JPH0961617A - Production of liquid color filter - Google Patents
Production of liquid color filterInfo
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- JPH0961617A JPH0961617A JP21379395A JP21379395A JPH0961617A JP H0961617 A JPH0961617 A JP H0961617A JP 21379395 A JP21379395 A JP 21379395A JP 21379395 A JP21379395 A JP 21379395A JP H0961617 A JPH0961617 A JP H0961617A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレー
に用いられる液晶カラーフィルターの製造方法に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal color filter used for a liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ブラ
ウン管（ＣＲＴ）などに代わる表示デバイスとして用い
られている液晶ディスプレーは、液晶カラーフィルター
を用いることによってカラー表示を実現している。この
液晶カラーフィルターは、例えば図３に示すように、１
画素毎にパターン化されたレッド（Ｒ）、グリーン
（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色の透明着色層８が透明基板
３上に形成されたものである。2. Description of the Related Art A liquid crystal display used as a display device replacing a cathode ray tube (CRT) realizes color display by using a liquid crystal color filter. This liquid crystal color filter is, for example, as shown in FIG.
A transparent coloring layer 8 of three colors of red (R), green (G) and blue (B) patterned for each pixel is formed on the transparent substrate 3.
【０００３】近年、薄層トランジスタ（ＴＦＴ）やスー
パーツイストネマティック（ＳＴＮ）等の液晶駆動方式
の発達によって液晶ディスプレーの高画質化が進み、こ
れに伴って、微細な透明着色層のパターンを極めて精密
に作製することが要求されている。具体的には、４００
ｍｍ×４００ｍｍの範囲において、線幅が１０〜４０μ
ｍである微細なパターンを、設計値とのずれが約５μｍ
以内の精度でもって作製することが要求される。In recent years, liquid crystal displays have become higher in image quality due to the development of liquid crystal driving systems such as thin-layer transistors (TFT) and super twisted nematic (STN), and accordingly, the pattern of a fine transparent colored layer has become extremely precise. It is required to make it. Specifically, 400
Line width is 10-40μ in the range of mm x 400 mm
The deviation from the design value of a fine pattern of m is about 5 μm
It is required to manufacture with an accuracy within the range.
【０００４】液晶カラーフィルターの製造方法として
は、前記透明着色層の作製にフォトリソグラフィー技術
を用いる方法と、印刷技術を用いる印刷法とに分類され
る。このうちフォトリソグラフィーを用いる方法は、パ
ターンに応じたレジストを透明基板上に形成し、露光し
てエッチングを施すことによりパターンを作製する方法
である。この方法によれば、微細なパターンを精密に作
製できるものの、高価なフォトレジストが多量に必要で
あり、かつレジストの塗布、乾燥、露光、現像、硬化な
どの各工程に巨額の設備が必要であるため、液晶カラー
フィルターのコストが高くなるという問題がある。The method for producing a liquid crystal color filter is classified into a method using a photolithography technique for producing the transparent colored layer and a printing method using a printing technique. Among them, the method using photolithography is a method of forming a pattern by forming a resist corresponding to the pattern on a transparent substrate, exposing it, and etching it. According to this method, although a fine pattern can be precisely produced, a large amount of expensive photoresist is required, and a large amount of equipment is required for each step such as resist coating, drying, exposure, development and curing. Therefore, there is a problem that the cost of the liquid crystal color filter becomes high.
【０００５】一方、印刷法は、インキ樹脂を透明基板上
に印刷することによってパターンを作製する方法であ
る。この方法はパターンを作製するための工程が少な
く、高価な材料の消費量が少ないことから、量産性とコ
ストの面で非常に有望な方法である。種々の印刷法のう
ち微細なパターンを作製する場合は、通常、ガラス基板
や金属板からなる版を用いたオフセット印刷法が使用さ
れる。オフセット印刷法では、フォトリソグラフィー技
術を用いて版上にパターンを形成することから、微細な
パターンを非常に精密に版上に作製することができる。
具体的には、４００ｍｍ×４００ｍｍの範囲において、
線幅が１０〜４０μｍ程度のパターンを設計値とのずれ
が５μｍ以内となるように作製できる。On the other hand, the printing method is a method of forming a pattern by printing an ink resin on a transparent substrate. This method is a very promising method in terms of mass productivity and cost because it requires few steps for forming a pattern and consumes less expensive materials. When making a fine pattern among various printing methods, an offset printing method using a plate made of a glass substrate or a metal plate is usually used. In the offset printing method, since a pattern is formed on the plate by using a photolithography technique, a fine pattern can be formed on the plate with great precision.
Specifically, in the range of 400 mm × 400 mm,
A pattern having a line width of about 10 to 40 μm can be manufactured so that the deviation from the design value is within 5 μm.
【０００６】しかしながら、上記版からオフセットブラ
ンケットを介して透明基板上へインキを転移させること
によってパターンに歪みが発生し、透明基板上に形成さ
れたパターンは、設計値とのずれが５０〜１００μｍに
もなる。このずれが生じる原因としては、オフセットブ
ランケットの胴径のばらつき、オフセットブランケット
の胴に付いているピニオンギヤとラックギヤの精度のば
らつき、オフセットブランケットの送り速度のばらつき
等が考えられる。However, when the ink is transferred from the plate to the transparent substrate through the offset blanket, the pattern is distorted, and the pattern formed on the transparent substrate has a deviation from the design value of 50 to 100 μm. Also becomes. Possible causes of this deviation are variations in the barrel diameter of the offset blanket, variations in the accuracy of the pinion gear and rack gear attached to the barrel of the offset blanket, variations in the feed rate of the offset blanket, and the like.
【０００７】一方、オフセットブランケットを介在させ
ず、版と透明基板とを密着させてインキを直接転移させ
る方法も提案されている。この方法を用いると、パター
ンの歪みが生じず、正確なパターン転写が可能になるも
のの、金属、ガラス、硬質フィルムなどからなる凹版
と、ガラスからなる透明基板とはいずれも硬質な部材で
あるため、両者を圧着させてもインキが転写されにくい
という問題がある。On the other hand, a method has also been proposed in which an ink is directly transferred by bringing a plate and a transparent substrate into close contact with each other without interposing an offset blanket. When this method is used, pattern distortion does not occur and accurate pattern transfer is possible, but since the intaglio plate made of metal, glass, a hard film, etc. and the transparent substrate made of glass are both hard members. However, there is a problem that the ink is not easily transferred even when both are pressure-bonded.
【０００８】本発明の目的は、透明着色層の微細なパタ
ーンを印刷法を用いて精密に形成できる液晶カラーフィ
ルターの製造方法を提供することである。It is an object of the present invention to provide a method for producing a liquid crystal color filter, which allows a fine pattern of a transparent colored layer to be precisely formed by using a printing method.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、凹版の表面に
設けられた凹部にインキを充填し、次いでこの凹版の表
面に透明基板を圧着してインキを転移させることによっ
て前記透明基板上に透明着色層を形成する液晶カラーフ
ィルターの製造方法であって、前記透明基板の表面およ
び／または前記凹版の表面のうちの非画線部に樹脂コー
ティング膜が形成されているときは、凹版から透明基板
へのインキの転移がスムーズに行われ、透明着色層のパ
ターンを透明基板上に高い精度で転写できるという新た
な事実を見出し、本発明を完成するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors filled ink in the recesses provided on the surface of the intaglio plate, and then made transparent on the surface of this intaglio plate. A method for manufacturing a liquid crystal color filter, wherein a transparent colored layer is formed on the transparent substrate by pressure-bonding the substrate to transfer ink, wherein a non-image line on the surface of the transparent substrate and / or the surface of the intaglio plate is used. When a resin coating film is formed on the area, the new fact that the transfer of ink from the intaglio to the transparent substrate is performed smoothly and the pattern of the transparent colored layer can be transferred onto the transparent substrate with high accuracy, The present invention has been completed.
【００１０】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法
においては、前記透明基板や凹版がたとえ金属、ガラ
ス、硬質フィルムなどの硬質材料からつくられていたと
しても、透明基板の表面あるいは凹版の非画線部の表面
が樹脂でコーティングされているため、凹版から透明基
板へのインキの転移をスムーズに行うことができる。In the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, even if the transparent substrate or the intaglio plate is made of a hard material such as metal, glass, or a hard film, the non-printing line on the surface of the transparent substrate or the intaglio plate is not printed. Since the surface of the portion is coated with resin, the ink can be smoothly transferred from the intaglio plate to the transparent substrate.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる凹版は、その
表面に透明着色層のパターンに対応した凹部を形成した
ものである。前記凹版には、例えばソーダライムガラ
ス、ノンアルカリガラス、石英、低アルカリガラス、低
膨張ガラス、ステンレス、銅などが用いられる。なかで
も、ソーダライムガラスなどの軟質ガラスを用いるの
が、微細なパターンを高精度で再現するうえで好まし
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The intaglio plate used in the present invention has recesses corresponding to the pattern of the transparent colored layer formed on the surface thereof. For the intaglio plate, for example, soda lime glass, non-alkali glass, quartz, low alkali glass, low expansion glass, stainless steel, copper or the like is used. Above all, it is preferable to use soft glass such as soda lime glass in order to reproduce a fine pattern with high accuracy.
【００１２】凹部の深さは透明着色層の膜厚に大きく影
響しており、所望の膜厚に応じて、通常、１〜１０μｍ
の範囲で設定される。凹部を形成する方法としては、凹
版の基板表面にレジストを塗布し、レーザー照射などを
用いてパターンに応じてレジストを除去した後、エッチ
ングによって凹部を形成する方法が好適に用いられる。
このように、フォトリソグラフィーの技術を用いること
で、微細なパターンを高精度で基板上に形成できる。The depth of the recess greatly influences the film thickness of the transparent colored layer, and it is usually 1 to 10 μm depending on the desired film thickness.
Is set in the range. As a method of forming the concave portion, a method of applying a resist to the surface of the substrate of the intaglio plate, removing the resist according to the pattern using laser irradiation or the like, and then forming the concave portion by etching is preferably used.
Thus, by using the photolithography technique, a fine pattern can be formed on the substrate with high accuracy.
【００１３】透明基板としては、波長４００〜７００ｎ
ｍの光に対する透過率が高いものが好ましい。例えば、
ノンアルカリガラス、ソーダライムガラス、低アルカリ
ガラス等のガラス基板や、ポリエーテル、ポリサルホ
ン、ポリアリレート等のフィルムが好適に用いられる。
本発明における樹脂コーティング膜は、透明基板の表面
と凹版の非画線部の表面との両方、あるいはいずれか一
方に形成されていればよい。The transparent substrate has a wavelength of 400 to 700 n.
Those having a high transmittance for m light are preferable. For example,
Glass substrates such as non-alkali glass, soda lime glass and low alkali glass, and films such as polyether, polysulfone and polyarylate are preferably used.
The resin coating film in the present invention may be formed on both the surface of the transparent substrate and the surface of the non-image area of the intaglio, or either one of them.
【００１４】上記樹脂コーティング膜は、凹版または透
明基板よりも硬度が低ければよく、具体的には、樹脂コ
ーティング膜の硬度が鉛筆硬度でＨ〜６Ｈであるのが好
ましい。硬度が前記範囲よりも高いときは、凹版から透
明基板へのインキの転移をスムーズにするという本発明
の効果が得られなくなるおそれがある。一方、硬度が前
記範囲よりも低いときは、樹脂コーティング膜の圧縮変
形による精度不良や透明基板の表面に傷が生じやすくな
るといった問題が起こるために好ましくない。The resin coating film may have a hardness lower than that of the intaglio plate or the transparent substrate. Specifically, the pencil hardness of the resin coating film is preferably H to 6H. When the hardness is higher than the above range, the effect of the present invention of smoothing the transfer of ink from the intaglio plate to the transparent substrate may not be obtained. On the other hand, when the hardness is lower than the above range, problems such as poor precision due to compressive deformation of the resin coating film and easy scratching on the surface of the transparent substrate occur, which is not preferable.
【００１５】樹脂コーティング膜の形成には、ディッピ
ング、スピンコート、ロールコート等の従来公知の種々
のコーティング法を用いることができる。以下、樹脂コ
ーティング膜を透明基板の表面に形成する場合、凹版の
非画線部の表面に形成する場合および透明基板の表面と
凹版の非画線部の表面との両方に形成する場合の３つに
分けて説明する。 (i) 透明基板の表面に形成する場合 透明基板の表面に形成される樹脂コーティング膜の膜厚
は、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは１〜５μｍで
ある。コーティング膜の膜厚が前記範囲を下回るとき
は、凹版から透明基板へのインキの転移をスムーズにす
るという本発明の効果が得られなくなり、インキの転写
が不十分になったり、パターンの膜厚にばらつきが生じ
るおそれがある。一方、膜厚が前記範囲を超えるとき
は、透明基板の光透過性が低下するおそれがある。ま
た、透明基板の表面の平坦性が低下するおそれもあり、
液晶ディスプレーの画像が乱れる原因となるために好ま
しくない。For forming the resin coating film, various conventionally known coating methods such as dipping, spin coating and roll coating can be used. In the following, there are three cases where the resin coating film is formed on the surface of the transparent substrate, on the surface of the non-image area of the intaglio, and on both the surface of the transparent substrate and the surface of the non-image area of the intaglio. I will explain in two parts. (i) When formed on the surface of a transparent substrate The film thickness of the resin coating film formed on the surface of the transparent substrate is usually 0.1 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. When the film thickness of the coating film is less than the above range, the effect of the present invention that smoothes the transfer of ink from the intaglio plate to the transparent substrate cannot be obtained, the transfer of ink becomes insufficient, and the film thickness of the pattern May vary. On the other hand, when the film thickness exceeds the above range, the light transmittance of the transparent substrate may decrease. In addition, the flatness of the surface of the transparent substrate may decrease,
This is not preferable because it causes the image on the liquid crystal display to be disturbed.
【００１６】透明基板の表面に形成される樹脂コーティ
ング膜としては、十分な光透過性と耐熱性とを有する必
要がある。具体的には、樹脂コーティング膜の光透過性
としては、波長領域が４００〜７００ｎｍの光に対する
光透過率が９０％以上、好ましくは９５％以上であるこ
とが要求される。また、耐熱性としては、２２０℃で１
時間加熱処理した後の光透過率の減少率が１０％以下、
好ましくは５％以下であることが要求される。The resin coating film formed on the surface of the transparent substrate must have sufficient light transmittance and heat resistance. Specifically, the light transmittance of the resin coating film is required to be 90% or more, preferably 95% or more, for light having a wavelength range of 400 to 700 nm. The heat resistance is 1 at 220 ° C.
The reduction rate of light transmittance after heat treatment for 10 hours or less,
It is preferably required to be 5% or less.
【００１７】上記条件を満たす樹脂としては、アクリル
樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などや、これらの
樹脂の混合物があげられ、これらのうち、凹版よりも硬
度が低いものを用いることができる。 (ii)凹版の非画線部の表面に形成する場合 凹版の非画線部の表面に形成される樹脂コーティング膜
の膜厚は、通常、１〜２０μｍ、好ましくは５〜１０μ
ｍである。コーティング膜の膜厚が前記範囲を下回ると
きは、凹版から透明基板へのインキの転移をスムーズに
するという本発明の効果が得られなくなり、インキの転
写が不十分になったり、パターンの膜厚にばらつきが生
じるおそれがある。一方、膜厚が前記範囲を超えるとき
は、樹脂コーティング膜が圧縮時に変形して剪断ずれを
起こし、パターンの精度が低下するために好ましくな
い。Examples of the resin satisfying the above conditions include acrylic resin, polyester resin, melamine resin, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin and the like, and a mixture of these resins. Of these, the hardness is lower than that of the intaglio plate. Any thing can be used. (ii) When formed on the surface of the non-image area of the intaglio The thickness of the resin coating film formed on the surface of the non-image area of the intaglio is usually 1 to 20 μm, preferably 5 to 10 μm.
m. When the film thickness of the coating film is less than the above range, the effect of the present invention that smoothes the transfer of ink from the intaglio plate to the transparent substrate cannot be obtained, the transfer of ink becomes insufficient, and the film thickness of the pattern May vary. On the other hand, when the film thickness exceeds the above range, the resin coating film is deformed at the time of compression to cause shear displacement, which is not preferable because the pattern accuracy is reduced.
【００１８】樹脂コーティング膜を、凹版の非画線部の
表面すなわち凹部が形成されていない部分の表面に形成
する場合には、画線部すなわち凹部が樹脂で埋まるのを
防ぐ必要がある。従って、凹版の基板に樹脂のコーティ
ング膜を形成した後、フォトレジストの形成とエッチン
グを行なって凹部を形成すればよい。凹版の非画線部の
表面に形成されるコーティング膜としては、従来公知の
種々の樹脂のうち、透明基板よりも硬度が低いものを用
いることができる。 (iii) 透明基板の表面と凹版の非画線部の表面との両方
に形成する場合 透明基板の表面および凹版の非画線部の表面に形成され
る樹脂コーティング膜の膜厚の総和が１０μｍ、好まし
くは５μｍを超えないこと以外は、前述の(i)および(i
i)と同様にして樹脂コーティング膜を形成すればよい。When the resin coating film is formed on the surface of the non-image area of the intaglio, that is, the surface of the area where the depression is not formed, it is necessary to prevent the image area or the depression from being filled with resin. Therefore, after forming the resin coating film on the substrate of the intaglio plate, the photoresist may be formed and the recesses may be formed by etching. As the coating film formed on the surface of the non-image area of the intaglio, any of various conventionally known resins having a hardness lower than that of the transparent substrate can be used. (iii) When formed on both the surface of the transparent substrate and the surface of the non-image area of the intaglio plate The total thickness of the resin coating film formed on the surface of the transparent substrate and the surface of the non-image area of the intaglio plate is 10 μm. , Preferably above 5 μm, except that the above (i) and (i
The resin coating film may be formed in the same manner as i).
【００１９】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法
としては、例えば図１に示す方法があげられる。すなわ
ち、凹版１の凹部２にインキ５を充填し〔図１(a) 〕、
透明基板３の樹脂コーティング面と凹版１の表面とを密
着させ、透明基板３の樹脂コーティング膜４が形成され
ていない面にローラ６を転がして透明基板３と凹版１と
を圧着させる〔図１(b) 〕。このようにして、透明基板
３上にインキ５が転移する〔図１(c) 〕。レッド
（Ｒ）、グリーン（Ｇ）およびブルー（Ｂ）の３色の透
明着色層を形成する場合は、３つのインキについてそれ
ぞれ上記の操作を行えばよい。透明基板３上にインキ５
を転移させた後、インキ５を加熱乾燥して硬化させ、透
明着色層が形成される。As a method for producing the liquid crystal color filter of the present invention, for example, the method shown in FIG. 1 can be mentioned. That is, the concave portion 2 of the intaglio plate 1 is filled with the ink 5 [FIG. 1 (a)],
The resin coated surface of the transparent substrate 3 and the surface of the intaglio 1 are brought into close contact with each other, and the roller 6 is rolled on the surface of the transparent substrate 3 on which the resin coating film 4 is not formed to press the transparent substrate 3 and the intaglio 1 into contact with each other [Fig. (b)]. In this way, the ink 5 is transferred onto the transparent substrate 3 [Fig. 1 (c)]. In the case of forming a transparent colored layer of three colors of red (R), green (G) and blue (B), the above operation may be performed for each of the three inks. Ink 5 on the transparent substrate 3
After the transfer, the ink 5 is dried by heating and cured to form a transparent colored layer.
【００２０】凹版１の凹部２にインキを充填する方法と
しては、例えばインキをドクター刃によってスキージす
る方法、スクリーン印刷を用いて所定の凹部にインキを
充填する方法、ディスペンサー（注入器）で注入する方
法、バブルジェットによって注入する方法などがあげら
れる。上記ロール６としては、例えばゴムローラ、金属
ローラ、プラスチックローラ、セラミックローラ等が用
いられる。As a method of filling the concave portion 2 of the intaglio plate 1 with ink, for example, a method of squeezing the ink with a doctor blade, a method of filling the predetermined concave portion with screen printing, or a dispenser (injector) is used. The method and the method of injecting with a bubble jet are mentioned. As the roll 6, for example, a rubber roller, a metal roller, a plastic roller, a ceramic roller or the like is used.
【００２１】図１においては、透明基板３上に樹脂コー
ティング膜４が形成されているが、かかる樹脂コーティ
ング膜は、前述のように、凹版の非画線部の表面に形成
されていてもよい。また、透明基板３と凹版１とを圧着
させる際に、透明基板３に代えて、凹版１の裏面にロー
ル６を転がしてもよい。図１(b) では、透明基板３と凹
版１とをローラ６にて圧着しているが、図２(b')に示す
ように、透明基板３および／または凹版１の裏面全面を
平面プレス７にて加圧する方法を用いることもできる。In FIG. 1, the resin coating film 4 is formed on the transparent substrate 3, but the resin coating film may be formed on the surface of the non-image area of the intaglio, as described above. . Further, when the transparent substrate 3 and the intaglio plate 1 are pressure-bonded to each other, the roll 6 may be rolled on the back surface of the intaglio plate 1 instead of the transparent substrate 3. In FIG. 1 (b), the transparent substrate 3 and the intaglio plate 1 are pressure-bonded to each other by the roller 6, but as shown in FIG. 2 (b '), the entire rear surface of the transparent substrate 3 and / or the intaglio plate 1 is flat-pressed. A method of applying pressure at 7 can also be used.
【００２２】平面プレス７としては、従来公知の種々の
平面プレス機を使用できる。ロールおよび平面プレスに
よる圧着は、通常、５〜２０ｋｇ／ｃｍ2 程度の圧力で
行われる。ロールにて加圧する場合は、ロールが透明基
板または凹版と接触している部分、すなわちニップ部の
面積からニップ内圧力を求め、この圧力が前記範囲を満
たすように調整すればよい。As the plane press 7, various conventionally known plane press machines can be used. The pressure bonding by the roll and the flat press is usually performed at a pressure of about 5 to 20 kg / cm 2 . When pressure is applied by a roll, the pressure in the nip may be calculated from the area of the nip portion where the roll is in contact with the transparent substrate or the intaglio plate, and the pressure may be adjusted so as to satisfy the above range.
【００２３】透明基板上に転写されたインキ膜を加熱乾
燥するには、透明基板が熱変形しない温度と時間、通常
１８０〜２５０℃で３０〜１８０分間、より好ましくは
２００〜２３０℃で５０〜８０分間加熱乾燥させればよ
い。透明着色層および遮光層を形成するためのインキ
は、樹脂と着色剤と溶剤とを混合した樹脂ワニスであっ
て、耐熱性、耐薬品性および耐光性に優れたものが好ま
しい。このうち、透明着色層を形成するためのインキに
は透明樹脂が用いられる。かかる透明樹脂としては、例
えばポリエステル−メラミン樹脂、エポキシ−メラミン
樹脂、ポリエステル−エポキシ−メラミン樹脂、紫外線
硬化型樹脂などがあげられる。遮光層を形成するための
インキには、従来公知の種々のインキ樹脂を用いること
ができる。To heat and dry the ink film transferred on the transparent substrate, the temperature and time at which the transparent substrate is not thermally deformed are usually 180 to 250 ° C. for 30 to 180 minutes, more preferably 200 to 230 ° C. for 50 to 50 ° C. It may be dried by heating for 80 minutes. The ink for forming the transparent colored layer and the light-shielding layer is preferably a resin varnish obtained by mixing a resin, a colorant and a solvent, and having excellent heat resistance, chemical resistance and light resistance. Among these, a transparent resin is used for the ink for forming the transparent colored layer. Examples of such transparent resin include polyester-melamine resin, epoxy-melamine resin, polyester-epoxy-melamine resin, and ultraviolet curable resin. As the ink for forming the light-shielding layer, various conventionally known ink resins can be used.
【００２４】着色剤は、従来公知の顔料や染料のなかか
ら、耐熱性、耐光性などの特性を考慮して選択される。
透明着色層に用いられる着色剤としては、例えばレッド
（Ｒ）用インキに用いる着色剤としてジアントラキノン
系顔料（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
等）、ペリレン系顔料、縮合アゾ系顔料、キナクリドン
系顔料などが、グリーン（Ｇ）用インキに用いる着色剤
として塩素化フタロシアニン銅、臭素化フタロシアニン
銅（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６等）など
が、ブルー（Ｂ）用インキに用いる着色剤としてフタロ
シアニン銅（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：
６等）などがあげられる。The colorant is selected from conventionally known pigments and dyes in consideration of characteristics such as heat resistance and light resistance.
As the colorant used in the transparent colored layer, for example, a dianthraquinone-based pigment (for example, CI Pigment Red 177 as a colorant used in a red (R) ink) is used.
Etc.), perylene-based pigments, condensed azo-based pigments, quinacridone-based pigments, etc., are chlorinated phthalocyanine copper, brominated phthalocyanine copper (for example, CI Pigment Green 36, etc.) as colorants used in green (G) inks. As a colorant used in the ink for blue (B), such as phthalocyanine copper (for example, CI Pigment Blue 15:
6 etc.) and the like.
【００２５】なお、補色顔料として、レッド（Ｒ）用イ
ンキおよびグリーン（Ｇ）用インキにはビスアゾ系顔料
（例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３等）を、ブ
ルー（Ｂ）用インキにはジオキサジン系顔料（例えば、
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３等）を、それぞれ
色調調整のために必要に応じて添加してもよい。上記補
色顔料は、それぞれ主顔料に対して１０〜８０重量％の
割合で添加すればよい。As complementary color pigments, bisazo pigments (for example, CI Pigment Yellow 83, etc.) are used for red (R) ink and green (G) ink, and dioxazine is used for blue (B) ink. Pigments (for example,
C. I. Pigment Violet 23 etc.) may be added as necessary for adjusting the color tone. The above-mentioned complementary color pigments may be added in a proportion of 10 to 80% by weight with respect to the main pigment.
【００２６】遮光層に用いられる着色剤は遮光性を考慮
して選択され、通常、カーボンブラック、酸化鉄（鉄
黒）、チタンブラックなどが用いられる。また、上記例
示の着色剤のほかに、インキ膜の印刷形状やインキ転移
量を調節するために、非常に微細な粉末の乾式シリカ粉
体や硫酸バリウム、炭酸カルシウム、アルミナ、タル
ク、クレー等を体質顔料として添加することもできる。The colorant used in the light-shielding layer is selected in consideration of the light-shielding property, and usually carbon black, iron oxide (iron black), titanium black or the like is used. In addition to the above-exemplified colorants, in order to adjust the printing shape and ink transfer amount of the ink film, dry silica powder of extremely fine powder, barium sulfate, calcium carbonate, alumina, talc, clay, etc. may be used. It can also be added as an extender pigment.
【００２７】着色剤の添加量は、樹脂１００重量部に対
して１０〜５０重量部、好ましくは２０〜４０重量部で
ある。透明着色層および遮光層を形成するためのインキ
は低粘度であるのが好ましい。具体的には、粘度が１０
〜３００００ポアズ、好ましくは５００〜１００００ポ
アズであるのが適当である。上記範囲よりも粘度が低い
場合は、パターンのライン形状が乱れたり、エッジにヒ
ゲが発生するために好ましくない。一方、上記範囲より
も粘度が高い場合は、透明着色層および遮光層の表面の
平坦性が劣ったり、インキ転移性などの印刷適性が著し
く低下するために好ましくない。The amount of colorant added is 10 to 50 parts by weight, preferably 20 to 40 parts by weight, based on 100 parts by weight of the resin. The ink for forming the transparent colored layer and the light shielding layer preferably has a low viscosity. Specifically, the viscosity is 10
Suitably, it is ˜30,000 poise, preferably 500 to 10,000 poise. If the viscosity is lower than the above range, the line shape of the pattern is disturbed or a whisker is generated at the edge, which is not preferable. On the other hand, when the viscosity is higher than the above range, the flatness of the surfaces of the transparent colored layer and the light-shielding layer is inferior, and printability such as ink transfer property is significantly deteriorated, which is not preferable.
【００２８】インキの溶剤は、従来公知の種々の溶剤を
用いることができ、印刷適性（インキ転移性など）や作
業性などを考慮して適宜選択すればよい。溶剤の添加量
は使用する樹脂などの成分の溶解性または分散性、得ら
れるインキの粘度、作業性、印刷適性などを考慮して適
宜決定すればよく、通常、インキ総量に対して５〜８０
重量％、好ましくは１５〜５０重量％程度である。As the solvent of the ink, various conventionally known solvents can be used, and may be appropriately selected in consideration of printability (ink transferability, etc.) and workability. The amount of the solvent added may be appropriately determined in consideration of the solubility or dispersibility of the components such as the resin to be used, the viscosity of the obtained ink, workability, printability, etc., and usually 5 to 80 relative to the total amount of the ink.
%, Preferably about 15 to 50% by weight.
【００２９】インキを製造するには、所定量の前記熱硬
化性樹脂、着色剤、溶剤を配合した後、着色剤の分散性
を向上させるために３本ロール等を使用してベース練り
を行えばよい。なお、着色剤の分散性をさらに向上させ
るには、ベース練りの前にあらかじめプラネタリーミキ
サーなどで十分に混合しておくとよい。また、着色剤の
分散性を向上させるために、着色剤の粉体自体をボール
ミル等で微粉末化してもよく、分散剤として界面活性剤
や有機顔料誘導体等を添加してもよい。In order to produce the ink, after mixing a predetermined amount of the thermosetting resin, the colorant and the solvent, the base is kneaded by using three rolls or the like in order to improve the dispersibility of the colorant. I'll do it. In order to further improve the dispersibility of the colorant, it is preferable to sufficiently mix it with a planetary mixer or the like before kneading the base. In order to improve the dispersibility of the colorant, the powder of the colorant itself may be made into a fine powder by a ball mill or the like, and a surfactant, an organic pigment derivative or the like may be added as a dispersant.
【００３０】[0030]
【実施例】以下の実施例および比較例で使用した凹版、
透明基板および透明着色層用インキは、次のとおりであ
る。 ・凹版：ソーダライムガラスからなるガラス板を用い
た。なお、かかるガラス板の表面に、４００ｍｍ×４０
０ｍｍの範囲で、深さ１０μｍ、線幅１２０μｍのスト
ライプパターンからなる凹部を形成した。EXAMPLES Intaglio used in the following examples and comparative examples,
The inks for the transparent substrate and the transparent colored layer are as follows. Intaglio: A glass plate made of soda lime glass was used. In addition, on the surface of such a glass plate, 400 mm × 40
In the range of 0 mm, a concave portion having a stripe pattern with a depth of 10 μm and a line width of 120 μm was formed.
【００３１】・透明基板：ソーダライムガラスを用い
た。 ・レッド（Ｒ）用インキ：熱硬化型ポリエステル樹脂
〔住友ゴム工業（株）製〕、透明顔料〔ジアントラキノ
ン系（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７）〕および体質
顔料（乾式シリカ）を溶剤（高級アルコール）に溶解し
たものを用いた。 ・グリーン（Ｇ）用インキ：透明顔料が臭素化フタロシ
アニン銅（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）であるこ
と以外は、上記レッド（Ｒ）用インキと同様である。Transparent substrate: Soda lime glass was used. Ink for red (R): thermosetting polyester resin (manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd.), transparent pigment [dianthraquinone (CI Pigment Red 177)] and extender pigment (dry silica) as a solvent (high grade) What was melt | dissolved in alcohol) was used. Ink for green (G): The same as the ink for red (R) except that the transparent pigment is brominated phthalocyanine copper (CI Pigment Green 36).
【００３２】・ブルー（Ｂ）用インキ：透明顔料がフタ
ロシアニン銅（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）で
あること以外は、上記レッド（Ｒ）用インキと同様であ
る。 実施例１ 透明基板上にポリエステル−メラミン樹脂をロールコー
ターにてコーティングし、２２０℃で１時間加熱して厚
さ５μｍ、硬度４Ｈ（鉛筆硬度）の樹脂コーティング膜
を作製した。Blue (B) ink: The same as the red (R) ink except that the transparent pigment is phthalocyanine copper (CI Pigment Blue 15: 6). Example 1 A polyester-melamine resin was coated on a transparent substrate with a roll coater and heated at 220 ° C. for 1 hour to prepare a resin coating film having a thickness of 5 μm and a hardness of 4H (pencil hardness).
【００３３】上記ポリエステル−メラミン樹脂は、日立
化成（株）製のエスペル１１０２（ポリエステル樹脂）
と住友化学（株）製のスミマールＭ１００Ｃ（メラミン
樹脂）とを重量比５０：５０でブレンドしたものであ
る。次いで、上記凹版の凹部に上記レッド（Ｒ）用イン
キを充填し、凹版の表面と透明基板の樹脂コーティング
面とを密着させ、透明基板の樹脂コーティング膜が形成
されていない面にローラを転がして透明基板と凹版とを
圧着させることにより、透明基板上にインキを転写し
た。さらに、同様にして、グリーン（Ｇ）用およびブル
ー（Ｂ）用インキを転写した。The above polyester-melamine resin is Espel 1102 (polyester resin) manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.
And Sumimar M100C (melamine resin) manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. in a weight ratio of 50:50. Next, the recesses of the intaglio plate are filled with the red (R) ink, the surface of the intaglio plate and the resin coated surface of the transparent substrate are brought into close contact, and a roller is rolled on the surface of the transparent substrate on which the resin coating film is not formed. The ink was transferred onto the transparent substrate by press-bonding the transparent substrate and the intaglio plate. Further, in the same manner, the green (G) and blue (B) inks were transferred.
【００３４】上記ローラにはゴムローラを用い、ニップ
部分における内圧力が１０ｋｇ／ｃｍ2 となるように加
圧時の圧力を調整した。インキを転写した後、透明基板
上に形成されたインキ膜を２２０℃で１時間加熱乾燥
し、液晶カラーフィルターを得た。透明基板上に形成さ
れたパターンの精度および形状を透過型光学顕微鏡で確
認し、精密二次元座標測定器（ソキア（株）製のＳＭＩ
Ｃ−８００）を使用して印刷精度を評価した。その結
果、パターンの設計値とのずれは５μｍ以内であり、非
常に精密にパターンを形成できることがわかった。 実施例２ 膜厚が１μｍ、硬度が６Ｈ（鉛筆硬度）であること以外
は、実施例１と同様にして、透明基板上に樹脂コーティ
ング膜を作製した。A rubber roller was used as the above roller, and the pressure at the time of pressurization was adjusted so that the internal pressure at the nip portion was 10 kg / cm 2 . After transferring the ink, the ink film formed on the transparent substrate was heated and dried at 220 ° C. for 1 hour to obtain a liquid crystal color filter. The precision and shape of the pattern formed on the transparent substrate is confirmed with a transmission optical microscope, and a precision two-dimensional coordinate measuring instrument (SMI manufactured by Sokia Co., Ltd.) is used.
C-800) was used to evaluate the printing accuracy. As a result, it was found that the deviation from the design value of the pattern was within 5 μm, and the pattern could be formed very accurately. Example 2 A resin coating film was produced on a transparent substrate in the same manner as in Example 1 except that the film thickness was 1 μm and the hardness was 6H (pencil hardness).
【００３５】次いで、実施例１と同様にして液晶カラー
フィルターを作製し、印刷精度を評価した。その結果、
パターンの設計値とのずれは３μｍ以内であり、非常に
精密にパターンを形成できることがわかった。 実施例３ 透明基板上にアクリル樹脂（日本合成ゴム（株）製のオ
プトマーＪＳＳ８３３）をロールコーターにてコーティ
ングし、２００℃で１時間加熱して硬化させ、厚さ５μ
ｍ、硬度（鉛筆硬度）３Ｈの樹脂コーティング膜を作製
した。Then, a liquid crystal color filter was prepared in the same manner as in Example 1 and the printing accuracy was evaluated. as a result,
The deviation from the design value of the pattern was within 3 μm, and it was found that the pattern could be formed very precisely. Example 3 An acrylic resin (Optomer JSS833 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was coated on a transparent substrate with a roll coater, and heated at 200 ° C. for 1 hour to be cured to have a thickness of 5 μm.
A resin coating film having m and a hardness (pencil hardness) of 3H was prepared.
【００３６】次いで、実施例１と同様にして液晶カラー
フィルターを作製し、印刷精度を評価した。その結果、
パターンの設計値とのずれは５μｍ以内であり、非常に
精密にパターンを形成できることがわかった。 実施例４ 透明基板上にエポキシ−メラミン樹脂をロールコーター
にてコーティングし、２２０℃で１時間加熱して硬化さ
せ、厚さ５μｍ、硬度（鉛筆硬度）６Ｈの樹脂コーティ
ング膜を作製した。Then, a liquid crystal color filter was prepared in the same manner as in Example 1 and the printing accuracy was evaluated. as a result,
The deviation from the design value of the pattern was within 5 μm, and it was found that the pattern could be formed very precisely. Example 4 A transparent substrate was coated with an epoxy-melamine resin by a roll coater and heated at 220 ° C. for 1 hour to be cured to prepare a resin coating film having a thickness of 5 μm and a hardness (pencil hardness) of 6H.
【００３７】上記エポキシ−メラミン樹脂は、油化シェ
ル（株）製のエピコート８２８（エポキシ樹脂）とスミ
マールＭ１００Ｃ（前出）とを重量比５０：５０でブレ
ンドしたものである。次いで、実施例１と同様の凹版を
用い、この凹版の凹部にレッド（Ｒ）用インキを充填
し、凹版の表面と透明基板の樹脂コーティング面とを密
着させ、透明基板の樹脂コーティング膜が形成されてい
ない面の全面を平面プレスにて圧接することにより、透
明基板上にインキを転写した。前記圧接時の圧力は、平
面プレス機の面内の圧力が１５ｋｇ／ｃｍ2 になるよう
に調整した。The epoxy-melamine resin is a blend of Epicoat 828 (epoxy resin) manufactured by Yuka Shell Co., Ltd. and Sumimar M100C (described above) at a weight ratio of 50:50. Then, using the same intaglio as in Example 1, the recesses of this intaglio were filled with red (R) ink and the surface of the intaglio and the resin coated surface of the transparent substrate were brought into close contact with each other to form a resin coating film on the transparent substrate. The ink was transferred onto the transparent substrate by pressing the entire surface not pressed with a flat press. The pressure during the pressure contact was adjusted so that the in-plane pressure of the flat press machine was 15 kg / cm 2 .
【００３８】さらに、グリーン（Ｇ）用およびブルー
（Ｂ）用インキを転写した後、実施例１と同様にしてイ
ンキ膜を加熱乾燥し、液晶カラーフィルターを得た。透
明基板上に形成されたパターンについて、実施例１と同
様にして、その印刷精度を評価した。その結果、パター
ンの設計値とのずれは３μｍ以内であり、非常に精密な
パターンを形成できることがわかった。 比較例１ 実施例１と同様な凹版を使用し、この凹版の凹部にスキ
ージにてインキを充填した。次いで、樹脂コーティング
膜を形成していない透明基板を用いて凹版の表面を覆
い、前記透明基板の凹版と接していないほうの面の全面
にゴムローラを転がし、凹版と透明基板とを圧着させ
た。Further, after transferring the green (G) and blue (B) inks, the ink film was heated and dried in the same manner as in Example 1 to obtain a liquid crystal color filter. The printing accuracy of the pattern formed on the transparent substrate was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, it was found that the deviation from the design value of the pattern was within 3 μm, and a very precise pattern could be formed. Comparative Example 1 The same intaglio plate as in Example 1 was used, and the recess of this intaglio plate was filled with ink with a squeegee. Next, the surface of the intaglio plate was covered with a transparent substrate having no resin coating film formed thereon, and a rubber roller was rolled over the entire surface of the transparent substrate that was not in contact with the intaglio plate to press-bond the intaglio plate and the transparent substrate.
【００３９】なお、ゴムローラのニップ内圧力は１０ｋ
ｇ／ｃｍ2 になるように調整した。上記透明基板として
は、その表面に樹脂コーティング膜を形成していないほ
かは、実施例１と同様なものを使用した。凹版と透明基
板とを圧着させた結果、凹版の凹部のインキは透明基板
上に全く転移しなかった。 比較例２ 遮光層および透明着色層の形成に、平台オフセット印刷
機による凹版オフセット印刷法を使用して、液晶カラー
フィルターを作製した。The pressure inside the nip of the rubber roller is 10 k.
It was adjusted to be g / cm 2 . As the transparent substrate, the same substrate as in Example 1 was used except that the resin coating film was not formed on the surface thereof. As a result of pressure-bonding the intaglio plate and the transparent substrate, the ink in the recesses of the intaglio plate was not transferred to the transparent substrate at all. Comparative Example 2 A liquid crystal color filter was produced by using an intaglio offset printing method with a flatbed offset printing machine for forming the light shielding layer and the transparent colored layer.
【００４０】上記凹版オフセット印刷に用いた凹版は実
施例１と同じである。オフセットブランケットは、厚さ
０．３ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フ
ィルムにシリコーンゴムをコーティングし、厚さ１．０
ｍｍとしたものを用いた。遮光層および透明着色層の形
成に用いたインキおよびインキ膜を加熱乾燥する条件に
ついては、実施例１と同様である。The intaglio used for the above intaglio offset printing is the same as that in the first embodiment. The offset blanket is a polyethylene terephthalate (PET) film with a thickness of 0.3 mm coated with silicone rubber to a thickness of 1.0.
What was made into mm was used. The conditions for heating and drying the ink and the ink film used for forming the light-shielding layer and the transparent colored layer are the same as in Example 1.
【００４１】遮光層および透明着色層を形成した後、実
施例１と同様にして印刷制度を評価した。その結果、パ
ターンの設計値とのずれは最大５０μｍであり、非常に
大きなずれが発生した。 比較例３ 平版オフセット印刷法を用いたほかは、比較例１と同様
にして、液晶カラーフィルターを作製した。After forming the light-shielding layer and the transparent coloring layer, the printing accuracy was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the maximum deviation from the design value of the pattern was 50 μm, and a very large deviation occurred. Comparative Example 3 A liquid crystal color filter was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the planographic offset printing method was used.
【００４２】上記平版オフセット印刷に用いた平版は、
東レ（株）製の水なし平版である。オフセットブランケ
ットは、アクリロニトリルブタジエンゴムを用いた住友
ゴム工業（株）製のＳＴ８００（厚さ１．９ｍｍ）を用
いた。遮光層および透明着色層を形成した後、実施例１
と同様にして印刷制度を評価した。その結果、パターン
の設計値とのずれは最大６０μｍであり、非常に大きな
ずれが発生した。 比較例４ スクリーン印刷法を用いたほかは、比較例１と同様にし
て、液晶カラーフィルターを作製した。The lithographic plate used for the lithographic offset printing is
This is a waterless planographic printing plate manufactured by Toray Industries, Inc. As the offset blanket, ST800 (thickness 1.9 mm) manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd. using acrylonitrile butadiene rubber was used. After forming the light-shielding layer and the transparent coloring layer, Example 1
The printing system was evaluated in the same manner. As a result, the maximum deviation from the design value of the pattern was 60 μm, and a very large deviation occurred. Comparative Example 4 A liquid crystal color filter was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the screen printing method was used.
【００４３】上記スクリーン印刷に用いたスクリーン
は、ステンレス製の４００メッシュのものである。遮光
層および透明着色層を形成した後、実施例１と同様にし
て印刷制度を評価した。その結果、パターンの設計値と
のずれは最大１２０μｍであり、非常に大きなずれが発
生した。The screen used for the screen printing is a stainless steel 400 mesh screen. After forming the light-shielding layer and the transparent colored layer, the printing accuracy was evaluated in the same manner as in Example 1. As a result, the maximum deviation from the design value of the pattern was 120 μm, and a very large deviation occurred.
【００４４】前述のように、実施例１〜４の液晶カラー
フィルターは、透明着色層および遮光層の印刷精度が極
めて優れている。一方、樹脂コーティング層が形成され
ていない比較例１の場合は、凹版および透明基板の双方
とも硬質な材料からなるために、インキが転移されなか
った。また、従来より用いられている凹版オフセット印
刷、平版オフセット印刷またはスクリーン印刷を用いた
比較例２〜４の液晶カラーフィルターは、透明着色層お
よび遮光層の印刷精度が極めて低く、薄層トランジスタ
（ＴＦＴ）やスーパーツイストネマティック（ＳＴＮ）
等の極めて高品質の画質が要求される液晶には使用でき
ない。As described above, the liquid crystal color filters of Examples 1 to 4 are extremely excellent in the printing accuracy of the transparent colored layer and the light shielding layer. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the resin coating layer was not formed, the ink was not transferred because both the intaglio plate and the transparent substrate were made of a hard material. In addition, the liquid crystal color filters of Comparative Examples 2 to 4 using intaglio offset printing, lithographic offset printing or screen printing that have been conventionally used have extremely low printing accuracy of the transparent colored layer and the light shielding layer, and are thin layer transistors (TFTs). ) And Super Twisted Nematic (STN)
It cannot be used for liquid crystals that require extremely high image quality such as.
【００４５】[0045]
【発明の効果】本発明の液晶カラーフィルターの製造方
法によれば、透明着色層および遮光層の極めて微細なパ
ターンを、印刷法を用いて精密に形成することができ
る。従って、本発明によれば、高画質の液晶ディスプレ
ーに対応可能な液晶カラーフィルターを安価で提供で
き、かつ量産することができる。According to the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, extremely fine patterns of the transparent colored layer and the light shielding layer can be precisely formed by using a printing method. Therefore, according to the present invention, it is possible to inexpensively provide a liquid crystal color filter compatible with a high quality liquid crystal display and mass-produce it.
【図１】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法の一
例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method for manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention.
【図２】本発明の液晶カラーフィルターの製造方法の他
の例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing another example of the method for manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention.
【図３】液晶カラーフィルターの一例を示す断面図であ
る。FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of a liquid crystal color filter.
１ 凹版 ２ 凹部 ３ 透明基板 ４ 樹脂コーティング膜 ５ インキ ８ 透明着色層 1 Intaglio 2 Recess 3 Transparent substrate 4 Resin coating film 5 Ink 8 Transparent colored layer
Claims (3)
填し、次いでこの凹版の表面に透明基板を圧着してイン
キを転移させることによって前記透明基板上に透明着色
層を形成する液晶カラーフィルターの製造方法であっ
て、前記透明基板の表面および／または前記凹版の表面
のうちの非画線部に樹脂コーティング膜が形成されてい
ることを特徴とする液晶カラーフィルターの製造方法。1. A liquid crystal color in which a transparent colored layer is formed on the transparent substrate by filling ink in the recesses provided on the surface of the intaglio plate, and then pressing a transparent substrate onto the surface of the intaglio plate to transfer the ink. A method for producing a filter, wherein a resin coating film is formed on a non-image area of the surface of the transparent substrate and / or the surface of the intaglio plate.
ティング膜が、耐熱性および透明性を有する樹脂からな
る請求項１記載の液晶カラーフィルターの製造方法。2. The method for producing a liquid crystal color filter according to claim 1, wherein the resin coating film formed on the surface of the transparent substrate is made of a resin having heat resistance and transparency.
明着色層とを圧着させる請求項１記載の液晶カラーフィ
ルターの製造方法。3. The method for producing a liquid crystal color filter according to claim 1, wherein the intaglio plate and the transparent colored layer are pressure-bonded by a roll or a flat press.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21379395A JPH0961617A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Production of liquid color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21379395A JPH0961617A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Production of liquid color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0961617A true JPH0961617A (en) | 1997-03-07 |
Family
ID=16645150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21379395A Pending JPH0961617A (en) | 1995-08-22 | 1995-08-22 | Production of liquid color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0961617A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998019188A1 (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-07 | Seiko Epson Corporation | Color filter and its manufacturing method |
-
1995
- 1995-08-22 JP JP21379395A patent/JPH0961617A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998019188A1 (en) * | 1996-10-30 | 1998-05-07 | Seiko Epson Corporation | Color filter and its manufacturing method |
| US6063527A (en) * | 1996-10-30 | 2000-05-16 | Seiko Epson Corporation | Color filter and method of making the same |
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