JPH09318803A - Production of liquid crystal color filter - Google Patents
Production of liquid crystal color filterInfo
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- JPH09318803A JPH09318803A JP13236596A JP13236596A JPH09318803A JP H09318803 A JPH09318803 A JP H09318803A JP 13236596 A JP13236596 A JP 13236596A JP 13236596 A JP13236596 A JP 13236596A JP H09318803 A JPH09318803 A JP H09318803A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶カラーディス
プレイに用いられる液晶カラーフィルタの製造方法に関
し、より詳しくは、遮光層を有する液晶カラーフィルタ
の製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal color filter used for a liquid crystal color display, and more particularly to a method for manufacturing a liquid crystal color filter having a light shielding layer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶ディスプレイのカラー表示を実現す
るために用いられる液晶カラーフィルタは、通常、１画
素毎にパターン化されたレッド(R) 、グリーン(G) およ
びブルー(B) の３色の透明着色層と、一般にブラックマ
トリックスと呼ばれる遮光層とを透明基板上に設けたも
のである。2. Description of the Related Art A liquid crystal color filter used for realizing a color display of a liquid crystal display is usually composed of three colors of red (R), green (G) and blue (B) patterned for each pixel. A transparent colored layer and a light-shielding layer generally called a black matrix are provided on a transparent substrate.
【０００３】前記遮光層は、各透明着色層間および各画
素間の光を遮断するために形成されたものであって、近
年の液晶ディスプレイの高画質化に対応するため、微細
なパターンでもって、かつ極めて高い精度で形成されて
いることが要求される。そこで従来より、遮光層の作製
には、微細なパターンを極めて正確に形成できるフォト
リソ法が用いられている。この方法では、例えば図３
(a) に示すように、透明基板４の表面全面にスピンコー
ターで感光性材料８を塗布した後、同図(b) に示すよう
に、フォトマスク７を用いて所望のパターンに対応する
部分の感光性材料８を露光して現像液に対して不溶化さ
せ、さらに感光性材料８の未露光部分を現像液で除去す
ることによって遮光層が形成される。The light-shielding layer is formed to block light between the transparent colored layers and between the pixels, and has a fine pattern in order to cope with the recent high image quality of liquid crystal displays. In addition, it is required to be formed with extremely high accuracy. Therefore, conventionally, a photolithography method that can form a fine pattern extremely accurately has been used for manufacturing the light shielding layer. In this method, for example, FIG.
As shown in (a), after the photosensitive material 8 is applied to the entire surface of the transparent substrate 4 by a spin coater, a portion corresponding to a desired pattern is formed using a photomask 7 as shown in (b). The photosensitive material 8 is exposed to make it insoluble in a developing solution, and the unexposed portion of the photosensitive material 8 is removed by the developing solution to form a light shielding layer.
【０００４】しかし、現像時に除去される未露光部分に
も非常に高価な感光性材料を塗布する必要があったり、
スピンコーターでの塗布時に多量の感光性材料が無駄に
なってしまうため、材料コストが非常に高くなる。さら
に、遮光層を形成するときのタクトタイムが長く、液晶
カラーフィルタを量産するには多数の生産ラインが必要
になったり、スピンコーターライン等の製造設備が非常
に高価であるため、液晶カラーフィルタの製造コストが
高くなるという問題がある。However, it is necessary to apply a very expensive photosensitive material to the unexposed portion removed during development,
Since a large amount of the photosensitive material is wasted during the coating with the spin coater, the material cost becomes very high. Furthermore, since the tact time for forming the light-shielding layer is long, a large number of production lines are required to mass-produce liquid crystal color filters, and manufacturing equipment such as a spin coater line is very expensive. However, there is a problem that the manufacturing cost becomes high.
【０００５】一方、近年、液晶カラーフィルタの低コス
ト化を目的として、製造工程が簡単で量産性に優れた印
刷法によって遮光層を作製することが検討されている。
上記印刷法としては、一般に、水無し平版オフセット印
刷法または凹版オフセット印刷法があげられるが、印刷
ラインの直線性やインキ膜厚の均一性などの観点から、
凹版オフセット印刷法が好適に用いられる。また、この
凹版オフセット印刷では、凹版の凹部の深さが３〜１５
μｍ程度と深いため、遮光層に必要なインキ膜の厚みを
１回の印刷で得られるとともに、凹部の深さを調整する
ことでインキ膜の厚みを任意に調節できる。さらに、ブ
ランケットの表面ゴム層にインキの離型性に優れたシリ
コーンゴムを用いることで、ブランケットの表面に転移
されたインキを分断させずに透明基板の表面に完全に転
移させることができ、ラインの形状が非常にシャープな
遮光層を形成できる。On the other hand, in recent years, in order to reduce the cost of the liquid crystal color filter, it has been studied to form the light shielding layer by a printing method which has a simple manufacturing process and is excellent in mass productivity.
The printing method generally includes a waterless lithographic offset printing method or an intaglio offset printing method, but from the viewpoint of the linearity of the printing line and the uniformity of the ink film thickness,
The intaglio offset printing method is preferably used. Further, in this intaglio offset printing, the depth of the indentation of the intaglio plate is 3 to 15
Since the thickness is about μm, the thickness of the ink film required for the light-shielding layer can be obtained by printing once, and the thickness of the ink film can be arbitrarily adjusted by adjusting the depth of the recess. Furthermore, by using silicone rubber with excellent ink release properties for the surface rubber layer of the blanket, the ink transferred to the surface of the blanket can be completely transferred to the surface of the transparent substrate without breaking it. It is possible to form a light-shielding layer having a very sharp shape.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、凹版オ
フセット印刷には、ブランケットの胴径のばらつき、ブ
ランケットを回転および移動させる際に用いられるギヤ
の加工精度のばらつき、ブランケットの送り速度のばら
つき等に起因してパターンに歪みが生じ、透明基板の表
面に転移されたパターンの位置と、そのパターンに対応
する凹版表面での位置との間に誤差が生じ、印刷精度が
低下してしまうという問題がある。また、表面ゴム層が
シリコーンゴムからなるブランケットで印刷を繰り返し
たときは、印刷されるインキの線幅に経時的な変化が生
じるという問題もある。However, intaglio offset printing is caused by variations in the blanket cylinder diameter, variations in the processing accuracy of the gears used to rotate and move the blanket, variations in the blanket feed speed, and the like. Then, the pattern is distorted, and an error occurs between the position of the pattern transferred to the surface of the transparent substrate and the position on the intaglio surface corresponding to the pattern, resulting in a decrease in printing accuracy. . Further, when printing is repeated with a blanket whose surface rubber layer is made of silicone rubber, there is a problem that the line width of the printed ink changes with time.
【０００７】特に、遮光層を形成する際に、印刷精度が
低下したり、インキの線幅の経時変化などによる印刷品
質の低下といった問題が生じると、液晶カラーフィルタ
の開口率に悪影響がおよび、ひいては液晶カラーディス
プレイの画像品質が低下してしまう。そこで本発明の目
的は、低コスト化を実現でき、かつ印刷精度および印刷
品質に優れた遮光層を形成できる液晶カラーフィルタの
製造方法を提供することである。[0007] In particular, when forming a light-shielding layer, if problems such as a decrease in printing accuracy and a decrease in print quality due to a change in the line width of ink over time occur, the aperture ratio of the liquid crystal color filter is adversely affected. As a result, the image quality of the liquid crystal color display deteriorates. Therefore, an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal color filter that can realize cost reduction and can form a light shielding layer having excellent printing accuracy and printing quality.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、複数色の透明
着色層と遮光層とを透明基板の表面に設ける液晶カラー
フィルタの製造方法であって、凹版の凹部に充填された
感光性樹脂を含むインキをブランケットの表面に転移さ
せ、さらに前記インキをブランケットから透明基板に転
移させた後、フォトマスクを通じて遮光層のパターン部
分に対応するインキを露光し、次いで前記フォトマスク
からはみ出した未露光部分のインキを除去して遮光層を
形成するときは、印刷精度および印刷品質に優れた遮光
層を有する液晶カラーフィルタを低コストでもって得る
ことができるという新たな事実を見出し、本発明を完成
するに至った。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a liquid crystal color filter provided with a transparent colored layer and a light shielding layer of a plurality of colors on the surface of a transparent substrate. In the manufacturing method, the ink containing the photosensitive resin filled in the recesses of the intaglio is transferred to the surface of the blanket, and further, the ink is transferred from the blanket to the transparent substrate, and then on the pattern portion of the light shielding layer through the photomask. When forming a light-shielding layer by exposing the corresponding ink and then removing the unexposed portion of the ink that protrudes from the photomask, a liquid crystal color filter having a light-shielding layer with excellent printing accuracy and print quality can be produced at low cost. The inventors have found a new fact that they can be obtained, and completed the present invention.
【０００９】すなわち、上記本発明においては、感光性
材料である感光性樹脂を含むインキは、透明基板の全面
ではなく、遮光層のパターン部分およびその近傍にのみ
印刷されることから、(1) 従来の方法に比べて感光性材
料の使用量が約１／５０程度と大幅に低減され、同時に
未露光部分の感光性材料を除去するための溶媒の使用量
や、露光後の廃液の量が低減される、(2) 遮光層の形成
にかかるタクトタイムが短くなる、(3) スピンコーター
等の高価な製造設備が不要になるといった利点がある。
従って、本発明によれば、液晶カラーフィルタの製造コ
ストを低減できる。That is, in the present invention, the ink containing the photosensitive resin, which is a photosensitive material, is printed not only on the entire surface of the transparent substrate but only on the pattern portion of the light shielding layer and in the vicinity thereof. Compared with the conventional method, the amount of photosensitive material used is greatly reduced to about 1/50, and at the same time the amount of solvent used to remove the photosensitive material in the unexposed area and the amount of waste liquid after exposure are reduced. There are advantages that it is reduced, (2) the tact time required for forming the light shielding layer is shortened, and (3) expensive manufacturing equipment such as a spin coater is unnecessary.
Therefore, according to the present invention, the manufacturing cost of the liquid crystal color filter can be reduced.
【００１０】また、透明基板上に印刷されたインキのう
ち、遮光層のパターン部分に対応するインキのみを露光
し、未露光部分のインキを除去することから、印刷時に
おいて生じたインキの転移位置についてのずれを修正で
き、かつ所定の線幅でもって遮光層のパターンを形成で
きる。すなわち、印刷精度および印刷品質に優れた遮光
層を有する液晶カラーフィルタを製造できる。Further, of the ink printed on the transparent substrate, only the ink corresponding to the pattern portion of the light shielding layer is exposed and the ink of the unexposed portion is removed. Can be corrected, and the pattern of the light shielding layer can be formed with a predetermined line width. That is, it is possible to manufacture a liquid crystal color filter having a light-shielding layer having excellent printing accuracy and printing quality.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】本発明の液晶カラーフィルタの製
造方法によれば、感光性樹脂を含むインキを、遮光層の
パターンの線幅よりも広く設定された線幅でもって透明
基板上に印刷した後、遮光層のパターン部分に対応する
インキを露光して半硬化させ、未露光部分のインキを溶
解する溶媒でもって当該未露光のインキを除去し、残り
の半硬化させた部分をオーブンで完全に硬化させること
により、遮光層が形成される。According to the method of manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention, an ink containing a photosensitive resin is printed on a transparent substrate with a line width set wider than the line width of the pattern of the light shielding layer. After that, the ink corresponding to the pattern part of the light-shielding layer is exposed and semi-cured, the unexposed ink is removed with a solvent that dissolves the ink in the unexposed part, and the remaining semi-cured part is oven-cured. By completely curing, the light shielding layer is formed.
【００１２】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法
は、例えば図１(a) 〜(b) に示すように、凹版１の凹部
１１に充填された感光性樹脂を含む遮光層用のインキ２
をブランケット３に転移させ、前記インキ２をブランケ
ット３から透明基板４の表面に転移させた後、同図(c)
〜(d) に示すように、所望の遮光層のパターンに対応し
たフォトマスク７を用いて前記インキ２を露光し、フォ
トマスク７からはみ出した未露光部分のインキ（同図
(d) 中の点線部分）を除去することによって、遮光層を
形成するものである。In the method of manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention, as shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), for example, an ink 2 for a light-shielding layer containing a photosensitive resin filled in the recess 11 of the intaglio plate 1
Is transferred to the blanket 3, the ink 2 is transferred from the blanket 3 to the surface of the transparent substrate 4, and then, FIG.
As shown in (d) to (d), the ink 2 is exposed using a photomask 7 corresponding to a desired pattern of the light-shielding layer, and the ink of the unexposed portion protruding from the photomask 7 (see the same figure).
The light-shielding layer is formed by removing the portion (d) in (d).
【００１３】上記露光の方法は、使用する感光性樹脂の
種類によっても異なるが、感光性樹脂として紫外線硬化
型インキを用いるときは、透明基板上に転移されたイン
キに対して紫外線を照射して、当該インキを半硬化させ
ればよい。露光の条件（例えば、紫外線の照射条件）は
特に限定されないが、未露光のインキを除去するために
用いられる溶媒に対して不溶化する程度であればよい。
すなわち、この露光の段階で、感光性樹脂を含むインキ
を完全に硬化させる必要はない。前述の半硬化の状態に
するには、一般的に、完全硬化の際の３０〜５０％の割
合で架橋させればよい。The above exposure method varies depending on the type of photosensitive resin used, but when an ultraviolet curable ink is used as the photosensitive resin, the ink transferred onto the transparent substrate is irradiated with ultraviolet rays. The ink may be semi-cured. The exposure conditions (for example, ultraviolet irradiation conditions) are not particularly limited as long as they are insoluble in the solvent used for removing the unexposed ink.
That is, it is not necessary to completely cure the ink containing the photosensitive resin at the stage of this exposure. In order to obtain the above-mentioned semi-cured state, generally, crosslinking may be carried out at a ratio of 30 to 50% at the time of complete curing.
【００１４】上記フォトマスクには、露光光源からの光
線を遮蔽する材質が用いられる。例えば、紫外線を用い
て露光する場合、フォトマスクにはソーダライムガラ
ス、ノンアルカリガラス、石英ガラス等が用いられる。
本発明に用いられるフォトマスクのパターンは、所望の
遮光層に対応したパターンが形成されたものであって、
遮光層のパターン部分のみに露光光源からの光線を透過
させるネガパターンである。The photomask is made of a material that shields light rays from the exposure light source. For example, when exposing using ultraviolet rays, soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, or the like is used for the photomask.
The pattern of the photomask used in the present invention has a pattern corresponding to a desired light shielding layer,
It is a negative pattern that allows light rays from the exposure light source to pass through only the pattern portion of the light shielding layer.
【００１５】未露光部分の感光性材料を除去するための
溶媒としては、例えば水、好ましくは水酸化カリウム等
の水溶液、より好ましくは前記水溶液に界面活性剤を添
加したもの等があげられる。次に、本発明に用いられる
遮光層用のインキ、凹版、ブランケット、透明基板等に
ついて詳細に説明する。As the solvent for removing the photosensitive material in the unexposed portion, for example, water, preferably an aqueous solution of potassium hydroxide or the like, more preferably the above aqueous solution to which a surfactant is added, or the like. Next, the ink for the light-shielding layer, the intaglio, the blanket, the transparent substrate and the like used in the present invention will be described in detail.
【００１６】本発明に用いられる遮光層用のインキは、
感光性樹脂と黒色顔料とを混合してなる樹脂ワニスであ
る。上記感光性樹脂としては、例えばアクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等に感光性を付与したもの
が使用可能である。上記遮光層用インキは、具体的に
は、光重合型のオリゴマー（ＵＶプレポリマー）、光重
合型モノマー（ＵＶモノマー）、光重合開始剤および光
増感剤からなる。前記ＵＶプレポリマーとしては、例え
ばエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリ
エステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポ
リオールアクリレート、アルキドアクリレート等が使用
可能である。ＵＶモノマーとしては、例えば単官能アク
リレート、２官能アクリレート、３官能アクリレート、
４官能アクリレート等のアクリルモノマーが使用可能で
ある。光重合開始剤としては、例えばベンゾイン系、ア
セトフェノン系、パーオキサイド系、チオキサンソン系
等の種々の光重合開始剤が使用可能である。光増感剤と
しては、例えばアミン系、キノン系等の種々の光増感剤
が使用可能である。The ink for the light-shielding layer used in the present invention is
A resin varnish obtained by mixing a photosensitive resin and a black pigment. As the above-mentioned photosensitive resin, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like having photosensitivity can be used. Specifically, the light-shielding layer ink comprises a photopolymerization type oligomer (UV prepolymer), a photopolymerization type monomer (UV monomer), a photopolymerization initiator and a photosensitizer. As the UV prepolymer, for example, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, polyol acrylate, alkyd acrylate and the like can be used. As the UV monomer, for example, monofunctional acrylate, bifunctional acrylate, trifunctional acrylate,
Acrylic monomers such as tetrafunctional acrylates can be used. As the photopolymerization initiator, various photopolymerization initiators such as benzoin-based, acetophenone-based, peroxide-based, and thioxanthone-based can be used. As the photosensitizer, various photosensitizers such as amine type and quinone type can be used.
【００１７】上記感光性樹脂は、例えば接着性などの遮
光層に求められる諸特性を十分に満たしていればよい。
また、耐熱性、耐薬品性、耐光性等に優れていると、製
造工程における取扱いが容易になるなどの利点がある。
上記黒色顔料は、例えばカーボンブラック、チタンブラ
ック、硫酸鉄、酸化鉄、ペリレン系有機黒色顔料等があ
げられる。The above-mentioned photosensitive resin may sufficiently satisfy various properties required for the light-shielding layer, such as adhesiveness.
Further, when it is excellent in heat resistance, chemical resistance, light resistance and the like, there is an advantage that handling in the manufacturing process becomes easy.
Examples of the black pigment include carbon black, titanium black, iron sulfate, iron oxide, and perylene organic black pigment.
【００１８】液晶カラーフィルタの遮光層に要求される
遮光性は、通常、光学濃度（ＯＤ値）が２．０以上（可
視光の光透過率が１．０％以下）、好ましくは２．５以
上（可視光の光透過率が約０．３％以下）である。遮光
層の光学濃度を上記範囲に設定するため、黒色顔料は、
通常、インキ樹脂１００重量部に対して１０〜２００重
量部配合される。The light-shielding property required of the light-shielding layer of a liquid crystal color filter is usually such that the optical density (OD value) is 2.0 or more (visible light transmittance is 1.0% or less), preferably 2.5. It is above (the light transmittance of visible light is about 0.3% or less). To set the optical density of the light shielding layer in the above range, the black pigment is
Usually, 10 to 200 parts by weight is mixed with 100 parts by weight of the ink resin.
【００１９】また、本発明に用いられる遮光層用のイン
キは低粘度であるのが好ましい。具体的には、粘度が１
０〜３０，０００ポアズ、好ましくは５００〜１０，０
００ポアズであるのが適当である。本発明に用いられる
凹版の基板には、例えばソーダライムガラス、ノンアル
カリガラス、石英ガラス、低アルカリガラス、低膨張ガ
ラス等のガラス；フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、
ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメタクリル樹脂等の樹
脂；ステンレス、銅、低膨張合金アンバー等の金属など
が用いられる。なかでも、ソーダライムガラス等の軟質
ガラスを用いるのが、微細なパターンを高精度で再現す
るうえで好ましい。The ink for the light-shielding layer used in the present invention preferably has a low viscosity. Specifically, the viscosity is 1
0-30,000 poise, preferably 500-10,0
Suitably 00 poise. The intaglio plate used in the present invention includes, for example, glass such as soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, low expansion glass; fluororesin, polycarbonate resin,
Resins such as polyether sulfone resin and polymethacryl resin; metals such as stainless steel, copper, and low expansion alloy amber are used. Among them, it is preferable to use soft glass such as soda lime glass in order to reproduce a fine pattern with high accuracy.
【００２０】上記凹版の凹部は、遮光層のパターンに応
じて作製されたものである。凹部の線幅は、遮光層用イ
ンキに露光を施して、このインキの印刷精度および線幅
を修正することを考慮し、後述する遮光層のパターンに
おける線幅よりも５〜１５μｍ程度広く設定するのが好
ましい。凹部の深さは、通常１〜１５μｍ、好ましくは
３〜１０μｍの範囲で、遮光層の厚みに応じて設定され
る。凹部の深さが前記範囲を下回ると、遮光層に必要と
されるインキ膜の厚みが１回の印刷で得られなくなるた
め、好ましくない。一方、凹部の深さが前記範囲を超え
ると、形成される遮光層が厚くなりすぎて、遮光層自体
および液晶カラーフィルタ表面の平坦性が低下するおそ
れが生じる。The recesses of the intaglio plate are produced according to the pattern of the light shielding layer. The line width of the concave portion is set to be about 5 to 15 μm wider than the line width in the pattern of the light-shielding layer described later in consideration of exposing the light-shielding layer ink to correct the printing accuracy and line width of this ink. Is preferred. The depth of the recess is usually in the range of 1 to 15 μm, preferably 3 to 10 μm, and is set according to the thickness of the light shielding layer. If the depth of the recesses is less than the above range, the thickness of the ink film required for the light shielding layer cannot be obtained by one printing, which is not preferable. On the other hand, if the depth of the recess exceeds the above range, the light-shielding layer formed becomes too thick, and the flatness of the light-shielding layer itself and the surface of the liquid crystal color filter may deteriorate.
【００２１】上記パターンは、通常、格子状のパターン
またはストライプパターンとして形成される。前記パタ
ーンの幅（すなわち凹部の幅）は、液晶カラーフィルタ
の大きさによって異なるが、一般に、５〜８０μｍ、好
ましくは１０〜５０μｍの範囲で設定される。上記凹版
の凹部にインキを充填する方法としては、ドクターブレ
ードを用いてスキージする方法、スクリーン印刷を用い
る方法、ディスペンサー（注入器）で注入する方法、バ
ブルジェットによって注入する方法等があげられる。The above pattern is usually formed as a grid pattern or a stripe pattern. The width of the pattern (that is, the width of the recess) varies depending on the size of the liquid crystal color filter, but is generally set in the range of 5 to 80 μm, preferably 10 to 50 μm. Examples of the method for filling the ink in the recesses of the intaglio plate include a squeegee method using a doctor blade, a screen printing method, a dispenser (injector) injection method, and a bubble jet injection method.
【００２２】本発明に用いられるブランケットとして
は、例えばプラスチックフィルム等の支持体の表面にシ
リコーンゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム（Ｎ
ＢＲ）等のゴムからなる表面ゴム層を担持させた従来公
知のものが使用できる。また、前記表面ゴム層と支持体
との間または前記支持体の裏面には、多孔質のスポンジ
層を設けてもよい。前記スポンジ層の発泡率等はブラン
ケットの印刷特性を考慮して設定される。As the blanket used in the present invention, for example, silicone rubber or acrylonitrile-butadiene rubber (N
Conventionally known materials supporting a surface rubber layer made of rubber such as BR) can be used. Further, a porous sponge layer may be provided between the surface rubber layer and the support or on the back surface of the support. The foaming rate and the like of the sponge layer are set in consideration of the printing characteristics of the blanket.
【００２３】上記ブランケットは、遮光層の表面の平坦
性をより良好なものとするため、表面ゴム層が平滑なも
のであるのが好ましい。例えばブランケットの表面粗さ
が０．５μｍ以下、特に０．３μｍ以下であるのが適当
である。表面ゴム層として、硬度（ＪＩＳ Ｋ ６２５
３-1988 所載のスプリング硬度ＨS ，ＪＩＳ Ａ）が２
０〜８０、特に４０〜６０であるシリコーンゴムを用い
たときは、インキの転移が良好であって、凹版から転移
されたインキを透明基板の表面に完全に転移させること
ができる。また、ブランケットと透明基板とでインキが
分断されないため、ラインのエッジがシャープになると
いう効果がある。この効果は、遮光層の印刷ように、パ
ターンの幅が５０μｍ以下であるファインパターンの印
刷において顕著である。The blanket preferably has a smooth surface rubber layer in order to improve the flatness of the surface of the light shielding layer. For example, it is appropriate that the blanket has a surface roughness of 0.5 μm or less, particularly 0.3 μm or less. As the surface rubber layer, hardness (JIS K 625
3-1988 spring hardness H S , JIS A) is 2
When a silicone rubber having a viscosity of 0 to 80, particularly 40 to 60 is used, the ink transfer is good, and the ink transferred from the intaglio plate can be completely transferred to the surface of the transparent substrate. Further, since the ink is not divided between the blanket and the transparent substrate, there is an effect that the edge of the line becomes sharp. This effect is remarkable in the printing of a fine pattern having a pattern width of 50 μm or less like the printing of the light shielding layer.
【００２４】上記シリコーンゴムとしては、例えばミラ
ブルシリコーンゴム、ＲＴＶシリコーンゴム、電子線硬
化型シリコーンゴム等を用いることができる。また、シ
リコーンゴムの硬度を前記範囲に調整するため、シリコ
ーンオイルやシリコーンゲル等を適宜配合してもよい。
ブランケットの支持体としては、表面が平坦であればよ
く、例えばポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカ
ーボネート（ＰＣ）等のプラスチックフィルム；アルミ
ニウム、ステンレスなどの金属板が用いられる。As the above silicone rubber, for example, millable silicone rubber, RTV silicone rubber, electron beam curing type silicone rubber or the like can be used. Further, in order to adjust the hardness of the silicone rubber to the above range, silicone oil, silicone gel or the like may be appropriately blended.
As the support for the blanket, a flat surface may be used, and for example, a plastic film such as polyethylene, polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone (PES) or polycarbonate (PC); a metal plate such as aluminum or stainless steel is used. .
【００２５】本発明に用いられる透明基板としては、波
長４００〜７００ｎｍの光に対する透過率が高いものが
好ましく、例えばノンアルカリガラス、ソーダライムガ
ラス、低アルカリガラス等のガラス基板や、ポリエーテ
ル、ポリスルホン、ポリアリレート等のフィルムが好適
に用いられる。上記透明基板の表面はインキを受理し易
いように十分に洗浄されている必要がある。また、イン
キを樹脂し易くするために、透明基板の表面に透明でか
つ耐熱性の高い樹脂からなる粘着層を形成させることも
可能である。The transparent substrate used in the present invention preferably has a high transmittance for light having a wavelength of 400 to 700 nm. For example, glass substrates such as non-alkali glass, soda lime glass and low alkali glass, and polyether and polysulfone. Films of polyarylate, etc. are preferably used. The surface of the transparent substrate needs to be sufficiently washed so that ink can be easily received. Further, in order to make the ink easy to resin, it is possible to form an adhesive layer made of a transparent and highly heat-resistant resin on the surface of the transparent substrate.
【００２６】透明基板の表面に粘着層が形成されている
ときは、インキ表面の粘着性が低くても、透明基板の表
面にインキを十分に転移させることができ、印刷工程後
にブランケットの表面にインキが残存するいわゆるパイ
リングが発生しない。上記粘着層に用いられる透明でか
つ耐熱性のある樹脂としては、具体的には、４００〜７
００ｎｍの波長に対して９０％以上の透過率を有し、２
２０℃で１時間加熱処理しても前記波長域における透過
率の減少率が１０％以下であるという条件を満たす必要
がある。上記の条件を満たす樹脂としては、例えばアク
リル樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂またはこれらの
混合物があげられる。樹脂のコーティング方法として
は、ディッピング、スピンコート、ロールコート等の従
来公知の種々のコーティング方法を使用することができ
る。粘着層の厚さは１〜１０μｍ、好ましくは３〜８μ
ｍであるのが適当である。粘着層の厚さが前記範囲を下
回ると、インキの転写にムラが生じるおそれがある。一
方、粘着層の厚さが前記範囲を超えると、樹脂の透過率
が低下し、表面の平坦性も低下するため、画像に悪影響
を及ぼすなど好ましくない。When the adhesive layer is formed on the surface of the transparent substrate, the ink can be sufficiently transferred to the surface of the transparent substrate even if the ink surface has low adhesiveness, and the ink can be transferred to the surface of the blanket after the printing process. There is no so-called piling that ink remains. The transparent and heat-resistant resin used for the adhesive layer is, specifically, 400 to 7
Has a transmittance of 90% or more for a wavelength of 00 nm, and
It is necessary to satisfy the condition that the reduction rate of the transmittance in the wavelength range is 10% or less even if the heat treatment is performed at 20 ° C. for 1 hour. Examples of the resin satisfying the above conditions include acrylic resin, polyester resin, melamine resin, epoxy resin, phenol resin, polyimide resin or a mixture thereof. As the resin coating method, various conventionally known coating methods such as dipping, spin coating and roll coating can be used. The thickness of the adhesive layer is 1 to 10 μm, preferably 3 to 8 μm
Suitably m. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than the above range, uneven transfer of ink may occur. On the other hand, if the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds the above range, the transmittance of the resin is reduced, and the flatness of the surface is also reduced.
【００２７】本発明において、図２(a),(b) に示すオフ
セット印刷機を用いて遮光層用インキを印刷すれば、印
刷精度が極めて優れた遮光層を形成することができる。
図２(a),(b) に示すオフセット印刷機において、凹版１
と透明基板４とは台盤５上に所定の間隔で保持されてお
り、基台５１に布設されたレール５４上を移動でき、か
つ任意の位置に高精度で停止できる。ブランケット３
は、ブランケット胴３１の両端に取り付けられたピニオ
ンギヤ３０と、基台５１に固定された一対のラックギヤ
６との噛み合わせによって自転しつつ移動する。ブラン
ケット胴３１は、従来のものと同様に、その軸３４の両
端がエアシリンダ３５の先端に回転自在に保持されてい
る。In the present invention, if the ink for the light-shielding layer is printed by using the offset printing machine shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the light-shielding layer with extremely excellent printing accuracy can be formed.
In the offset printing machine shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), the intaglio 1
The transparent substrate 4 and the transparent substrate 4 are held on the base 5 at a predetermined interval, and can move on a rail 54 laid on the base 51 and can be stopped at an arbitrary position with high precision. Blanket 3
Moves while rotating by rotation of the pinion gears 30 attached to both ends of the blanket cylinder 31 and the pair of rack gears 6 fixed to the base 51. The blanket cylinder 31 has both ends of a shaft 34 rotatably held at the tip of an air cylinder 35, as in the conventional case.
【００２８】上記オフセット印刷機による印刷は、以下
に示すようにして行われる。まず、台盤５を移動させ
て、凹版１の中心線６３と、ラックギヤ６の自転開始位
置６１と自転終了位置６２との中間に位置する基準位置
６０とを一致させた後、自転開始位置６１にてピニオン
ギヤ３０とラックギヤ６とを噛み合わせて、ブランケッ
ト３を凹版１の表面に所定の圧力（ニップ圧）にて接触
させる。この状態でブランケット３を自転終了位置６２
まで移動させれば、前記両ギヤの噛み合わせによってブ
ランケット３が自転しつつ移動し、凹版１の凹部（図示
せず）に充填されたインキがブランケット３の表面に転
移される（転写工程）。Printing by the offset printing machine is carried out as follows. First, the base 5 is moved to match the center line 63 of the intaglio 1 with the reference position 60 located between the rotation start position 61 and the rotation end position 62 of the rack gear 6, and then the rotation start position 61. The pinion gear 30 and the rack gear 6 are engaged with each other, and the blanket 3 is brought into contact with the surface of the intaglio plate 1 at a predetermined pressure (nip pressure). In this state, the blanket 3 is rotated at the rotation end position 62.
Then, the blanket 3 moves while rotating by the meshing of both gears, and the ink filled in the recess (not shown) of the intaglio plate 1 is transferred to the surface of the blanket 3 (transfer process).
【００２９】次いで、透明基板４の中心線６４と基準位
置６０とを一致させた後、自転開始位置６１にてピニオ
ンギヤ３０とラックギヤ６とを噛み合わせて、ブランケ
ット３を透明基板４の表面に所定の圧力（ニップ圧）に
て接触させる。この際、前記両ギヤは転写工程の際と同
じ位置で噛み合う。この状態でブランケット３を自転終
了位置６２まで移動させれば、ブランケット３が転写工
程と全く同じ回転状態で自転しつつ移動して、ブランケ
ット３の表面に転移されたインキ（図示せず）が透明基
板４の表面に転移される（印刷工程）。Next, after the center line 64 of the transparent substrate 4 and the reference position 60 are aligned with each other, the pinion gear 30 and the rack gear 6 are engaged with each other at the rotation start position 61, and the blanket 3 is predetermined on the surface of the transparent substrate 4. Contact with the pressure (nip pressure). At this time, the two gears mesh at the same position as in the transfer step. If the blanket 3 is moved to the rotation end position 62 in this state, the blanket 3 moves while rotating in the same rotation state as in the transfer step, and the ink (not shown) transferred to the surface of the blanket 3 is transparent. Transferred to the surface of the substrate 4 (printing step).
【００３０】上記オフセット印刷機によれば、転写工程
と印刷工程との両工程において、ラックギヤ６とピニオ
ンギヤ３０とが同じ位置で噛み合うことから、転写工程
で発生する転移位置の誤差を印刷工程で発生する転移位
置の誤差によって相殺させることができ、高精度な印刷
が可能となる。具体的には、このオフセット印刷機によ
って印刷されたインキの転移位置と、当該インキに対応
する凹版の凹部の位置との誤差（印刷精度）は最大５μ
ｍであって、カラーフィルタに要求される印刷精度を十
分に満たしている。また、図２に示すオフセット印刷機
は、ラックギヤ６とピニオンギヤ３０とを製造する際の
精度のばらつきや連続印刷中のギヤの磨耗などによる印
刷精度の劣化が原理的に発生しない。従って、１０万枚
もの連続印刷を行ってもその印刷精度は十分に維持され
る。According to the above offset printing machine, since the rack gear 6 and the pinion gear 30 mesh with each other at the same position in both the transfer process and the printing process, an error in the transfer position generated in the transfer process occurs in the printing process. This can be offset by the error in the transfer position that occurs, and high-precision printing becomes possible. Specifically, the error (printing accuracy) between the transfer position of the ink printed by the offset printing machine and the position of the concave portion of the intaglio corresponding to the ink is a maximum of 5μ.
m, which sufficiently satisfies the printing accuracy required for the color filter. In addition, in the offset printing press shown in FIG. 2, in principle, printing accuracy is not degraded due to variations in accuracy when manufacturing the rack gear 6 and the pinion gear 30 and wear of the gear during continuous printing. Therefore, the printing accuracy is sufficiently maintained even when continuous printing of 100,000 sheets is performed.
【００３１】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法に
おいて、透明基板上に印刷された遮光層用のインキは、
さらに、透明基板が熱変形しない温度と時間（通常、１
８０〜２５０℃で３０〜１８０分間、好ましくは２００
〜２３０℃で５０〜８０分間）加熱乾燥させることによ
って完全に硬化される。このようにして、透明基板の表
面に遮光層が形成される。In the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention, the ink for the light shielding layer printed on the transparent substrate is
Furthermore, the temperature and time (usually 1
30 to 180 minutes at 80 to 250 ° C., preferably 200
It is completely cured by heating and drying at ˜230 ° C. for 50 to 80 minutes. In this way, the light shielding layer is formed on the surface of the transparent substrate.
【００３２】なお、透明着色層の形成は遮光層の形成後
に行ってもよく、逆に透明着色層を形成した後で透明着
色層の表面に遮光層の形成を行ってもよい。The transparent colored layer may be formed after forming the light shielding layer, or conversely, after forming the transparent colored layer, the light shielding layer may be formed on the surface of the transparent colored layer.
【００３３】[0033]
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例に基づい
て説明する。 実施例１ 図１(a) 〜(b) に示すように、凹版１の凹部１１に充填
された遮光層用のインキ２をブランケット３に転移さ
せ、さらにこのインキ２をブランケットから透明基板の
表面４に転移させた。次いで、図１(c) 〜(d) に示すよ
うに、遮光層のパターンに対応したフォトマスク７を用
いて、透明基板４に転移されたインキに対して紫外線を
照射し、未露光のインキを７％水酸化カリウム水溶液で
除去して、所定のパターンからなる遮光層を形成した。EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples and Comparative Examples. Example 1 As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the ink 2 for the light-shielding layer filled in the recess 11 of the intaglio 1 was transferred to the blanket 3, and the ink 2 was transferred from the blanket to the surface of the transparent substrate. 4 was transferred. Then, as shown in FIGS. 1 (c) to 1 (d), the ink transferred to the transparent substrate 4 is irradiated with ultraviolet rays using a photomask 7 corresponding to the pattern of the light-shielding layer to expose the unexposed ink. Was removed with a 7% aqueous potassium hydroxide solution to form a light-shielding layer having a predetermined pattern.
【００３４】上記遮光層用インキには、ポリエステル−
メラミン樹脂（トリメリト酸とネオペンチルグリコール
とをエステル化したものに、架橋剤としてメチル化メラ
ミン樹脂を加え、感光性を付与したもの）１００重量部
に対してカーボンブラック３０重量部を配合したものを
使用した。遮光層用インキの印刷には、通常の平台オフ
セット印刷機を使用した。フォトマスク７に形成された
パターンは、４００ｍｍ四方の範囲において、フォトマ
スクの縦方向が３００μｍ間隔で、横方向が１００μｍ
間隔である、線幅４０μｍの格子状のパターンであっ
た。The ink for the light-shielding layer includes polyester-
A blend of 100 parts by weight of melamine resin (esterified with trimellitic acid and neopentyl glycol and added methylated melamine resin as a cross-linking agent to impart photosensitivity) to 30 parts by weight of carbon black. used. An ordinary flatbed offset printing machine was used for printing the ink for the light-shielding layer. The pattern formed on the photomask 7 is 400 mm square, and the photomask is vertically spaced at 300 μm intervals and laterally at 100 μm.
It was a grid-like pattern having a line width of 40 μm, which is a space.
【００３５】上記凹版１は、ソーダライムガラス基板の
表面に深さ１０μｍ、線幅５０μｍの凹部１１を形成し
たものであって、この凹版を用いて印刷したパターンの
線幅は４５μｍであった。すなわち、印刷によってパタ
ーンの線幅が５μｍ減少した。一方、未露光のインキを
除去して、インキの転移位置および線幅の修正を行った
後のパターンの線幅は４０μｍであった。The intaglio plate 1 was a soda lime glass substrate having a surface with a recess 11 having a depth of 10 μm and a line width of 50 μm. The line width of a pattern printed using this intaglio plate was 45 μm. That is, the line width of the pattern was reduced by 5 μm by printing. On the other hand, the line width of the pattern after removing the unexposed ink and correcting the ink transfer position and line width was 40 μm.
【００３６】ブランケット３には、厚さ０．３ｍｍのポ
リエチレンフィルムからなる支持体上に硬度（スプリン
グ硬度ＨS ，ＪＩＳ Ａ）６０度のシリコーンゴムをコ
ーティングして、総厚み１．０ｍｍとしたものを使用し
た。透明基板４にはソーダライムガラスを使用した。遮
光層が形成された透明基板に、さらにレッド(R) 、グリ
ーン(G) 、ブルー(B) の３色の透明着色層用インキを印
刷し、次いで、透明基板を２３０℃で６０分間加熱乾燥
して、遮光層用インキおよび透明着色層用インキを完全
に硬化させて液晶カラーフィルタを作製した。In the blanket 3, a support made of a polyethylene film having a thickness of 0.3 mm is coated with a silicone rubber having a hardness (spring hardness H S , JIS A) of 60 degrees to have a total thickness of 1.0 mm. It was used. Soda lime glass was used for the transparent substrate 4. Red (R), green (G), and blue (B) transparent colored layer inks are printed on the transparent substrate on which the light-shielding layer is formed, and then the transparent substrate is heated and dried at 230 ° C for 60 minutes. Then, the light-shielding layer ink and the transparent colored layer ink were completely cured to prepare a liquid crystal color filter.
【００３７】実施例２ 以下に示す凹版およびブランケットを用い、さらに図２
に示すオフセット印刷機を用いたほかは、実施例１と同
様にして遮光層を形成し、次いで、実施例と同様にして
透明着色層の形成、加熱乾燥を行って、液晶カラーフィ
ルタを製造した。Example 2 Using the intaglio and blanket shown below, and further referring to FIG.
A light-shielding layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the offset printing machine shown in 1 was used, and then a transparent colored layer was formed and heated and dried in the same manner as in Example to produce a liquid crystal color filter. .
【００３８】上記実施例２で使用した凹版は、凹部の深
さが７μｍであるほかは、実施例１で使用したものと同
じである。ブランケットは、シリコーンゴムの硬度（Ｈ
S ，ＪＩＳ Ａ）が４０度であるほかは、実施例１で使
用したものと同じである。 比較例１ 通常の平台オフセット印刷機を用い、凹版オフセット印
刷法によって上記遮光層用インキの印刷を行った。すな
わち、まず凹版の凹部に上記遮光層用インキを充填し、
このインキをブランケットの表面に転移させた後、さら
にこのインキを透明基板の表面に転移させた。The intaglio plate used in Example 2 is the same as that used in Example 1 except that the depth of the recess is 7 μm. The blanket has a hardness of silicone rubber (H
S , JIS A) is the same as that used in Example 1 except that it is 40 degrees. Comparative Example 1 The ink for the light-shielding layer was printed by an intaglio offset printing method using an ordinary flatbed offset printing machine. That is, first, fill the concave portion of the intaglio with the ink for the light-shielding layer,
After transferring the ink to the surface of the blanket, the ink was further transferred to the surface of the transparent substrate.
【００３９】上記遮光層用インキの印刷において、遮光
層用インキには、ポリエステル−メラミン樹脂（トリメ
リト酸とネオペンチルグリコールとをエステル化したも
のに、架橋剤としてメチル化メラミン樹脂を加えたも
の）１００重量部に対してカーボンブラック（三菱化学
（株）製のＭＡ−１００）３０重量部を添加し、ブチル
カルビトールで粘度を２００ポアズに調整したものを用
いた。ブランケットには、厚さ０．３ｍｍのポリエチレ
ンフィルムからなる支持体上にシリコーンゴムをコーテ
ィングして、総厚み１．０ｍｍとしたものを使用した。
透明基板は、実施例１で使用したのと同じものを用い
た。In the printing of the ink for the light-shielding layer, the ink for the light-shielding layer is a polyester-melamine resin (one obtained by esterifying trimellitic acid and neopentyl glycol, to which a methylated melamine resin is added as a crosslinking agent). 30 parts by weight of carbon black (MA-100 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was added to 100 parts by weight, and the viscosity was adjusted to 200 poise with butyl carbitol. For the blanket, a support made of a polyethylene film having a thickness of 0.3 mm and coated with silicone rubber to have a total thickness of 1.0 mm was used.
The same transparent substrate as that used in Example 1 was used.
【００４０】凹版は、凹部の線幅を４５μｍとしたほか
は実施例１と同じものを用いた。なお、印刷されたパタ
ーンの線幅は４０μｍであって、印刷によってパターン
の線幅が５μｍ減少した。遮光層用インキが印刷された
透明基板に、さらに実施例１と同様にして、透明着色層
の印刷および加熱乾燥を行って、液晶カラーフィルタを
作製した。As the intaglio plate, the same one as in Example 1 was used except that the line width of the indentation was 45 μm. The line width of the printed pattern was 40 μm, and the line width of the pattern was reduced by 5 μm by printing. On the transparent substrate on which the ink for the light-shielding layer was printed, the transparent colored layer was printed and heated and dried in the same manner as in Example 1 to produce a liquid crystal color filter.
【００４１】比較例２ 通常の平台オフセット印刷機を用い、水無し平版（東レ
（株）製）を用いた平版オフセット印刷によって、遮光
層用インキの印刷を行った。上記水無し平版の表面に
は、縦方向３００μｍ、横方向１００μｍ間隔で、線幅
４０μｍの格子状のパターンを形成した。なお、印刷さ
れたパターンの線幅は、印刷初期においては４０μｍで
あった。Comparative Example 2 An ink for a light-shielding layer was printed by lithographic offset printing using a waterless lithographic printing plate (manufactured by Toray Industries, Inc.) using an ordinary flatbed offset printing machine. On the surface of the waterless planographic printing plate, a grid-like pattern having a line width of 40 μm was formed at intervals of 300 μm in the vertical direction and 100 μm in the horizontal direction. The line width of the printed pattern was 40 μm at the beginning of printing.
【００４２】遮光層用インキには、スカミング等の地汚
れを防止するために粘度を５０００ポアズとしたほか
は、比較例１と同様にして調製したものを用いた。ブラ
ンケットには、住友ゴム（株）製のＮＢＲを用いたブラ
ンケット（ＳＴ８００、厚さ１．９ｍｍ）を用いた。透
明基板は、実施例１で使用したものと同じものを用い
た。As the ink for the light-shielding layer, one prepared in the same manner as in Comparative Example 1 was used except that the viscosity was set to 5000 poise to prevent scumming and other background stains. As the blanket, a blanket (ST800, thickness 1.9 mm) using NBR manufactured by Sumitomo Rubber Co., Ltd. was used. The same transparent substrate as that used in Example 1 was used.
【００４３】遮光層用インキが印刷された透明基板に、
さらに実施例１と同様にして、透明着色層の印刷および
加熱乾燥を行って、液晶カラーフィルタを作製した。 比較例３ ステンレス製の４００メッシュのスクリーンを用いたス
クリーン印刷によって、遮光層用インキの印刷を行っ
た。なお、完成した遮光層のパターンは線幅が４０μｍ
の、実施例１と同様なパターンであった。遮光層用イン
キには、比較例１で使用したものと同じものを用いた。On the transparent substrate on which the ink for the light shielding layer is printed,
Further, in the same manner as in Example 1, the transparent colored layer was printed and dried by heating to prepare a liquid crystal color filter. Comparative Example 3 The ink for the light shielding layer was printed by screen printing using a 400 mesh screen made of stainless steel. The completed light-shielding layer pattern has a line width of 40 μm.
The same pattern as in Example 1 was obtained. The same ink as that used in Comparative Example 1 was used as the ink for the light shielding layer.
【００４４】遮光層用インキが印刷された透明基板に、
さらに実施例１と同様にして、透明着色層の印刷および
加熱乾燥を行って、液晶カラーフィルタを作製した。 （実施例および比較例の評価）上記実施例１〜２では、
遮光層用のインキを透明基板上に印刷した後、リソグラ
フィーによって露光を行い、未露光部分のインキを除去
してインキの転移位置および線幅を修正したことから、
エッジの形状がシャープであるといった優れた印刷品質
を有する遮光層を、優れた印刷精度でもって形成でき
た。具体的には、遮光層の印刷精度は、実施例１で２μ
ｍ、実施例２で３μｍと、いずれも極めて良好であっ
た。また、遮光層の形成を１０，０００回繰り返して
も、インキの線幅の変化が３％以内であるなど、印刷品
質の経時的安定性にも優れていた。On the transparent substrate on which the ink for the light shielding layer is printed,
Further, in the same manner as in Example 1, the transparent colored layer was printed and dried by heating to prepare a liquid crystal color filter. (Evaluation of Examples and Comparative Examples) In Examples 1 and 2 above,
After printing the ink for the light-shielding layer on the transparent substrate, it was exposed by lithography and the ink in the unexposed area was removed to correct the ink transfer position and line width.
A light-shielding layer having excellent print quality such as a sharp edge was formed with excellent printing accuracy. Specifically, the printing accuracy of the light shielding layer is 2 μm in the first embodiment.
m, 3 μm in Example 2, which were all very good. Further, even if the formation of the light-shielding layer was repeated 10,000 times, the change in the line width of the ink was within 3%, and the print quality was excellent in stability over time.
【００４５】一方、比較例１〜２で得られた液晶カラー
フィルタは、遮光層の印刷品質の経時的安定性が実施例
１〜３よりも劣っていた。すなわち、遮光層の形成を５
００回繰り返すと、比較例１ではインキの線幅が１５μ
ｍも細くなり、比較例２では１０μｍも細くなったため
に、いずれも実用には適さなかった。また、比較例３で
得られた液晶カラーフィルタは、遮光層の印刷品質の経
時的安定性が良好であったものの、インキの転移位置の
ずれ量が最大１２０μｍであって、印刷精度が極めて低
く、実用には適さなかった。On the other hand, the liquid crystal color filters obtained in Comparative Examples 1 and 2 were inferior to Examples 1 to 3 in the temporal stability of the print quality of the light shielding layer. That is, the formation of the light shielding layer is 5
Repeated 00 times, in Comparative Example 1, the line width of the ink is 15μ.
Since m also became thin and Comparative Example 2 became 10 μm thin, neither was suitable for practical use. Further, although the liquid crystal color filter obtained in Comparative Example 3 had good temporal stability of the print quality of the light-shielding layer, the displacement amount of the ink transfer position was 120 μm at maximum, and the printing accuracy was extremely low. , Not suitable for practical use.
【００４６】[0046]
【発明の効果】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法
によれば、印刷品質および印刷精度に優れた遮光層を低
コストでもって作製することができる。従って、本発明
の液晶カラーフィルタの製造方法は、高画質化および低
コスト化に対応できる液晶カラーフィルタの製造方法と
して好適に用いられる。According to the method of manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention, a light-shielding layer having excellent printing quality and printing accuracy can be manufactured at low cost. Therefore, the method for producing a liquid crystal color filter of the present invention is suitably used as a method for producing a liquid crystal color filter that can cope with high image quality and cost reduction.
【図１】本発明の液晶カラーフィルタの製造方法におけ
る遮光層の作製方法の一例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a method of manufacturing a light shielding layer in a method of manufacturing a liquid crystal color filter of the present invention.
【図２】同図(a) は本発明に用いられるオフセット印刷
機の一例を示す断面図、同図(b) はその平面図である。FIG. 2A is a sectional view showing an example of an offset printing machine used in the present invention, and FIG. 2B is a plan view thereof.
【図３】従来のフォトリソグラフ法による遮光層の作製
方法を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a method for producing a light shielding layer by a conventional photolithography method.
１ 凹版 １１ 凹部 ２ インキ ３ ブランケット ４ 透明基板 1 Intaglio 11 Recess 2 Ink 3 Blanket 4 Transparent substrate
Claims (2)
の表面に設ける液晶カラーフィルタの製造方法であっ
て、凹版の凹部に充填された感光性樹脂を含むインキを
ブランケットの表面に転移させ、さらに前記インキをブ
ランケットから透明基板に転移させた後、フォトマスク
を通して遮光層のパターン部分に対応するインキを露光
し、次いで前記フォトマスクからはみ出した未露光部分
のインキを除去して遮光層を形成することを特徴とする
液晶カラーフィルタの製造方法。1. A method of manufacturing a liquid crystal color filter, comprising a transparent colored layer of a plurality of colors and a light-shielding layer on a surface of a transparent substrate, wherein an ink containing a photosensitive resin filled in a concave portion of an intaglio plate is formed on a surface of a blanket. After transferring the ink, and further transferring the ink from the blanket to the transparent substrate, the ink corresponding to the pattern part of the light shielding layer is exposed through a photomask, and then the unexposed part of the ink protruding from the photomask is removed to shield the light. A method for manufacturing a liquid crystal color filter, which comprises forming a layer.
Ａ）が２０〜８０のシリコーンゴムである請求項１記
載の液晶カラーフィルタの製造方法。2. The surface of the blanket has a hardness (JIS
The method for producing a liquid crystal color filter according to claim 1, wherein A) is a silicone rubber having 20 to 80.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13236596A JPH09318803A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Production of liquid crystal color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13236596A JPH09318803A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Production of liquid crystal color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09318803A true JPH09318803A (en) | 1997-12-12 |
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ID=15079674
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP13236596A Pending JPH09318803A (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Production of liquid crystal color filter |
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|---|---|
| JP (1) | JPH09318803A (en) |
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1996
- 1996-05-27 JP JP13236596A patent/JPH09318803A/en active Pending
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