JPH0955350A - 露光方法および露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 特殊なフィルターを用いることなく、比較的
単純なフィルターを用いて任意の光源形状を得ることが
できる露光方法および露光装置を提供すること。 【解決手段】 １回の露光時間内に、露光用光を第１フ
ィルター５２に通してマスクに照射する工程と、前記第
１フィルター５２と異なる光透過率分布の第２フィルタ
ー５４に露光用光を通してマスクに照射する工程とを少
なくとも有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば半導体基
板の表面に微細パターンを形成するための露光方法と露
光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、半導体集積回路の研究開発におい
て、サブハーフミクロン領域のデザインルールのデバイ
スが研究開発されている。これらデバイス開発において
は、フォトリソグラフィー技術が必須である。このフォ
トリソグラフィー技術に使用されている露光装置、いわ
ゆる縮小投影露光装置の解像性能が、半導体デバイスの
研究開発の成否、および量産の可否を左右しているとい
っても過言ではない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】このような露光装置に
おいて、半導体露光装置の光源とマスクとの間に光透過
率を制御するフィルターを設け、通常は光強度分布がガ
ウス分布となっている光源を種々に変化させ、解像度や
焦点深度を改善する、いわゆる変形照明法が注目を集め
ている。

【０００４】たとえば図１に示すように、透過率０の円
盤２に、４箇所の円形の開口部４が形成してある単純な
フィルターが用いられ、変形照明を実現している。とこ
ろが、従来のフィルターを用いた変形照明法では、特定
のパターンのみにしか効果がなく、ある種のパターンに
はむしろ悪影響があると言うことで、実用化という観点
から各種光源が提案されている。

【０００５】たとえば強度差がないフラットな強度分布
の光源や、光に位相差を持たせるフィルターが設けられ
た光源が提案されている。このような光源を作成するた
めに、従来では、複雑な形状のフィルターや、部分的に
透過率が異なる、いわゆるハーフトーン型フィルターな
どが用いられている。しかしながら、このようなフィル
ターは作成が困難であり、光源の強度均一性の悪化をも
たらし、結果として良好なパターンを形成できないおそ
れがある。

【０００６】本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、特殊なフィルターを用いることなく、比較的単純な
フィルターを用いて任意の光源形状を得ることができる
露光方法および露光装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る第１の露光方法は、１回の露光時間内
に、露光用光を第１フィルターに通してマスクに照射す
る工程と、前記第１フィルターと異なる光透過率分布の
第２フィルターに露光用光を通してマスクに照射する工
程とを少なくとも有する。

【０００８】本発明の第２の露光方法は、１回の露光時
間内に、露光用光を第１フィルターに通してマスクに照
射する工程と、前記第１フィルターを通さないで露光用
光をマスクに照射する工程とを少なくとも有する。本発
明に係る露光装置は、光源とマスクとの間の光路に移動
自在に配置され、露光用光の光強度分布を変化させる第
１フィルターと、１回の露光時間内に、前記第１フィル
ターが前記光路を横切る位置と、横切らない位置とに切
り換える高速切り替え手段とを有する。

【０００９】本発明に係る露光装置は、第１フィルター
と異なる透過率分布を持ち、露光用光の光強度分布を変
化させる第２フィルターをさらに有し、前記高速切り替
え手段により、１回の露光時間内で、前記光路に差し込
まれるフィルターを、前記第１フィルターと第２フィル
ターとに切り換えることが好ましい。さらに本発明に係
る露光装置では、１回の露光時間内で切り換えられる複
数のフィルターとしては、第１フィルターおよび第２フ
ィルター以外に、トータルで３枚以上のフィルターであ
っても良い。

【００１０】前記高速切り替え手段としては、特に限定
されないが、複数のフィルターが周方向に沿って形成さ
れた回転円盤や、２以上のフィルターがスライド移動方
向に沿って形成してあるスライド盤などを例示すること
ができる。本発明に係る露光装置を用いた露光方法で
は、一つ一つのフィルターは比較的単純形状である。本
発明では、１回の露光時間内で、透過率分布が異なるフ
ィルターを高速で切り換える。または、１回の露光時間
内で、ある種のフィルターを通して露光を行う場合と、
そのフィルターを通さないで露光を行う場合とに高速で
切り換える。たとえば１回のトータルの露光時間をＴと
すれば、最初の０．２Ｔの時間では、第１フィルターを
通した露光を行い、残りの０．８Ｔの時間では、第２フ
ィルターを通した露光を行う。第１フィルターの透過率
分布と、第２フィルターの透過率分布とは、相互に相違
する。すなわち、最初の０．２Ｔ時間で得られる光源の
光強度分布と、次の０．８Ｔ時間で得られる光源の強度
分布とは相違する。

【００１１】ホプキンスのパーシャルコヒーレント理論
によれば、これら光源の各点からくる光は互いに干渉せ
ず、足し合わせることにより、実際の光強度分布が得ら
れる。したがって、本発明では、複雑な形状のフィルタ
ーまたはハーフトーン型フィルターを用いることなく、
これらを用いた場合と等価な光強度分布を容易に得るこ
とができる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る露光方法およ
び露光装置を、図面に示す実施形態に基づき、詳細に説
明する。実施例１ まず、露光装置の全体構成を図２に基づき説明する。

【００１３】図２に示すように、この露光装置は、レー
ザ装置と、ステッパー装置とから成る。レーザ装置は、
エキシマレーザ３０と、ドーズ量制御ユニット３１と、
シフティングユニット３３と、発射光学系３４とで構成
される。ステッパー装置は、ビームスプリッタ３５と、
プリズムユニット３６と、ハエの目レンズ３７と、マス
キングブレード３８と、レチクル３９と、プロジェクシ
ョンレンズ４０とで構成される。エキシマレーザ３０か
ら発射された露光用光は、前記種々の光学系を通して、
ハエの目レンズ３７へ入射し、ハエの目レンズ３７が二
次光源（有効光源）となる。その露光用光は、マスクパ
ターンが形成されたレチクル３９を通し、ウェーハ４１
面上に至り、レチクル３９のパターンがウェーハ面上に
転写される。レチクル３９としては、特に限定されず、
通常のクロムマスクまたは位相シフトマスクが用いられ
る。

【００１４】ハエの目レンズ３７は、複数（たとえば１
００個）のレンズの集合体であり、全体としての外径
は、通常５ｃｍ〜２０ｃｍである。本実施例では、有効
光源としてのハエの目レンズ３７からレチクル３９へ至
る露光用光の二次源光強度分布を改良するために、ハエ
の目レンズ３７の光入射側または光出射側に、図３に示
すスライド移動式のフィルター切り替え装置５０を配置
する。このフィルター切り替え装置５０は、第１フィル
ター部５２と第２フィルター部５４とが形成してあるフ
ィルター本体５１を有する。第１フィルター部５２と第
２フィルター部５４とは、相互に光透過率分布が相違し
ている。第１フィルター部５２を通過した後の光の強度
分布は、図３（Ｂ）のカーブ５２ａのようになり、第２
フィルター部５４を通過した後の光の強度分布は、図３
（Ｂ）のカーブ５４ａのようになる。すなわち、第１フ
ィルター部５２では、中央部の透過率が高く、第２フィ
ルター部５４では、その逆に、中央部の透過率が低い。

【００１５】本実施例では、この２つのフィルター部５
２，５４が形成してあるフィルター本体５１を切り替え
装置によりスライド移動させ、たとえばトータルの露光
時間を１秒とした場合に、０．５秒間には、露光用光を
第１フィルター部５２に通し、残りの０．５秒間には、
露光用光を第２フィルター部５４に通して露光を行う。
このスライド移動は、スループットの向上の観点から、
瞬時に行うことが好ましい。

【００１６】このように、１回の露光時間内で、露光用
光が透過するフィルター部を切り換えることで、ホプキ
ンスのパーシャルコヒーレント理論から、図３（Ｂ）に
示す光強度分布カーブ５２ａと、光強度分布カーブ５４
ａとを足し合わせた図３（Ｃ）に示す光強度分布が得ら
れる。この光強度分布は、たとえば図４に示すように、
中心部の透過率が数十％で、その周囲の透過率が０％
で、さらにその周囲の透過率が１００％である単一のフ
ィルター５６を用いて露光を行った場合と等価である。

【００１７】なお、本実施例では、図３（Ｃ）に示す光
強度分布において、中心のピークと周辺のピークとの高
さの比は、露光用光が第１フィルター部５２に通される
時間と、露光用光が第２フィルター部５４に通される時
間との比を変化させることで自由に調節することができ
る。すなわち、本実施例では、比較的単純な形状のフィ
ルター部を２以上作成し、これらを切り換えて用いるこ
とで、複雑な形状のフィルターを用いた場合と同等の効
果を得ることができる。しかも、結果的に得られる図３
（Ｃ）に示す光強度分布において、光強度分布の各ピー
クの高さを自由に変更することができる。

【００１８】図３（Ｃ）に示すように、周辺部の光を強
調しつつ、中央部での光を、ある程度残しておくこと
で、ガウス分布による通常露光や、変形照明などに比べ
てよりフラットな形状に近い光強度分布を持ち、特定パ
ターンに弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現す
ることが期待される。

【００１９】実施例２ 本実施例では、前記実施例１で用いた図３に示すフィル
ター本体５１の代わりに、図５（Ａ）に示すフィルター
本体５８と切り替え装置５９とを用いた以外は、前記実
施例１と同様にして、露光を行う。切り替え装置５９
は、実施例１と同様に、スライド式の切り替え装置であ
る。フィルター本体５８には、第１フィルター部６０
と、第２フィルター部６２と、第３フィルター部６４と
が形成してある。第１フィルター部６０の光透過率分布
は、図３（Ｂ）に示す分布カーブ５２ａと同様である。
第２フィルター部６２の光透過率分布は、比較的小さな
リング状に光透過率が高い領域が存在する分布である。
さらに、第３フィルター部６４の光透過率分布は、比較
的大きなリング状に光透過率が高い領域が存在する分布
である。

【００２０】１回の露光時間内で、これら三つのフィル
ター部に露光用光がスライド装置により切り替わって透
過することで、結果的に得られる光源の光強度分布は、
図５（Ｂ）に示す分布となる。本実施例においては、比
較的単純な形状のフィルター部を３以上作成し、これら
を切り換えて用いることで、複雑な形状のフィルターを
用いた場合と同等の効果を得ることができる。しかも、
結果的に得られる図５（Ｂ）に示す光強度分布におい
て、光強度分布の各ピークの高さを自由に変更すること
ができる。

【００２１】しかも本実施例では、前記実施例１と同様
に、図５（Ｂ）に示すように、周辺部の光を強調しつ
つ、中央部での光を、ある程度残しておくことで、ガウ
ス分布による通常露光や、変形照明などに比べてよりフ
ラットな形状に近い光強度分布を持ち、特定パターンに
弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現することが
期待される。

【００２２】実施例３ 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図６（Ａ）に示す装置
を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、露光を行
った。その他の構成は、前記実施例１と同様である。

【００２３】本実施例では、図６（Ａ）に示す回転ディ
スク式のフィルター切り換え装置９０が、図２に示すハ
エの目レンズ３７の光入射側または光出射側に配置して
ある。このフィルター切り換え装置９０は、回転ディス
ク９２と、これを駆動する回転駆動軸９４とを有する。
回転ディスク９２には、周方向に沿って光透過用開口部
９５と、フィルター９６と、その他のフィルターが形成
してある。フィルター９６は、たとえば図７（Ａ）に示
すように、外径を１．０とした場合に、その中央部の
０．５の範囲が遮光するようになっている。

【００２４】一回のトータルな露光時間を１秒とした場
合に、最初の０．２秒では、図６（Ａ）に示す開口部９
５に露光用光（図８に示す分布の光）を通し、その後、
瞬時に回転ディスク９２を回転し、残りの０．８秒で
は、露光用光をフィルター９６に通して露光を行う。そ
の結果、図９に示すように、一回の露光時間当りの有効
光源からの光強度分布は、図８に示す光強度分布と時間
との積と、図７（Ａ）に示すフィルターを通した光強度
分布と時間との積との和の光強度分布に均等となる。

【００２５】本実施例においては、図６（Ａ）に示す開
口部９５を通す時間と、フィルター９６とを通す時間と
のバランスを調節することにより、結果的に照射される
光の光量分布（光強度分布に等価）の形状を変化させる
ことができる。本実施例においては、比較的単純な形状
のフィルターを通して露光する場合とフィルター無しで
露光する場合とを組み合わせることで、比較的複雑な形
状のフィルターにより得られる場合と同等な光源の光強
度分布を得ることができる。

【００２６】したがって、本実施例においても、前記実
施例１と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例４ 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図６（Ｂ）に示す装置
を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、最適な光
源形状を検索した。その他の構成は、前記実施例１と同
様である。

【００２７】本実施例では、フィルターを通さない状態
では、有効光源としてのハエの目レンズ３７へ入射する
光の強度分布は、図８に示すようなフラットな光強度分
布であるとする。本実施例では、たとえば図６（Ｂ）に
示すスライド式のフィルター切り換え装置９７が、図２
に示すハエの目レンズ３７の光入射側または光出射側に
配置してある。このフィルター切り換え装置９７は、複
数種類のフィルター９６ａ〜９６ｄを収容し、これらを
高速でスライド移動させることが可能なフィルター保持
体９８を有する。フィルター９６ａは、たとえば図７
（Ａ）に示すように、外径を１．０とした場合に、その
中央部の０．５の範囲が遮光するようになっている。ま
た、フィルター９６ｂは、図７（Ｂ）に示すように、外
径を１．０とした場合に、幅０．３５の十字状の範囲が
遮光するようになっている。

【００２８】一回のトータルな露光時間を１秒とした場
合に、最初の０．２秒では、図６（Ｂ）に示す保持体９
８内に全てのフィルター９６ａ〜９６ｄを後退移動した
状態とし、露光用光をフィルターに通さない。その後、
瞬時にフィルター９６ａをスライド移動させ、０．３秒
では、露光用光をフィルター９６ａに通して露光を行
う。次に、図６（Ｂ）に示すフィルター９６ａを保持体
９８内に瞬時にスライドさせて後退移動させ、同時に、
フィルター９６ｂをスライドさせて前進移動させ、残り
の０．５秒では、露光用光をフィルター９６ｂに通して
露光を行う。その結果、図１０に示すように、一回の露
光時間当りの有効光源からの光強度分布は、図８に示す
光強度分布と時間との積と、図７（Ａ）に示すフィルタ
ーを通した光強度分布と時間との積と、図７（Ｂ）に示
すフィルターを通した光強度分布と時間との積との和の
光強度分布に均等となる。

【００２９】本実施例においては、図６（Ｂ）に示すフ
ィルター９６ａ〜９６ｄを通す時間と切り換える時点と
を調節することにより、結果的に照射される光の光量分
布（光強度分布に等価）の形状を変化させることができ
る。本実施例においては、比較的単純な形状の２種類の
フィルターを通して露光する場合と、フィルター無しで
露光する場合とを組み合わせることで、比較的複雑な形
状のフィルターにより得られる場合と同等な光源の光強
度分布を得ることができる。

【００３０】したがって、本実施例においても、前記実
施例１と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例５ 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図６（Ｃ）に示す装置
を用いた以外は、前記実施例１と同様にして、最適な光
源形状を検索した。その他の構成は、前記第１実施例と
同様である。

【００３１】本実施例では、フィルターを通さない状態
では、有効光源としてのハエの目レンズ３７へ入射する
光の強度分布は、図８に示すようなフラットな光強度分
布であるとする。本実施例では、たとえば図６（Ｃ）に
示す光シャッタ式光学材料１００が、図２に示すハエの
目レンズ３７の光入射側または光出射側に配置してあ
る。この光シャッタ式光学材料は、たとえばＰＬＺＴ
（Ｌａ添加のチタン酸ジルコン酸鉛）で構成され、基板
の少なくとも片面に複数の細電極を設け、電圧を印加す
ることにより、光の透過率が変化する材料である。光学
材料１００の表面に設ける電極の形を工夫することで、
中心領域１０２と周辺領域１０４とを別々に制御可能と
し、電圧を印加することにより一瞬にして中央部１０２
のみを遮光状態にすることが可能である。

【００３２】一回のトータルな露光時間を１秒とした場
合に、最初の０．２秒では、図６（Ｃ）に示す中央部１
０２と周辺部１０４とを光透過状態とし、これらの領域
に露光用光を通す。その後、瞬時に中央部１０２の電極
にのみ電圧を印加し、中央部１０２を遮光状態とし、そ
の状態で露光用光を通す。その結果、前記実施例３と同
様な結果を得ることができる。

【００３３】本実施例においては、光学材料１００の表
面に形成する電極の形状、配置間隔および電圧印加条件
などを工夫することで、結果的に種々の光強度分布形状
を得ることができる。本実施例においては、光シャッタ
ーを用いることで、比較的複雑な形状のフィルターによ
り得られる場合と同等な光源の光強度分布を得ることが
できる。

【００３４】したがって、本実施例においても、前記実
施例１と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例６ 本実施例では、前記各実施例のいずれかの手段を採用す
ることにより、結果的に、図１１に示す光強度分布の二
次光源を実現した。

【００３５】なお、図１１（Ａ）は、光強度分布を数字
で示したものであり、＊部が光強度のピーク部分を示
し、０〜９の数字は、ピーク部分を１０とした場合の光
強度の割合を示し、中央部で低く周辺部で高い光強度分
布となっている。また、図１１（Ｂ）は、図１１（Ａ）
に示す光強度分布を立体的に示したものである。

【００３６】この光強度分布の有効光源と、位相シフト
マスクとを組み合わせて用いることにより、図１２，１
３に示すように、密集パターンでの二次ピークによる解
像の問題を生じることなく、ＤＯＦ（焦点深度）を拡大
することができることが確認された。

【００３７】なお、図１２では、（Ｂ）は、中心部で光
強度が低い有効光源とハーフトーン位相シフトマスクを
用いて、ＮＡが０．４５のＫｒＦエキシマレーザーステ
ッパーにより、内径０．３０μm のコンタクトホールパ
ターンを基板上に形成した例を示す。この実験では、レ
ジストとしては、化学増幅型ポジレジスト（ＷＫＲ−Ｐ
Ｔ２）を用いた。コンタクトホールの内径と、それらの
間隔との比（デューテイ比）を１：３，１：１．５，
１：１と変化させたパターンについて、それぞれコンタ
クトホールパターンを形成した。ＳＥＭ写真の結果を図
１２（Ｂ）に示す。

【００３８】また、比較のために、ハエの目レンズ上に
照射する光強度分布を図１２（Ａ）に示すガウス分布と
した以外は同様にして、３通りの条件でコンタクトホー
ルパターンを形成した。さらに、比較のために、有効光
源上に照射する光強度分布を輪帯照明の分布（中心部の
光強度を０）とした以外は同様にして、３通りの条件で
コンタクトホールパターンを形成した。ＳＥＭ写真で観
察した結果を、図１２（Ｃ）に示す。これらの実験結果
から、コンタクトホールの間隔が狭くなっても、中心部
で光強度が弱い分布の光源を持つ露光（図１２（Ｂ），
（Ｃ））では、二次ピークがほとんど解像しないことが
確認された。

【００３９】図１３中のカーブＢは、図１２（Ｂ）に示
す光源形状を用い、孤立パターンを形成した場合の孔サ
イズとフォーカスとの関係を示し、曲線の幅が横に広い
ほどＤＯＦが広い。また、図１３中のカーブＡは、図１
２（Ａ）に示す光源形状を用い、孤立パターンを形成し
た場合の孔サイズとフォーカスとの関係を示す。さら
に、図１３中のカーブＣは、図１２（Ｃ）に示す光源形
状を用い、孤立パターンを形成した場合の孔サイズとフ
ォーカスとの関係を示す。

【００４０】本実施例（カーブＢ）では、従来の通常照
明の場合（カーブＡ）には及ばないものの、輪帯照明の
場合（カーブＣ）に比較して、ＤＯＦが広がることが確
認された。なお、本発明は、上述した実施形態に限定さ
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明してきたように、本発明では、
比較的単純な形状のフィルターを組み合わせて用いるこ
とで、複雑な形状のフィルターを用いた場合と同等の効
果を得ることができる。

【００４２】しかも本発明では、周辺部の光を強調しつ
つ、中央部での光を、ある程度残しておくなどの自由な
光強度分布の光源を実現することができ、特定パターン
に弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来例に係る変形光源の一例を示す図である。

【図２】露光装置の全体構成を示す図である。

【図３】（Ａ）〜（Ｃ）は本発明の実施例に係るフィル
ターと光強度分布との関係を示す図である。

【図４】図３（Ｃ）に示す分布を一枚のフィルターで実
現するためのフィルターの概略図である。

【図５】（Ａ），（Ｂ）は本発明の他の実施例に係るフ
ィルターと光強度分布との関係を示す図である。

【図６】（Ａ）〜（Ｃ）は光源の形状を変化させるため
の他の例を示す図である。

【図７】（Ａ），（Ｂ）は実施例で用いるフィルターの
例を示す図である。

【図８】実施例で用いる光強度分布を示すである。

【図９】光強度分布の足し算を示す概念図である。

【図１０】光強度分布の足し算を示す概念図である。

【図１１】（Ａ）は実施例での光量分布を数値で示す
図、（Ｂ）は光量分布を立体的に示す図である。

【図１２】（Ａ）〜（Ｃ）は光源の光強度分布による二
次パターンの影響を示すホールパターンのＳＥＭ写真で
ある。

【図１３】本発明の実施例に係る方法により得られる光
源形状の場合には、ＤＯＦも向上することを示すグラフ
である。

【符号の説明】

３５… ビームスプリッタ ３６… プリズムユニット ３７… ハエの目レンズ ３９… レチクル ４１… ウェーハ ５０… 切り替え装置 ５１，５９… フィルター本体 ５２，６０… 第１フィルター部 ５４，６２… 第２フィルター部 ６４… 第３フィルター部

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光源からの露光用光をマスクに通し、そ
   のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方
   法において、 １回の露光時間内に、露光用光を第１フィルターに通し
   てマスクに照射する工程と、前記第１フィルターと異な
   る光透過率分布の第２フィルターに露光用光を通してマ
   スクに照射する工程とを少なくとも有する露光方法。
2. 【請求項２】 光源からの露光用光をマスクに通し、そ
   のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方
   法において、 １回の露光時間内に、露光用光を第１フィルターに通し
   てマスクに照射する工程と、前記第１フィルターを通さ
   ないで露光用光をマスクに照射する工程とを少なくとも
   有する露光方法。
3. 【請求項３】 光源からの露光用光をマスクに通し、そ
   のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装
   置において、 光源とマスクとの間の光路に移動自在に配置され、露光
   用光の光強度分布を変化させる第１フィルターと、 １回の露光時間内に、前記第１フィルターが前記光路を
   横切る位置と、横切らない位置とに切り換える高速切り
   替え手段とを有する露光装置。
4. 【請求項４】 前記第１フィルターと異なる透過率分布
   を持ち、露光用光の光強度分布を変化させる第２フィル
   ターをさらに有し、 前記高速切り替え手段により、１回の露光時間内で、前
   記光路に差し込まれるフィルターを、前記第１フィルタ
   ーと第２フィルターとに切り換えることを特徴とする請
   求項３に記載の露光装置。