JPH0955350A - Exposure method and aligner - Google Patents
Exposure method and alignerInfo
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- JPH0955350A JPH0955350A JP7207237A JP20723795A JPH0955350A JP H0955350 A JPH0955350 A JP H0955350A JP 7207237 A JP7207237 A JP 7207237A JP 20723795 A JP20723795 A JP 20723795A JP H0955350 A JPH0955350 A JP H0955350A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
- G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば半導体基
板の表面に微細パターンを形成するための露光方法と露
光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure method and an exposure apparatus for forming a fine pattern on the surface of a semiconductor substrate, for example.
【0002】[0002]
【従来の技術】現在、半導体集積回路の研究開発におい
て、サブハーフミクロン領域のデザインルールのデバイ
スが研究開発されている。これらデバイス開発において
は、フォトリソグラフィー技術が必須である。このフォ
トリソグラフィー技術に使用されている露光装置、いわ
ゆる縮小投影露光装置の解像性能が、半導体デバイスの
研究開発の成否、および量産の可否を左右しているとい
っても過言ではない。2. Description of the Related Art Currently, in the research and development of semiconductor integrated circuits, devices having a design rule in the sub-half micron region are being researched and developed. Photolithography technology is essential in the development of these devices. It is no exaggeration to say that the resolution performance of the exposure apparatus used in this photolithography technique, that is, the so-called reduction projection exposure apparatus, determines the success or failure of R & D and mass production of semiconductor devices.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】このような露光装置に
おいて、半導体露光装置の光源とマスクとの間に光透過
率を制御するフィルターを設け、通常は光強度分布がガ
ウス分布となっている光源を種々に変化させ、解像度や
焦点深度を改善する、いわゆる変形照明法が注目を集め
ている。In such an exposure apparatus, a filter for controlling the light transmittance is provided between the light source of the semiconductor exposure apparatus and the mask, and the light intensity distribution is normally a Gaussian distribution. The so-called modified illumination method, in which the resolution and the depth of focus are improved by various changes, is drawing attention.
【0004】たとえば図1に示すように、透過率0の円
盤2に、4箇所の円形の開口部4が形成してある単純な
フィルターが用いられ、変形照明を実現している。とこ
ろが、従来のフィルターを用いた変形照明法では、特定
のパターンのみにしか効果がなく、ある種のパターンに
はむしろ悪影響があると言うことで、実用化という観点
から各種光源が提案されている。For example, as shown in FIG. 1, a simple filter in which four circular openings 4 are formed on a disk 2 having a transmittance of 0 is used to realize modified illumination. However, the conventional modified illumination method using a filter has an effect only on a specific pattern and rather has a bad influence on a certain pattern, so various light sources have been proposed from the viewpoint of practical use. .
【0005】たとえば強度差がないフラットな強度分布
の光源や、光に位相差を持たせるフィルターが設けられ
た光源が提案されている。このような光源を作成するた
めに、従来では、複雑な形状のフィルターや、部分的に
透過率が異なる、いわゆるハーフトーン型フィルターな
どが用いられている。しかしながら、このようなフィル
ターは作成が困難であり、光源の強度均一性の悪化をも
たらし、結果として良好なパターンを形成できないおそ
れがある。For example, a light source having a flat intensity distribution with no difference in intensity or a light source provided with a filter for giving a phase difference to light has been proposed. In order to create such a light source, conventionally, a filter having a complicated shape, a so-called halftone type filter having partially different transmissivity, etc. have been used. However, such a filter is difficult to make, and the intensity uniformity of the light source is deteriorated, and as a result, a good pattern may not be formed.
【0006】本発明は、このような実状に鑑みてなさ
れ、特殊なフィルターを用いることなく、比較的単純な
フィルターを用いて任意の光源形状を得ることができる
露光方法および露光装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an exposure method and an exposure apparatus capable of obtaining an arbitrary light source shape by using a relatively simple filter without using a special filter. With the goal.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る第1の露光方法は、1回の露光時間内
に、露光用光を第1フィルターに通してマスクに照射す
る工程と、前記第1フィルターと異なる光透過率分布の
第2フィルターに露光用光を通してマスクに照射する工
程とを少なくとも有する。In order to achieve the above object, a first exposure method according to the present invention irradiates a mask with exposure light through a first filter within one exposure time. The method further includes at least a step and a step of irradiating the mask through the exposure light through the second filter having a light transmittance distribution different from that of the first filter.
【0008】本発明の第2の露光方法は、1回の露光時
間内に、露光用光を第1フィルターに通してマスクに照
射する工程と、前記第1フィルターを通さないで露光用
光をマスクに照射する工程とを少なくとも有する。本発
明に係る露光装置は、光源とマスクとの間の光路に移動
自在に配置され、露光用光の光強度分布を変化させる第
1フィルターと、1回の露光時間内に、前記第1フィル
ターが前記光路を横切る位置と、横切らない位置とに切
り換える高速切り替え手段とを有する。The second exposure method of the present invention comprises the step of irradiating the mask with the exposure light through the first filter within one exposure time, and the exposure light without passing through the first filter. And a step of irradiating the mask. An exposure apparatus according to the present invention includes a first filter that is movably arranged in an optical path between a light source and a mask and that changes a light intensity distribution of exposure light, and the first filter within one exposure time. Has a high-speed switching means for switching between a position crossing the optical path and a position not crossing the optical path.
【0009】本発明に係る露光装置は、第1フィルター
と異なる透過率分布を持ち、露光用光の光強度分布を変
化させる第2フィルターをさらに有し、前記高速切り替
え手段により、1回の露光時間内で、前記光路に差し込
まれるフィルターを、前記第1フィルターと第2フィル
ターとに切り換えることが好ましい。さらに本発明に係
る露光装置では、1回の露光時間内で切り換えられる複
数のフィルターとしては、第1フィルターおよび第2フ
ィルター以外に、トータルで3枚以上のフィルターであ
っても良い。The exposure apparatus according to the present invention further has a second filter having a transmittance distribution different from that of the first filter and changing the light intensity distribution of the exposure light, and the high-speed switching means allows one exposure to be performed once. It is preferable to switch the filter inserted into the optical path to the first filter and the second filter within a time period. Furthermore, in the exposure apparatus according to the present invention, the plurality of filters that can be switched within one exposure time may be a total of three or more filters in addition to the first filter and the second filter.
【0010】前記高速切り替え手段としては、特に限定
されないが、複数のフィルターが周方向に沿って形成さ
れた回転円盤や、2以上のフィルターがスライド移動方
向に沿って形成してあるスライド盤などを例示すること
ができる。本発明に係る露光装置を用いた露光方法で
は、一つ一つのフィルターは比較的単純形状である。本
発明では、1回の露光時間内で、透過率分布が異なるフ
ィルターを高速で切り換える。または、1回の露光時間
内で、ある種のフィルターを通して露光を行う場合と、
そのフィルターを通さないで露光を行う場合とに高速で
切り換える。たとえば1回のトータルの露光時間をTと
すれば、最初の0.2Tの時間では、第1フィルターを
通した露光を行い、残りの0.8Tの時間では、第2フ
ィルターを通した露光を行う。第1フィルターの透過率
分布と、第2フィルターの透過率分布とは、相互に相違
する。すなわち、最初の0.2T時間で得られる光源の
光強度分布と、次の0.8T時間で得られる光源の強度
分布とは相違する。The high-speed switching means is not particularly limited, but includes a rotary disk having a plurality of filters formed along the circumferential direction, a slide disk having two or more filters formed along the slide movement direction, and the like. It can be illustrated. In the exposure method using the exposure apparatus according to the present invention, each filter has a relatively simple shape. In the present invention, the filters having different transmittance distributions are switched at high speed within one exposure time. Or when performing exposure through a filter of a certain type within one exposure time,
It switches at high speed when performing exposure without passing through the filter. For example, assuming that the total exposure time of one time is T, the exposure through the first filter is performed in the first 0.2T time, and the exposure through the second filter is performed in the remaining 0.8T time. To do. The transmittance distribution of the first filter and the transmittance distribution of the second filter are different from each other. That is, the light intensity distribution of the light source obtained in the first 0.2T time is different from the light intensity distribution of the light source obtained in the next 0.8T time.
【0011】ホプキンスのパーシャルコヒーレント理論
によれば、これら光源の各点からくる光は互いに干渉せ
ず、足し合わせることにより、実際の光強度分布が得ら
れる。したがって、本発明では、複雑な形状のフィルタ
ーまたはハーフトーン型フィルターを用いることなく、
これらを用いた場合と等価な光強度分布を容易に得るこ
とができる。According to Hopkins' partially coherent theory, the lights coming from the respective points of these light sources do not interfere with each other, but by adding them together, an actual light intensity distribution can be obtained. Therefore, in the present invention, without using a filter having a complicated shape or a halftone filter,
It is possible to easily obtain a light intensity distribution equivalent to the case where these are used.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る露光方法およ
び露光装置を、図面に示す実施形態に基づき、詳細に説
明する。実施例1 まず、露光装置の全体構成を図2に基づき説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An exposure method and an exposure apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the embodiments shown in the drawings. First Embodiment First, the overall configuration of the exposure apparatus will be described with reference to FIG.
【0013】図2に示すように、この露光装置は、レー
ザ装置と、ステッパー装置とから成る。レーザ装置は、
エキシマレーザ30と、ドーズ量制御ユニット31と、
シフティングユニット33と、発射光学系34とで構成
される。ステッパー装置は、ビームスプリッタ35と、
プリズムユニット36と、ハエの目レンズ37と、マス
キングブレード38と、レチクル39と、プロジェクシ
ョンレンズ40とで構成される。エキシマレーザ30か
ら発射された露光用光は、前記種々の光学系を通して、
ハエの目レンズ37へ入射し、ハエの目レンズ37が二
次光源(有効光源)となる。その露光用光は、マスクパ
ターンが形成されたレチクル39を通し、ウェーハ41
面上に至り、レチクル39のパターンがウェーハ面上に
転写される。レチクル39としては、特に限定されず、
通常のクロムマスクまたは位相シフトマスクが用いられ
る。As shown in FIG. 2, this exposure apparatus comprises a laser device and a stepper device. The laser device
An excimer laser 30, a dose control unit 31,
It is composed of a shifting unit 33 and a firing optical system 34. The stepper device includes a beam splitter 35,
The prism unit 36, a fly-eye lens 37, a masking blade 38, a reticle 39, and a projection lens 40. The exposure light emitted from the excimer laser 30 passes through the various optical systems described above,
The light enters the fly-eye lens 37, and the fly-eye lens 37 serves as a secondary light source (effective light source). The exposure light passes through the reticle 39 on which the mask pattern is formed, and the wafer 41 is exposed.
Then, the pattern of the reticle 39 is transferred onto the wafer surface. The reticle 39 is not particularly limited,
A conventional chrome mask or phase shift mask is used.
【0014】ハエの目レンズ37は、複数(たとえば1
00個)のレンズの集合体であり、全体としての外径
は、通常5cm〜20cmである。本実施例では、有効
光源としてのハエの目レンズ37からレチクル39へ至
る露光用光の二次源光強度分布を改良するために、ハエ
の目レンズ37の光入射側または光出射側に、図3に示
すスライド移動式のフィルター切り替え装置50を配置
する。このフィルター切り替え装置50は、第1フィル
ター部52と第2フィルター部54とが形成してあるフ
ィルター本体51を有する。第1フィルター部52と第
2フィルター部54とは、相互に光透過率分布が相違し
ている。第1フィルター部52を通過した後の光の強度
分布は、図3(B)のカーブ52aのようになり、第2
フィルター部54を通過した後の光の強度分布は、図3
(B)のカーブ54aのようになる。すなわち、第1フ
ィルター部52では、中央部の透過率が高く、第2フィ
ルター部54では、その逆に、中央部の透過率が低い。A plurality of fly-eye lenses 37 (for example, 1
The total outer diameter is 5 cm to 20 cm. In this embodiment, in order to improve the secondary source light intensity distribution of the exposure light from the fly-eye lens 37 as an effective light source to the reticle 39, the light-incident side or the light-exit side of the fly-eye lens 37 is A slide movement type filter switching device 50 shown in FIG. 3 is arranged. The filter switching device 50 has a filter body 51 formed with a first filter portion 52 and a second filter portion 54. The first filter section 52 and the second filter section 54 have different light transmittance distributions. The intensity distribution of the light after passing through the first filter unit 52 is as shown by a curve 52a in FIG.
The intensity distribution of light after passing through the filter unit 54 is shown in FIG.
It becomes like a curve 54a in (B). That is, the first filter portion 52 has a high transmittance in the central portion, and the second filter portion 54, on the contrary, has a low transmittance in the central portion.
【0015】本実施例では、この2つのフィルター部5
2,54が形成してあるフィルター本体51を切り替え
装置によりスライド移動させ、たとえばトータルの露光
時間を1秒とした場合に、0.5秒間には、露光用光を
第1フィルター部52に通し、残りの0.5秒間には、
露光用光を第2フィルター部54に通して露光を行う。
このスライド移動は、スループットの向上の観点から、
瞬時に行うことが好ましい。In this embodiment, the two filter units 5
The filter main body 51 formed with 2, 54 is slid by a switching device. For example, when the total exposure time is 1 second, the exposure light is passed through the first filter unit 52 for 0.5 second. , For the remaining 0.5 seconds,
Exposure light is passed through the second filter unit 54 to perform exposure.
From the viewpoint of improving throughput, this slide movement is
It is preferable to do it instantly.
【0016】このように、1回の露光時間内で、露光用
光が透過するフィルター部を切り換えることで、ホプキ
ンスのパーシャルコヒーレント理論から、図3(B)に
示す光強度分布カーブ52aと、光強度分布カーブ54
aとを足し合わせた図3(C)に示す光強度分布が得ら
れる。この光強度分布は、たとえば図4に示すように、
中心部の透過率が数十%で、その周囲の透過率が0%
で、さらにその周囲の透過率が100%である単一のフ
ィルター56を用いて露光を行った場合と等価である。As described above, by switching the filter section through which the exposure light is transmitted within one exposure time, the light intensity distribution curve 52a shown in FIG. 3B and the light intensity distribution curve 52a shown in FIG. 3B can be obtained from Hopkins' partially coherent theory. Intensity distribution curve 54
The light intensity distribution shown in FIG. 3 (C) is obtained by adding a and a. This light intensity distribution is, for example, as shown in FIG.
The transmittance of the central part is several tens of percent, and the transmittance around it is 0%.
And is equivalent to the case where exposure is performed using a single filter 56 having a transmittance of 100% around it.
【0017】なお、本実施例では、図3(C)に示す光
強度分布において、中心のピークと周辺のピークとの高
さの比は、露光用光が第1フィルター部52に通される
時間と、露光用光が第2フィルター部54に通される時
間との比を変化させることで自由に調節することができ
る。すなわち、本実施例では、比較的単純な形状のフィ
ルター部を2以上作成し、これらを切り換えて用いるこ
とで、複雑な形状のフィルターを用いた場合と同等の効
果を得ることができる。しかも、結果的に得られる図3
(C)に示す光強度分布において、光強度分布の各ピー
クの高さを自由に変更することができる。In this embodiment, in the light intensity distribution shown in FIG. 3 (C), the exposure light is passed through the first filter portion 52 with respect to the height ratio between the central peak and the peripheral peak. It can be freely adjusted by changing the ratio between the time and the time during which the exposure light is passed through the second filter unit 54. That is, in the present embodiment, two or more filter portions having a relatively simple shape are created, and by switching these, it is possible to obtain the same effect as when a filter having a complicated shape is used. Moreover, the resulting figure 3
In the light intensity distribution shown in (C), the height of each peak of the light intensity distribution can be freely changed.
【0018】図3(C)に示すように、周辺部の光を強
調しつつ、中央部での光を、ある程度残しておくこと
で、ガウス分布による通常露光や、変形照明などに比べ
てよりフラットな形状に近い光強度分布を持ち、特定パ
ターンに弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現す
ることが期待される。As shown in FIG. 3C, by emphasizing the light in the peripheral portion and leaving the light in the central portion to some extent, compared with normal exposure using Gaussian distribution or modified illumination, It is expected to have a light intensity distribution close to a flat shape, have no weak points in a specific pattern, and realize good pattern resolution.
【0019】実施例2 本実施例では、前記実施例1で用いた図3に示すフィル
ター本体51の代わりに、図5(A)に示すフィルター
本体58と切り替え装置59とを用いた以外は、前記実
施例1と同様にして、露光を行う。切り替え装置59
は、実施例1と同様に、スライド式の切り替え装置であ
る。フィルター本体58には、第1フィルター部60
と、第2フィルター部62と、第3フィルター部64と
が形成してある。第1フィルター部60の光透過率分布
は、図3(B)に示す分布カーブ52aと同様である。
第2フィルター部62の光透過率分布は、比較的小さな
リング状に光透過率が高い領域が存在する分布である。
さらに、第3フィルター部64の光透過率分布は、比較
的大きなリング状に光透過率が高い領域が存在する分布
である。 Embodiment 2 In this embodiment, the filter body 51 shown in FIG. 5A is replaced with a filter body 58 and a switching device 59 instead of the filter body 51 shown in FIG. 3 used in the first embodiment. Exposure is performed in the same manner as in the first embodiment. Switching device 59
Is a slide type switching device as in the first embodiment. The filter body 58 includes a first filter portion 60.
The second filter portion 62 and the third filter portion 64 are formed. The light transmittance distribution of the first filter unit 60 is similar to the distribution curve 52a shown in FIG.
The light transmittance distribution of the second filter portion 62 is a distribution in which a region having a high light transmittance exists in a relatively small ring shape.
Further, the light transmittance distribution of the third filter portion 64 is a distribution in which a relatively large ring-shaped region having a high light transmittance exists.
【0020】1回の露光時間内で、これら三つのフィル
ター部に露光用光がスライド装置により切り替わって透
過することで、結果的に得られる光源の光強度分布は、
図5(B)に示す分布となる。本実施例においては、比
較的単純な形状のフィルター部を3以上作成し、これら
を切り換えて用いることで、複雑な形状のフィルターを
用いた場合と同等の効果を得ることができる。しかも、
結果的に得られる図5(B)に示す光強度分布におい
て、光強度分布の各ピークの高さを自由に変更すること
ができる。The light intensity distribution of the light source obtained as a result of the exposure light being switched by the slide device and transmitted through these three filter portions within one exposure time is as follows.
The distribution is as shown in FIG. In the present embodiment, three or more filter parts having a relatively simple shape are created, and by switching these, it is possible to obtain the same effect as when a filter having a complicated shape is used. Moreover,
In the resulting light intensity distribution shown in FIG. 5B, the height of each peak in the light intensity distribution can be freely changed.
【0021】しかも本実施例では、前記実施例1と同様
に、図5(B)に示すように、周辺部の光を強調しつ
つ、中央部での光を、ある程度残しておくことで、ガウ
ス分布による通常露光や、変形照明などに比べてよりフ
ラットな形状に近い光強度分布を持ち、特定パターンに
弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現することが
期待される。Further, in this embodiment, as in the first embodiment, as shown in FIG. 5B, the light in the peripheral portion is emphasized while leaving the light in the central portion to some extent. Compared with normal exposure using Gaussian distribution and modified illumination, it has a light intensity distribution that is closer to a flat shape, and it is expected to realize good pattern resolution without weak points in the specific pattern.
【0022】実施例3 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図6(A)に示す装置
を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、露光を行
った。その他の構成は、前記実施例1と同様である。 Example 3 This example is the same as Example 1 except that the device shown in FIG. 6A was used as a means for changing the light intensity distribution from the resulting light source. Then, exposure was performed. Other configurations are the same as those in the first embodiment.
【0023】本実施例では、図6(A)に示す回転ディ
スク式のフィルター切り換え装置90が、図2に示すハ
エの目レンズ37の光入射側または光出射側に配置して
ある。このフィルター切り換え装置90は、回転ディス
ク92と、これを駆動する回転駆動軸94とを有する。
回転ディスク92には、周方向に沿って光透過用開口部
95と、フィルター96と、その他のフィルターが形成
してある。フィルター96は、たとえば図7(A)に示
すように、外径を1.0とした場合に、その中央部の
0.5の範囲が遮光するようになっている。In this embodiment, a rotary disc type filter switching device 90 shown in FIG. 6A is arranged on the light incident side or the light emitting side of the fly-eye lens 37 shown in FIG. The filter switching device 90 has a rotary disk 92 and a rotary drive shaft 94 that drives the rotary disk 92.
On the rotating disk 92, a light transmitting opening 95, a filter 96, and other filters are formed along the circumferential direction. For example, as shown in FIG. 7A, the filter 96 is designed to block light in the range of 0.5 at the center when the outer diameter is 1.0.
【0024】一回のトータルな露光時間を1秒とした場
合に、最初の0.2秒では、図6(A)に示す開口部9
5に露光用光(図8に示す分布の光)を通し、その後、
瞬時に回転ディスク92を回転し、残りの0.8秒で
は、露光用光をフィルター96に通して露光を行う。そ
の結果、図9に示すように、一回の露光時間当りの有効
光源からの光強度分布は、図8に示す光強度分布と時間
との積と、図7(A)に示すフィルターを通した光強度
分布と時間との積との和の光強度分布に均等となる。When the total exposure time of one time is set to 1 second, the opening 9 shown in FIG.
5, light for exposure (light having the distribution shown in FIG. 8) is passed through, and then,
The rotary disk 92 is instantaneously rotated, and exposure light is passed through the filter 96 for exposure in the remaining 0.8 seconds. As a result, as shown in FIG. 9, the light intensity distribution from the effective light source per exposure time is the product of the light intensity distribution and time shown in FIG. 8 and the filter shown in FIG. The light intensity distribution is equal to the sum of the product of the light intensity distribution and the time.
【0025】本実施例においては、図6(A)に示す開
口部95を通す時間と、フィルター96とを通す時間と
のバランスを調節することにより、結果的に照射される
光の光量分布(光強度分布に等価)の形状を変化させる
ことができる。本実施例においては、比較的単純な形状
のフィルターを通して露光する場合とフィルター無しで
露光する場合とを組み合わせることで、比較的複雑な形
状のフィルターにより得られる場合と同等な光源の光強
度分布を得ることができる。In the present embodiment, by adjusting the balance between the time for passing through the opening portion 95 shown in FIG. 6A and the time for passing through the filter 96, the light quantity distribution of the resulting irradiation light ( (Equivalent to light intensity distribution) can be changed. In this embodiment, by combining the case of exposing through a filter having a relatively simple shape and the case of exposing without a filter, a light intensity distribution of a light source equivalent to that obtained by a filter having a relatively complicated shape is obtained. Obtainable.
【0026】したがって、本実施例においても、前記実
施例1と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例4 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図6(B)に示す装置
を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、最適な光
源形状を検索した。その他の構成は、前記実施例1と同
様である。Therefore, also in the present embodiment, as in the first embodiment, by emphasizing the light in the peripheral portion and leaving the light in the central portion to some extent, the specific pattern does not have a weak point. It is expected to realize good pattern resolution. Example 4 This example is the same as Example 1 except that the device shown in FIG. 6B was used as a means for changing the light intensity distribution from the resulting light source. The optimum light source shape was searched. Other configurations are the same as those in the first embodiment.
【0027】本実施例では、フィルターを通さない状態
では、有効光源としてのハエの目レンズ37へ入射する
光の強度分布は、図8に示すようなフラットな光強度分
布であるとする。本実施例では、たとえば図6(B)に
示すスライド式のフィルター切り換え装置97が、図2
に示すハエの目レンズ37の光入射側または光出射側に
配置してある。このフィルター切り換え装置97は、複
数種類のフィルター96a〜96dを収容し、これらを
高速でスライド移動させることが可能なフィルター保持
体98を有する。フィルター96aは、たとえば図7
(A)に示すように、外径を1.0とした場合に、その
中央部の0.5の範囲が遮光するようになっている。ま
た、フィルター96bは、図7(B)に示すように、外
径を1.0とした場合に、幅0.35の十字状の範囲が
遮光するようになっている。In this embodiment, it is assumed that the intensity distribution of light incident on the fly-eye lens 37 as an effective light source is a flat light intensity distribution as shown in FIG. In this embodiment, for example, the slide type filter switching device 97 shown in FIG.
Are arranged on the light incident side or the light emitting side of the fly-eye lens 37 shown in FIG. The filter switching device 97 has a filter holder 98 that accommodates a plurality of types of filters 96a to 96d and can slide these filters at high speed. The filter 96a is, for example, as shown in FIG.
As shown in (A), when the outer diameter is 1.0, the central range of 0.5 blocks light. Further, as shown in FIG. 7B, the filter 96b is designed to block light in a cross-shaped range having a width of 0.35 when the outer diameter is 1.0.
【0028】一回のトータルな露光時間を1秒とした場
合に、最初の0.2秒では、図6(B)に示す保持体9
8内に全てのフィルター96a〜96dを後退移動した
状態とし、露光用光をフィルターに通さない。その後、
瞬時にフィルター96aをスライド移動させ、0.3秒
では、露光用光をフィルター96aに通して露光を行
う。次に、図6(B)に示すフィルター96aを保持体
98内に瞬時にスライドさせて後退移動させ、同時に、
フィルター96bをスライドさせて前進移動させ、残り
の0.5秒では、露光用光をフィルター96bに通して
露光を行う。その結果、図10に示すように、一回の露
光時間当りの有効光源からの光強度分布は、図8に示す
光強度分布と時間との積と、図7(A)に示すフィルタ
ーを通した光強度分布と時間との積と、図7(B)に示
すフィルターを通した光強度分布と時間との積との和の
光強度分布に均等となる。When the total exposure time of one time is set to 1 second, the holder 9 shown in FIG.
All of the filters 96a to 96d are moved backward in 8 and the exposure light is not passed through the filters. afterwards,
The filter 96a is instantly slid and moved, and the exposure light is passed through the filter 96a for exposure at 0.3 seconds. Next, the filter 96a shown in FIG. 6 (B) is instantaneously slid into the holder 98 to move backward, and at the same time,
The filter 96b is slid and moved forward, and in the remaining 0.5 seconds, exposure light is passed through the filter 96b to perform exposure. As a result, as shown in FIG. 10, the light intensity distribution from the effective light source per exposure time is the product of the light intensity distribution and time shown in FIG. 8 and the filter shown in FIG. The product of the above-mentioned light intensity distribution and time is equal to the sum of the product of the light intensity distribution through the filter and the time shown in FIG.
【0029】本実施例においては、図6(B)に示すフ
ィルター96a〜96dを通す時間と切り換える時点と
を調節することにより、結果的に照射される光の光量分
布(光強度分布に等価)の形状を変化させることができ
る。本実施例においては、比較的単純な形状の2種類の
フィルターを通して露光する場合と、フィルター無しで
露光する場合とを組み合わせることで、比較的複雑な形
状のフィルターにより得られる場合と同等な光源の光強
度分布を得ることができる。In the present embodiment, the light quantity distribution of the light emitted as a result (equivalent to the light intensity distribution) is adjusted by adjusting the time when the filters 96a to 96d shown in FIG. The shape of can be changed. In the present embodiment, by combining the case of exposing through two kinds of filters having a relatively simple shape and the case of exposing without a filter, a light source equivalent to that obtained by a filter of a relatively complicated shape is obtained. The light intensity distribution can be obtained.
【0030】したがって、本実施例においても、前記実
施例1と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例5 本実施例では、結果的に得られる光源からの光強度分布
を変化させるための手段として、図6(C)に示す装置
を用いた以外は、前記実施例1と同様にして、最適な光
源形状を検索した。その他の構成は、前記第1実施例と
同様である。Therefore, also in the present embodiment, as in the first embodiment, by emphasizing the light in the peripheral portion and leaving the light in the central portion to some extent, the specific pattern has no weak point, It is expected to realize good pattern resolution. Example 5 In this example, the same procedure as in Example 1 was carried out except that the device shown in FIG. 6C was used as a means for changing the light intensity distribution from the resulting light source. The optimum light source shape was searched. Other configurations are the same as in the first embodiment.
【0031】本実施例では、フィルターを通さない状態
では、有効光源としてのハエの目レンズ37へ入射する
光の強度分布は、図8に示すようなフラットな光強度分
布であるとする。本実施例では、たとえば図6(C)に
示す光シャッタ式光学材料100が、図2に示すハエの
目レンズ37の光入射側または光出射側に配置してあ
る。この光シャッタ式光学材料は、たとえばPLZT
(La添加のチタン酸ジルコン酸鉛)で構成され、基板
の少なくとも片面に複数の細電極を設け、電圧を印加す
ることにより、光の透過率が変化する材料である。光学
材料100の表面に設ける電極の形を工夫することで、
中心領域102と周辺領域104とを別々に制御可能と
し、電圧を印加することにより一瞬にして中央部102
のみを遮光状態にすることが可能である。In this embodiment, it is assumed that the intensity distribution of light incident on the fly-eye lens 37 as an effective light source is a flat light intensity distribution as shown in FIG. In this embodiment, for example, the optical shutter type optical material 100 shown in FIG. 6C is arranged on the light incident side or the light emitting side of the fly-eye lens 37 shown in FIG. This optical shutter type optical material is, for example, PLZT.
(La-added lead zirconate titanate), which is a material whose light transmittance changes by providing a plurality of thin electrodes on at least one surface of a substrate and applying a voltage. By devising the shape of the electrode provided on the surface of the optical material 100,
The central region 102 and the peripheral region 104 can be separately controlled, and a voltage is applied to the central region 102 in an instant.
Only the light can be shielded.
【0032】一回のトータルな露光時間を1秒とした場
合に、最初の0.2秒では、図6(C)に示す中央部1
02と周辺部104とを光透過状態とし、これらの領域
に露光用光を通す。その後、瞬時に中央部102の電極
にのみ電圧を印加し、中央部102を遮光状態とし、そ
の状態で露光用光を通す。その結果、前記実施例3と同
様な結果を得ることができる。When the total exposure time of one time is set to 1 second, the central portion 1 shown in FIG.
02 and the peripheral portion 104 are set in a light transmitting state, and exposure light is passed through these regions. After that, a voltage is instantaneously applied only to the electrode of the central portion 102 to bring the central portion 102 into a light-shielded state, and the exposure light is passed in that state. As a result, the same result as in the third embodiment can be obtained.
【0033】本実施例においては、光学材料100の表
面に形成する電極の形状、配置間隔および電圧印加条件
などを工夫することで、結果的に種々の光強度分布形状
を得ることができる。本実施例においては、光シャッタ
ーを用いることで、比較的複雑な形状のフィルターによ
り得られる場合と同等な光源の光強度分布を得ることが
できる。In the present embodiment, various light intensity distribution shapes can be obtained as a result by devising the shape of the electrodes formed on the surface of the optical material 100, the arrangement interval, the voltage application conditions, and the like. In this embodiment, by using the optical shutter, it is possible to obtain the light intensity distribution of the light source that is equivalent to that obtained by using the filter having a relatively complicated shape.
【0034】したがって、本実施例においても、前記実
施例1と同様に、周辺部の光を強調しつつ、中央部での
光を、ある程度残しておくことで、特定パターンに弱点
を持たず、良好なパターンの解像を実現することが期待
される。実施例6 本実施例では、前記各実施例のいずれかの手段を採用す
ることにより、結果的に、図11に示す光強度分布の二
次光源を実現した。Therefore, also in the present embodiment, as in the first embodiment, by emphasizing the light in the peripheral portion and leaving the light in the central portion to some extent, the specific pattern has no weak point, It is expected to realize good pattern resolution. Sixth Embodiment In this embodiment, the secondary light source having the light intensity distribution shown in FIG. 11 is realized by adopting the means of any of the above-mentioned respective embodiments.
【0035】なお、図11(A)は、光強度分布を数字
で示したものであり、*部が光強度のピーク部分を示
し、0〜9の数字は、ピーク部分を10とした場合の光
強度の割合を示し、中央部で低く周辺部で高い光強度分
布となっている。また、図11(B)は、図11(A)
に示す光強度分布を立体的に示したものである。FIG. 11 (A) shows the light intensity distribution by numbers, where * indicates the peak portion of the light intensity, and the numbers 0-9 indicate the peak portion of 10. The ratio of the light intensity is shown, and the light intensity distribution is low in the central part and high in the peripheral part. In addition, FIG. 11B is the same as FIG.
3 is a three-dimensional view of the light intensity distribution shown in FIG.
【0036】この光強度分布の有効光源と、位相シフト
マスクとを組み合わせて用いることにより、図12,1
3に示すように、密集パターンでの二次ピークによる解
像の問題を生じることなく、DOF(焦点深度)を拡大
することができることが確認された。By combining and using an effective light source having this light intensity distribution and a phase shift mask,
As shown in FIG. 3, it was confirmed that the DOF (depth of focus) can be increased without causing the problem of resolution due to the secondary peak in the dense pattern.
【0037】なお、図12では、(B)は、中心部で光
強度が低い有効光源とハーフトーン位相シフトマスクを
用いて、NAが0.45のKrFエキシマレーザーステ
ッパーにより、内径0.30μm のコンタクトホールパ
ターンを基板上に形成した例を示す。この実験では、レ
ジストとしては、化学増幅型ポジレジスト(WKR−P
T2)を用いた。コンタクトホールの内径と、それらの
間隔との比(デューテイ比)を1:3,1:1.5,
1:1と変化させたパターンについて、それぞれコンタ
クトホールパターンを形成した。SEM写真の結果を図
12(B)に示す。In FIG. 12, (B) shows an effective light source having a low light intensity at the central portion and a halftone phase shift mask, and a KrF excimer laser stepper with an NA of 0.45, and an inner diameter of 0.30 μm. An example in which a contact hole pattern is formed on a substrate is shown. In this experiment, the chemically amplified positive resist (WKR-P) was used as the resist.
T2) was used. The ratio (duty ratio) of the inner diameter of the contact hole and the distance between them is 1: 3, 1: 1.5,
A contact hole pattern was formed for each pattern changed to 1: 1. The result of the SEM photograph is shown in FIG.
【0038】また、比較のために、ハエの目レンズ上に
照射する光強度分布を図12(A)に示すガウス分布と
した以外は同様にして、3通りの条件でコンタクトホー
ルパターンを形成した。さらに、比較のために、有効光
源上に照射する光強度分布を輪帯照明の分布(中心部の
光強度を0)とした以外は同様にして、3通りの条件で
コンタクトホールパターンを形成した。SEM写真で観
察した結果を、図12(C)に示す。これらの実験結果
から、コンタクトホールの間隔が狭くなっても、中心部
で光強度が弱い分布の光源を持つ露光(図12(B),
(C))では、二次ピークがほとんど解像しないことが
確認された。For comparison, contact hole patterns were formed under three different conditions in the same manner except that the light intensity distribution applied to the fly-eye lens was changed to the Gaussian distribution shown in FIG. 12 (A). . Further, for comparison, contact hole patterns were formed under three different conditions in the same manner except that the light intensity distribution for illuminating the effective light source was an annular illumination distribution (light intensity at the central portion was 0). . The result observed with the SEM photograph is shown in FIG. From these experimental results, exposure having a light source with a weak light intensity distribution in the central portion even when the distance between the contact holes is narrowed (FIG. 12 (B),
In (C), it was confirmed that the secondary peak was hardly resolved.
【0039】図13中のカーブBは、図12(B)に示
す光源形状を用い、孤立パターンを形成した場合の孔サ
イズとフォーカスとの関係を示し、曲線の幅が横に広い
ほどDOFが広い。また、図13中のカーブAは、図1
2(A)に示す光源形状を用い、孤立パターンを形成し
た場合の孔サイズとフォーカスとの関係を示す。さら
に、図13中のカーブCは、図12(C)に示す光源形
状を用い、孤立パターンを形成した場合の孔サイズとフ
ォーカスとの関係を示す。A curve B in FIG. 13 shows the relationship between the hole size and the focus when the isolated pattern is formed by using the light source shape shown in FIG. 12B. The wider the curve is, the higher the DOF becomes. wide. In addition, the curve A in FIG.
2A shows the relationship between the hole size and the focus when an isolated pattern is formed using the light source shape shown in FIG. Furthermore, a curve C in FIG. 13 shows the relationship between the hole size and the focus when the isolated pattern is formed using the light source shape shown in FIG.
【0040】本実施例(カーブB)では、従来の通常照
明の場合(カーブA)には及ばないものの、輪帯照明の
場合(カーブC)に比較して、DOFが広がることが確
認された。なお、本発明は、上述した実施形態に限定さ
れるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変するこ
とができる。In this example (curve B), it was confirmed that the DOF was wider than that in the case of conventional annular illumination (curve C), although it was less than that of conventional ordinary illumination (curve A). . Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明では、
比較的単純な形状のフィルターを組み合わせて用いるこ
とで、複雑な形状のフィルターを用いた場合と同等の効
果を得ることができる。As described above, according to the present invention,
By using a filter having a relatively simple shape in combination, it is possible to obtain the same effect as when a filter having a complicated shape is used.
【0042】しかも本発明では、周辺部の光を強調しつ
つ、中央部での光を、ある程度残しておくなどの自由な
光強度分布の光源を実現することができ、特定パターン
に弱点を持たず、良好なパターンの解像を実現すること
ができる。Further, according to the present invention, it is possible to realize a light source having a free light intensity distribution in which light in the central part is left to some extent while emphasizing light in the peripheral part, and there is a weak point in a specific pattern. Therefore, good pattern resolution can be realized.
【図1】従来例に係る変形光源の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a modified light source according to a conventional example.
【図2】露光装置の全体構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing an overall configuration of an exposure apparatus.
【図3】(A)〜(C)は本発明の実施例に係るフィル
ターと光強度分布との関係を示す図である。3A to 3C are diagrams showing a relationship between a filter and a light intensity distribution according to an embodiment of the present invention.
【図4】図3(C)に示す分布を一枚のフィルターで実
現するためのフィルターの概略図である。FIG. 4 is a schematic diagram of a filter for realizing the distribution shown in FIG. 3C with a single filter.
【図5】(A),(B)は本発明の他の実施例に係るフ
ィルターと光強度分布との関係を示す図である。5A and 5B are diagrams showing a relationship between a filter and a light intensity distribution according to another embodiment of the present invention.
【図6】(A)〜(C)は光源の形状を変化させるため
の他の例を示す図である。6A to 6C are views showing another example for changing the shape of the light source.
【図7】(A),(B)は実施例で用いるフィルターの
例を示す図である。7A and 7B are diagrams showing examples of filters used in the examples.
【図8】実施例で用いる光強度分布を示すである。FIG. 8 is a diagram showing a light intensity distribution used in an example.
【図9】光強度分布の足し算を示す概念図である。FIG. 9 is a conceptual diagram showing addition of light intensity distributions.
【図10】光強度分布の足し算を示す概念図である。FIG. 10 is a conceptual diagram showing addition of light intensity distributions.
【図11】(A)は実施例での光量分布を数値で示す
図、(B)は光量分布を立体的に示す図である。FIG. 11A is a diagram showing numerical values of the light amount distribution in the embodiment, and FIG. 11B is a diagram showing the light amount distribution in three dimensions.
【図12】(A)〜(C)は光源の光強度分布による二
次パターンの影響を示すホールパターンのSEM写真で
ある。12A to 12C are SEM photographs of hole patterns showing the influence of the secondary pattern due to the light intensity distribution of the light source.
【図13】本発明の実施例に係る方法により得られる光
源形状の場合には、DOFも向上することを示すグラフ
である。FIG. 13 is a graph showing that DOF is also improved in the case of the light source shape obtained by the method according to the embodiment of the present invention.
35… ビームスプリッタ 36… プリズムユニット 37… ハエの目レンズ 39… レチクル 41… ウェーハ 50… 切り替え装置 51,59… フィルター本体 52,60… 第1フィルター部 54,62… 第2フィルター部 64… 第3フィルター部 35 ... Beam splitter 36 ... Prism unit 37 ... Fly's eye lens 39 ... Reticle 41 ... Wafer 50 ... Switching device 51, 59 ... Filter main body 52, 60 ... 1st filter part 54, 62 ... 2nd filter part 64 ... 3rd Filter section
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/30 515D Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H01L 21/30 515D
Claims (4)
のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方
法において、 1回の露光時間内に、露光用光を第1フィルターに通し
てマスクに照射する工程と、前記第1フィルターと異な
る光透過率分布の第2フィルターに露光用光を通してマ
スクに照射する工程とを少なくとも有する露光方法。1. An exposure method in which exposure light from a light source is passed through a mask and the pattern formed on the mask is transferred to a substrate, wherein the exposure light is passed through a first filter within one exposure time. An exposure method comprising at least a step of irradiating a mask, and a step of irradiating a mask with exposure light through a second filter having a light transmittance distribution different from that of the first filter.
のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方
法において、 1回の露光時間内に、露光用光を第1フィルターに通し
てマスクに照射する工程と、前記第1フィルターを通さ
ないで露光用光をマスクに照射する工程とを少なくとも
有する露光方法。2. An exposure method in which exposure light from a light source is passed through a mask and the pattern formed on the mask is transferred onto a substrate, wherein the exposure light is passed through a first filter within one exposure time. An exposure method comprising at least a step of irradiating a mask and a step of irradiating the mask with exposure light without passing through the first filter.
のマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装
置において、 光源とマスクとの間の光路に移動自在に配置され、露光
用光の光強度分布を変化させる第1フィルターと、 1回の露光時間内に、前記第1フィルターが前記光路を
横切る位置と、横切らない位置とに切り換える高速切り
替え手段とを有する露光装置。3. An exposure apparatus which passes exposure light from a light source through a mask and transfers a pattern formed on the mask onto a substrate, wherein the exposure light is movably arranged in an optical path between the light source and the mask. An exposure apparatus having a first filter for changing the light intensity distribution of 1., and a high-speed switching unit for switching between a position where the first filter crosses the optical path and a position where the first filter does not cross within one exposure time.
を持ち、露光用光の光強度分布を変化させる第2フィル
ターをさらに有し、 前記高速切り替え手段により、1回の露光時間内で、前
記光路に差し込まれるフィルターを、前記第1フィルタ
ーと第2フィルターとに切り換えることを特徴とする請
求項3に記載の露光装置。4. A second filter having a transmittance distribution different from that of the first filter and changing the light intensity distribution of the exposure light, further comprising: 4. The exposure apparatus according to claim 3, wherein the filter inserted into the optical path is switched between the first filter and the second filter.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7207237A JPH0955350A (en) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Exposure method and aligner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7207237A JPH0955350A (en) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Exposure method and aligner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0955350A true JPH0955350A (en) | 1997-02-25 |
Family
ID=16536500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7207237A Pending JPH0955350A (en) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Exposure method and aligner |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0955350A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093700A (en) * | 2000-09-02 | 2002-03-29 | Carl Zeiss:Fa | Projection aligner |
US6930754B1 (en) | 1998-06-30 | 2005-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiple exposure method |
JP2006032960A (en) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Asml Netherlands Bv | Intensity balancing exposure for simulating complicated shape of light emitter |
JP2011040583A (en) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Method for manufacturing semiconductor device, and exposure apparatus |
JP2012128413A (en) * | 2010-12-13 | 2012-07-05 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Exposure method and exposure device |
-
1995
- 1995-08-14 JP JP7207237A patent/JPH0955350A/en active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6930754B1 (en) | 1998-06-30 | 2005-08-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiple exposure method |
US7023522B2 (en) | 1998-06-30 | 2006-04-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiple exposure method |
US7505112B2 (en) | 1998-06-30 | 2009-03-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Multiple exposure method |
JP2002093700A (en) * | 2000-09-02 | 2002-03-29 | Carl Zeiss:Fa | Projection aligner |
JP2006032960A (en) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | Asml Netherlands Bv | Intensity balancing exposure for simulating complicated shape of light emitter |
JP2011040583A (en) * | 2009-08-11 | 2011-02-24 | Fujitsu Semiconductor Ltd | Method for manufacturing semiconductor device, and exposure apparatus |
JP2012128413A (en) * | 2010-12-13 | 2012-07-05 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Exposure method and exposure device |
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