JPH0978228A - 薄膜樹脂マトリックスの製造方法 - Google Patents

薄膜樹脂マトリックスの製造方法

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JPH0978228A
JPH0978228A JP23886195A JP23886195A JPH0978228A JP H0978228 A JPH0978228 A JP H0978228A JP 23886195 A JP23886195 A JP 23886195A JP 23886195 A JP23886195 A JP 23886195A JP H0978228 A JPH0978228 A JP H0978228A
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洋一 村山
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 Cr膜のブラックマトリックスに替わる安全
で高特性なブラックマトリックスや高特性なカラー表示
薄膜を製造する。 【解決手段】 1種以上の有機顔料を蒸発させ、プラズ
マ成膜法により基板上に膜付けする。また、場合によ
り、膜付けに際し、金属または合金も蒸発励起させ、混
合複合膜とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、薄膜樹脂マトリ
ックスの製造方法に関するものである。さらに詳しく
は、この発明は、TFTやSTN等の液晶カラーディス
プレイのブラックマトリックスや各種のカラー表示等に
好適に用いることのできる製造が簡易で、高品質な成膜
を可能とする、新しい薄膜樹脂マトリックスの製造方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術とその課題】TFTやSTNなどの液晶カ
ラーディスプレイには、カラー表示のために赤色
(R)、緑色(G)、青色(B)の3色のカラーフィル
ターがガラスなどの透明電極基板上に設けられており、
この透明電極基板への印加電圧を調整することにより3
色のカラーフィルターそれぞれを透過する光量を制御し
てカラー表示を行っている。しかし、実際には、3色の
カラーフィルターのみによるカラー表示ではその鮮明度
などに難点があるため、発色効果やコントラストを向上
させるために遮光性を有するブラックマトリックスと呼
ばれる膜が透明電極基板上、各RGBカラーフィルター
の間に形成されている。
【0003】たとえば従来の顔料分散法プロセスによる
TFT用カラーフィルターの構成の一例を示すと、透明
電極基板であるガラス基板上には、赤色カラーフィルタ
ー、緑色カラーフィルター、青色カラーフィルターの3
色のカラーフィルターが設けられており、さらにこれら
のカラーフィルターを区画するように各カラーフィルタ
ーの間にCr膜のブラックマトリックスが設けられてい
る。そして、これらのカラーフィルターとブラックマト
リックスを覆うようにガラス基板上にオーバーコートが
設けられ、さらにオーバーコート上にはITO導電膜が
設けられている。このように、3色のカラーフィルター
を区画するようにブラックマトリックスを形成させるこ
とにより、より高精細なカラー表示を行っている。
【0004】従来より、このような液晶カラーディスプ
レイ用カラーフィルターのブラックマトリックスとして
は、上記の通り、金属Cr膜が用いられている。この金
属Cr膜のブラックマトリックスは、解像性や遮光性に
優れていたために多用されている。しかしながら、この
金属Crは有毒物性を有する劇毒物であるため、環境や
人体への影響が懸念されている。そこで、近年、他の物
質への変換が検討されており、Crブラックマトリック
スに替わるものとして樹脂ブラックマトリックスが注目
されはじめている。このような樹脂ブラックマトリック
スの製造方法としては、有機溶媒・顔料の混合インキを
スピンコーターにより膜付けする湿式法や、電解液中に
おいて分散する有機物質を電気泳動方式により膜付けす
る電着法などが提案されてもいる。
【0005】しかしながら、この湿式法や電着法による
樹脂ブラックマトリックスの製造法では、その製造工程
が複雑であり反応速度も遅く、大量生産に適さないとい
った欠点がある。また一方で、各種のカラー表示におい
ては薄膜の利用が期待されているが、これまでの技術は
いずれも塗装方法が主流となっており、その操作や取扱
いは面倒であった。しかも、各種の金属や無機物の気相
蒸着によるカラー表示も知られているが、カラーのバリ
エーションに制約があり、製造技術としては自由度が乏
しいのが実情である。
【0006】そこで、この発明は、上記のような従来技
術の欠点を解決するために創案されたものであり、Cr
膜のブラックマトリックスに替わる安全で高特性なブラ
ックマトリックスや各種のカラー表示のための薄膜を容
易に、かつ高品質なものとして製造することのできる、
新しい薄膜樹脂マトリックスの製造方法を提供すること
を目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記の課題
を解決するものとして、1種以上の有機顔料を蒸発さ
せ、プラズマ成膜法により基板上に膜付けすることを特
徴とする薄膜樹脂マトリックスの製造方法を提供する。
さらにまた、この発明は、1種以上の有機顔料を蒸発さ
せ、プラズマ成膜法により基板上に膜付けする際に、有
機顔料とともに金属もしくは合金をも蒸発させて励起
し、基板上に混合複合膜からなる樹脂マトリックスを製
造することを特徴とする薄膜樹脂マトリックスの製造方
法をも提供する。
【0008】
【発明の実施の形態】この発明の薄膜樹脂マトリックス
の製造方法では、上記の通り、有機顔料を蒸発させ、プ
ラズマ成膜法によりガラス、その他の基板上に膜付けす
る。この方法の場合、プラズマ成膜法としては、いわゆ
るグロー放電プラズマにより成膜する各種の方法が採用
されるが、なかでも成膜による付着強度、薄膜組織の均
一性等の観点からは、高周波励起によるイオンプレーテ
ィングや反応性イオンプレーティング法がその好適な代
表例として挙げられる。
【0009】このようなプラズマ成膜法においては、た
とえば真空度1×10-6〜1×10 -4Torrレベルに
まで真空排気した反応槽内において、有機顔料、もしく
は有機顔料と金属または合金とを蒸発させ、蒸発粒子を
プラズマ励起して成膜することになる。このプラズマ成
膜においては、たとえばアルゴン(Ar)圧1×10-4
〜1×10-2Torrレベルにおいて基板を加熱して、
または加熱することなく成膜することができる。蒸発は
抵抗加熱、誘導加熱、あるいは電子ビーム照射等によっ
て行うことができる。
【0010】この発明の樹脂ブラックマトリックスは、
有機顔料分子、その架橋物、プラズマ重合物、さらには
これらと金属もしくは合金との混合複合膜として成膜さ
れることになる。有機顔料としてはカーボンブラック等
の黒色顔料や、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、黄色顔
料等の各種のものの単独、もしくはその混合が、成膜さ
れる樹脂マトリックスの反射率、膜密着性等を考慮して
使用される。配合割合の選択も同様である。金属もしく
は合金についても、同様にAl、Ti、Ge、Zr、
W、Mo、Ag等の各種のものが選択使用される。
【0011】また、基板としては、ガラス、ガラス・I
TO透明電極をはじめ、各種の無機物、あるいは有機ポ
リマー、金属もしくは合金等が使用される。そして、こ
の発明では、有機顔料のみの場合、あるいは有機顔料の
金属もしくは合金の複合の場合も、複数の顔料物質を用
いてよく、これらの別異の有機顔料は順次に積層膜付け
してもよいし、別異の有機顔料を別々の蒸発源より同時
に蒸発させて膜付けすることや、別異の有機顔料をあら
かじめ混合した蒸発源より蒸発させて膜付けすることで
あってもよい。
【0012】有機顔料とともに金属もしくは合金を用い
る場合には、その割合は、蒸発使用量としておおむね1
00:1〜30(重量比)程度とする。なお、成膜に際
して、基板表面をプラズマにさらしてボンバード処理す
ることも有効である。以上の方法により得られるこの発
明の薄膜樹脂マトリックスは、硬度、密着強度、反射率
特性等に優れ、Crブラックマトリックスに代わり得る
ものとして、また各種のカラー表示薄膜のためのマトリ
ックスとして極めて高品質である。
【0013】以下、実施例を示し、さらに詳しくこの発
明の実施の形態について説明する。もちろんこの発明は
以下の例によって限定されるものではない。
【0014】
【実施例】図1は、この発明の方法として、高周波励起
方式によるプラズマ成膜のための装置構成の概要を例示
したものである。すなわち、たとえば、この図1に例示
したように、反応槽(1)内に、蒸発ボートに入れた蒸
発源(2)(3)と、基板ホルダーに支持した基板
(4)、シャッター(5)、高周波励起コイル(6)を
配置し、真空排気口(7)、Ar(アルゴン)ガス等不
活性ガスや反応性ガス等のガス導入口(8)、さらには
真空計(9)、膜厚計(10)を備えている。
【0015】このような構成からなる成膜装置におい
て、以下のような操作条件を採用した。 真空度:1×10-5Torr 成膜圧:Ar 1×10-3Torr 高周波電力:20W(13.56MHz) 蒸発手段:抵抗加熱 基板と蒸発源との距離:200mm 基板:ガラス 基板ボンバード:Ar、2×10-4Torr、10分間 蒸発温度:370℃ 成膜速度:17〜20Å/sec 以上の操作条件において、図1の蒸発源(1)として順
次有機顔料としてペリレンレッド(赤色顔料)および銅
フタロシアニンブルー(青色顔料)を用い、これを順次
5000Å毎に成膜して多層膜(膜厚10000Å)を
形成した。得られた薄膜樹脂マトリックスは、鉛筆硬度
HBで、スコッチテープ法による密着試験での剥離はな
く、反射率は、図2にも示したが、膜面よりの測定(島
津製作所UV−2100S、レファレンスはAl)によ
り、ほぼ2%であることが確認された。
【0016】ちなみに、図3は、この従来のカラーフィ
ルターに用いられている金属Cr膜のブラックマトリッ
クスの反射率特性を示したものである。これら図2及び
図3から明らかなように、この発明により製造された樹
脂マトリックスの反射率は、その膜厚が従来の金属Cr
膜のブラックマトリックスの膜厚に比べて厚いものの、
波長380〜700nmの可視光領域全域において反射
率約2%のフラットな特性を有し、従来の金属Cr膜の
ブラックマトリックスの高反射率に比べると、非常に低
い反射率であることがかる。液晶ディスプレイに用いら
れているカラーフィルターのブラックマトリックスの反
射率は、カラー表示の鮮明度を大きく左右するものであ
り、たとえば、強い外光の下での表示の際には表示コン
トラストを高めるためにその反射率を低く抑える必要が
ある。したがって、この発明による樹脂マトリックスは
優れた低反射率を有するために、これを用いたカラーフ
ィルターはコントラストの良いカラー表示を行うことが
できる。
【0017】また、この発明の樹脂マトリックスの光学
濃度は3以下となり、波長380〜700nmの可視光
領域全域においてその光学濃度が3以上とならなければ
ならないと言うブラックマトリックスの使用条件を十分
に満たすものとなる。なお、上記の2種の有機顔料を、
別々の蒸発源から同時に蒸発させて膜付けした場合にも
ほぼ上記の同様の優れた結果が得られた。
【0018】次に、図1の蒸発源(2)として金属Ge
(ゲルマニウム)を用い、蒸発源(1)として、順次、
上記の通りペリレンレッド、銅フタロシアニンブルーを
用い、同時に蒸発励起させ、ペリレンレッド−Ge混合
複合膜(膜厚5000Å)および銅フタロシアニンブル
ー−Ge混合複合膜(膜厚5300Å)を積層成膜し
た。
【0019】得られた膜厚10300Åの樹脂マトリッ
クスは、鉛筆硬度5Hで、剥離はなく、その反射率は、
図4に例示した通り、約2%であった。非常に硬質の、
低反射膜が得られた。なお、上記の2種の有機顔料を、
別々の蒸発源から同時に蒸発させて膜付けした場合にも
ほぼ上記の同様の優れた結果が得られた。
【0020】
【発明の効果】この発明は、以上詳しく説明した通り、
Cr膜のブラックマトリックスに替わる安全で高特性な
樹脂マトリックスを容易に製造することができ、また、
高特性なカラー表示薄膜を容易に製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の方法のための装置構成を例示した断
面図である。
【図2】実施例としての薄膜樹脂マトリックスの反射率
特性図である。
【図3】従来のカラーフィルターに用いられている金属
Cr膜のブラックマトリックスの反射率特性図である。
【図4】この発明の別の実施例としての薄膜樹脂マトリ
ックスの反射率特性図である。
【符号の説明】
1 反応槽 2 蒸発源 3 蒸発源 4 基板 5 シャッター 6 高周波励起コイル 7 真空排気口 8 ガス導入口 9 真空計 10 膜厚計

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 1種以上の有機顔料を蒸発させ、プラズ
    マ成膜法により基板上に膜付けすることを特徴とする薄
    膜樹脂マトリックスの製造方法。
  2. 【請求項2】 別異の有機顔料を順次に積層膜付けする
    請求項1の薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  3. 【請求項3】 別異の有機顔料を別々の蒸発源より同時
    に蒸発させて膜付けする請求項1の薄膜樹脂マトリック
    スの製造方法。
  4. 【請求項4】 別異の有機顔料をあらかじめ混合した蒸
    発源より蒸発させて膜付けする請求項1の薄膜樹脂マト
    リックスの製造方法。
  5. 【請求項5】 有機顔料が、赤色顔料、青色顔料、緑色
    顔料および黄色顔料の少くとも1種である請求項1ない
    し4の薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  6. 【請求項6】 1種以上の有機顔料を蒸発させ、プラズ
    マ成膜法により基板上に膜付けする際に、有機顔料とと
    もに金属もしくは合金をも蒸発させて励起し、基板上に
    混合複合膜からなる樹脂マトリックスを製造することを
    特徴とする薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  7. 【請求項7】 別異の有機顔料を順次に金属もしくは合
    金とともに蒸発させて積層膜付けする請求項1の薄膜樹
    脂マトリックスの製造方法。
  8. 【請求項8】 別異の有機顔料を別々の蒸発源より同時
    に金属もしくは合金とともに蒸発させて膜付けする請求
    項1の薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  9. 【請求項9】 別異の有機顔料をあらかじめ混合した蒸
    発源より金属もしくは合金とともに蒸発させて膜付けす
    る請求項1の薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  10. 【請求項10】 有機顔料が、赤色顔料、青色顔料、緑
    色顔料および黄色顔料の少くとも1種である請求項6な
    いし10の薄膜樹脂マトリックスの製造方法。
  11. 【請求項11】 高周波励起によりプラズマ成膜するこ
    とを特徴とする請求項1ないし10のいずれかの薄膜樹
    脂マトリックスの製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006171781A (ja) * 2006-01-11 2006-06-29 Mitsubishi Chemicals Corp 遮光性感光性組成物の製造方法、遮光性感光性組成物、及びカラーフィルター

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2874606B1 (fr) * 2004-08-26 2006-10-13 Saint Gobain Procede de transfert d'une molecule organique fonctionnelle sur un substrat transparent
KR102650149B1 (ko) * 2015-11-10 2024-03-20 노발레드 게엠베하 금속 함유 층을 제조하는 공정

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5266798A (en) * 1975-11-29 1977-06-02 Sumitomo Chemical Co Powder coating method of cloth
JPS60195035A (ja) * 1984-03-19 1985-10-03 Unitika Ltd 防眩性透明成型物
DE4137606C1 (ja) * 1991-11-15 1992-07-30 Schott Glaswerke, 6500 Mainz, De
FR2708626B1 (fr) * 1993-08-02 1998-06-05 Director General Agency Ind Film ultramince transparent et conducteur et procédé pour sa fabrication.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006171781A (ja) * 2006-01-11 2006-06-29 Mitsubishi Chemicals Corp 遮光性感光性組成物の製造方法、遮光性感光性組成物、及びカラーフィルター

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