JPH0980396A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶とポリマーとから成る調光層を有する液
晶デバイスにおいて、コントラストが良好で、電圧保持
率が高く、耐熱性に優れた液晶デバイスを提供するこ
と。 【解決手段】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板間に、（１）２５℃における比抵抗値が１×
１０¹³Ω・cm以上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範囲にある
液晶組成物及び（２）２５℃における比抵抗値が１×１
０¹³Ω・cm（２５℃）以上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範
囲にある重合性組成物を含有する調光層形成材料を挟持
した後、重合性組成物を重合させることによって、液晶
組成物及び透明性高分子物質を含有する調光層を２枚の
基板間に有する液晶デバイスの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大面積になし得る
液晶デバイスの製造方法に関し、更に詳しくは、光の遮
断、透過を電気的又は熱的に操作し得るものであって、
文字や図形を表示し、高速応答を以って電気的に表示を
切り換えることによって、広告板、案内板、装飾表示板
等の表示体、ＯＡ器材などのディスプレイ等のハイイン
フォメーション表示体として利用される液晶デバイスの
製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】偏光板や配向処理を要さず、明るくコン
トラストの良い、大型で廉価な液晶デバイスとして、特
表昭５８−５０１６３１号公報、米国特許第４４３５０
４７号明細書には、液晶のカプセル化により、ポリマー
中に液晶滴を分散させ、そのポリマーをフィルム化した
調光層を有する液晶デバイスが知られている。ここでカ
プセル化物質としては、ゼラチン、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコール等が提案されている。

【０００３】ポリビニルアルコールでカプセル化された
液晶分子は、それが薄層中で正の誘電異方性を有するも
のであれば、電界の存在下でその液晶分子が電界の方向
に配列し、液晶の屈折率ｎ₀とポリマーの屈折率ｎ_pが等
しいときには、透明性を発現する。電界が除かれると、
液晶はランダム配列に戻り、液晶滴の屈折率ｎ₀よりず
れるため、液晶滴は、その境界面で光を散乱し、光の透
過を遮断するので、薄層体は白濁する。

【０００４】このように、液晶滴を分散包蔵したポリマ
ーを薄膜としている技術は、上記のもの以外にもいくつ
か知られており、例えば、特表昭６１−５０２１２８号
公報には、液晶エポキシ樹脂中に分散したもの、特開昭
６２−２２３１号公報には、特殊な紫外線硬化ポリマー
中に液晶が分散したもの、特開昭６３−２７１２３３号
公報には、光硬化性ビニル系化合物と液晶との溶解物に
おいて、上記光硬化性ビニル系化合物の光硬化に伴う液
晶物質の相分離を利用し調光層を形成させた技術が開示
されている。

【０００５】また、液晶デバイスの実用化に要求される
重要な特性である低電圧駆動特性、高コントラストを可
能にするために、特開平１−１９８７２５号公報には、
液晶材料の連続層中にポリマーを三次元網目状構造に形
成せしめ、液晶デバイスの低電圧駆動を可能にした技術
が開示されている。

【０００６】液晶材料の連続層中に三次元網目構造を有
するポリマーを形成して成る調光層を有する液晶デバイ
スをはじめとして、液晶とポリマーとから成る液晶デバ
イスにおいては、ポリマー形成材料中の不純物が液晶に
溶け、電圧保持率を低下させ、表示特性、信頼性を低下
させるという問題があった。

【０００７】特に、アクティブ・マトリックス駆動方式
を用いて動作をさせる場合、比抵抗値を上げ、電圧保持
率を高めることが必要不可欠となっている。

【０００８】高電気抵抗の液晶デバイスを得るために、
特開平４−２９８５０７号公報には、１×１０¹²Ω・cm
の比抵抗値を有する精製された重合性組成物を用いて調
光層を形成する方法が開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
４−２９８５０７号公報に記載の方法によって得られる
調光層の比抵抗値は３×１０¹²Ω・cmであり、この比抵
抗値では高い電圧保持率は得られず、アクティブ・マト
リックス駆動を行う材料としては不適切であった。

【００１０】本発明が解決しようとする課題は、液晶と
ポリマーとから成る調光層を有する液晶デバイスにおい
て、コントラストが良好で、電圧保持率が高く、耐熱性
に優れた液晶デバイスを提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため鋭意研究を重ねた結果、本発明に到っ
た。

【００１２】即ち、電極層を有する少なくとも一方が透
明な２枚の基板間に、液晶組成物及び重合性組成物を含
有する調光層形成材料を挟持した後、重合性組成物を重
合させることによって、液晶組成物及び透明性高分子物
質を含有する調光層を２枚の基板間に有する液晶デバイ
スの製造方法において、液晶組成物として、２５℃にお
ける比抵抗値が１×１０¹³Ω・cm以上、１×１０¹⁵Ω・
cm以下の範囲にある液晶組成物を使用し、重合性組成物
として、２５℃における比抵抗値が１×１０¹³Ω・cm以
上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範囲にある重合性組成物を
使用することを特徴とする液晶デバイスの製造方法を提
供する。

【００１３】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属等であっても良く、柔軟性を有する
材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであっ
ても良い。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を
隔てて得るものであり、その少なくとも一方は透明性を
有し、その２枚の間に挟持される液晶層及び透明性高分
子物質を有する層からなる調光層を外界から視覚させる
ものでなければならない。但し、完全な透明性を必須と
するものではない。

【００１４】また、調光層の抵抗値を低下させないた
め、２枚の基板は表面を適度に洗浄されたものを使用す
ることが好ましい。

【００１５】洗浄方法としては、中性洗剤、化学洗浄
液、有機溶剤、超純水による洗浄ががあげられ、これら
化学洗浄に物理洗浄方法である、ブラシ、ジェットスプ
レイ、超音波洗浄等を組み合わせる方法が好ましい。ま
た、上記ウェット洗浄に加えてドライ洗浄方法であるＵ
Ｖ・オゾン洗浄、プラズマ、レーザー洗浄を併用しても
良い。

【００１６】もし、この液晶デバイスが、デバイスの一
方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させるた
めに使用される場合は、共に適宜な透明性が与えられ
る。この基板には、目的に応じて透明、不透明の適宜な
電極が、その前面又は部分的に配置されても良い。但
し、プラスチックの如き柔軟性を有する材料の場合に
は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定したう
えで本発明の液晶デバイスに用いることができる。

【００１７】また、２枚の基板間には、通常、周知の液
晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在させ
ることもできる。

【００１８】スペーサーとしては、例えば、マイラー、
アルミナ、ロッドタイプのガラスファイバー、ガラスビ
ーズ、ポリマービーズ等種々の液晶セル用のものを用い
ることができる。

【００１９】本発明で使用する液晶組成物は、単一の液
晶性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上
の液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物で
あっても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識
されるものであれば良く、そのうちの正の誘電異方性を
有するものが好ましい。用いる液晶としては、ネマチッ
ク液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ま
しく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を改善
するために、コレステリック液晶、カイラルネマチック
液晶、カイラルスメクチック液晶等やカイラル化合物が
適宜含まれていてもよい。

【００２０】本発明で使用する液晶組成物は、以下に示
した化合物群から選ばれる１種類以上の化合物から成る
配合組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、抵抗
値、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度、屈折
率異方性（Δｎ）、誘電率異方性（Δε）及び重合性組
成物等との溶解性等を改善することを目的として適宜選
択、配合して用いることができる。

【００２１】液晶材料としては、安息香酸エステル系、
シクロヘキシルカルボン酸エステル系、ビフェニル系、
ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニ
ルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオ
キサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、
シクロヘキシルエタン系、トラン系、アルケニル系等の
各種液晶化合物が使用される。

【００２２】液晶材料の具体例としては、４−置換安息
香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換
シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）
安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換
シクロヘキシル）安息香酸４’−シクロヘキシルエステ
ル、４−置換４’−置換ビフェニル、４−置換フェニル
４’置換シクロヘキサン、４−置換４”−置換ターフェ
ニル、４−置換ビフェニル４’−置換シクロヘキサン、
２−（４−置換フェニル）５−置換ピリジン等を挙げる
ことができる。

【００２３】２５℃における比抵抗値が１×１０¹³Ω・
cm以上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範囲にある液晶組成物
は、液晶組成物を構成する個々の液晶化合物において、
再結晶を繰り返すなどの方法により精製度が高い液晶化
合物を使用すると共に、３，４−ジフルオロフェニル基
又は３，４，５−トリフルオロフェニル基を有する３環
系のトラン系化合物の如き比抵抗値が高い液晶化合物を
使用し、逆にシアノフェニル基を有する液晶化合物の如
き比抵抗値が低い材料を配合しない方法により調製する
ことができる。また、１×１０¹⁶Ω・cm以上の比抵抗値
は、現在の測定技術で測定することは困難であるが、１
×１０¹⁶Ω・cm以上の比抵抗値を有する液晶組成物であ
ればさらに好ましい。

【００２４】調光層形成材料中の液晶組成物の含有率
は、６０〜９８重量％の範囲が好ましく、７０〜９０重
量％の範囲が特に好ましい。

【００２５】本発明で使用する重合性組成物は、重合体
形成モノマー、オリゴマーであって、これらのモノマー
及びオリゴマーは２種類以上併用することもできる。

【００２６】重合体形成モノマーとしては、例えば、ス
チレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン；置換基として、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シク
ロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチ
ル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジ
ル、２−ヒドリキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、
３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジエチルアミノエチルの如き基を有するアクリ
レート、メタクリレート又はフマレート；エチレングリ
コール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、１，３−ブチレングリ
コール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレング
リコール、ネオペンチルグリコールトリメチロールプロ
パン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモノ
（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレート；
酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロ
ニトリル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘ
キセン、ジアリルフタレート、２−、３−又は４−ビニ
ルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリル
アミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド及び
それらのアルキルエーテル化合物；トリメチロールプロ
パン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくは
プロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又
はトリ（メタ）アクリレート；ネオペンチルグリコール
１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロ
ピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）
アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ート１モルとフェニルイソシアネート若しくはｎ−ブチ
ルイソシアネート１モルとの反応生成物；ジペンタエリ
スリトールのポリ（メタ）アクリレート；トリス−（ヒ
ドロキシエチル）−イソシアヌル酸のポリ（メタ）アク
リレート；トリス−（ヒドロキシエチル）−リン酸のポ
リ（メタ）アクリレート；ジ−（ヒドロキシエチル）−
ジシクロペンタジエンのモノ（メタ）アクリレート又は
ジ（メタ）アクリレート；ピバリン酸エステルネオペン
チルグリコールジアクリレート；カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ
アクリレート；直鎖脂肪族ジアクリレート；ポリオレフ
ィン変性ネオペンチルグリコールジアクリレート等を挙
げることができる。

【００２７】重合体形成オリゴマーとしては、例えば、
エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）
アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポ
リエーテル（メタ）アクリレート等、各種アクリレート
オリゴマーを用いることができる。

【００２８】一般に市販されている上記の如き重合体形
成モノマー、オリゴマー等は、種々の不純物を含有し、
その比抵抗値は１×１０¹³Ω・cm以下であるものが大多
数である。これを、１×１０¹³Ω・cm以上の比抵抗値に
高めるためには各種の精製法が適用される。

【００２９】例えば、精密分別蒸留による方法、純水又
は超純水にて洗浄を繰り返す方法、水に不溶な溶媒（ヘ
キサン、酢酸エチル、石油エーテル、エチルエーテル、
ベンゼン等、もしくはこれらの溶媒の混合物）で希釈し
た後、純水又は超純水にて洗浄を繰り返して行う方法、
活性炭、活性アルミナ、シリカゲル、活性白土、ゼオラ
イト、有機樹脂系吸着剤等の吸着剤を用いて不純物を吸
着、除去する方法等により精製が行われる。これらの方
法をいくつか組み合わせて精製を行うことがより好まし
く、より良好な結果が得られる。

【００３０】２５℃における比抵抗値が１×１０¹³Ω・
cm以上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範囲にある重合性組成
物を用いることにより、良好な電圧保持率特性を有する
液晶デバイスを得ることができる。また、１×１０¹⁶Ω
・cm以上の比抵抗値は、現在の測定技術で測定すること
は困難であるが、１×１０¹⁶Ω・cm以上の比抵抗値を有
する重合性組成物を用いるとさらに良好な電圧保持率特
性を有する液晶デバイスを得ることができる。

【００３１】調光層形成材料中には、上記した液晶組成
物及び重合性組成物のほかに、必要に応じて、光重合開
始剤の如き重合開始剤、連鎖移動剤、光増感剤、染料、
架橋剤等を含有させることができる。

【００３２】重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、２−メチ
ル−１−［メチルチオ）フェニル］−２−モリホリノプ
ロパン−１（チバ・ガイギー社製「イルガキュア９０
７」）、ベンジルジメチルケタール（チバ・ガイギー社
製「イルガキュア６５１」）、２，４−ジエチルチオキ
サントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴＸ」）、と
ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カ
ヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサ
ントン（ワードプレキンソツプ社製「カンタキュアーＩ
ＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合
物、アシルフォスフィンオキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシ
リンＴＰＯ」）等が挙げられる。

【００３３】重合開始剤の使用割合は、重合性組成物総
量の０．１〜１０．０重量％の範囲が好ましく、高い電
圧保持率を維持するためには、０．１〜２．０重量％の
範囲がより好ましい。

【００３４】調光層形成材料を２枚の基板間に介在させ
るには、この調光層形成材料を基板間に注入しても良い
が、一方の基板上に適当な溶液塗布機やスピンコーター
等を用いて均一に塗布し、ついで他方の基板を重ね合わ
せ圧着させても良い。

【００３５】また、一方の基板上に調光層形成材料を均
一な厚さに塗布し、重合用エネルギーを供給することに
よって重合性組成物を重合硬化させて調光層を形成した
後、他方の基板を貼り合わせる液晶デバイスの製造方法
も、また有効である。

【００３６】重合用エネルギーとしては、重合性組成物
が適切に重合できるものであれば良く、例えば、紫外
線、可視光線、電子線等の放射線や熱等が挙げられる。

【００３７】特に、紫外線による方法は好適である。ま
た、調光層形成材料の等方性液体状態を保持しながら紫
外線を照射することは、均一な調光層を形成する上で好
ましい。

【００３８】液晶組成物中で重合性組成物を重合させる
には、一定の強さ以上の光強度及び照射量を必要とする
が、それは重合性組成物の反応性及び光重合開始剤の種
類、濃度によって左右され、適切な光強度の選択により
三次元網目状構造の形成、及びその網目の大きさを均一
にすることができる。

【００３９】更に、時間的、平面的に均一に照射するこ
とは、基板間に介在する重合性組成物に瞬間的に強い光
を照射して重合を進行させ、これによって網目の大きさ
を均一にする上で効果的である。即ち、適切な強度でパ
ルス上に紫外線を照射することにより、均一な三次元網
目状構造を有する透明性高分子物質を液晶中に形成する
ことができる。

【００４０】このようにして製造される液晶デバイスの
調光層中に形成される透明性高分子物質は、その中に液
晶組成物を分散する構造のものでもよいが、三次元網目
状構造を有するものがより好ましい。

【００４１】この透明性高分子物質の三次元網目状構造
には液晶組成物が充填され、かつ、液晶組成物が連続層
を形成することが好ましく、液晶組成物の無秩序な状態
を形成することにより光学境界面を形成し、光の散乱を
発現させる。

【００４２】液晶組成物の連続層と、この液晶組成物の
連続層中に三次元網目状の透明性高分子物質とから成る
調光層を有する液晶デバイスを安定的に製造するには、
調光層形成材料が等方性液体状態を示す温度で重合性組
成物を重合させることが好ましい。

【００４３】

【実施例】以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更
に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実
施例に限定されるものではない。

【００４４】なお、以下の実施例及び比較例において、
電圧保持率は、極性を交互に変えた電圧１０ボルト、６
４μ秒のパルスを調光層に印加して、１６ｍ（ミリ）秒
間の２枚の電極間の電圧の変化を１６ｍ（ミリ）秒間測
定して電圧変化の積分値を求め、この値を電圧が変化し
ない場合の積分値で除算して百分率で電圧保持率を算出
した。また、１５０℃の恒温槽に調光層を１時間放置す
る耐熱試験を行い、その前後の電圧保持率を測定した。

【００４５】比抵抗値は、ソーラトロン社製インピーダ
ンスアナライザー（１２６０型）を用いて測定された値
である。また、紫外線の強度は、ウシオ電機社製ユニメ
ーター「ＵＩＴ−１０１」と受光素子「ＵＶＤ−３６５
ＰＤ」を用いて測定した値である。

【００４６】更に、以下実施例において使用したモノマ
ーのうち精製されたものはいずれも次の方法により精製
を行ったものを用いた。

【００４７】ｎ−ヘキサン及び酢酸エチルを３：１（重
量比）の割合で混合させた溶媒１２００ｍｌに精製を行
うモノマー４０ｇを溶解し、更に超純水（１８ＭΩ・c
m）８００ｍｌを加え分液漏斗にて１０分間振盪後、二
層を分離し水層のみを捨て、再度同量の超純水を入れ同
様の操作を５回繰り返した。次に洗浄された油層に、モ
レキュラーシーブス４Ａ １／１６ （和光純薬社製）
１００ｇを投入し、一晩乾燥させた後、ろ過、濃縮、減
圧乾燥させて水洗されたモノマーを得た。さらに、この
モノマーをアルミナ（富田製薬社製トミックスＡＤ３０
０）を充填したカラムにより処理を行い目的とするモノ
マーを得た。

【００４８】（実施例１）下記に示した組成から成る液
晶組成物（Ａ）７５．５２重量％、「ＫＵ−７６０」
（荒川化学社製ジアクリレート）１２重量％、「ＩＭ
Ａ」（共栄社製イソミリスチルアクリレート）１２重量
％及び「イルガキュア６５１」（チバガイギー社製重合
開始剤ベンジルジメチルケタール）０．４８重量％（重
合性組成物に対して２．０重量％）から成る調光層形成
材料を１２．０μｍのガラスファイバー製スペーサーが
塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調
光層形成材料が等方性液体状態となる温度に保ちなが
ら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射することに
よって、重合性化合物を硬化させて液晶組成物及び透明
性高分子物質から成る厚さ１２．０μｍの調光層を有す
る液晶デバイスを得た。

【００４９】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
高分子物質を確認することができた。

【００５０】液晶組成物（Ａ）の組成：

【化１】

【００５１】なお、実施例１で使用した「ＫＵ−７６
０」及び「ＩＭＡ」はいずれも前記方法により精製され
たもので、２５℃における比抵抗値は前者が１．０９×
１０¹⁵Ω・cm、後者が４．６４×１０¹³Ω・cmであっ
た。また、液晶組成物（Ａ）の２５℃における比抵抗値
は３．１５×１０¹³Ω・cmであった。

【００５２】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９８．０％、８
０℃で９６．０％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９８．５％、８０℃で９５．０％であった。

【００５３】（実施例２）実施例１で使用した液晶組成
物（Ａ）７５．５２重量％、実施例１で使用した「ＫＵ
−７６０」１２．０重量％、「ＩＳＡ」（共栄社製イソ
ステアリルアクリレート）１２．０重量％及び「イルガ
キュア６５１」０．４８重量％（重合性組成物に対し
２．０重量％）からなる調光層形成材料を１２．０μｍ
のガラスファイバー製スペーサーが塗布された２枚のＩ
ＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調光層形成材料が等方
性液体状態となる温度に保ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の
紫外線を６０秒間照射することによって、重合性化合物
を硬化させて、液晶組成物及び透明性高分子物質から成
る厚さ１２．０μｍの調光層を有する液晶デバイスを得
た。

【００５４】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
高分子物質を確認することができた。

【００５５】なお、実施例２で使用した「ＩＳＡ」は前
記方法により精製されたもので、その２５℃における比
抵抗値は１．３０×１０¹⁵Ω・cmであった。

【００５６】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９９．６％、８
０℃で９７．１％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９８．８％、８０℃で９６．４％であった。

【００５７】（実施例３）下記に示した組成から成る液
晶組成物（Ｂ）７５．５２重量％、実施例１で使用した
「ＫＵ−７６０」１２重量％、実施例２で使用した「Ｉ
ＳＡ」１２重量％、及び「イルガキュア６５１」０．４
８重量％（重合性組成物に対し２．０重量％）からなる
調光層形成材料を１２．０μｍのガラスファイバー製ス
ペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟
み込み、調光層形成材料が等方性液体状態となる温度に
保ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射す
ることによって、重合性化合物を硬化させて、液晶組成
物及び透明性高分子物質から成る厚さ１２．０μｍの調
光層を有する液晶デバイスを得た。

【００５８】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００５９】液晶組成物（Ｂ）の組成：

【化２】

【００６０】液晶組成物（Ｂ）の２５℃における比抵抗
値は９．４０×１０¹⁴Ω・cmであった。

【００６１】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９９．７％、８
０℃で９８．１％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９８．９％、８０℃で９６．９％であった。

【００６２】（実施例４）実施例１で使用した液晶組成
物（Ａ）７６．０重量％、実施例１で使用した「ＫＵ−
７６０」１１．８８重量％、実施例２で使用した「ＩＳ
Ａ」１１．８８重量％及び「イルガキュア６５１」０．
２４重量％（重合性組成物に対し１．０重量％）からな
る調光層形成材料を１２．０μｍのガラスファイバー製
スペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に
挟み込み、調光層形成材料が等方性液体状態となる温度
に保ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射
することによって、重合性化合物を硬化させて、液晶組
成物及び透明性高分子物質から成る厚さ１２．０μｍの
調光層を有する液晶デバイスを得た。

【００６３】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００６４】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９９．６％、８
０℃で９８．３％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９８．９％、８０℃で９７．１％であった。

【００６５】（比較例１）実施例１で使用した液晶組成
物（Ａ）７９．６重量％、「ＨＸ−２２０」（日本化薬
社製カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸エステル
ネオペンチルグリコールジアクリレート）１２重量％、
「ＬＡ（１）」（共栄社製ラウリルアクリレート）８重
量％及び「イルガキュア６５１」０．４重量％（重合性
組成物に対し２．０重量％）からなる調光層形成材料を
１２．０μｍのガラスファイバー製スペーサーが塗布さ
れた２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み込み、調光層形
成材料が等方性液体状態となる温度に保ちながら、 ４
０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射することによっ
て、液晶材料及び透明性高分子物質から成る厚さ１２．
０μｍの調光層を有する液晶デバイスを得た。

【００６６】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００６７】比較例１で使用した「ＨＸ−２２０」は前
記方法により精製されたもので、その２５℃における比
抵抗値は５．８０×１０¹¹Ω・cmであった。また、「Ｌ
Ａ（１）」は精製を行っていない市販のもので、その２
５℃における比抵抗値は７．７３×１０¹¹Ω・cmであっ
た。

【００６８】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９８．５％、８
０℃で８８．９％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９６．８％、８０℃で８０．８％であった。

【００６９】（比較例２）実施例１で使用した液晶組成
物（Ａ）７９．６重量％、比較例１で使用した「ＨＸ−
２２０」１２重量％、「ＬＡ（２）」（共栄社製ラウリ
ルアクリレート）８重量％及び「イルガキュア６５１」
０．４重量％（重合性組成物に対し２．０重量％）から
なる調光層形成材料を１２．０μｍのガラスファイバー
製スペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板
に挟み込み、調光層形成材料が等方性液体状態となる温
度に保ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照
射することによって、液晶組成物及び透明性高分子物質
から成る厚さが１２．０μｍの調光層を有する液晶デバ
イスを得た。

【００７０】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００７１】比較例２で使用した「ＬＡ（２）」は前記
方法により精製されたもので、その２５℃における比抵
抗値は７．２０×１０¹²Ω・cmであった。

【００７２】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９８．９％、８
０℃で９１．９％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９７．６％、８０℃で８４．０％であった。

【００７３】（比較例３）下記に示した組成から成る液
晶組成物（Ｃ）７５．５２重量％、実施例１で使用した
「ＫＵ−７６０」１２重量％、実施例２で使用した「Ｉ
ＳＡ」１２重量％、及び「イルガキュア６５１」０．４
８重量％（重合性組成物に対し２．０重量％）からなる
調光層形成材料を１２．０μｍのガラスファイバー製ス
ペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟
み込み、調光層形成材料が等方性液体状態となる温度に
保ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射す
ることによって、液晶組成物及び透明性高分子物質から
成る厚さが１２．０μｍの調光層を有する液晶デバイス
を得た。

【００７４】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００７５】液晶組成物（Ｃ）の組成：

【化３】

【００７６】比較例３で使用した液晶組成物（Ｃ）の２
５℃における比抵抗値は４．８１×１０¹²Ω・cmであっ
た。

【００７７】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９２．４％、８
０℃で７７．１％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で７７．６％、８０℃で３０．９％であった。

【００７８】（比較例４）実施例１で使用した液晶組成
物（Ａ）７６．３重量％、実施例１で使用した「ＫＵ−
７６０」１１．５重量％、実施例２で使用した「ＩＳ
Ａ」１１．５重量％及び「イルガキュア６５１」０．７
重量％（重合性組成物に対し３．０重量％）からなる調
光層形成材料を１２．０μｍのガラスファイバー製スペ
ーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス基板に挟み
込み、調光層形成材料が等方性液体状態となる温度に保
ちながら、 ４０ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射する
ことによって、液晶組成物及び透明性高分子物質から成
る厚さが１２．０μｍの調光層を有する液晶デバイスを
得た。

【００７９】このようにして得た液晶デバイスの調光層
を電子顕微鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性
固体物質を確認することができた。

【００８０】次に、このようにして得た液晶デバイスの
電圧保持率を測定したところ、２５℃で９９．０％、８
０℃で９６．５％であった。また、１５０℃による耐熱
試験を１時間行った後、同様の測定を行なった結果、２
５℃で９１．４％、８０℃で８７．５％であった。

【００８１】実施例１、２及び比較例１、２で使用した
重合性化合物の比抵抗値と、得られた液晶デバイスの耐
熱試験前後の８０℃における電圧保持率の値を表１にま
とめて示した。

【００８２】

【表１】

【００８３】表１にまとめたものは、２５℃における比
抵抗値が３．１５×１０¹³Ω・cmと高い液晶組成物
（Ａ）を使用したものである。表１に示した結果から、
重合性化合物の２５℃における比抵抗値が１×１０¹³Ω
・cm以上のものを使用した実施例１及び実施例２の液晶
デバイスは、電圧保持率が高く、耐熱性試験の前後にお
いても電圧保持率の値にほとんど変化が見られないのに
対し、重合性化合物の２５℃における比抵抗値が１×１
０¹³Ω・cmよりも低いものを使用した比較例１及び比較
例２の液晶デバイスは、実施例１及び実施例２の液晶デ
バイスと比較して、試験前の電圧保持率があまり高くな
く、しかも、耐熱性試験によって電圧保持率の値が低下
することが理解できる。

【００８４】実施例２、３及び比較例３で使用した液晶
組成物の比抵抗値と、得られた液晶デバイスの耐熱試験
前後の８０℃における電圧保持率の値を表２にまとめて
示した。

【００８５】

【表２】

【００８６】表２にまとめたものは、２５℃における比
抵抗値が１．０９×１０¹⁵Ω・cmと１．３０×１０¹⁵Ω
・cmの重合性化合物を使用したものである。表１に示し
た結果から、液晶組成物の２５℃における比抵抗値が１
×１０¹³Ω・cm以上のものを使用した実施例２及び実施
例３の液晶デバイスは、電圧保持率が高く、耐熱性試験
の前後においても電圧保持率の値にほとんど変化が見ら
れないのに対し、液晶組成物の２５℃における比抵抗値
が１×１０¹³Ω・cmよりも低いものを使用した比較例３
の液晶デバイスは、実施例２及び実施例３の液晶デバイ
スと比較して、耐熱性試験前の電圧保持率が低く、しか
も、耐熱性試験によって電圧保持率の値が著しく低下す
ることが理解できる。

【００８７】実施例２、４及び比較例４で使用した光重
合開始剤の重合性組成物に対する重量％と、得られた液
晶デバイスの耐熱試験前後の８０℃における電圧保持率
の値を表３にまとめて示した。

【００８８】

【表３】

【００８９】表３にまとめたものは、重合性化合物及び
液晶組成物ともに比抵抗値が１×１０¹³Ω・cm以上のも
のを使用したものである。光重合開始剤の含有量が重合
性組成物の２重量％以下である調光層形成材料を用いた
実施例４及び実施例２の液晶デバイスは、電圧保持率が
高く、耐熱性試験の前後においても電圧保持率の値にほ
とんど変化が見られないのに対し、光重合開始剤の含有
量が重合性組成物の２重量％を越える量を使用した調光
層形成材料を用いた比較例４の液晶デバイスは、実施例
４及び実施例２の液晶デバイスと比較して、試験前の電
圧保持率がほぼ同程度であるが、耐熱性試験によって電
圧保持率の値が低下することが理解できる。

【００９０】

【発明の効果】本発明の製造方法により得られた光散乱
型液晶デバイスは、電圧保持率が高く、耐熱性にも優れ
ているので、アクティブ駆動方式に用いる明るくコント
ラストの良い大型の表示装置に有用である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極層を有する少なくとも一方が透明な
   ２枚の基板間に、液晶組成物及び重合性組成物を含有す
   る調光層形成材料を挟持した後、重合性組成物を重合さ
   せることによって、液晶組成物及び透明性高分子物質を
   含有する調光層を２枚の基板間に有する液晶デバイスの
   製造方法において、 液晶組成物として、２５℃における比抵抗値が１×１０
   ¹³Ω・cm以上、１×１０¹⁵Ω・cm以下の範囲にある液晶
   組成物を使用し、重合性組成物として、２５℃における
   比抵抗値が１×１０¹³Ω・cm以上、１×１０¹⁵Ω・cm以
   下の範囲にある重合性組成物を使用することを特徴とす
   る液晶デバイスの製造方法。
2. 【請求項２】 調光層形成材料が更に光重合開始剤を含
   有し、光重合開始剤の含有量が重合性組成物の２重量％
   以下であることを特徴とする請求項１記載の液晶デバイ
   スの製造方法。
3. 【請求項３】 調光層形成材料が等方性液体状態を示す
   温度で重合性組成物を重合させることを特徴とする請求
   項１又は２記載の液晶デバイスの製造方法。