド
基を有するのが好ましく、上記アミン系活性剤において
は、分子中にポリオキシエチレン基、水酸基又はカルボ
キシル基を有するのが好ましく、上記ベタイン系活性剤
としては、カルボキシベタイン系の活性剤が好ましい。Since the activator is used to bring the surface of the hydrophilic glass master and the photoresist layer into close contact with each other, it is preferable that the activator has both a hydrophobic group and a hydrophilic group in the molecule. The primary ammonium-based activator preferably has a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or an amide group in the molecule, and the amine-based activator has a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or a carboxyl group in the molecule. Preferably, the betaine activator is a carboxybetaine activator.

【００１８】上記第４級アンモニウム系活性剤の具体例
としては、下記〔化１〕の一般式（１）〜（７）に示す
化合物が、上記アミン系活性剤の具体例としては、下記
〔化２〕の一般式（８）〜（１３）に示す化合物が、上
記ベタイン系活性剤としては、下記〔化３〕の一般式
（１４）に示す化合物が、好ましく挙げられる。Specific examples of the quaternary ammonium-based activator include compounds represented by the general formulas (1) to (7) of the following [Chemical formula 1], and specific examples of the amine-based activator include the following: The compounds represented by the general formulas (8) to (13) of the chemical formula 2] are preferably the compounds represented by the general formula (14) of the following [chemical formula 3] as the betaine-based activator.

【００１９】[0019]

【化１】 Embedded image

【００２０】[0020]

【化２】 Embedded image

【００２１】[0021]

【化３】 Embedded image

【００２２】上記活性剤の更に具体的な例としては、下
記〔化４〕に示す〜の化合物などが挙げられる。More specific examples of the above-mentioned activator include the compounds (1) to (4) shown below.

【００２３】[0023]

【化４】 Embedded image

【００２４】而して、本発明のガラス原盤の処理方法
は、上記ガラス原盤の表面を、上記活性剤で処理するこ
とにより実施することができる。The method for treating a glass master according to the present invention can be carried out by treating the surface of the glass master with the activator.

【００２５】上記活性剤による処理は、上記活性剤の一
種又は一種以上を溶媒に溶解して得られた溶液を、上記
表面にコートすることにより行うことができる。上記溶
媒としては、工程上の簡便性及びコストを考慮すると水
が好ましいが、水に溶けにくい場合には、水１００重量
部とメタノールやエタノール等のアルコール１〜５０重
量部との混合溶媒を用いることもできる。また、該混合
溶媒を用いる場合には、一旦エタノール等のアルコール
に上記活性剤を該活性剤の濃度が５０重量％程度になる
ように溶解して得られた上記活性剤のアルコール溶液を
用い、該アルコール溶液と水とを混合して、所定濃度に
調整してもよい。上記溶液における上記活性剤の濃度
は、０．０１〜５重量％であるのが好ましい。上記濃度
が０．０１重量％未満であると、処理が十分に進行せ
ず、５重量％を超えると、活性剤が凝集してしまう場合
があるので、上記範囲内とするのが好ましい。The treatment with the activator can be carried out by coating the surface with a solution obtained by dissolving one or more of the activators in a solvent. As the above-mentioned solvent, water is preferable in view of process simplicity and cost, but when it is difficult to dissolve in water, a mixed solvent of 100 parts by weight of water and 1 to 50 parts by weight of alcohol such as methanol or ethanol is used. You can also When the mixed solvent is used, an alcohol solution of the active agent obtained by dissolving the active agent in alcohol such as ethanol to a concentration of the active agent of about 50% by weight is used. The alcohol solution and water may be mixed to adjust the concentration to a predetermined level. The concentration of the activator in the solution is preferably 0.01 to 5% by weight. If the concentration is less than 0.01% by weight, the treatment will not proceed sufficiently, and if it exceeds 5% by weight, the activator may be aggregated. Therefore, the concentration is preferably within the above range.

【００２６】また、上記コートは、上記表面に上記溶液
をスピンコートするか、又は上記溶液中に上記ガラス原
盤を浸漬処理することにより行うことができる。この
際、処理されたガラス原盤表面の水の接触角が１０〜５
０°となるように、上記活性剤を付着させるのが好まし
い。The coating can be carried out by spin coating the solution on the surface or dipping the glass master in the solution. At this time, the contact angle of water on the surface of the processed glass master is 10 to 5
It is preferable to attach the activator so that the angle becomes 0 °.

【００２７】また、本発明においては、上記活性剤によ
る処理の前に必要に応じてガラス原盤の表面の洗浄（以
下、「処理前の洗浄」という場合には、この洗浄を指
す）を行うこともできる。該洗浄は、スピンコートに用
いる通常のスピンコーターを用いて、水洗することによ
り行うことができる。更に、上記処理終了後において
は、スピン水洗を行って不要な活性剤をよく洗いおとし
た後、スピンドライ法により乾燥させるのが好ましい。Further, in the present invention, the surface of the glass master disk may be washed (hereinafter, referred to as "washing before treatment" when necessary) before the treatment with the activator. You can also The washing can be carried out by washing with water using an ordinary spin coater used for spin coating. Further, after completion of the above treatment, it is preferable to carry out spin water washing to thoroughly wash out unnecessary activator, and then dry by spin drying method.

【００２８】以上の処理を行って得られる表面が処理さ
れたガラス原盤は、光ディスク用原盤の製造に好適に用
いられる他、ディスプレイパネル、カラーフィルター等
にも利用することができる。The surface-treated glass master obtained by the above-mentioned treatments can be suitably used for manufacturing an optical disc master, and can also be used for a display panel, a color filter and the like.

【００２９】次いで、本発明の光ディスク原盤の製造方
法について説明する。本発明の光ディスク原盤の製造方
法は、ガラス原盤上にフォトレジスト層を形成し、感光
・現像処理した後、導電層を形成する導電化処理及び電
鋳処理して光ディスク用原盤を製造するに際して、上記
の処理前の洗浄を行った後、上記のガラス原盤の処理方
法（上述した本発明のガラス原盤の処理方法）により、
ガラス原盤を処理する原盤処理工程を行うことにより実
施することができる。Next, a method of manufacturing the optical disk master according to the present invention will be described. The method for producing an optical disc master of the present invention comprises forming a photoresist layer on a glass master disc, subjecting it to photosensitization and development, and then producing an optical disc master by conducting and electroforming the conductive layer to form a conductive layer. After performing the above-mentioned pre-treatment cleaning, by the above-mentioned glass master processing method (the above-described glass master processing method of the present invention),
It can be carried out by performing a master processing step of processing the glass master.

【００３０】上記のフォトレジスト層の形成、上記感光
・現像処理、上記導電化処理及び上記電鋳処理は、通常
公知の方法と同様にして行うことができるが、具体的に
は、下記の如くして行うことができる。The above-mentioned formation of the photoresist layer, the above-mentioned photosensitization / development treatment, the above-mentioned electroconductivity treatment and the above-mentioned electroforming treatment can be carried out in the same manner as in a generally known method. You can do it.

【００３１】上記のフォトレジスト層の形成は、シプレ
イ・ファーイースト製，商品名「Ｓ１８０５」、富士ハ
ント社製，商品名「ＨＰＲ２０４」等のフォトレジスト
を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト等の溶媒に溶解した溶液を、上記原盤処理工程終了後
のガラス原盤上に塗布し、熱処理するなどして行うこと
ができる。The photoresist layer is formed by dissolving a photoresist such as Shipley Far East, trade name "S1805", Fuji Hunt Co., trade name "HPR204" in a solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate. The solution thus prepared can be applied by coating the glass master after the above-mentioned master processing step and heat-treating it.

【００３２】また、上記感光・現像処理は、形成された
フォトレジスト層に所定のパターンでレーザービームを
照射して露光し、アルカリ系の現像液で現像する等して
行うことができる。The photosensitization / development treatment can be performed by irradiating the formed photoresist layer with a laser beam in a predetermined pattern to expose it and developing it with an alkaline developer.

【００３３】上記導電化処理及び上記電鋳処理上記金属
導電層の形成は、上記感光・現像処理終了後のガラス原
盤上に、無電解Ｎｉメッキ法、スパッタ又は蒸着等を施
すことにより、行うことができる。The conductive treatment and the electroforming treatment The formation of the metal conductive layer is carried out by subjecting the glass master after the photosensitization / development treatment to electroless Ni plating, sputtering or vapor deposition. You can

【００３４】また、上記電鋳処理は、通常のニッケル電
鋳により行うことができ、この際形成される電鋳層の厚
さは０．３μｍ程度であるのが好ましい。更に、得られ
た電鋳層をガラス基板から剥離して、洗浄、研磨、内外
周打抜きを行って、光ディスク用原盤（スタンパ）が得
られる。The electroforming treatment can be carried out by ordinary nickel electroforming, and the thickness of the electroformed layer formed at this time is preferably about 0.3 μm. Further, the obtained electroformed layer is peeled from the glass substrate, washed, polished, and punched on the inner and outer circumferences to obtain an optical disk master (stamper).

【００３５】また、上記原盤処理工程における上記の処
理前の洗浄及びガラス原盤の処理、並びにフォトレジス
トの形成は、いずれも同一のスピンコーティングシステ
ムを用いて行うのが好ましい。即ち、上記の処理前の洗
浄をスピン洗浄により行った後、ガラス原盤の処理を上
記活性剤の溶液をスピンコートすることにより行い、更
に、上記フォトレジストの形成をもスピンコートにより
行うのが好ましく、いずれのスピンコートも、同じスピ
ンコーターを用いた同一のスピンコーティングシステム
を用いるのが好ましい。この際用いることができるスピ
ンコーターは、通常の公知のものを特に制限なく用いる
ことができる。Further, it is preferable that the cleaning and the processing of the glass master before the above-mentioned processing in the above-mentioned master processing step and the formation of the photoresist are carried out by using the same spin coating system. That is, it is preferable that after the above-mentioned cleaning before treatment is performed by spin cleaning, the glass master is treated by spin coating the solution of the activator, and further the formation of the photoresist is also performed by spin coating. For both spin coats, it is preferable to use the same spin coating system using the same spin coater. As the spin coater that can be used at this time, a commonly known spin coater can be used without particular limitation.

【００３６】次に、本発明のガラス原盤の再生方法につ
いて説明する。本発明のガラス原盤の再生方法は、上記
の光ディスク用原盤の製造方法において用いられたガラ
ス原盤の再生方法であって、光ディスク用原盤の導電層
を除去する導電層除去工程と、フォトレジスト層を除去
するフォトレジスト除去工程とを行った後、酸処理又は
機械的研磨を行わずに洗浄することにより行うことがで
きる。Next, the method for recycling the glass master according to the present invention will be described. The method for reproducing a glass master according to the present invention is a method for reproducing a glass master used in the above-mentioned method for manufacturing an optical disk master, which comprises a conductive layer removing step of removing a conductive layer of the optical disk master and a photoresist layer. After performing the photoresist removing step of removing, it can be performed by washing without performing acid treatment or mechanical polishing.

【００３７】上記導電層除去工程は、上記導電化処理に
より形成された導電層を有する上記ガラス原盤を硝酸等
の酸中に浸漬して該導電層を溶解することにより行うの
が好ましく、また、上記フォトレジスト除去工程は、導
電層が除去された上記ガラス原盤におけるフォトレジス
ト層を、レジスト剥離液を用いて除去することにより行
うのが好ましい。The conductive layer removing step is preferably carried out by immersing the glass master having the conductive layer formed by the conductive treatment in an acid such as nitric acid to dissolve the conductive layer. The photoresist removal step is preferably performed by removing the photoresist layer on the glass master from which the conductive layer has been removed, using a resist stripping solution.

【００３８】上記導電層除去工程において用いられる上
記硝酸としては、濃硝酸、１：２硝酸（２３重量％ＨＮ
Ｏ₃ 水溶液）等を用いることができ、この際の浸漬時間
は、１〜５時間とするのが好ましい。The nitric acid used in the conductive layer removing step may be concentrated nitric acid, 1: 2 nitric acid (23% by weight HN
(O ₃ aqueous solution) or the like can be used, and the immersion time at this time is preferably 1 to 5 hours.

【００３９】また、上記フォトレジスト除去工程におい
て用いられる上記レジスト剥離液としては、アルカリ水
溶系、溶媒系のいずれも用いることができるが、例え
ば、シプレイファーイースト製，商品名「１１１２
Ａ」、「１１６５」等の市販品を用いることができ、こ
の際、該レジスト剥離液をそのまま用いるか、又は水で
４倍にまで希釈した水溶液（レジスト剥離液の濃度が２
５重量％以上の水溶液）として用いるのが好ましい。ま
た、上記フォトレジスト除去工程は、上記レジスト剥離
液を導電層が除去された上記ガラス原盤上に１０〜５０
ｍｌ滴下した後、ベンコット等を用いて拭いた後、水洗
する等して実施することができる。As the resist stripping solution used in the photoresist removing step, either an alkaline water-based system or a solvent system can be used. For example, a product name “1112” manufactured by Shipley Far Yeast is used.
Commercially available products such as “A” and “1165” can be used. At this time, the resist stripping solution is used as it is, or an aqueous solution diluted to 4 times with water (the concentration of the resist stripping solution is 2
It is preferably used as an aqueous solution of 5% by weight or more). Further, in the photoresist removing step, the resist stripping solution is applied to the glass master having the conductive layer removed in an amount of 10 to 50.
After dripping in ml, it can be carried out by wiping with a bencot or the like and then washing with water.

【００４０】そして、上記フォトレジスト除去工程の終
了後、酸処理又は機械的研磨を行うことなく、スピン水
洗等により洗浄を行う。本発明の再生方法においては、
上記の製造方法に用いたガラス原盤、即ち上記の処理方
法により表面が処理されたガラス原盤を再生するので、
上述した公知の疎水化剤で密着促進処理されたガラス基
盤を再生する場合のように、酸洗浄又は機械的研磨を行
わなくても、容易に上記活性剤を除去できる。After completion of the photoresist removing step, cleaning is performed by spin water washing or the like without performing acid treatment or mechanical polishing. In the reproducing method of the present invention,
Since the glass master used in the above manufacturing method, that is, the glass master whose surface has been treated by the above-mentioned treatment method is regenerated,
It is possible to easily remove the activator without performing acid cleaning or mechanical polishing as in the case of regenerating the glass substrate which has been subjected to the adhesion promoting treatment with the known hydrophobizing agent.

【００４１】[0041]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

【００４２】〔実施例〕上記の〔化４〕に示す〜の
活性剤を用いて、活性剤濃度が５０重量％のエタノール
溶液をそれぞれ作製し、更に該エタノール溶液を水と混
合して活性剤濃度が０．３重量％である該活性剤のエタ
ノール−水混合溶液を、７種類それぞれ作製した。[Examples] Using the activators (1) to (4) shown above, ethanol solutions each having an activator concentration of 50% by weight were prepared, and the ethanol solutions were mixed with water to obtain the activator. Seven kinds of ethanol-water mixed solutions of the activator having a concentration of 0.3% by weight were prepared.

【００４３】次いで、得られた活性剤のエタノール−水
混合溶液を用いて、ガラス原盤の処理を行った。即ち、
表面が平坦で平滑なガラス原盤（１６０ｍｍφ，１．６
ｍｍｔ）をスピンコーターにセットし、ブラシ水洗によ
り処理前の洗浄を行った。その後、スピンドライして乾
燥させ、上記活性剤のエタノール−水混合溶液をガラス
原盤上にスピンコートし、該混合溶液を基板上に保持し
た状態で３０秒間放置した後、スピンドライして乾燥さ
せ、更に、１分間スピン水洗を行った後、スピンドライ
を約５分間行うことにより、ガラス原盤の処理（原盤処
理工程）を行った。Next, the glass master was treated with the ethanol-water mixed solution of the obtained activator. That is,
A glass master with a flat and smooth surface (160 mmφ, 1.6
(mmt) was set on a spin coater and washed with a brush before washing. Then, spin-dry and dry, spin-coat a glass master with the ethanol-water mixed solution of the activator, leave the mixed solution on the substrate for 30 seconds, spin-dry and dry. Further, after spin washing with water for 1 minute, spin drying was carried out for about 5 minutes to process the glass master disk (master disk processing step).

【００４４】次に、処理されたガラス原盤に、ポジ型フ
ォトレジスト（シプレイ社製、商品名「Ｓ１８０５」）
を厚さ１５０ｎｍでコートし、乾燥して、フォトレジス
ト層を形成した後、所定のパターンでレーザービームを
照射して露光し、次いで、シプレイ社製のリムーバーで
現像することにより、感光・現像処理を行い、凹凸パタ
ーン（ピット）を形成した。Next, a positive type photoresist (manufactured by Shipley, trade name "S1805") is applied to the processed glass master.
To a thickness of 150 nm and dried to form a photoresist layer, which is then exposed by irradiating a laser beam in a predetermined pattern, and then developed with a remover manufactured by Shipley Co., Ltd. Then, a concavo-convex pattern (pit) was formed.

【００４５】その後、ニッケル無電解メッキ処理（導電
化処理）及びニッケル電鋳（電鋳処理）を行って、光デ
ィスク用原盤（スタンパ）を製造した。After that, nickel electroless plating treatment (conduction treatment) and nickel electroforming (electroforming treatment) were carried out to manufacture an optical disk master (stamper).

【００４６】次いで、スタンパを剥離した後のガラス基
板の再生処理を行った。再生処理は、まず、上記導電化
処理により導電層が形成されてなるガラス基盤を、２３
重量％硝酸水溶液に３時間浸漬した後、水洗し、続いて
シプレイ社製のリムーバー、商品名「１１１２Ａ」の５
０重量％水溶液に３時間浸漬した後、流水により水洗を
行い、スピンドライ法により乾燥させることにより行っ
た。Then, the glass substrate after the stamper was peeled off was reclaimed. In the reclaiming process, first, the glass substrate formed with the conductive layer by the above-mentioned conductive treatment is
After soaking in a weight% nitric acid aqueous solution for 3 hours, it is washed with water, and then a remover manufactured by Shipley Co., Ltd., product name “1112A” 5
It was immersed in a 0 wt% aqueous solution for 3 hours, washed with running water, and dried by a spin dry method.

【００４７】上記再生処理により再生されたガラス原盤
を用いて、再度上述の製造方法によりスタンパの製造を
行ったところ、いずれの活性剤を用いたものについて
も、約３００枚のスタンパ中、良品が２８０枚で欠陥品
が２０枚であり、該欠陥品もガラス原盤以外の要素に起
因して欠陥が生じたものであった。また、同様の操作を
１０回繰り返して得られた１０回再生後のガラス原盤を
用いてスタンパを作製したが、いずれの活性剤を用いた
ものについてもほとんど複数回再生処理していることの
影響はみられなかった。また、上記活性剤のエタノール
−水混合溶液のタンクの洗浄を約３カ月行わずにスタン
パの製造を行ったが、いずれの活性剤を用いた混合溶液
についても、特に、製品の良品率に変化はみられなかっ
た。When the stamper was manufactured again by the above-mentioned manufacturing method using the glass master reclaimed by the above-mentioned reclaiming process, no matter which one of the stampers used any of the activators, a good product was obtained. There were 20 defective products in 280 sheets, and these defective products also had defects caused by elements other than the glass master. In addition, a stamper was manufactured using a glass master after 10 times of reproduction obtained by repeating the same operation 10 times. However, the effect of having been subjected to a plurality of times of regeneration treatment for any of the activators was used. I couldn't see it. Further, the stamper was manufactured without cleaning the tank of the ethanol-water mixed solution of the above-mentioned activator for about 3 months, but the mixed solution using any of the activators was changed to a good product rate in particular. I couldn't see it.

【００４８】〔比較例〕上記活性剤のエタノール−水混
合溶液の代わりに、ＨＭＤＳの５重量％プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート溶液（以下、単に
「ＨＭＤＳ溶液」という）を用いた以外は、実施例と同
様にガラス原盤の処理（原盤処理工程）を行い、スタン
パの製造を行ったところ、良好なスタンパを生産するこ
とができたが、１週間溶液の交換及びタンク洗浄を行わ
ずに、再度同様にしてガラス原盤の処理（原盤処理工
程）を行い、スタンパの製造を行ったところ、フォトレ
ジストがはじかれて、フォトレジストの形成を良好に行
うことができなかった。また、タンク洗浄の際には、溶
媒の蒸発に伴って、分解物のアンモニア刺激臭が生じ
た。また、上記ＨＭＤＳ溶液を用いて処理し、スタンパ
の製造に供したガラス原盤を、実施例と同様にして再生
した。そして、再生されたガラス原盤を用いて同様にス
タンパの作製を行ったところ、２０枚製造した内、良品
はわずかに２枚であった。Comparative Example The same as Examples except that a 5 wt% HMDS propylene glycol monomethyl ether acetate solution of HMDS (hereinafter simply referred to as “HMDS solution”) was used in place of the ethanol-water mixed solution of the activator. Similarly, when a glass master was processed (master processing step) and a stamper was manufactured, a good stamper could be produced, but the same procedure was repeated without changing the solution and cleaning the tank for one week. When the glass master was processed with the glass master (master processing step) to manufacture the stamper, the photoresist was repelled and the photoresist could not be formed well. Further, when the tank was washed, an ammonia-stimulated odor of the decomposed product was generated along with the evaporation of the solvent. In addition, the glass master that was treated with the above HMDS solution and used for manufacturing the stamper was regenerated in the same manner as in the example. Then, when a stamper was produced in the same manner using the regenerated glass master, out of the 20 produced, only 2 were good.

【００４９】[0049]

【発明の効果】本発明のガラス原盤の処理方法によれ
ば、容易にガラス原盤の再生使用をすることができ、ま
た処理剤のメンテナンスが容易である。また、本発明の
光ディスク用原盤の製造方法によれば、上記ガラス原盤
の処理方法により処理されたガラス原盤を用いて光ディ
スク用原盤の製造を行うので、十分なレジスト密着性を
持って良好に光ディスク用原盤の製造を行うことができ
る。更に、本発明のガラス原盤の再生方法によれば、上
記ガラス原盤の処理方法により処理されたガラス原盤を
再生処理するため、使用済みのガラス原盤を、簡易な操
作で、複数回、良好な光ディスク用原盤を製造できるガ
ラス原盤に再生処理することができる。According to the method of treating a glass master according to the present invention, the glass master can be easily reused and the treating agent can be easily maintained. Further, according to the method for manufacturing an optical disk master of the present invention, since the optical disk master is manufactured using the glass master processed by the above-mentioned glass master processing method, the optical disk having sufficient resist adhesion and good optical properties. A master disk can be manufactured. Further, according to the method for remanufacturing the glass master of the present invention, since the glass master processed by the method for treating the above-mentioned glass master is reprocessed, the used glass master is subjected to a good operation by a simple operation a plurality of times. It can be recycled into a glass master disk from which a master disk can be manufactured.

【００５０】更に詳述すると、本発明のガラス原盤の処
理方法は、フォトレジスト層の形成前にガラス原盤表面
を上記活性剤で処理することにより、十分なレジスト密
着性を発現すると共に、ガラス原盤の再生時に容易に該
活性剤を除去できるため、ガラス原盤のリサイクルを容
易に行うことができる。また、活性剤の溶媒として水を
主成分とするものを用いることができるので、管理が容
易となる。また、本発明において用いられる活性剤は劣
化反応を起こしにくいので、活性剤の溶液の寿命も長く
なり、ひいてはタンク洗浄の間隔も長くすることがで
き、メンテナンスが容易である。また、特に、低コスト
の厚さが２ｍｍ以下の薄いガラスを用いる場合には、機
械的研磨による再生は困難であるが、本発明の処理方法
によりガラス原盤の処理を行うことにより、このような
薄いガラスの再使用も可能である。More specifically, in the method for treating a glass master according to the present invention, the surface of the glass master is treated with the above-mentioned activator before the formation of the photoresist layer, whereby sufficient resist adhesion is exhibited and the glass master is processed. Since the activator can be easily removed at the time of recycling, the glass master can be easily recycled. Further, since a solvent containing water as a main component can be used as the solvent of the activator, the management becomes easy. Further, since the activator used in the present invention is unlikely to cause a deterioration reaction, the life of the activator solution is extended, and the tank cleaning interval can be extended, which facilitates maintenance. Further, particularly when thin glass having a thickness of 2 mm or less at low cost is used, it is difficult to regenerate by mechanical polishing, but by treating the glass master by the treatment method of the present invention, Reuse of thin glass is also possible.

【００５１】尚、本発明において上述の効果がなぜ得ら
れるかについては定かでないが、ガラス表面は親水性で
あるため、上述したようにフォトレジストに対する密着
性に劣るが、逆にガラス表面が疎水化されすぎても、フ
ォトレジスト層に対する密着性が悪くなり、現像工程で
非感光部分のレジスト層まで剥離するという現像が生じ
る。これに対して、本発明において用いる上記活性剤
は、分子中にプラス電荷、即ちカチオン構造、又はプラ
スに分極したような構造、例えばアミノ基、アミン構造
等を有しているため、ガラス原盤の表面に良好に吸着さ
れ、更に、該表面に化学的に結合することなく該表面を
適度に疎水化させることができるためであると考えられ
る。Although it is not clear why the above-mentioned effects are obtained in the present invention, since the glass surface is hydrophilic, the adhesion to the photoresist is poor as described above, but conversely the glass surface is hydrophobic. If it is made too much, the adhesion to the photoresist layer deteriorates, and development occurs in which the resist layer in the non-exposed portion is peeled off in the developing step. On the other hand, the activator used in the present invention has a positive charge in the molecule, that is, a cation structure, or a structure polarized positively, such as an amino group or an amine structure. It is considered that this is because the surface is favorably adsorbed and the surface can be appropriately hydrophobized without being chemically bound to the surface.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 ガラス原盤の表面を、第４級アンモニウ
ム系活性剤、アミン系活性剤及びベタイン系活性剤から
なる群より選択される一種以上の活性剤で処理すること
を特徴とするガラス原盤の処理方法。1. A glass master disk characterized by treating the surface of the glass master disk with one or more activators selected from the group consisting of quaternary ammonium-based activators, amine-based activators and betaine-based activators. Processing method. 【請求項２】 上記第４級アンモニウム系活性剤は、分
子中にポリオキシエチレン基、水酸基又はアミド基を有
することを特徴とする請求項１記載のガラス原盤の処理
方法。2. The method for treating a glass master according to claim 1, wherein the quaternary ammonium-based activator has a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or an amide group in the molecule. 【請求項３】 上記アミン系活性剤は、分子中にポリオ
キシエチレン基、水酸基又はカルボキシル基を有するこ
とを特徴とする請求項１記載のガラス原盤の処理方法。3. The method for treating a glass master according to claim 1, wherein the amine-based activator has a polyoxyethylene group, a hydroxyl group or a carboxyl group in the molecule. 【請求項４】 ガラス原盤上にフォトレジスト層を形成
し、感光・現像処理した後、導電層を形成する導電化処
理及び電鋳処理して光ディスク用原盤を製造する光ディ
スク用原盤の製造方法において、 ガラス原盤の表面を洗浄した後、請求項１記載のガラス
原盤の処理方法により、ガラス原盤を処理する原盤処理
工程を有することを特徴とする光ディスク用原盤の製造
方法。4. A method of manufacturing an optical disk master in which a photoresist layer is formed on a glass master, subjected to a photosensitizing / developing process, and then a conductive layer is formed by electroconducting and electroforming. A method for manufacturing an optical disk master, comprising a master processing step of processing the glass master by the method of processing the glass master according to claim 1 after cleaning the surface of the glass master. 【請求項５】 上記原盤処理工程におけるガラス原盤の
表面の洗浄及びガラス原盤の処理、並びにフォトレジス
ト層の形成を、いずれも同一のスピンコーティングシス
テムを用いて行うことを特徴とする請求項４記載の光デ
ィスク用原盤の製造方法。5. The same spin coating system is used for the cleaning of the surface of the glass master and the treatment of the glass master, and the formation of the photoresist layer in the master processing step. Manufacturing method of optical disk master. 【請求項６】 請求項４記載の光ディスク用原盤の製造
方法において用いられたガラス原盤の再生方法であっ
て、 光ディスク用原盤の導電層を除去する導電層除去工程
と、フォトレジスト層を除去するフォトレジスト除去工
程とを行った後、酸処理又は機械的研磨を行わずに洗浄
することを特徴とするガラス原盤の再生方法。6. A method of remanufacturing a glass master used in the method of manufacturing a master for an optical disc according to claim 4, wherein a conductive layer removing step of removing a conductive layer of the master for optical disc and a photoresist layer are removed. A method for reclaiming a glass master, which comprises performing a photoresist removal step and then washing without performing acid treatment or mechanical polishing.